JP3326554B2 - 積層チップの製造方法 - Google Patents
積層チップの製造方法Info
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本願発明は、複数の半導体チ
ップをそれらの厚み方向に積み重ねて互いに接着した、
いわゆるチップ・オン・チップと称される構造の積層チ
ップを製造するための積層チップの製造方法に関する。
ップをそれらの厚み方向に積み重ねて互いに接着した、
いわゆるチップ・オン・チップと称される構造の積層チ
ップを製造するための積層チップの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】周知のとおり、複数の半導体チップを用
いて所望の電子回路や半導体装置を製造する場合、半導
体チップの実装密度を高めることによって、電子回路や
半導体装置全体の小型化を図ることが強く要請される場
合が多い。この場合、複数の半導体チップを基板上に平
面的に配列しただけでは、その実装密度を高める上で一
定の限界がある。その一方、複数の半導体チップをワン
チップ化することは、その半導体チップの製造作業が煩
雑化し、その製造コストが著しく高価となる不利を招
く。
いて所望の電子回路や半導体装置を製造する場合、半導
体チップの実装密度を高めることによって、電子回路や
半導体装置全体の小型化を図ることが強く要請される場
合が多い。この場合、複数の半導体チップを基板上に平
面的に配列しただけでは、その実装密度を高める上で一
定の限界がある。その一方、複数の半導体チップをワン
チップ化することは、その半導体チップの製造作業が煩
雑化し、その製造コストが著しく高価となる不利を招
く。
【0003】そこで、従来では、いわゆるチップ・オン
・チップと称される構造を用いる手段がある。このチッ
プ・オン・チップの構造は、複数の半導体チップをそれ
らの厚み方向に積層させて接着する構造であり、このよ
うな構造を採用すれば、複数の半導体チップの実装密度
を容易に高めることができ、電子回路や半導体装置の小
型化などを図る上で有利となる。
・チップと称される構造を用いる手段がある。このチッ
プ・オン・チップの構造は、複数の半導体チップをそれ
らの厚み方向に積層させて接着する構造であり、このよ
うな構造を採用すれば、複数の半導体チップの実装密度
を容易に高めることができ、電子回路や半導体装置の小
型化などを図る上で有利となる。
【0004】複数の半導体チップをチップ・オン・チッ
プの構造にする場合、単に2つの半導体チップを積み重
ねて接着させるだけではなく、2つの半導体チップを電
気的にも接続した積層チップとして製作する場合があ
る。具体的には、2つの半導体チップを積層させる場合
に、それらの主面どうしを互いに向かい合わせて接着す
るとともに、それらの主面に設けられている電極どうし
を互いに導通接続させる場合がある。このような構成の
積層チップを予め製作しておけば、2つの半導体チップ
を所望の基板上に実装するときには、これら2つの半導
体チップを一括して基板上に搭載することができること
は勿論のこと、2つの半導体チップのうち一方のみを外
部端子と電気的に接続するだけで、2つの半導体チップ
の双方を外部端子と電気的に接続することが可能とな
る。
プの構造にする場合、単に2つの半導体チップを積み重
ねて接着させるだけではなく、2つの半導体チップを電
気的にも接続した積層チップとして製作する場合があ
る。具体的には、2つの半導体チップを積層させる場合
に、それらの主面どうしを互いに向かい合わせて接着す
るとともに、それらの主面に設けられている電極どうし
を互いに導通接続させる場合がある。このような構成の
積層チップを予め製作しておけば、2つの半導体チップ
を所望の基板上に実装するときには、これら2つの半導
体チップを一括して基板上に搭載することができること
は勿論のこと、2つの半導体チップのうち一方のみを外
部端子と電気的に接続するだけで、2つの半導体チップ
の双方を外部端子と電気的に接続することが可能とな
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来で
は、上記した構成の積層チップを製造する場合に、次の
ような不具合を生じていた。
は、上記した構成の積層チップを製造する場合に、次の
ような不具合を生じていた。
【0006】すなわち、上記積層チップを製造する場合
には、2つの半導体チップ間の導通不良を防止する観点
から、2つの半導体チップのそれぞれの電極どうしを正
確に位置合わせする必要がある。このため、2つの半導
体チップを互いに接着する場合には、予め2つの半導体
チップの電極が形成されている主面をCCDカメラなど
の撮像カメラを用いて撮像することによって、それらの
電極の位置を確認し、そのデータに基づいて電極の位置
合わせ作業を行うことが望まれる。その一方、上記積層
チップを製造するには2つの半導体チップの主面どうし
を互いに向き合わせて接着する必要があり、これらを互
いに接着させようとして2つの半導体チップを対向配置
させた場合には、それらの主面が互いに逆方向を向くこ
ととなる。したがって、従来では、2つの半導体チップ
のそれぞれの主面の電極を1台の撮像カメラで直接撮像
することは難しいという実情を考慮し、2つの半導体チ
ップのそれぞれの主面を2台の撮像カメラによって個別
に撮像する方法を採用していた。
には、2つの半導体チップ間の導通不良を防止する観点
から、2つの半導体チップのそれぞれの電極どうしを正
確に位置合わせする必要がある。このため、2つの半導
体チップを互いに接着する場合には、予め2つの半導体
チップの電極が形成されている主面をCCDカメラなど
の撮像カメラを用いて撮像することによって、それらの
電極の位置を確認し、そのデータに基づいて電極の位置
合わせ作業を行うことが望まれる。その一方、上記積層
