JP3330898B2 - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
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- JP3330898B2 JP3330898B2 JP11741499A JP11741499A JP3330898B2 JP 3330898 B2 JP3330898 B2 JP 3330898B2 JP 11741499 A JP11741499 A JP 11741499A JP 11741499 A JP11741499 A JP 11741499A JP 3330898 B2 JP3330898 B2 JP 3330898B2
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- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- pellicle frame
- adhesive
- frame
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路や液
晶等の製造方法におけるホトリソ工程で使用されるマス
クに貼付けるペリクルに関するものである。
晶等の製造方法におけるホトリソ工程で使用されるマス
クに貼付けるペリクルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は従来のペリクルを示す断面図で、
ペリクルはペリクル膜１、ペリクルフレーム２、粘着材
３、ライナー４から構成されている。
ペリクルはペリクル膜１、ペリクルフレーム２、粘着材
３、ライナー４から構成されている。
【０００３】ペリクルは、未使用時にはケースに収納さ
れて清浄度が維持され、ホトリソ工程ではマスクに貼付
けられ、ペリクル内部のマスク表面の清浄度を維持す
る。
れて清浄度が維持され、ホトリソ工程ではマスクに貼付
けられ、ペリクル内部のマスク表面の清浄度を維持す
る。
【０００４】ペリクル膜１はペリクルフレーム２の一方
の端面に接着剤により接着され、ペリクルフレーム２の
他方の端面には塗布された粘着材３が形成され、その粘
着材３をライナー４がカバーしている。
の端面に接着剤により接着され、ペリクルフレーム２の
他方の端面には塗布された粘着材３が形成され、その粘
着材３をライナー４がカバーしている。
【０００５】図６はこのペリクルをマスクに装着した状
態を示す図で、（ａ）はマスクを透視した底面図、
（ｂ）はＣ−Ｃ断面図である。
態を示す図で、（ａ）はマスクを透視した底面図、
（ｂ）はＣ−Ｃ断面図である。
【０００６】粘着材３はペリクルフレーム２の端面に液
状粘着材を注射針状の先から吐出し、固定したもので、
塗布開始点と塗布終了点の重なった部分５は塗布途中の
部分に比較して幅、厚さともに大きいため、マスク６に
圧着して貼付けた場合、圧力により更に幅が大きくな
る。
状粘着材を注射針状の先から吐出し、固定したもので、
塗布開始点と塗布終了点の重なった部分５は塗布途中の
部分に比較して幅、厚さともに大きいため、マスク６に
圧着して貼付けた場合、圧力により更に幅が大きくな
る。
【０００７】また、四隅のコーナー部７はその内側部分
の粘着材３が厚くなるため、マスク６に圧着して貼付け
た場合に幅が大きくなる。
の粘着材３が厚くなるため、マスク６に圧着して貼付け
た場合に幅が大きくなる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】このようにペリクルを
マスク６に貼付けたときに、粘着材３の幅がペリクルフ
レーム２からはみ出したり、ペリクルフレーム２とほぼ
同一の幅になったりすると、マスク６が露光機で使用さ
れる場合に、粘着材３が露光機の露光光に照射されてし
まう。
マスク６に貼付けたときに、粘着材３の幅がペリクルフ
レーム２からはみ出したり、ペリクルフレーム２とほぼ
同一の幅になったりすると、マスク６が露光機で使用さ
れる場合に、粘着材３が露光機の露光光に照射されてし
まう。
【０００９】粘着材３が露光光である紫外線に照射され
た場合、粘着材３の表面からその成分である溶剤が気化
し、その後再結晶することによる異物や、粘着材３の表
面が変質して飛散することによる異物が発生することが
考えられ、ホトリソ工程での繰り返し欠陥転写が生ずる
という問題があった。
た場合、粘着材３の表面からその成分である溶剤が気化
し、その後再結晶することによる異物や、粘着材３の表
面が変質して飛散することによる異物が発生することが
考えられ、ホトリソ工程での繰り返し欠陥転写が生ずる
という問題があった。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、ペリクルフレームの粘着材の塗布開始及
び塗布終了が重なる部分及び又は粘着剤を塗布するペリ
クルフレームのコーナー部に、ペリクルフレームの端面
の内側を残し、外側を削り取った切欠きを形成したもの
