JP3308113B2 - 酸性ホスホン酸誘導体系内部離型剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は内部離型剤、それを用い
た樹脂の成形方法及び該成形方法により得られる樹脂成
形物に関し、特定の内部離型剤の使用により成形物と鋳
型との離型性を改良するとともに、濁りの少ない透明樹
脂成形物を得ることを特徴とする。従って、特に面精度
や透明性が要求されるプラスチックレンズ、プリズム、
光ディスク基板、光ファイバー等の光学製品の成形にお
いて本発明は有用であるが、その他の樹脂成形において
もその優れた離型性において有用である。

【０００２】

【従来の技術】樹脂の成形方法として鋳型重合、射出成
形など種々の方法があるが、いずれの場合にも成形物と
鋳型との離型性改良には、いわゆる離型剤が使用され
る。特に、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などは接着力が
強く離型剤の使用は必須である。

【０００３】離型剤は外部離型剤と内部離型剤に大きく
分類される。外部離型剤は成形の度に鋳型の内部表面に
塗付する必要があるため成形物の生産性が悪いこと、外
部離型剤が成形物表面に移行し、成形物表面にムラを生
じたり、塗装及び染色不良を起こすこと、さらには透明
樹脂成形物に濁りを生ずる等の問題がある。一方、内部
離型剤とは樹脂原料モノマーにあらかじめ添加する離型
剤であり、毎回鋳型に塗付する必要がないので生産性向
上には有利である。

【０００４】従来知られている内部離型剤としては、ウ
レタン樹脂成形用としてフッ素系非イオン界面活性剤、
シリコン系非イオン界面活性剤、アルキル第４級アンモ
ニウム塩、酸性リン酸エステル、流動パラフィン、ワッ
クス、高級脂肪酸及びその金属塩、高級脂肪酸エステ
ル、高級脂肪族アルコール、ビスアミド類、ポリシロキ
サン類、脂肪族アミンエチレンオキシド付加物（特開平
１−２９５２０１号公報）、及びポリエーテル置換基を
有するリン酸エステル（特開平３−２８７６４号公報）
等がある。

【０００５】また、ウレタン樹脂のリアクションインジ
ェクションモールド法ではステアリン酸亜鉛の使用が一
般的であるが、ステアリン酸亜鉛は原料への溶解性が悪
いため各種の相溶化剤に関する特許が出願されている
（特開平３−２７３０３０号公報、特公平３−２７５８
６号公報）。

【０００６】エポキシ樹脂の成形においては、ステアリ
ン酸亜鉛を内部離型剤として使用する方法（特開平１−
２１３６０２号公報）、フッ素系ノニオン界面活性剤、
シリコン系ノニオン界面活性剤、アルキル第４級アンモ
ニウム塩、酸性リン酸エステル等を内部離型剤として使
用する方法（特開平３−８１３２０号公報）があり、そ
の外、外部離型剤と内部離型剤を併用する方法（特開昭
６３−１４４３０２号公報、特開昭６３−１４４３０３
号公報）が知られている。

【０００７】その他、ポリオレフィン樹脂の成形におい
ては、脂肪族アルコール、脂肪族エステル、フタル酸エ
ステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高
級脂肪酸金属塩等が内部離型剤として使用され（特開平
２−８４４０９号公報、特開平２−４４３０１号公
報）、ポリカーボネート樹脂の成形においては、高級脂
肪酸エステル、ワックス、流動パラフィン、シリコンオ
イル、アルキルグリセリルエーテル等が内部離型剤とし
て使用され（特開平１−３１５４６０号公報、特開平１
−３１５４５９号公報）、アクリル樹脂においても高級
アルコール類、高級脂肪酸エステル類、高級脂肪酸等を
内部離型剤とする成形方法が一般的に行われている（特
開平２−１０５８４４号公報）。

【０００８】これら公知の内部離型剤は外部離型剤に比
べ生産性向上において有効であるが、十分な離型性能を
有しておらず、離型時に鋳型表面に樹脂が残存したり、
ガラス製鋳型の場合にはガラスの剥離を起こす場合があ
る。また、離型時の抵抗により過大な応力がかかり成形
物にソリや歪みが生じるといった場合があった。さら
に、離型性を十分満足させる使用量においては成形物に
濁りを生じやすい問題がある。これらの欠点は、特に面
精度や透明性が重要なプラスチックレンズ、光ディスク
等の光学製品の成形においては致命的であり、著しく商
品価値を低下させるものであった。

【０００９】これらの欠点を改良する方法として、本発
明者らは酸性チオリン酸エステル系内部離型剤を提案し
た（特開平５−３０６３２０号公報）。この酸性チオリ
ン酸系内部離型剤は、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リオレフィン樹脂、ポリエン−ポリチオール樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、フラン樹脂、キ
シレン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、ケトン樹脂、尿素
樹脂、メラミン樹脂、アニリン樹脂、スルホンアミド樹
脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、熱可塑性
ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリビニ
ルエーテル樹脂又はこれらの複合樹脂等の透明樹脂に対
して、樹脂の透明性を損なうことなく優れた離型性を与
える内部離型剤である。