チップを製造するには2つの半導体チップの主面どうし
を互いに向き合わせて接着する必要があり、これらを互
いに接着させようとして2つの半導体チップを対向配置
させた場合には、それらの主面が互いに逆方向を向くこ
ととなる。したがって、従来では、2つの半導体チップ
のそれぞれの主面の電極を1台の撮像カメラで直接撮像
することは難しいという実情を考慮し、2つの半導体チ
ップのそれぞれの主面を2台の撮像カメラによって個別
に撮像する方法を採用していた。
【0007】ところが、上記撮像カメラは高価であり、
また1台の撮像カメラごとにそれに付随する所定の付属
装置類を設ける必要もある。したがって、上述した2台
の撮像カメラを用いる手段を採用したのでは、積層チッ
プを製造するための設備コストがその分だけ大掛かりと
なって、高価となる不具合を生じていた。また、設備コ
ストが高価になると、これに伴って積層チップの製造コ
ストも高価となる不具合も生じていた。
また1台の撮像カメラごとにそれに付随する所定の付属
装置類を設ける必要もある。したがって、上述した2台
の撮像カメラを用いる手段を採用したのでは、積層チッ
プを製造するための設備コストがその分だけ大掛かりと
なって、高価となる不具合を生じていた。また、設備コ
ストが高価になると、これに伴って積層チップの製造コ
ストも高価となる不具合も生じていた。
【0008】本願発明は、このような事情のもとで考え
出されたものであって、2つの半導体チップの主面どう
しが互いに向き合わされて接着された構造の積層チップ
を製造する場合に、その製造設備の構成の簡易化ならび
に低コスト化を図ることができるようにし、また積層チ
ップを構成する2つの半導体チップの電極どうしを正確
に位置合わせして2つの半導体チップの導通接続を適切
に図ることができるようにすることをその課題としてい
る。
出されたものであって、2つの半導体チップの主面どう
しが互いに向き合わされて接着された構造の積層チップ
を製造する場合に、その製造設備の構成の簡易化ならび
に低コスト化を図ることができるようにし、また積層チ
ップを構成する2つの半導体チップの電極どうしを正確
に位置合わせして2つの半導体チップの導通接続を適切
に図ることができるようにすることをその課題としてい
る。
【0009】
【発明の開示】上記課題を解決するため、本願発明で
は、次の技術的手段を講じている。
は、次の技術的手段を講じている。
【0010】本願発明によれば、積層チップの製造方法
が提供される。この積層チップの製造方法は、第1の半
導体チップと第2の半導体チップとのそれぞれの主面ど
うしが互いに対面して接着され、かつそれらの主面に形
成されている電極どうしが互いに対向して導通している
積層チップを製造するための方法であって、上記第1の
半導体チップの主面を上向きしてこの主面をその上方に
位置する光学的撮像手段によって撮像することにより、
上記第1の半導体チップの電極の位置を判断する第1の
工程と、この第1の工程の後に、上記第2の半導体チッ
プをその主面が下向きとなる姿勢で上記第1の半導体チ
ップよりも上方に配置するとともに、この第2の半導体
チップの主面とは反対の上向き面をその上方に位置する
上記光学的撮像手段によって撮像することにより、上記
第2の半導体チップの電極の位置を判断する第2の工程
と、上記第1および第2の工程で判断された第1の半導
体チップと第2の半導体チップとのそれぞれの電極の位
置を互いに位置合わせするように上記第2の半導体チッ
プを第1の半導体チップ上に配置してこれらを接着する
第3の工程と、を有していることに特徴づけられる。
が提供される。この積層チップの製造方法は、第1の半
導体チップと第2の半導体チップとのそれぞれの主面ど
うしが互いに対面して接着され、かつそれらの主面に形
成されている電極どうしが互いに対向して導通している
積層チップを製造するための方法であって、上記第1の
半導体チップの主面を上向きしてこの主面をその上方に
位置する光学的撮像手段によって撮像することにより、
上記第1の半導体チップの電極の位置を判断する第1の
工程と、この第1の工程の後に、上記第2の半導体チッ
プをその主面が下向きとなる姿勢で上記第1の半導体チ
ップよりも上方に配置するとともに、この第2の半導体
チップの主面とは反対の上向き面をその上方に位置する
上記光学的撮像手段によって撮像することにより、上記
第2の半導体チップの電極の位置を判断する第2の工程
と、上記第1および第2の工程で判断された第1の半導
体チップと第2の半導体チップとのそれぞれの電極の位
置を互いに位置合わせするように上記第2の半導体チッ
プを第1の半導体チップ上に配置してこれらを接着する
第3の工程と、を有していることに特徴づけられる。
【0011】上記第2の工程では、上記第2の半導体チ
ップの外形のコーナー部、または上記第2の半導体チッ
プの主面とは反対の面に予め設けられているマークを読
み取ることにより、上記第2の半導体チップの電極の位
置を判断する構成とすることができる。
ップの外形のコーナー部、または上記第2の半導体チッ
プの主面とは反対の面に予め設けられているマークを読
み取ることにより、上記第2の半導体チップの電極の位
置を判断する構成とすることができる。
【0012】本願発明においては、主面を上向きとした
姿勢の第1の半導体チップ上に、主面を下向きとした第
2の半導体チップを載せて接着することにより、本願発
明が意図する構造の積層チップが得られることとなる
が、第1の半導体チップの電極の位置は、その上方に位
置する光学的撮像手段によってこの電極を直接撮像する
ことによって把握することができる。また、第2の半導
体チップの電極の位置については、この第2の半導体チ
ップの上向き面をその上方に位置する上記光学的撮像手
段によって撮像することによってやはり正確に把握する
ことができる。すなわち、第2の半導体チップの主面に
