JP3447067B2 - プロセスフロー作成方法 - Google Patents
プロセスフロー作成方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000012356 Product development Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/30—Computing systems specially adapted for manufacturing
Landscapes
- General Factory Administration (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体などの電子デバイ
ス製造支援システムなどに用いる、複数個の工程を順次
処理する手続きを規定するプロセスフローを作成するプ
ロセスフロー作成方法に関するものである。
ス製造支援システムなどに用いる、複数個の工程を順次
処理する手続きを規定するプロセスフローを作成するプ
ロセスフロー作成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６は従来のプロセスフロー作成方法を
実現するプロセスフローシステムの機能ブロック図であ
り、半導体の製品開発・製造を行う場合のプロセスフロ
ーの作成を例に挙げて説明する。図６において、複数の
関連する半導体製造工程の処理条件を規定するプロセス
フロー作成の場合、工程マスター登録手段１は、半導体
の製品開発・製造を行うときの基本となる工程群を工程
マスターテーブルに登録する。
実現するプロセスフローシステムの機能ブロック図であ
り、半導体の製品開発・製造を行う場合のプロセスフロ
ーの作成を例に挙げて説明する。図６において、複数の
関連する半導体製造工程の処理条件を規定するプロセス
フロー作成の場合、工程マスター登録手段１は、半導体
の製品開発・製造を行うときの基本となる工程群を工程
マスターテーブルに登録する。
【０００３】また、工程抽出手段２は、製品開発・製造
の目的に合わせて工程マスターテーブルから所望の工程
群を抽出してプロセスフローテーブルに登録し、工程の
処理順序を規定する。さらに、処理条件設定手段３は、
製品開発・製造の目的に合わせて抽出した工程群の処理
条件を個々に規定してプロセスフローテーブルに登録す
る。
の目的に合わせて工程マスターテーブルから所望の工程
群を抽出してプロセスフローテーブルに登録し、工程の
処理順序を規定する。さらに、処理条件設定手段３は、
製品開発・製造の目的に合わせて抽出した工程群の処理
条件を個々に規定してプロセスフローテーブルに登録す
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、工程抽出手段２で抽出した工程群全てに対
して、処理条件設定手段３によって個々に処理条件の設
定を行わなければならなかった。すなわち、プロセスフ
ロー作成において、多くの工程群に個々に処理条件を設
定しなければならず、プロセスフロー設計に多大な時間
がかかるばかりではなく、工程間で関連する処理条件の
設定に間違いを起こすという問題を有していた。
の構成では、工程抽出手段２で抽出した工程群全てに対
して、処理条件設定手段３によって個々に処理条件の設
定を行わなければならなかった。すなわち、プロセスフ
ロー作成において、多くの工程群に個々に処理条件を設
定しなければならず、プロセスフロー設計に多大な時間
がかかるばかりではなく、工程間で関連する処理条件の
設定に間違いを起こすという問題を有していた。
【０００５】本発明は上記従来の問題を解決するもの
で、プロセスフロー設計時間を短縮することができ、か
つ処理条件設定の間違いを防止することができるプロセ
スフロー作成方法を提供することを目的とするものであ
る。
で、プロセスフロー設計時間を短縮することができ、か
つ処理条件設定の間違いを防止することができるプロセ
スフロー作成方法を提供することを目的とするものであ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
プロセスフロー作成方法は、種類の異なる処理を含む複
数の工程を順次処理して製品を製造するために、予め登
録された基本工程群から前記製品の製造目的に合った工
程群を抽出し、その処理順序を規定するとともに、前記
各工程の処理条件を設定することにより前記製品のプロ
セスフローを作成するに際し、前記基本工程間において
互いに関連する関連工程、および関連処理条件を予め登
録しておき、前記基本工程群からある基本工程を抽出す
る際に、前記予め登録された前記関連工程および関連処
理条件から、前記ある基本工程に関連する関連工程を検
索し、前記検索の結果、前記関連工程が存在する場合に
は、前記関連工程の処理条件を前記関連処理条件から同
時に設定することを特徴とする。
プロセスフロー作成方法は、種類の異なる処理を含む複
数の工程を順次処理して製品を製造するために、予め登
録された基本工程群から前記製品の製造目的に合った工
程群を抽出し、その処理順序を規定するとともに、前記