である。
め、本発明は、ペリクルフレームの粘着材の塗布開始及
び塗布終了が重なる部分及び又は粘着剤を塗布するペリ
クルフレームのコーナー部に、ペリクルフレームの端面
の内側を残し、外側を削り取った切欠きを形成したもの
である。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施形態を
示す図で、（ａ）はライナーから粘着材、ペリクルフレ
ームを透視した図、（ｂ）はＡ−Ａ断面図である。
示す図で、（ａ）はライナーから粘着材、ペリクルフレ
ームを透視した図、（ｂ）はＡ−Ａ断面図である。
【００１２】ペリクルの中には、両面テープ状の粘着材
をペリクルフレームの端面に固定したものもあるが、本
発明はこのようなペリクルを対象としない。
をペリクルフレームの端面に固定したものもあるが、本
発明はこのようなペリクルを対象としない。
【００１３】本発明のペリクルは、ペリクル膜１１、ペ
リクルフレーム１２、粘着材１３、ライナー１４で構成
される。
リクルフレーム１２、粘着材１３、ライナー１４で構成
される。
【００１４】ペリクル膜１１はホトリソ工程で使用され
るマスク表面の清浄度を維持するためのもので、ペリク
ルフレーム１２の一方の端面に接着剤により接着されて
いる。
るマスク表面の清浄度を維持するためのもので、ペリク
ルフレーム１２の一方の端面に接着剤により接着されて
いる。
【００１５】ペリクルフレーム１２の他方の端面には粘
着材１３が塗布されている。ペリクルフレーム１２の幅
は通常２ｍｍ程度であり、この端面に液状粘着材を注射
針状の先から吐出し、狭いフレーム幅からはみ出さない
ように塗布して粘着材１３を形成する。
着材１３が塗布されている。ペリクルフレーム１２の幅
は通常２ｍｍ程度であり、この端面に液状粘着材を注射
針状の先から吐出し、狭いフレーム幅からはみ出さない
ように塗布して粘着材１３を形成する。
【００１６】この粘着材１３は、ペリクルをマスクに貼
付けた後のペリクル内部の気密性を維持する必要性か
ら、ペリクルフレーム１２の全面にわたって均一の高さ
で塗布することが要求される。
付けた後のペリクル内部の気密性を維持する必要性か
ら、ペリクルフレーム１２の全面にわたって均一の高さ
で塗布することが要求される。
【００１７】従って、液状粘着材の吐出速度、ペリクル
フレーム１２と液状粘着材の相対移動速度を一定にする
必要があり、液状粘着材はペリクルフレーム１２の端面
を開始点から終了点まで一筆書きのようにして塗布され
る。
フレーム１２と液状粘着材の相対移動速度を一定にする
必要があり、液状粘着材はペリクルフレーム１２の端面
を開始点から終了点まで一筆書きのようにして塗布され
る。
【００１８】そのため、塗布始点と塗布終点が重なり、
図１の（ａ）のようにその重なり部分１５が形成されて
しまう。
図１の（ａ）のようにその重なり部分１５が形成されて
しまう。
【００１９】そこで、重なり部分１５の粘着材１３の幅
が大きくなることを防止するため、ペリクルフレーム１
２の重なり部分１５の位置に切欠き２０を形成する。こ
の切欠き２０はペリクルフレーム１２の端面の内側を残
し、外側を削り取った形状をしている。
が大きくなることを防止するため、ペリクルフレーム１
２の重なり部分１５の位置に切欠き２０を形成する。こ
の切欠き２０はペリクルフレーム１２の端面の内側を残
し、外側を削り取った形状をしている。
【００２０】切欠き２０の長さは重なり部分１５の長さ
と同等又は少し長い程度で良い。また、切欠き２０の深
さは、（ｂ）に示すように均一に形成しても、またペリ
クルフレーム１２の内側から外側に向けて深くなるよう
に変化をもたせても良い。
と同等又は少し長い程度で良い。また、切欠き２０の深
さは、（ｂ）に示すように均一に形成しても、またペリ
クルフレーム１２の内側から外側に向けて深くなるよう
に変化をもたせても良い。
【００２１】ライナー１４はペリクルフレーム１２より
少し大きいサイズのポリエステル等を材料とする薄いシ
ートで、全面を覆う形状のものと、（ａ）のように額縁
状のものとがあるが、いずれでも良い。
少し大きいサイズのポリエステル等を材料とする薄いシ
ートで、全面を覆う形状のものと、（ａ）のように額縁
状のものとがあるが、いずれでも良い。
【００２２】粘着材１３の表面にライナー１４を貼付
け、粘着材１３を保護する。ライナータブ１７はライナ
ー１４を剥がす時につかむ場所である。
け、粘着材１３を保護する。ライナータブ１７はライナ
ー１４を剥がす時につかむ場所である。
【００２３】図２は第１の実施形態をマスクに装着した
状態を示す断面図で、切欠きが均一の深さのものを示し
ている。また図３は同じ状態を示す断面図であるが、切
欠きがペリクルフレームの内側から外側に向けて深くな
ったものを示している。
状態を示す断面図で、切欠きが均一の深さのものを示し
ている。また図３は同じ状態を示す断面図であるが、切
欠きがペリクルフレームの内側から外側に向けて深くな
ったものを示している。