ついては、これを光学的撮像手段によっては撮像しない
ものの、この第2の半導体チップの主面とは反対の上向
き面を撮像することによって、その外形のコーナー部の
位置、あるいは上記上向き面に予め設けられているマー
クの位置を読み取れば、それらとの相対的な位置関係か
ら、第2の半導体チップの電極の位置を正確に把握する
ことが可能となる。したがって、このようにして、第1
の半導体チップと第2の半導体チップとのそれぞれの電
極の位置を正確に把握すれば、これらの電極を高精度に
位置合わせすることが可能となり、導通不良の無い、ま
たは導通不良を生じ難い状態に2つの半導体チップが組
み合わされた適正な構造の積層チップを製造することが
可能となる。
姿勢の第1の半導体チップ上に、主面を下向きとした第
2の半導体チップを載せて接着することにより、本願発
明が意図する構造の積層チップが得られることとなる
が、第1の半導体チップの電極の位置は、その上方に位
置する光学的撮像手段によってこの電極を直接撮像する
ことによって把握することができる。また、第2の半導
体チップの電極の位置については、この第2の半導体チ
ップの上向き面をその上方に位置する上記光学的撮像手
段によって撮像することによってやはり正確に把握する
ことができる。すなわち、第2の半導体チップの主面に
ついては、これを光学的撮像手段によっては撮像しない
ものの、この第2の半導体チップの主面とは反対の上向
き面を撮像することによって、その外形のコーナー部の
位置、あるいは上記上向き面に予め設けられているマー
クの位置を読み取れば、それらとの相対的な位置関係か
ら、第2の半導体チップの電極の位置を正確に把握する
ことが可能となる。したがって、このようにして、第1
の半導体チップと第2の半導体チップとのそれぞれの電
極の位置を正確に把握すれば、これらの電極を高精度に
位置合わせすることが可能となり、導通不良の無い、ま
たは導通不良を生じ難い状態に2つの半導体チップが組
み合わされた適正な構造の積層チップを製造することが
可能となる。
【0013】このように、本願発明では、第1の半導体
チップと第2の半導体チップとのそれぞれの電極の位置
を判断する手段として、2台の光学的撮像手段を用いる
必要はなく、光学的撮像手段は1台でよい。したがっ
て、その分だけ、積層チップの製造設備のコストを下げ
ることができ、またこれに伴って積層チップの製造コス
トの低減化をも図ることができる。
チップと第2の半導体チップとのそれぞれの電極の位置
を判断する手段として、2台の光学的撮像手段を用いる
必要はなく、光学的撮像手段は1台でよい。したがっ
て、その分だけ、積層チップの製造設備のコストを下げ
ることができ、またこれに伴って積層チップの製造コス
トの低減化をも図ることができる。
【0014】
【0015】
【0016】本願発明の好ましい実施の形態では、上記
第1の半導体チップの電極と第2の半導体チップの電極
とのそれぞれは突起状に形成されているとともに、それ
ら電極のうち一方の電極の先端部には、他方の電極の先
端部を嵌入可能とする凹部が設けられているとともに、
この凹部の内壁面は、上記他方の電極の先端部を上記一
方の電極の中心位置へガイド可能なテーパ面とされてい
る構成とすることができる。
第1の半導体チップの電極と第2の半導体チップの電極
とのそれぞれは突起状に形成されているとともに、それ
ら電極のうち一方の電極の先端部には、他方の電極の先
端部を嵌入可能とする凹部が設けられているとともに、
この凹部の内壁面は、上記他方の電極の先端部を上記一
方の電極の中心位置へガイド可能なテーパ面とされてい
る構成とすることができる。
【0017】このような構成によれば、第1の半導体チ
ップの電極と第2の半導体チップの電極とを互いに接近
させて接触させるときに、それらの一方の電極の先端部
に設けられている凹部のテーパ面としての内壁面に、他
方の電極の先端部を接触させることによって、それらの
電極の中心を自動的に位置合わせすることができるいわ
ゆる調心作用が得られることとなる。したがって、第1
の半導体チップと第2の半導体チップとのそれぞれの電
極の位置合わせ精度をより高めることが可能となる。
ップの電極と第2の半導体チップの電極とを互いに接近
させて接触させるときに、それらの一方の電極の先端部
に設けられている凹部のテーパ面としての内壁面に、他
方の電極の先端部を接触させることによって、それらの
電極の中心を自動的に位置合わせすることができるいわ
ゆる調心作用が得られることとなる。したがって、第1
の半導体チップと第2の半導体チップとのそれぞれの電
極の位置合わせ精度をより高めることが可能となる。
【0018】
【0019】
【0020】本願発明のその他の特徴および利点は、添
付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より
明らかとなろう。
付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より
明らかとなろう。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の
形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。
形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。
【0022】図1ないし図3は、本願発明に係る積層チ
ップの製造方法の一連の作業工程の一例を示す側面図で
ある。図4は、図3の一部拡大要部断面図である。
ップの製造方法の一連の作業工程の一例を示す側面図で
ある。図4は、図3の一部拡大要部断面図である。
【0023】本実施形態では、図1に示す第1の半導体
チップ1と第2の半導体チップ2とを組み合わせること
によって積層チップを製造する場合を一例として説明す
る。上記第1の半導体チップ1や第2の半導体チップ2
