JPH06232019A - プロセスフロー作成方法 - Google Patents
プロセスフロー作成方法Info
- Publication number
- JPH06232019A JPH06232019A JP1779493A JP1779493A JPH06232019A JP H06232019 A JPH06232019 A JP H06232019A JP 1779493 A JP1779493 A JP 1779493A JP 1779493 A JP1779493 A JP 1779493A JP H06232019 A JPH06232019 A JP H06232019A
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- Japan
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- process flow
- condition
- processing condition
- creating
- processing
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 処理条件をキーにした検索が可能なプロセス
フロー作成方法を提供することを目的とする。 【構成】 処理条件登録手段10では工程を作成するため
の処理条件群を登録し、工程作成手段20では処理条件群
を組み合わせて工程を作成する。プロセスフロー作成手
段30では工程群を組み合わせてプロセスフローを作成す
る。プロセスフロー検索手段40では処理条件をキーにプ
ロセスデータを検索する。
フロー作成方法を提供することを目的とする。 【構成】 処理条件登録手段10では工程を作成するため
の処理条件群を登録し、工程作成手段20では処理条件群
を組み合わせて工程を作成する。プロセスフロー作成手
段30では工程群を組み合わせてプロセスフローを作成す
る。プロセスフロー検索手段40では処理条件をキーにプ
ロセスデータを検索する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体などの電子デバイ
ス製造支援システムなどに用いる、複数個の工程を順次
処理する手続きを規定するプロセスフローを作成するシ
ステムに関するものである。
ス製造支援システムなどに用いる、複数個の工程を順次
処理する手続きを規定するプロセスフローを作成するシ
ステムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６は従来のプロセスフロー作成装置の
機能ブロック図を示すものであり、半導体の製品開発・
製造を行なう場合のプロセスフローの作成を例に挙げて
従来例を説明する。
機能ブロック図を示すものであり、半導体の製品開発・
製造を行なう場合のプロセスフローの作成を例に挙げて
従来例を説明する。
【０００３】複数の関連する半導体製造工程の処理条件
を規定するプロセスフロー作成において、工程登録手段
１０１は、半導体の製品開発・製造を行なう時の基本と
なる処理条件を規定した工程群を工程テーブルに登録す
る。プロセスフロー作成手段１０２は、製品開発・製造
の目的に合わせて工程テーブルから所望の工程群を抽出
し、工程順序を規定し、各工程の処理条件を再規定し、
図７に示すプロセスフローテーブル１０３にプロセスフ
ロー名３２，工程名３３，処理条件１０４がデータアイ
テムとして登録される。このプロセスフローテーブル１
０３の処理条件１０４はフォーマット化されずに設計者
が自由に記述している。
を規定するプロセスフロー作成において、工程登録手段
１０１は、半導体の製品開発・製造を行なう時の基本と
なる処理条件を規定した工程群を工程テーブルに登録す
る。プロセスフロー作成手段１０２は、製品開発・製造
の目的に合わせて工程テーブルから所望の工程群を抽出
し、工程順序を規定し、各工程の処理条件を再規定し、
図７に示すプロセスフローテーブル１０３にプロセスフ
ロー名３２，工程名３３，処理条件１０４がデータアイ
テムとして登録される。このプロセスフローテーブル１
０３の処理条件１０４はフォーマット化されずに設計者
が自由に記述している。
【０００４】このような従来のプロセスフロー作成装置
においては、プロセスフローは工程データおよびプロセ
スフローデータの２階層から構成されている。
においては、プロセスフローは工程データおよびプロセ
スフローデータの２階層から構成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の構成
では、プロセスおよびデバイスの不良解析の際に処理条
件１０４をキーとしたデータ検索ができないため、従来