【００２４】ペリクルをマスク１６に装着する場合、図
１のライナー１４を剥がしペリクルフレーム１２をマス
ク１６に圧着するが、この際、切欠き２０又は２１を形
成したことによって、重なり部分１５は厚さ方向に開放
されるので、粘着材１３は切欠き２０又は２１の方向へ
広がっても、幅方向の内側に広がって大きくなることは
ない。
１のライナー１４を剥がしペリクルフレーム１２をマス
ク１６に圧着するが、この際、切欠き２０又は２１を形
成したことによって、重なり部分１５は厚さ方向に開放
されるので、粘着材１３は切欠き２０又は２１の方向へ
広がっても、幅方向の内側に広がって大きくなることは
ない。
【００２５】以上のように、第１の実施形態によれば、
ペリクルフレーム１２の粘着材１３の塗布開始及び塗布
終了が重なる部分１５にペリクルフレーム１２の端面の
内側を残し、外側を削り取った切欠き２０，２１を形成
したので、粘着材１３が幅方向の内側に広がることがな
くなった結果、粘着材１３は露光機の露光光に照射され
ることがない。
ペリクルフレーム１２の粘着材１３の塗布開始及び塗布
終了が重なる部分１５にペリクルフレーム１２の端面の
内側を残し、外側を削り取った切欠き２０，２１を形成
したので、粘着材１３が幅方向の内側に広がることがな
くなった結果、粘着材１３は露光機の露光光に照射され
ることがない。
【００２６】従って、粘着材１３に起因する異物発生が
なくなり、ホトリソ工程での繰り返し欠陥転写がなく、
高歩留りで半導体装置等を製造することができる。
なくなり、ホトリソ工程での繰り返し欠陥転写がなく、
高歩留りで半導体装置等を製造することができる。
【００２７】また、粘着材１３が幅方向の内側に広がら
なくなったので、マスク１６のパターン表面に対する平
行性が高いペリクルを提供することができる。
なくなったので、マスク１６のパターン表面に対する平
行性が高いペリクルを提供することができる。
【００２８】また、ペリクルフレーム１２の幅を、粘着
材１３の広がり、ペリクル高さのばらつきを考慮して
も、従来の２ｍｍ程度より狭くすることができ、ペリク
ル有効面積の大きいペリクルを提供することが可能であ
る。
材１３の広がり、ペリクル高さのばらつきを考慮して
も、従来の２ｍｍ程度より狭くすることができ、ペリク
ル有効面積の大きいペリクルを提供することが可能であ
る。
【００２９】図４は本発明の第２の実施形態をマスクに
装着した状態を示す図で、（ａ）はマスクを透視した底
面図、（ｂ）はＢ−Ｂ断面図である。
装着した状態を示す図で、（ａ）はマスクを透視した底
面図、（ｂ）はＢ−Ｂ断面図である。
【００３０】第１の実施形態と異なり、ペリクルフレー
ム２２の４個所のコーナー部２３にペリクルフレーム２
２の端面の内側を残し、外側を削り取った切欠き２４を
形成している。
ム２２の４個所のコーナー部２３にペリクルフレーム２
２の端面の内側を残し、外側を削り取った切欠き２４を
形成している。
【００３１】切欠き２４はその深さが内側から外側に向
けて深くしたものを示しているが、均一であっても良
い。
けて深くしたものを示しているが、均一であっても良
い。
【００３２】粘着材１３は均一の高さで塗布するため、
液状粘着材の吐出速度、ペリクルフレーム２２と液状粘
着材の相対移動速度を一定にする必要がある。ペリクル
フレーム２２のコーナー部２３も直線部と同一速度で塗
布した場合、コーナー部２３の内側は粘着材が多くな
り、ペリクルをマスク１６に圧着した場合に粘着材の幅
が大きくなってしまう。
液状粘着材の吐出速度、ペリクルフレーム２２と液状粘
着材の相対移動速度を一定にする必要がある。ペリクル
フレーム２２のコーナー部２３も直線部と同一速度で塗
布した場合、コーナー部２３の内側は粘着材が多くな
り、ペリクルをマスク１６に圧着した場合に粘着材の幅
が大きくなってしまう。
【００３３】そこで、第２の実施形態では、ペリクルフ
レーム２２のコーナー部２３に上記した切欠き２４を形
成したもので、圧着時にはコーナー部２３の粘着材１３
は厚さ方向に広がり、幅方向の内側に広がって大きくな
ることはない。
レーム２２のコーナー部２３に上記した切欠き２４を形
成したもので、圧着時にはコーナー部２３の粘着材１３
は厚さ方向に広がり、幅方向の内側に広がって大きくな
ることはない。
【００３４】上記したように、第２の実施形態によれ
ば、ペリクルフレーム２２のコーナー部２３に切欠き２
４を形成したので、第１の実施形態と同等の効果を有す
る。
ば、ペリクルフレーム２２のコーナー部２３に切欠き２
４を形成したので、第１の実施形態と同等の効果を有す
る。
【００３５】勿論、ペリクルフレームにおける粘着材の
塗布開始及び塗布終了が重なる部分とコーナー部にそれ
ぞれ切欠きを設けても良い。
塗布開始及び塗布終了が重なる部分とコーナー部にそれ
ぞれ切欠きを設けても良い。
【００３６】
【発明の効果】上記したように、本発明はペリクルフレ
ームの一部に切欠きを形成することによって、粘着材の
幅方向の内側への広がりをなくしたので、粘着材に起因
する異物発生のないペリクルを提供でき、ホトリソ工程