は、たとえばLSIチップやその他のICチップとして
構成されたものであり、いずれもシリコンチップ上に所
望の電子回路を集積させて一体的に造り込んだものであ
る。上記第1の半導体チップ1の一側面である主面10
には、突起状に形成されたバンプ電極11aとそれより
も平坦な形状に形成されたパッド状電極11bとがそれ
ぞれ複数設けられている。一方、上記第2の半導体チッ
プ2の主面20には、上記第1の半導体チップ1の複数
のバンプ電極11aと対応する複数の突起状のバンプ電
極21が設けられている。なお、図1では、上記第2の
半導体チップ2をチップボンディング装置の吸着コレッ
ト6によって吸着保持した状態を描いている。
チップ1と第2の半導体チップ2とを組み合わせること
によって積層チップを製造する場合を一例として説明す
る。上記第1の半導体チップ1や第2の半導体チップ2
は、たとえばLSIチップやその他のICチップとして
構成されたものであり、いずれもシリコンチップ上に所
望の電子回路を集積させて一体的に造り込んだものであ
る。上記第1の半導体チップ1の一側面である主面10
には、突起状に形成されたバンプ電極11aとそれより
も平坦な形状に形成されたパッド状電極11bとがそれ
ぞれ複数設けられている。一方、上記第2の半導体チッ
プ2の主面20には、上記第1の半導体チップ1の複数
のバンプ電極11aと対応する複数の突起状のバンプ電
極21が設けられている。なお、図1では、上記第2の
半導体チップ2をチップボンディング装置の吸着コレッ
ト6によって吸着保持した状態を描いている。
【0024】上記複数のバンプ電極11a,21は、好
ましくはそれらの導電接続性を良好とするために金製の
バンプ電極として形成されている。また同様に、上記複
数のパッド状電極11bも、好ましくは、金線などのワ
イヤとの導電接続性を良好とするために、少なくともそ
の表面が金製の電極とされている。これは、たとえば第
1の半導体チップ1の主面10に形成されたアルミ製の
平坦な電極本体の表面に金メッキを施すことによって製
作することができる。
ましくはそれらの導電接続性を良好とするために金製の
バンプ電極として形成されている。また同様に、上記複
数のパッド状電極11bも、好ましくは、金線などのワ
イヤとの導電接続性を良好とするために、少なくともそ
の表面が金製の電極とされている。これは、たとえば第
1の半導体チップ1の主面10に形成されたアルミ製の
平坦な電極本体の表面に金メッキを施すことによって製
作することができる。
【0025】上記第1の半導体チップ1は、その主面1
0Aが上向きとなる姿勢とされた上で、その主面10A
とは反対の下向き面としての裏面がキャリヤテープ3に
接着されることにより、このキャリヤテープ3上に保持
されている。このキャリヤテープ3は、長尺状に形成さ
れたものであり、その上面には、上記第1の半導体チッ
プ1が一定ピッチ間隔で多数並べて接着されており、こ
のキャリヤテープ3を移送することによって上記第1の
半導体チップ1を1つずつ所定の位置へ供給配置できる
ようになっている。
0Aが上向きとなる姿勢とされた上で、その主面10A
とは反対の下向き面としての裏面がキャリヤテープ3に
接着されることにより、このキャリヤテープ3上に保持
されている。このキャリヤテープ3は、長尺状に形成さ
れたものであり、その上面には、上記第1の半導体チッ
プ1が一定ピッチ間隔で多数並べて接着されており、こ
のキャリヤテープ3を移送することによって上記第1の
半導体チップ1を1つずつ所定の位置へ供給配置できる
ようになっている。
【0026】本実施形態において、所定の積層チップを
製造するには、まず図1に示すように、上記第1の半導
体チップ1の主面10上に異方性導電接着剤4を塗布す
る。この異方性導電接着剤4は、たとえば熱硬化性のエ
ポキシ樹脂内に金属粒子などの導電性粒子を分散させて
含有させたものであり、上記主面10上に塗布されただ
けではその厚み方向に導電性を有することはなく、後述
するように、それらの厚み方向に一定値以上の圧力が加
えられると、その圧力が加えられた部分のみがその厚み
方向に導電性を有することとなる特性を有している。こ
の異方性導電接着剤4は、上記主面10の全面に塗布す
るのではなく、複数のバンプ電極11aの配置領域の内
側の領域に塗布し、これによって上記複数のバンプ電極
11a上に異方性導電接着剤4が覆い被さらないように
しておく。また、上記異方性導電接着剤4の厚みは、上
記各バンプ電極11aの高さよりも多少高くなる厚みに
しておく。
製造するには、まず図1に示すように、上記第1の半導
体チップ1の主面10上に異方性導電接着剤4を塗布す
る。この異方性導電接着剤4は、たとえば熱硬化性のエ
ポキシ樹脂内に金属粒子などの導電性粒子を分散させて
含有させたものであり、上記主面10上に塗布されただ
けではその厚み方向に導電性を有することはなく、後述
するように、それらの厚み方向に一定値以上の圧力が加
えられると、その圧力が加えられた部分のみがその厚み
方向に導電性を有することとなる特性を有している。こ
の異方性導電接着剤4は、上記主面10の全面に塗布す
るのではなく、複数のバンプ電極11aの配置領域の内
側の領域に塗布し、これによって上記複数のバンプ電極
11a上に異方性導電接着剤4が覆い被さらないように
しておく。また、上記異方性導電接着剤4の厚みは、上
記各バンプ電極11aの高さよりも多少高くなる厚みに
しておく。
【0027】次いで、上記第1の半導体チップ1の主面
10を、その上方に配置させたCCDカメラなどの撮像
カメラ5を用いて撮像する。この撮像カメラ5には、こ
の撮像カメラ5の撮像で得られた画像データの中から複
数のバンプ電極11aの画像データを認識し、それらの
位置を判断する判断回路(図示略)が接続されており、
この判断回路によって、上記各バンプ電極11aの位置