各工程の処理条件を設定することにより前記製品のプロ
セスフローを作成するに際し、前記基本工程間において
互いに関連する関連工程、および関連処理条件を予め登
録しておき、前記基本工程群からある基本工程を抽出す
る際に、前記予め登録された前記関連工程および関連処
理条件から、前記ある基本工程に関連する関連工程を検
索し、前記検索の結果、前記関連工程が存在する場合に
は、前記関連工程の処理条件を前記関連処理条件から同
時に設定することを特徴とする。
【０００７】本発明の請求項２記載のプロセスフロー作
成方法は、請求項１において、関連処理条件を設定する
際に、先に処理の行われる第１の工程の処理条件に基づ
き、後に処理の行われる第２の工程の関連処理条件を決
定することを特徴とする。
成方法は、請求項１において、関連処理条件を設定する
際に、先に処理の行われる第１の工程の処理条件に基づ
き、後に処理の行われる第２の工程の関連処理条件を決
定することを特徴とする。
【０００８】
【作用】上記構成によるとその処理条件と関連する工程
が存在するときには関連する工程の処理条件は同時に設
定されてプロセスフロー設計時間の短縮が図られ、かつ
処理条件の設定の間違いも防止される。
が存在するときには関連する工程の処理条件は同時に設
定されてプロセスフロー設計時間の短縮が図られ、かつ
処理条件の設定の間違いも防止される。
【０００９】
【実施例】以下、本発明のプロセスフロー作成方法を具
体的な実施例に基づいて説明する。ここでは、コンピュ
ータを用いた半導体の製品開発・製造を行う場合のプロ
セスフローの作成に適用した場合について説明する。
体的な実施例に基づいて説明する。ここでは、コンピュ
ータを用いた半導体の製品開発・製造を行う場合のプロ
セスフローの作成に適用した場合について説明する。
【００１０】図１は本発明のプロセスフロー作成方法を
実現するプロセスフロー作成システムの機能ブロック図
であり、図２は図１のプロセスフロー作成システムの工
程マスターテーブル図であり、図３は図１のプロセスフ
ロー作成システムの関連情報テーブル図であり、図４は
図１のプロセスフロー作成システムのプロセスフローテ
ーブル図である。
実現するプロセスフロー作成システムの機能ブロック図
であり、図２は図１のプロセスフロー作成システムの工
程マスターテーブル図であり、図３は図１のプロセスフ
ロー作成システムの関連情報テーブル図であり、図４は
図１のプロセスフロー作成システムのプロセスフローテ
ーブル図である。
【００１１】工程マスター登録手段10は、図２の工程11
をデータアイテムとして持つ補助記憶上の工程マスター
テーブル12に、レコード毎に半導体の製品開発・製造を
行うときの基本単位となる工程群を登録する。また、関
連情報登録手段20は、図３の工程21、関連行程22および
関連行程23をデータアイテムとして持つ補助記憶上の関
連情報テーブル24に、レコード毎に各工程間で関連し合
っている処理条件の関連情報群を登録する。この登録は
キーボードなどから行う。レコード25は、「Ｓｉ3Ｎ4デ
ポジション」工程の処理条件が「Ｓｉ3Ｎ4エッチング」
工程の処理条件に関連しており、その関連情報は「エッ
チング時間＝堆積膜厚ｘ0.8 ＋20」であることを登録し
ている。
をデータアイテムとして持つ補助記憶上の工程マスター
テーブル12に、レコード毎に半導体の製品開発・製造を
行うときの基本単位となる工程群を登録する。また、関
連情報登録手段20は、図３の工程21、関連行程22および
関連行程23をデータアイテムとして持つ補助記憶上の関
連情報テーブル24に、レコード毎に各工程間で関連し合
っている処理条件の関連情報群を登録する。この登録は
キーボードなどから行う。レコード25は、「Ｓｉ3Ｎ4デ
ポジション」工程の処理条件が「Ｓｉ3Ｎ4エッチング」
工程の処理条件に関連しており、その関連情報は「エッ
チング時間＝堆積膜厚ｘ0.8 ＋20」であることを登録し
ている。
【００１２】また、工程抽出手段30は、工程マスターテ
ーブル12から所望の工程群を含むレコードを検索・抽出
し、図４の工程31、処理条件32をデータアイテムとして
持つ補助記憶上のプロセスフローテーブル33の工程31ア
イテムに抽出した工程群をレコード毎に登録する。この
とき、製品開発・製造の目的に合わせて工程処理を行う
順に第１レコードから順々に登録する。たとえば、工程
マスターテーブル12の各レコードの内容をディスプレイ
上に一覧表として表示し、キーボードなどを利用して選
択した順にプロセスフローテーブル33に登録する。
ーブル12から所望の工程群を含むレコードを検索・抽出
し、図４の工程31、処理条件32をデータアイテムとして
持つ補助記憶上のプロセスフローテーブル33の工程31ア
イテムに抽出した工程群をレコード毎に登録する。この
とき、製品開発・製造の目的に合わせて工程処理を行う
順に第１レコードから順々に登録する。たとえば、工程
マスターテーブル12の各レコードの内容をディスプレイ
上に一覧表として表示し、キーボードなどを利用して選
択した順にプロセスフローテーブル33に登録する。
【００１３】また、処理条件設定手段40は、プロセスフ
ローテーブル33の各レコードの処理条件32アイテムに製