では人手による膨大な時間をかけた検索が行われてい
る。
では、プロセスおよびデバイスの不良解析の際に処理条
件１０４をキーとしたデータ検索ができないため、従来
では人手による膨大な時間をかけた検索が行われてい
る。
【０００６】本発明は各々の処理条件をキーにした検索
が可能なプロセスフロー作成方法を提供することを目的
とする。
が可能なプロセスフロー作成方法を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載のプロセス
フロー作成方法は、各製造工程の各々の処理条件群を登
録し、前記処理条件群を組み合わせて各工程の処理条件
を作成し、前記工程群を組み合わせてプロセスフローを
作成することを特徴とする。
フロー作成方法は、各製造工程の各々の処理条件群を登
録し、前記処理条件群を組み合わせて各工程の処理条件
を作成し、前記工程群を組み合わせてプロセスフローを
作成することを特徴とする。
【０００８】請求項２記載のプロセスフロー作成装置
は、各製造工程の各々の処理条件群を登録する処理条件
登録手段と、前記処理条件群を組み合わせて各工程の処
理条件を作成する工程作成手段と、前記工程群を組み合
わせてプロセスフローを作成するプロセスフロー作成手
段と、前記処理条件登録手段で登録した処理条件をキー
にプロセスフローデータを検索するプロセスフロー検索
手段を備えたことを特徴とする。
は、各製造工程の各々の処理条件群を登録する処理条件
登録手段と、前記処理条件群を組み合わせて各工程の処
理条件を作成する工程作成手段と、前記工程群を組み合
わせてプロセスフローを作成するプロセスフロー作成手
段と、前記処理条件登録手段で登録した処理条件をキー
にプロセスフローデータを検索するプロセスフロー検索
手段を備えたことを特徴とする。
【０００９】
【作用】請求項１の構成によると、各製造工程の各々の
処理条件群を登録し、前記処理条件群を組み合わせて各
工程の処理条件を作成し、前記工程群を組み合わせてプ
ロセスフローを作成するので、処理条件をキーにプロセ
スフローデータを検索できる。
処理条件群を登録し、前記処理条件群を組み合わせて各
工程の処理条件を作成し、前記工程群を組み合わせてプ
ロセスフローを作成するので、処理条件をキーにプロセ
スフローデータを検索できる。
【００１０】請求項２の構成によると、処理条件登録手
段により各工程の作成に必要な各々の処理条件群を登録
し、工程作成手段により登録した処理条件群を組み合わ
せて工程を作成し、プロセスフロー作成手段により登録
した工程群を組み合わせてプロセスフローを作成し、プ
ロセスフロー検索手段が処理条件をキーにプロセスフロ
ーデータを検索できる。
段により各工程の作成に必要な各々の処理条件群を登録
し、工程作成手段により登録した処理条件群を組み合わ
せて工程を作成し、プロセスフロー作成手段により登録
した工程群を組み合わせてプロセスフローを作成し、プ
ロセスフロー検索手段が処理条件をキーにプロセスフロ
ーデータを検索できる。
【００１１】
【実施例】本発明の具体的な実施例をコンピュータを用
いた半導体の製品開発・製造を行なう場合のプロセスフ
ローの作成に適用した例を、図１〜図５に基づいて説明
する。
いた半導体の製品開発・製造を行なう場合のプロセスフ
ローの作成に適用した例を、図１〜図５に基づいて説明
する。
【００１２】図１は本発明のプロセスフロー作成方法を
実施するプロセスフロー作成装置を示し、処理条件登録
手段１０、工程作成手段２０、プロセスフロー作成手段
３０、プロセスフロー検索手段４０から構成される。以
下それぞれについて詳しく説明する。
実施するプロセスフロー作成装置を示し、処理条件登録
手段１０、工程作成手段２０、プロセスフロー作成手段
３０、プロセスフロー検索手段４０から構成される。以
下それぞれについて詳しく説明する。
【００１３】処理条件登録手段１０では、図２に示すよ
うに処理条件名１２、単位１３をデータアイテムとして
もつ条件名テーブル１１に、レコード毎に半導体の製品
開発・製造を行なう時の基本単位となる工程を構成する
各々の処理条件名、単位を登録する。この時、処理条件
値を数値で表現できるもの（例えば温度、時間など）を
定量処理条件、数値で表現できないもの（例えば装置、
レシピーなど）を定性処理条件と定義し、定性処理条件
の単位１３には“ ＊ ”を登録する。また、定性処理
条件の場合（単位が“ ＊ ”）には、図３に示すよう
に定性処理条件名１６、定性条件値１７をデータアイテ
ムとしてもつ定性条件値テーブル１５に、レコード毎に
定性処理条件名、定性条件値を登録する。なお、一つの
定性処理条件名に対し設定可能な定性条件値を全て登録
する。