での繰り返し欠陥転写を防止することができる。
ームの一部に切欠きを形成することによって、粘着材の
幅方向の内側への広がりをなくしたので、粘着材に起因
する異物発生のないペリクルを提供でき、ホトリソ工程
での繰り返し欠陥転写を防止することができる。
【図１】本発明の第１の実施形態を示す図
【図２】ペリクルをマスクに装着した状態を示す断面図
【図３】ペリクルをマスクに装着した状態を示す断面図
【図４】本発明の第２の実施形態をマスクに装着した状
態を示す図
態を示す図
【図５】従来のペリクルを示す断面図
【図６】従来のペリクルをマスクに装着した状態を示す
図
図
１１ ペリクル膜 １２，２２ ペリクルフレーム １３ 粘着材 １５ 重なり部分 １６ マスク ２０，２１，２４ 切欠き ２３ コーナー部
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 1/00 - 1/16
Claims (5)
- 【請求項１】 ペリクルフレームと、前記ペリクルフレ
ームの一方の端面に接着されたペリクル膜と、前記ペリ
クルフレームの他方の端面に塗布された粘着材とを有す
るペリクルにおいて、 前記ペリクルフレームの前記粘着材の塗布開始及び塗布
終了が重なる部分に、前記ペリクルフレームの端面の内
側を残し、外側を削り取った切欠きを形成したことを特
徴とするペリクル。 - 【請求項２】 ペリクルフレームと、前記ペリクルフレ
ームの一方の端面に接着されたペリクル膜と、前記ペリ
クルフレームの他方の端面に塗布された粘着材とを有す
るペリクルにおいて、 前記粘着材を塗布する前記ペリクルフレームのコーナー
部に、前記ペリクルフレームの端面の内側を残し、外側
を削り取った切欠きを形成したことを特徴とするペリク
ル。 - 【請求項３】 ペリクルフレームと、前記ペリクルフレ
ームの一方の端面に接着されたペリクル膜と、前記ペリ
クルフレームの他方の端面に塗布された粘着材とを有す
るペリクルにおいて、 前記ペリクルフレームの前記粘着材の塗布開始及び塗布
終了が重なる部分と、前記粘着材を塗布する前記ペリク
ルフレームのコーナー部とに、前記ペリクルフレームの
端面の内側を残し、外側を削り取った切欠きを形成した
ことを特徴とするペリクル。 - 【請求項４】 前記切欠きの深さが均一であることを特
徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のペリクル。 - 【請求項５】 前記切欠きを前記ペリクルフレームの内
側から外側に向けて深くしたことを特徴とする請求項１
〜３のいずれかに記載のペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11741499A JP3330898B2 (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11741499A JP3330898B2 (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | ペリクル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000305256A JP2000305256A (ja) | 2000-11-02 |
| JP3330898B2 true JP3330898B2 (ja) | 2002-09-30 |
Family
ID=14711066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11741499A Expired - Fee Related JP3330898B2 (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3330898B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5455871B2 (ja) * | 2010-11-17 | 2014-03-26 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルの製造方法 |
| JP5746662B2 (ja) * | 2012-05-11 | 2015-07-08 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム |
-
1999
- 1999-04-26 JP JP11741499A patent/JP3330898B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000305256A (ja) | 2000-11-02 |
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Legal Events
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