が判断される。既述したとおり、上記各バンプ電極11
aは異方性導電接着剤4によって覆い隠されていない状
態であるために、上記撮像カメラ5による撮像では上記
各バンプ電極11aを明瞭に撮像することができ、その
位置を正確に判断することができる。
10を、その上方に配置させたCCDカメラなどの撮像
カメラ5を用いて撮像する。この撮像カメラ5には、こ
の撮像カメラ5の撮像で得られた画像データの中から複
数のバンプ電極11aの画像データを認識し、それらの
位置を判断する判断回路(図示略)が接続されており、
この判断回路によって、上記各バンプ電極11aの位置
が判断される。既述したとおり、上記各バンプ電極11
aは異方性導電接着剤4によって覆い隠されていない状
態であるために、上記撮像カメラ5による撮像では上記
各バンプ電極11aを明瞭に撮像することができ、その
位置を正確に判断することができる。
【0028】上記第1の半導体チップ1の撮像作業を行
った後には、図2に示すように、吸着コレット6に保持
させた第2の半導体チップ2を上記第1の半導体チップ
1の上方に配置する。次いで、上記撮像カメラ5によっ
て、上記第2の半導体チップ2の主面20とは反対に位
置する上向きの裏面20bを撮像する。この裏面20b
には、吸着コレット6の先端部が接触しており、この裏
面20bの全面を撮像することは困難であるが、上記裏
面20bの外形線となる周縁部分を撮像することは可能
である。上記吸着コレット6としては、なるべく上方へ
大きく嵩張らない構造のものを用いることが好ましく、
これによって撮像カメラ5を第2の半導体チップ2の上
面に接近させることが可能となる。このようにして、撮
像カメラ5を用いて第2の半導体チップ2の裏面20b
を撮像した後には、この撮像カメラ5の上記判断回路に
おいて、裏面20bの外形の4隅のコーナー部の位置を
判断させてから、このデータに基づいて複数のバンプ電
極21のそれぞれの位置を判断させる。すなわち、第2
の半導体チップ2の外形の4隅のコーナー部と複数のバ
ンプ電極21とは予め一定の位置関係になるように製造
されているために、上記4隅のコーナー部の位置が判明
すれば、それに基づいて複数のバンプ電極21のそれぞ
れの位置が演算処理によって求めることができる。
った後には、図2に示すように、吸着コレット6に保持
させた第2の半導体チップ2を上記第1の半導体チップ
1の上方に配置する。次いで、上記撮像カメラ5によっ
て、上記第2の半導体チップ2の主面20とは反対に位
置する上向きの裏面20bを撮像する。この裏面20b
には、吸着コレット6の先端部が接触しており、この裏
面20bの全面を撮像することは困難であるが、上記裏
面20bの外形線となる周縁部分を撮像することは可能
である。上記吸着コレット6としては、なるべく上方へ
大きく嵩張らない構造のものを用いることが好ましく、
これによって撮像カメラ5を第2の半導体チップ2の上
面に接近させることが可能となる。このようにして、撮
像カメラ5を用いて第2の半導体チップ2の裏面20b
を撮像した後には、この撮像カメラ5の上記判断回路に
おいて、裏面20bの外形の4隅のコーナー部の位置を
判断させてから、このデータに基づいて複数のバンプ電
極21のそれぞれの位置を判断させる。すなわち、第2
の半導体チップ2の外形の4隅のコーナー部と複数のバ
ンプ電極21とは予め一定の位置関係になるように製造
されているために、上記4隅のコーナー部の位置が判明
すれば、それに基づいて複数のバンプ電極21のそれぞ
れの位置が演算処理によって求めることができる。
【0029】上記複数のバンプ電極21の位置を求めた
後には、それら複数のバンプ電極21と上記第1の半導
体チップ1の複数のバンプ電極11aとの位置合わせを
行うように、吸着コレット6の位置を水平方向に微調整
する。または、これに代えて、第1の半導体チップ1の
水平方向の位置を微調整する。その後は、図3に示すよ
うに、吸着コレット6を下降させて第2の半導体チップ
2を第1の半導体チップ1上に載置し、この第2の半導
体チップ2を下方へ押しつける。これら第1の半導体チ
ップ1のバンプ電極11aと第2の半導体チップ2のバ
ンプ電極21とは、上記した撮像作業によって得られた
データに基いてそれらの位置合わせが予め行われている
ために、それらのバンプ電極11a,21どうしを、正
確に対向させることが可能となる。
後には、それら複数のバンプ電極21と上記第1の半導
体チップ1の複数のバンプ電極11aとの位置合わせを
行うように、吸着コレット6の位置を水平方向に微調整
する。または、これに代えて、第1の半導体チップ1の
水平方向の位置を微調整する。その後は、図3に示すよ
うに、吸着コレット6を下降させて第2の半導体チップ
2を第1の半導体チップ1上に載置し、この第2の半導
体チップ2を下方へ押しつける。これら第1の半導体チ
ップ1のバンプ電極11aと第2の半導体チップ2のバ
ンプ電極21とは、上記した撮像作業によって得られた
データに基いてそれらの位置合わせが予め行われている
ために、それらのバンプ電極11a,21どうしを、正
確に対向させることが可能となる。
【0030】また、第2の半導体チップ2が下方へ押し
つけられると、異方性導電接着剤4は2つの半導体チッ
プ1,2間で圧縮されて水平方向に広がる。このため、
上記異方性導電接着剤4は、バンプ電極11a,21間
に進入するとともに、それらバンプ電極11a,21の
形成箇所よりも外側の領域にまで広がる。このため、上
記第2の半導体チップ2の主面20の略全面を上記異方
性導電接着剤4によって覆うことができ、上記第1の半
導体チップ1と第2の半導体チップ2とのそれぞれの主
面10,20を上記異方性導電接着剤4によって広い面
積で樹脂封止させた状態で、それら2つの半導体チップ
1,2を接着することができる。
つけられると、異方性導電接着剤4は2つの半導体チッ