うに処理条件名１２、単位１３をデータアイテムとして
もつ条件名テーブル１１に、レコード毎に半導体の製品
開発・製造を行なう時の基本単位となる工程を構成する
各々の処理条件名、単位を登録する。この時、処理条件
値を数値で表現できるもの（例えば温度、時間など）を
定量処理条件、数値で表現できないもの（例えば装置、
レシピーなど）を定性処理条件と定義し、定性処理条件
の単位１３には“ ＊ ”を登録する。また、定性処理
条件の場合（単位が“ ＊ ”）には、図３に示すよう
に定性処理条件名１６、定性条件値１７をデータアイテ
ムとしてもつ定性条件値テーブル１５に、レコード毎に
定性処理条件名、定性条件値を登録する。なお、一つの
定性処理条件名に対し設定可能な定性条件値を全て登録
する。
【００１４】これらの登録は、工程を作成するために必
要な処理条件マスター情報として必要なだけ繰り返えさ
れる。工程作成手段２０は、図４に示すように工程名２
２、処理条件名２３、処理条件値２４をデータアイテム
としてもつ工程テーブル２１に、半導体の製品開発・製
造を行なう時の基本単位となる工程の既定処理条件を登
録する。この時、処理条件名は条件名テーブル１１か
ら、定性処理条件値は定性条件値テーブル１５から各々
選択したものを登録し、定量処理条件値はキーボードな
どから直接に登録する。これらの登録はプロセスフロー
を作成するために必要な工程マスター情報として必要な
だけ繰り返す。
要な処理条件マスター情報として必要なだけ繰り返えさ
れる。工程作成手段２０は、図４に示すように工程名２
２、処理条件名２３、処理条件値２４をデータアイテム
としてもつ工程テーブル２１に、半導体の製品開発・製
造を行なう時の基本単位となる工程の既定処理条件を登
録する。この時、処理条件名は条件名テーブル１１か
ら、定性処理条件値は定性条件値テーブル１５から各々
選択したものを登録し、定量処理条件値はキーボードな
どから直接に登録する。これらの登録はプロセスフロー
を作成するために必要な工程マスター情報として必要な
だけ繰り返す。
【００１５】プロセスフロー作成手段３０は、図５に示
すようにプロセスフロー名３２、工程名３３、処理条件
名３４、処理条件値３５をデータアイテムとしてもつプ
ロセスフローテーブル３１に、目的とするプロセスおよ
びデバイスを作成するために工程順序および処理条件を
規定してプロセスフローを登録する。この時、工程テー
ブル２１から工程を選択し、変更の必要がある処理条件
値は、定性の場合は定性条件値テーブル１５から選択
し、定量の場合はキーボードなどから直接入力して登録
する。これらの登録を繰り返し、所望のプロセスフロー
を作成する。
すようにプロセスフロー名３２、工程名３３、処理条件
名３４、処理条件値３５をデータアイテムとしてもつプ
ロセスフローテーブル３１に、目的とするプロセスおよ
びデバイスを作成するために工程順序および処理条件を
規定してプロセスフローを登録する。この時、工程テー
ブル２１から工程を選択し、変更の必要がある処理条件
値は、定性の場合は定性条件値テーブル１５から選択
し、定量の場合はキーボードなどから直接入力して登録
する。これらの登録を繰り返し、所望のプロセスフロー
を作成する。
【００１６】プロセスフロー検索手段４０は、プロセス
フローテーブル３１から処理条件名３４、処理条件値３
５を検索キーとして所望の検索を行なう。これらの検索
はプロセスおよびデバイスの不良解析に用いられ、例え
ば洗浄時間が２０分以上の不良な工程ばかりをコンピュ
ータで自動検索することもできる。
フローテーブル３１から処理条件名３４、処理条件値３
５を検索キーとして所望の検索を行なう。これらの検索
はプロセスおよびデバイスの不良解析に用いられ、例え
ば洗浄時間が２０分以上の不良な工程ばかりをコンピュ
ータで自動検索することもできる。
【００１７】このように本実施例によれば、処理条件、
工程およびプロセスフローの３階層のデータ構造をとる
プロセスフローを作成することができる。なお、条件名
テーブル１１，定性条件値テーブル１５，工程テーブル
２１，プロセスフローテーブル３１の各テーブルの記憶
手段としては、補助記憶装置を用いることができるが、
主記憶装置を用いてもよい。またテーブルの代わりにリ
スト構造を用いた記憶手段を用いてもよい。
工程およびプロセスフローの３階層のデータ構造をとる
プロセスフローを作成することができる。なお、条件名
テーブル１１，定性条件値テーブル１５，工程テーブル
２１，プロセスフローテーブル３１の各テーブルの記憶
手段としては、補助記憶装置を用いることができるが、
主記憶装置を用いてもよい。またテーブルの代わりにリ