品開発・製造の目的に合わせて工程処理条件を設定す
る。たとえば、プロセスフローテーブル33の各レコード
の内容をディスプレイ上に表示させ、キーボードなどを
利用して各レコード毎に処理条件を入力し、プロセスフ
ローテーブル33に登録する。
ローテーブル33の各レコードの処理条件32アイテムに製
品開発・製造の目的に合わせて工程処理条件を設定す
る。たとえば、プロセスフローテーブル33の各レコード
の内容をディスプレイ上に表示させ、キーボードなどを
利用して各レコード毎に処理条件を入力し、プロセスフ
ローテーブル33に登録する。
【００１４】さらに、関連情報検索手段50は、処理条件
設定手段40でプロセスフローテーブル33の各レコード毎
に処理条件を設定する際に、そのレコードの工程31アイ
テム値と合致する関連情報テーブル24の工程21アイテム
値が存在するかどうかを検索する。たとえば、Ｓｉ3Ｎ4
デポジション34工程の処理条件を設定する際に、関連情
報テーブル24の工程21アイテム値がＳｉ3Ｎ4デポジショ
ンと合致するレコード25を検索する。
設定手段40でプロセスフローテーブル33の各レコード毎
に処理条件を設定する際に、そのレコードの工程31アイ
テム値と合致する関連情報テーブル24の工程21アイテム
値が存在するかどうかを検索する。たとえば、Ｓｉ3Ｎ4
デポジション34工程の処理条件を設定する際に、関連情
報テーブル24の工程21アイテム値がＳｉ3Ｎ4デポジショ
ンと合致するレコード25を検索する。
【００１５】また、関連処理条件設定手段60は、関連情
報検索手段50で関連情報テーブル24から検索したレコー
ドの関連工程22アイテム値と合致するプロセスフローテ
ーブル33の工程31アイテム値を含むレコードを検索し、
関連情報23アイテム値から求めた処理条件を検索したレ
コードの処理条件32アイテムに登録する。たとえば、先
に検索したレコード25の関連工程22アイテム値Ｓｉ3Ｎ4
エッチング26と合致するプロセスフローテーブル33の工
程31アイテム値を含むレコード35を検索し、関連情報23
アイテム値の処理条件、すなわちエッチング時間１１６
ｓｅｃを処理条件32アイテム値に設定する。
報検索手段50で関連情報テーブル24から検索したレコー
ドの関連工程22アイテム値と合致するプロセスフローテ
ーブル33の工程31アイテム値を含むレコードを検索し、
関連情報23アイテム値から求めた処理条件を検索したレ
コードの処理条件32アイテムに登録する。たとえば、先
に検索したレコード25の関連工程22アイテム値Ｓｉ3Ｎ4
エッチング26と合致するプロセスフローテーブル33の工
程31アイテム値を含むレコード35を検索し、関連情報23
アイテム値の処理条件、すなわちエッチング時間１１６
ｓｅｃを処理条件32アイテム値に設定する。
【００１６】したがって、図５に示すように、関連情報
登録手段20は各製造工程間の処理条件の関連情報23を登
録し、処理条件設定手段40で各製造工程31の処理条件32
を設定する。また、この処理条件設定手段40で任意の製
造工程31に処理条件32を設定する際に、関連情報検索手
段50で関連する処理条件32を関連情報23から検索し、こ
の関連情報検索手段50で検索した関連情報23を元に関連
処理条件設定手段60で処理条件32を関連する製造工程31
に同時に設定する。
登録手段20は各製造工程間の処理条件の関連情報23を登
録し、処理条件設定手段40で各製造工程31の処理条件32
を設定する。また、この処理条件設定手段40で任意の製
造工程31に処理条件32を設定する際に、関連情報検索手
段50で関連する処理条件32を関連情報23から検索し、こ
の関連情報検索手段50で検索した関連情報23を元に関連
処理条件設定手段60で処理条件32を関連する製造工程31
に同時に設定する。
【００１７】すなわち、その処理条件32と関連する工程
が存在するときには関連する工程の処理条件32は同時に
設定する。これにより、プロセスフロー設計時間の短縮
を図ることができ、かつ処理条件設定の間違いも防止す
ることができる。なお、本実施例においては各テーブル
の記憶手段として補助記憶装置を用いたが主記憶装置を
用いても良い。また、テーブルの代わりにリスト構造を
用いた記憶手段を用いても良い。さらに、工程マスター
登録手段10と関連情報登録手段20の登録順序は問わな
い。
が存在するときには関連する工程の処理条件32は同時に
設定する。これにより、プロセスフロー設計時間の短縮
を図ることができ、かつ処理条件設定の間違いも防止す
ることができる。なお、本実施例においては各テーブル
の記憶手段として補助記憶装置を用いたが主記憶装置を
用いても良い。また、テーブルの代わりにリスト構造を
用いた記憶手段を用いても良い。さらに、工程マスター
登録手段10と関連情報登録手段20の登録順序は問わな
い。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、各工程の
処理条件を設定する際に、その処理条件と関連する工程
が存在するときは関連する工程の処理条件を同時に設定
することができて、プロセスフロー設計時間を短縮する