プ1,2間で圧縮されて水平方向に広がる。このため、
上記異方性導電接着剤4は、バンプ電極11a,21間
に進入するとともに、それらバンプ電極11a,21の
形成箇所よりも外側の領域にまで広がる。このため、上
記第2の半導体チップ2の主面20の略全面を上記異方
性導電接着剤4によって覆うことができ、上記第1の半
導体チップ1と第2の半導体チップ2とのそれぞれの主
面10,20を上記異方性導電接着剤4によって広い面
積で樹脂封止させた状態で、それら2つの半導体チップ
1,2を接着することができる。
【0031】上記異方性導電接着剤4は、互いに対向す
るバンプ電極11a,21間においては大きな圧縮力を
受ける。このため、図4に示すように、それらバンプ電
極11a,21間には、異方性導電接着剤4内に分散し
て含有されていた導電性粒子40が高密度で存在すると
ともに、これらの導電性粒子40が上記バンプ電極11
a,21の表面に密着することとなり、上記バンプ電極
11a,21間のみが適切に導通することとなる。
るバンプ電極11a,21間においては大きな圧縮力を
受ける。このため、図4に示すように、それらバンプ電
極11a,21間には、異方性導電接着剤4内に分散し
て含有されていた導電性粒子40が高密度で存在すると
ともに、これらの導電性粒子40が上記バンプ電極11
a,21の表面に密着することとなり、上記バンプ電極
11a,21間のみが適切に導通することとなる。
【0032】上記作業の終了後には、上記異方性導電接
着剤4を加熱して硬化させる。これにより、上記第1の
半導体チップ1と第2の半導体チップ2との接着固定状
態をより確実なものにできる。また、熱硬化した異方性
導電接着剤4を2つの半導体チップ1,2のそれぞれの
主面10,20を保護する封止樹脂としても適切に役立
たせることができる。
着剤4を加熱して硬化させる。これにより、上記第1の
半導体チップ1と第2の半導体チップ2との接着固定状
態をより確実なものにできる。また、熱硬化した異方性
導電接着剤4を2つの半導体チップ1,2のそれぞれの
主面10,20を保護する封止樹脂としても適切に役立
たせることができる。
【0033】図5に示すように、上記一連の作業工程に
よって製造された積層チップAは、たとえば樹脂パッケ
ージ型の半導体装置Bを製造するのに利用される。この
半導体装置Bは、リードフレームのダイパッド部70上
に上記積層チップAを搭載した上で、第1の半導体チッ
プ1の複数のパッド状電極11bをリードフレームのリ
ード部71にワイヤWを介して結線接続したものであ
り、上記積層チップAやその周辺部分は、エポキシ樹脂
などのパッケージング樹脂72によって覆われている。
また、このパッケージング樹脂72の外部には、上記リ
ード部71に繋がった複数本のリード端子73が突出し
ている。
よって製造された積層チップAは、たとえば樹脂パッケ
ージ型の半導体装置Bを製造するのに利用される。この
半導体装置Bは、リードフレームのダイパッド部70上
に上記積層チップAを搭載した上で、第1の半導体チッ
プ1の複数のパッド状電極11bをリードフレームのリ
ード部71にワイヤWを介して結線接続したものであ
り、上記積層チップAやその周辺部分は、エポキシ樹脂
などのパッケージング樹脂72によって覆われている。
また、このパッケージング樹脂72の外部には、上記リ
ード部71に繋がった複数本のリード端子73が突出し
ている。
【0034】上記半導体装置Bは、上記複数本のリード
端子73を利用することによって、回路基板の表面など
の所望の箇所に対して面実装可能なものである。むろ
ん、上記半導体装置Bは、2つの半導体チップ1,2を
上下厚み方向に積み重ねたものであるから、半導体チッ
プの高密度実装を行う上で好都合なものとなる。また、
既述したとおり、2つの半導体チップ1,2のそれぞれ
のバンプ電極11a,21は、正確に位置決めされてか
ら導通接続されているために、それらの電極間に導通不
良なども生じ難い高品質の半導体装置となる。さらに
は、2つの半導体チップ1,2どうしは、複数のバンプ
電極11a,21を介して互いに電気的に接続されてお
り、上記半導体装置Bを製造する際には、第1の半導体
チップ1のみをリード部71と電気的に接続すればよ
く、第2の半導体チップ2についてはリード部71と接
続する必要は無いため、半導体装置Bの製造作業工程が
簡略されるという利点も得られる。
端子73を利用することによって、回路基板の表面など
の所望の箇所に対して面実装可能なものである。むろ
ん、上記半導体装置Bは、2つの半導体チップ1,2を
上下厚み方向に積み重ねたものであるから、半導体チッ
プの高密度実装を行う上で好都合なものとなる。また、
既述したとおり、2つの半導体チップ1,2のそれぞれ
のバンプ電極11a,21は、正確に位置決めされてか
ら導通接続されているために、それらの電極間に導通不
良なども生じ難い高品質の半導体装置となる。さらに
は、2つの半導体チップ1,2どうしは、複数のバンプ
電極11a,21を介して互いに電気的に接続されてお
り、上記半導体装置Bを製造する際には、第1の半導体
チップ1のみをリード部71と電気的に接続すればよ
く、第2の半導体チップ2についてはリード部71と接
続する必要は無いため、半導体装置Bの製造作業工程が
簡略されるという利点も得られる。
【0035】なお、上記実施形態では、図2に示す作業
工程において、第2の半導体チップ2の裏面20bを撮
像したときに、この第2の半導体チップ2の外形のコー
ナー部の位置を判断してからそのデータに基づいてバン
プ電極21の位置を求めるようにしたが、本願発明はこ
れに限定されない。本願発明では、半導体チップの主面
とは反対側の裏面に光学的に読み取り可能な適当なマー
クを予め設けておき、このマークを読み取ることによっ
てそのマークの位置からその半導体チップの主面の電極
の位置を判断してもよい。上記マークとしては、たとえ
