JPS63104058A - ペリクル体 - Google Patents

ペリクル体

Info

Publication number
JPS63104058A
JPS63104058A JP61249721A JP24972186A JPS63104058A JP S63104058 A JPS63104058 A JP S63104058A JP 61249721 A JP61249721 A JP 61249721A JP 24972186 A JP24972186 A JP 24972186A JP S63104058 A JPS63104058 A JP S63104058A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
mask
frame
adhesive
adhesive agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61249721A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoichi Takehana
竹花 洋一
Kazumi Kamiyama
神山 和美
Hisako Sato
久子 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61249721A priority Critical patent/JPS63104058A/ja
Publication of JPS63104058A publication Critical patent/JPS63104058A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 丁産業上の利用分野〕 本発明は、ペリクル体に適用してを効な技術にH,+、
1する。
〔従来の技術〕
半導体装置の製造工程である、いわゆるウニ、・\工程
では、二ノチング等のマスクとして周り)るレジストパ
ターンの形成が行われる。このレジストパターンの形成
は、半導体ウニ/S (以下、単にウェハともいう)の
表面に被管したレジスト膜にリングラフィ技術を111
用し、いわゆるマスクに形成されているパターンを転写
することで達成される。
上言己マスクは、一般にガラス等の透間基板にクロム(
C「)等の遮光膜で所定のパターンをyi着形成したも
のである。
ところで、上記レジスト膜へのマスクパターンの転写は
、レジスト膜を被着したウニノ\の上方に、上記マスク
を位置させ、該マスクの上方より光を照射して露光を行
い、次いてレジスト膜の不要部を除去する現象を行うこ
とにより達成される。
上記レジスト膜の露光では、マスク表面に微小異物が存
在すると、そのままレジストパターンとして転写され、
回路岩子等の欠陥の甲因になる。
それ故に、作業工程等においてマスク表面に異物が付着
することを防止するために、いわゆるペリクルをマスク
に取付け、その表面の保護を行っている。
このペリクルについては、昭和56年11月10日、株
式会社工業調査会発行、「電子材料」1981年別冊、
P2O3に説明されている。
上記ペリクルは、その本体が円形等の筒状フレームから
なり、該フレームの一端には透明薄膜からなるペリクル
膜が取付けろれ、その地端にはマスクの基板に接着する
ための取付部が形成されてし)る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記ペリクルの取付部は、マスクの基板との接着を確実
にする等の目的で、フレームの端面にネオブレン等の発
泡材層を接着し、該発泡材層の表面に取付用の接着剤を
被着して形成することができる。
上記のような取付部を介してペリクルをマスクへ取付け
る場合、その取付けが簡唯でかつ確実に行うことができ
るという利点がある一方、取付部の発泡材層等が微小異
物の発生源になる場合があるということが本発明者によ
り見゛ハ出された。
なお、発泡材層からの微小異物の発生は、ネオブレン等
に混合されている加工助剤や発泡剤等に原因しているも
のと考えられる。
本発明の目的は、微小異物の発生を伴うことなくペリク
ルを確実に取付けることができる技術を提供することに
ある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔問題を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、マスクの基板に取付(する側のペリクルのフ
レームの端部について、その内周端側が最も突出した形
状にしたペリクル体とするものである。
〔作用〕
上記した手段によれば、ペリクルをマスクに接着剤で取
付ける場合、フレームの端部とマスクとの間に十分な量
の接着剤を介在させることができ、かつペリクルの内部
へは上記接着剤が侵入することを防止できるため、ペリ
クルの接着を確実に行えると同時に、たとえ接着剤中に
異物原因物質が存在する場合であっても、ペリクルの内
部にあるマスクパターンには異物が付着することを有効
に防止できるものである。
こ実施例1〕 第1図は本発明による実施例1であるペリクルの取付状
態を示す拡大部分断面図であり、第2図;まその全体を
示す概略断面図である。
第1図では、左側がフレームの内側である。
本実施例のペリクル体(以下、必要に応じペリクルと称
する場合もある)1は、アルミニウム(Aβ)等からな
るフレーム2と、該フレームの一端に取付けられている
透明なペリクル膜3とで構成されるものである。そして
、その使用は第2図に示す如く、通常マスク4の遮光膜
パターン5が形成されている面に接着剤て取イ・jけて
行われるものである。なお、第2図では第1図と上下が
逆の配貨で示しである。
本実施例1のペリクル1は、第1図に示すように、マス
ク4への取付側のフレーム2の端部においてその内側端
部(内周側端部)2aが最も突出し、外側に向かうにし
たがって所定の傾斜で後退する形状ををしている。
このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
(1)、ペリクル1のフレーム2の端部を、その内側端
部2aから外側方向に所定の傾斜で後退する形状にする
ことにより、上記ペリクル1をマスク6に接着剤7で取
付ける場合、ペリクル1の端部とマスクの表面との間に
形成される空間に十分な量の接着剤7を溜め、かつフレ
ーム2より内部には上記接着剤7が侵入することを防止
できるので、上記ペリクルを確実に取付けることができ
ると同時に、ペリクルの内側では上記接着剤またはその
成分に起因する異物の発生を有効に防止することができ
る。
(2)、上記(1)に記載する如く、十分な量の接着剤
をペリクルの端部とマスクとの間に介在させることがで
きるので、発泡材層の存在がなくともフレーム全体の接
着を正確に行うことができる。
(3)、接着剤7として異物形成成分が含まれないもの
を使用することにより、マスクのパターン等に異物が付
着することを完全に防止できる。
ご実施例2〕 第3図は本発明による実施例2であるペリクルの取付状
態を示す拡大部分断面図である。
本実施例2のペリクルlは、前記実施例1のものと’r
lは同一のものであるが、そのフレーム2の端部の形状
に違いがあるものである。本実施例2のペリクルでは、
そのフレーム2の内側端部2aが最も突出している点に
おいて、前記実施例1のものと共通である。しかし、そ
の中央部には溝2bが形成され、また外側端部2cが上
記内側端部2aより僅かに後退して形成されている。
このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
(1)、−ペリクル1のフレーム2の端部を、内側端部
2aを最も突出させ、外側端部2Cを内側端部より後退
させ、該両端部の間に溝2bを形成することにより、前
記実施例1の場合と同ト策の効果が得られる。
(2)、上記(1)のように、外側端部2Cを内側端部
2aより後退させることにより、余分な接着剤7を上記
外側端部2cとマスク6との間に形成される隙間から外
に逃がすことができるので、接着剤7がペリクル1の内
側に侵入することを有効に防止できる。
(3)、フレーム2の端部に溝2bを設けることにより
、マスク6に取付けを行うに際し、接着剤7の十分な量
を上記フレーム2の端部に溜める二とができる。
以上のように本考案を実施例に基づき具体的に説明した
が、本考案は前記実施例に限定されるものではなく、そ
の要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはい
うまでもない。
たとえば、フレーム2の端部の形状は、前記実施例に示
したものに限るものでなく、その内側端部2aに最も突
出した形状を有しているものであれば、該端部2aから
外側方向への端部の形状は、所期の目的が達成できるも
のであれば、実施例1の傾斜面からなる端部にさらに細
い凹凸を設ける等、いかなるものであってもよい。また
、フレーム2自体の形状、その材質等は実施例に示した
ものに限られるものでないことはいうまでもない。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
すなわち、マスクの基板に取付ける例のペリクルのフレ
ームの端部について、その内側が最も突出した形状にす
ることにより、ペリクルをマスクに接着剤で取付ける場
合、フレームの端部とマスクとの間に十分な量の接着剤
を介在させることができ、かつペリクルの内部へは上記
接着剤が侵入することを防止できるので、ペリクルの接
着を確実に行うことができると同時に、たとえ接着剤中
に異物原因物質が存在する場合であってもペリクルの内
部にあるマスクパターンには異物が付着することを有効
に防止できるものである。その結果、レジストパターン
の精度を大巾に向上できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による実施例1であるペリクルの取付状
態を示す拡大部分断面図、 第2図はその全体を示す概略断面図、 第3図は本発明による実施例2であるペリクルの取付状
態を示す拡大部分断面図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、その内側端部が取付方向に最も突出するフレームを
    有してなるペリクル体。 2、上記フレームの端部が、外側方向に所定の傾斜をつ
    けて形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載のペリクル体。 3、上記フレームの端部に、溝が形成されていることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載のペリクル体。 4、上記フレームの端部とマスクの表面との間に接着剤
    を介在させてその取付けを行うことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載のペリクル体。
JP61249721A 1986-10-22 1986-10-22 ペリクル体 Pending JPS63104058A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61249721A JPS63104058A (ja) 1986-10-22 1986-10-22 ペリクル体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61249721A JPS63104058A (ja) 1986-10-22 1986-10-22 ペリクル体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63104058A true JPS63104058A (ja) 1988-05-09