ことができるだけではなく、処理条件の設定の間違いを
も防止することができ、その実用的効果は大きい。
処理条件を設定する際に、その処理条件と関連する工程
が存在するときは関連する工程の処理条件を同時に設定
することができて、プロセスフロー設計時間を短縮する
ことができるだけではなく、処理条件の設定の間違いを
も防止することができ、その実用的効果は大きい。
【図１】本発明のプロセスフロー作成方法を実現するプ
ロセスフロー作成システムの機能ブロック図である。
ロセスフロー作成システムの機能ブロック図である。
【図２】図１のプロセスフロー作成システムの工程マス
ターテーブル図である。
ターテーブル図である。
【図３】図１のプロセスフロー作成システムの関連情報
テーブル図である。
テーブル図である。
【図４】図１のプロセスフロー作成システムのプロセス
フローテーブル図である。
フローテーブル図である。
【図５】図１のプロセスフロー作成システムの動作を説
明するためのブロック図である。
明するためのブロック図である。
【図６】従来のプロセスフロー作成システムの機能ブロ
ック図である。
ック図である。
21，31 工程
20 関連情報登録手段
22 関連工程
23 関連情報
24 関連情報テーブル
25，35 レコード
26 Ｓｉ3 Ｎ4 エッチング
32 処理条件
33 プロセスフローテーブル
34 Ｓｉ3Ｎ4デポジション
40 処理条件設定手段
50 関連情報検索手段
60 関連処理条件設定手段
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G05B 19/418
B23Q 41/08
G06F 17/60
H01L 21/02
Claims (2)
- 【請求項１】種類の異なる処理を含む複数の工程を順次
処理して製品を製造するために、予め登録された基本工
程群から前記製品の製造目的に合った工程群を抽出し、
その処理順序を規定するとともに、前記各工程の処理条
件を設定することにより前記製品のプロセスフローを作
成するに際し、前記基本工程間において互いに関連する
関連工程、および関連処理条件を予め登録しておき、前
記基本工程群からある基本工程を抽出する際に、前記予
め登録された前記関連工程および関連処理条件から、前
記ある基本工程に関連する関連工程を検索し、前記検索
の結果、前記関連工程が存在する場合には、前記関連工
程の処理条件を前記関連処理条件から同時に設定するプ
ロセスフロー作成方法。 - 【請求項２】関連処理条件を設定する際に、先に処理の
行われる第１の工程の処理条件に基づき、後に処理の行
われる第２の工程の関連処理条件を決定する請求項１記
載のプロセスフロー作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11056992A JP3447067B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | プロセスフロー作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11056992A JP3447067B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | プロセスフロー作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05307555A JPH05307555A (ja) | 1993-11-19 |
| JP3447067B2 true JP3447067B2 (ja) | 2003-09-16 |
Family
ID=14539160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11056992A Expired - Fee Related JP3447067B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | プロセスフロー作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3447067B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100243806B1 (ko) * | 1996-06-07 | 2000-02-01 | 가네꼬 히사시 | 공정 플로 작성 시스템 |
| JP5062806B2 (ja) * | 2006-04-27 | 2012-10-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 群管理システム、プロセス情報管理装置、制御装置、およびプログラム |
-
1992
- 1992-04-30 JP JP11056992A patent/JP3447067B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05307555A (ja) | 1993-11-19 |
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