ば図6(a)に示すように、半導体チップ2aの裏面2
0bに、そのコーナー部23,23どうしを結ぶ対角線
状に設けられたマークMa、あるいは同図(b)に示す
ように、半導体チップ2aの裏面20bの各コーナー部
23またはその近傍に設けられた平面視略矩形状などの
マークMbを適用することができる。
工程において、第2の半導体チップ2の裏面20bを撮
像したときに、この第2の半導体チップ2の外形のコー
ナー部の位置を判断してからそのデータに基づいてバン
プ電極21の位置を求めるようにしたが、本願発明はこ
れに限定されない。本願発明では、半導体チップの主面
とは反対側の裏面に光学的に読み取り可能な適当なマー
クを予め設けておき、このマークを読み取ることによっ
てそのマークの位置からその半導体チップの主面の電極
の位置を判断してもよい。上記マークとしては、たとえ
ば図6(a)に示すように、半導体チップ2aの裏面2
0bに、そのコーナー部23,23どうしを結ぶ対角線
状に設けられたマークMa、あるいは同図(b)に示す
ように、半導体チップ2aの裏面20bの各コーナー部
23またはその近傍に設けられた平面視略矩形状などの
マークMbを適用することができる。
【0036】また、本願発明では、たとえば図7に示す
ように、2つの半導体チップ1b,2bのそれぞれの電
極14,24をいずれも一定の高さを有する突起状の電
極として形成した場合において、一方の電極14の先端
部には凹部15を形成し、この凹部15内に他方の電極
24の先細状に形成された先端部を嵌入させるようにし
てもよい。上記凹部15は、たとえばすり鉢状の凹部と
して形成されており、その内壁面15aは、上記他方の
電極24の先端部を上記一方の電極14の中心位置へガ
イド可能なテーパ面として形成されている。このような
手段を採用すれば、2つの電極14,24を互いに接触
させるときに、それらの電極14,24どうしが予め多
少の位置ずれを生じていても、上記凹部15の内壁面1
5aに一方の電極24の先端部が接触することによっ
て、その電極24が他方の電極14の中心に導かれるこ
ととなり、上記電極14,24どうしの位置合わせをよ
り確実に行うことが可能となる。
ように、2つの半導体チップ1b,2bのそれぞれの電
極14,24をいずれも一定の高さを有する突起状の電
極として形成した場合において、一方の電極14の先端
部には凹部15を形成し、この凹部15内に他方の電極
24の先細状に形成された先端部を嵌入させるようにし
てもよい。上記凹部15は、たとえばすり鉢状の凹部と
して形成されており、その内壁面15aは、上記他方の
電極24の先端部を上記一方の電極14の中心位置へガ
イド可能なテーパ面として形成されている。このような
手段を採用すれば、2つの電極14,24を互いに接触
させるときに、それらの電極14,24どうしが予め多
少の位置ずれを生じていても、上記凹部15の内壁面1
5aに一方の電極24の先端部が接触することによっ
て、その電極24が他方の電極14の中心に導かれるこ
ととなり、上記電極14,24どうしの位置合わせをよ
り確実に行うことが可能となる。
【0037】
【0038】その他、本願発明に係る積層チップの製造
方法の各作業工程の具体的な構成は、上述した実施形態
に限定されず、種々に変更自在である。たとえば第1の
半導体チップおよび第2の半導体チップに加え、これら
とは別体の第3の半導体チップや第4の半導体チップを
第1の半導体チップや第2の半導体チップに対してさら
に追加して接着する作業工程を行ってもよい。また、第
1の半導体チップと第2の半導体チップとを互いに接着
する手段としては、異方性導電接着剤を用いる手段に代
えて、他の接着剤や接着用のシート材あるいはフィルム
材を用いてもよい。さらに、本願発明に係る積層チップ
の具体的な構成も、種々に設計変更自在である。むろ
ん、本願発明でいう半導体チップの具体的な種類も特定
されるものではない。
方法の各作業工程の具体的な構成は、上述した実施形態
に限定されず、種々に変更自在である。たとえば第1の
半導体チップおよび第2の半導体チップに加え、これら
とは別体の第3の半導体チップや第4の半導体チップを
第1の半導体チップや第2の半導体チップに対してさら
に追加して接着する作業工程を行ってもよい。また、第
1の半導体チップと第2の半導体チップとを互いに接着
する手段としては、異方性導電接着剤を用いる手段に代
えて、他の接着剤や接着用のシート材あるいはフィルム
材を用いてもよい。さらに、本願発明に係る積層チップ
の具体的な構成も、種々に設計変更自在である。むろ
ん、本願発明でいう半導体チップの具体的な種類も特定
されるものではない。
【図1】本願発明に係る積層チップの製造方法の一作業
工程を示す側面図である。
工程を示す側面図である。
【図2】本願発明に係る積層チップの製造方法の一作業
工程を示す側面図である。
工程を示す側面図である。
【図3】本願発明に係る積層チップの製造方法の一作業
工程を示す側面図である。
工程を示す側面図である。
【図4】図3の一部拡大要部断面図である。
【図5】図1ないし3に示す作業工程によって得られた
積層チップを用いて製造された半導体装置の一例を示す
断面図である。
積層チップを用いて製造された半導体装置の一例を示す
断面図である。
【図6】(a),(b)は、本願発明で適用される半導
体チップの他の例を示す斜視図である。
体チップの他の例を示す斜視図である。
【図7】半導体チップに形成された電極の他の例を示す
要部側面断面図である。
要部側面断面図である。