スト構造を用いた記憶手段を用いてもよい。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明のプロセスフロー作
成方法によると、３階層のプロセスデータ構造をとるこ
とによって、プロセスおよびデバイスの不良解析の際に
は工程の各々の処理条件をキーにした検索を行なうこと
ができ、短時間に不良解析を実施でき、その実用的効果
は大きい。
成方法によると、３階層のプロセスデータ構造をとるこ
とによって、プロセスおよびデバイスの不良解析の際に
は工程の各々の処理条件をキーにした検索を行なうこと
ができ、短時間に不良解析を実施でき、その実用的効果
は大きい。
【図１】本発明の一実施例におけるプロセスフロー作成
装置の機能ブロック図
装置の機能ブロック図
【図２】同実施例におけるプロセスフロー作成装置の条
件名テーブルの説明図
件名テーブルの説明図
【図３】同実施例におけるプロセスフロー作成装置の定
性条件値テーブルの説明図
性条件値テーブルの説明図
【図４】同一実施例におけるプロセスフロー作成装置の
工程テーブルの説明図
工程テーブルの説明図
【図５】同実施例におけるプロセスフロー作成装置のプ
ロセスフローテーブルの説明図
ロセスフローテーブルの説明図
【図６】従来例におけるプロセスフロー作成装置の機能
ブロック図
ブロック図
【図７】同従来例におけるプロセスフローテーブルの説
明図
明図
１０ 処理条件登録手段 １１ 条件名テーブル １２、２３、３４ 処理条件名 １３ 単位 １５ 定性条件値テーブル １６ 定性処理条件名 １７ 定性条件値 ２０ 工程作成手段 ２１ 工程テーブル ２２、３３ 工程名 ２４、３５ 処理条件値 ３０、１０２ プロセスフロー作成手段 ３１ プロセスフローテーブル ３２ プロセスフロー名 ４０ プロセスフロー検索手段 １０１ 工程登録手段
Claims (2)
- 【請求項１】 複数の関連する半導体製造工程の処理条
件を規定するプロセスフロー作成に際し、各製造工程の
各々の処理条件群を登録し、前記処理条件群を組み合わ
せて各工程の処理条件を作成し、前記工程群を組み合わ
せてプロセスフローを作成するプロセスフロー作成方
法。 - 【請求項２】 各製造工程の各々の処理条件群を登録す
る処理条件登録手段と、前記処理条件群を組み合わせて
各工程の処理条件を作成する工程作成手段と、前記工程
群を組み合わせてプロセスフローを作成するプロセスフ
ロー作成手段と、前記処理条件登録手段で登録した処理
条件をキーにプロセスフローデータを検索するプロセス
フロー検索手段を備えたプロセスフロー作成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01779493A JP3335404B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | プロセスフロー作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01779493A JP3335404B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | プロセスフロー作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06232019A true JPH06232019A (ja) | 1994-08-19 |
| JP3335404B2 JP3335404B2 (ja) | 2002-10-15 |
Family
ID=11953623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01779493A Expired - Fee Related JP3335404B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | プロセスフロー作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3335404B2 (ja) |
-
1993
- 1993-02-05 JP JP01779493A patent/JP3335404B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3335404B2 (ja) | 2002-10-15 |
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Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080802 |
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