Family

ID=17197208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61249721A Pending JPS63104058A (ja) 1986-10-22 1986-10-22 ペリクル体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63104058A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63298245A (ja) * 1987-05-28 1988-12-06 Mitsui Petrochem Ind Ltd ペリクルの製造方法
WO1991002294A1 (en) * 1989-08-10 1991-02-21 Daicel Chemical Industries, Ltd. Dust-preventing film
JP2002182373A (ja) * 2000-12-18 2002-06-26 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル及びその製造方法及びフォトマスク

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63298245A (ja) * 1987-05-28 1988-12-06 Mitsui Petrochem Ind Ltd ペリクルの製造方法
WO1991002294A1 (en) * 1989-08-10 1991-02-21 Daicel Chemical Industries, Ltd. Dust-preventing film
JP2002182373A (ja) * 2000-12-18 2002-06-26 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル及びその製造方法及びフォトマスク

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0922111A (ja) ペリクル
US10429730B2 (en) Pellicle
US6103427A (en) Pressure relieving pellicle
JP6861596B2 (ja) ペリクルフレーム及びペリクル
JPS63104058A (ja) ペリクル体
CN106950796A (zh) 防尘薄膜组件
JPH0968792A (ja) フィルター付ペリクル
JP2000122266A (ja) ペリクル
JP3575516B2 (ja) 気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル
US6727029B1 (en) Method for making reticles with reduced particle contamination and reticles formed
US6340541B1 (en) Mask for recycling and fabrication method thereof
JPH1062966A (ja) リソグラフィー用ペリクル
JP2005352096A (ja) ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル
JP2000292910A (ja) ペリクルフレームおよびこれを用いたリソグラフィー用ペリクル
JP7063962B2 (ja) ペリクルフレーム及びペリクル
JPH0419543Y2 (ja)
JP2658297B2 (ja) 防塵膜の取付け方法
JPS60147737A (ja) ペリクルホルダ
JPS6250758A (ja) パタ−ン形成方法
JP2002098874A (ja) 光学素子の固定構造
JPH04174846A (ja) マスク保護部材
KR0142791B1 (ko) 레티클구조
JPH04342257A (ja) ペリクル
JPH052264A (ja) ペリクル
JPH04152344A (ja) ペリクルの装着方法