1 第1の半導体チップ 2 第2の半導体チップ 4 異方性導電接着剤 5 撮像カメラ 6 吸着コレット 8a,8b ミラー 10 主面(第1の半導体チップの) 11a バンプ電極 20 主面(第2の半導体チップの) 20b 裏面(第2の半導体チップの) 21 バンプ電極 A 積層チップ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−283956(JP,A) 特開 平7−72931(JP,A) 特開 平9−162230(JP,A) 特開 昭64−81264(JP,A) 特開 昭61−89657(JP,A) 特開 平11−126869(JP,A) 特開 平8−172111(JP,A) 特開 平11−121685(JP,A) 特開 平10−144862(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 25/00 - 25/18 H01L 21/50
Claims (3)
- 【請求項1】 第1の半導体チップと第2の半導体チッ
プとのそれぞれの主面どうしが互いに対面して接着さ
れ、かつそれらの主面に形成されている電極どうしが互
いに対向して導通している積層チップを製造するための
方法であって、 上記第1の半導体チップの主面を上向きしてこの主面を
その上方に位置する光学的撮像手段によって撮像するこ
とにより、上記第1の半導体チップの電極の位置を判断
する第1の工程と、この第1の工程の後に、 上記第2の半導体チップをその
主面が下向きとなる姿勢で上記第1の半導体チップより
も上方に配置するとともに、この第2の半導体チップの
主面とは反対の上向き面をその上方に位置する上記光学
的撮像手段によって撮像することにより、上記第2の半
導体チップの電極の位置を判断する第2の工程と、上記第1および第2の 工程で判断された第1の半導体チ
ップと第2の半導体チップとのそれぞれの電極の位置を
互いに位置合わせするように上記第2の半導体チップを
第1の半導体チップ上に配置してこれらを接着する第3
の工程と、 を有していることを特徴とする、積層チップの製造方
法。 - 【請求項2】 上記第2の工程では、上記第2の半導体
チップの外形のコーナー部、または上記第2の半導体チ
ップの主面とは反対の面に予め設けられているマークを
読み取ることにより、上記第2の半導体チップの電極の
位置を判断する、請求項1に記載の積層チップの製造方
法。 - 【請求項3】 上記第1の半導体チップの電極と第2の
半導体チップの電極とのそれぞれは突起状に形成されて
いるとともに、それら電極のうち一方の電極の先端部に
は、他方の電極の先端部を嵌入可能とする凹部が設けら
れているとともに、この凹部の内壁面は、上記他方の電
極の先端部を上記一方の電極の中心位置へガイド可能な
テーパ面とされている、請求項1または2に記載の積層
チップの製造方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33160197A JP3326554B2 (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 積層チップの製造方法 |
EP98900725A EP0890989A4 (en) | 1997-01-24 | 1998-01-22 | SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE DEVICE |
KR10-1998-0707403A KR100522223B1 (ko) | 1997-01-24 | 1998-01-22 | 반도체장치및그제조방법 |
US09/155,134 US6133637A (en) | 1997-01-24 | 1998-01-22 | Semiconductor device having a plurality of semiconductor chips |
KR10-2004-7000090A KR100467946B1 (ko) | 1997-01-24 | 1998-01-22 | 반도체 칩의 제조방법 |
PCT/JP1998/000281 WO1998033217A1 (en) | 1997-01-24 | 1998-01-22 | Semiconductor device and method for manufacturing thereof |
US09/612,480 US6458609B1 (en) | 1997-01-24 | 2000-07-07 | Semiconductor device and method for manufacturing thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33160197A JP3326554B2 (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 積層チップの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11163254A JPH11163254A (ja) | 1999-06-18 |
JP3326554B2 true JP3326554B2 (ja) | 2002-09-24 |
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ID=18245485
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---|---|---|---|
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---|---|
JP (1) | JP3326554B2 (ja) |
-
1997
- 1997-12-02 JP JP33160197A patent/JP3326554B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JPH11163254A (ja) | 1999-06-18 |
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