【００１０】しかしながら、この酸性チオリン酸系内部
離型剤は、そのもの自身が強い不快臭を持つ化合物であ
るために、例えば、原料モノマーにあらかじめ添加する
作業においては、常に不快臭を伴う作業となり、人によ
ってはその不快臭によって気分が悪くなる事があるとい
った問題があった。この問題を回避するためには、ドラ
フト内等で作業を行えば良いが、操作性が低下するとと
もに、ドラフト設備及びそれに伴う除害設備等の設備費
が必要となるため、不経済である。従って、酸性チオリ
ン酸エステル系内部離型剤の臭気を改良して、酸性チオ
リン酸エステル系内部離型剤と同等に優れた透明性と離
型性を与える不快臭のない内部離型剤の開発が強く望ま
れていた。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的は
優れた透明性と離型性を与える不快臭のない内部離型剤
を提供する事、第二の目的は該内部離型剤を用いる成形
方法を提供する事、第三の目的は該成形方法で得られる
樹脂成形物を提供する事である。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、驚くべきことに、酸性
ホスホン酸エステルが不快臭がなく尚且つ酸性チオリン
酸エステルと同等に優れた透明性と離型性を与える事を
見出し、本発明に到達した。

【００１３】即ち本発明は、酸性ホスホン酸誘導体を含
有する内部離型剤であり、酸性ホスホン酸誘導体が式
（１）（化７）で表される化合物、

【化７】 ［式（１）中、Ｒ₁及びＲ₂は同一でもそれぞれ異なって
も良く、水素原子、又は炭素数１〜２０までのアルキル
残基、又は炭素数１〜２０までのアリール残基、又は炭
素数１〜２０までのアルコキシアルキル残基、又は炭素
数１〜２０までのアルキレン残基、又は炭素数１〜２０
までのアラアルキル残基、又は炭素数１〜２０までのア
ラアリール残基、又は炭素数１〜２０までのアラアルコ
キシアルキル残基を表す。］又は、式（２）（化８）で
表される化合物

【化８】 ［式（２）中、Ｘは式（３）（化９）で表され、式
（３）中、ｍは１〜１０の整数、ｎは０〜４の整数を表
す。

【化９】 式（２）中、Ｒ₃及びＲ₄は同一でもそれぞれ異なっても
良く、水素原子、又は炭素数１〜２０までのアルキル残
基、又は炭素数１〜２０までのアリール残基、又は炭素
数１〜２０までのアルコキシアルキル残基、又は炭素数
１〜２０までのアルキレン残基、又は炭素数１〜２０ま
でのアラアルキル残基、又は炭素数１〜２０までのアラ
アリール残基、又は炭素数１〜２０までのアラアルコキ
シアルキル残基を表す。］である内部離型剤。酸性ホス
ホン酸誘導体が式（４）（化１０）で表される化合物、

【化１０】 ［式（４）中、Ｒ₅は、水素原子、又は炭素数１〜１０
までのアルキル残基、又は炭素数１〜１０までのアルコ
キシ残基、又は炭素数１〜１０までのアルキレン残基、
又は炭素数１〜１０までのアラアルキル残基、又は炭素
数１〜１０までのアラアルコキシ残基、又はフッ素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子を表し、ｐは０〜５
の整数を表す。Ｒ₆は、水素原子、又は炭素数１〜２０
までのアルキル残基、又は炭素数１〜２０までのアリー
ル残基、又は炭素数１〜２０までのアルコキシアルキル
残基、又は炭素数１〜２０までのアルキレン残基、又は
炭素数１〜２０までのアラアルキル残基、又は炭素数１
〜２０までのアラアリール残基、又は炭素数１〜２０ま
でのアラアルコキシアルキル残基を表す。］又は、式
（５）（化１１）で表される化合物

【化１１】 ［式（５）中、Ｘは，式（６）（化１２）で表され、式
（６）中、ｓは１〜１０の整数、ｔは０〜４の整数を表
す。］

【化１２】 ［式（５）中、Ｒ₇及びＲ₈は、それぞれ同一でも異なっ
てもよく、水素原子、又は炭素数１〜１０までのアルキ
ル残基、又は炭素数１〜１０までのアルコキシ残基、又
は炭素数１〜１０までのアルキレン残基、又は炭素数１
〜１０までのアラアルキル残基、又は炭素数１〜１０ま
でのアラアルコキシ残基、又はフッ素原子、塩素原子、
臭素原子、沃素原子を表し、ｑ及びｒは０〜５の整数を
表す。］である内部離型剤。また、該離型剤を含有する
樹脂組成物、その樹脂組成物から得られる樹脂成形物、
その樹脂成形物から成るプラスチックレンズ、その樹脂
組成物の成形方法である。

【００１４】式（１）で表される酸性ホスホン酸誘導体
の具体例としては、例えばホスホン酸、ホスホン酸メチ
ル、ホスホン酸エチル、ホスホン酸プロピル、ホスホン
酸イソプロピル、ホスホン酸ブチル、ホスホン酸イソブ
チル、ホスホン酸ｓｅｃ−ブチル、ホスホン酸 ｔｅｒ
ｔ−ブチル、ホスホン酸ヘキシル、ホスホン酸オクチ
ル、ホスホン酸２−エチルヘキシル、ホスホン酸デシ
ル、ホスホン酸ドデシル、ホスホン酸テトラデシル、ホ
スホン酸ヘキサデシル、ホスホン酸オクタデシル、ホス
ホン酸エイコサニル、ホスホン酸フェニル、ホスホン酸
ナフチル、ホスホン酸トリル、ホスホン酸メトキシフェ
ニル、ホスホン酸フェノキシフェニル、ホスホン酸メト
キシエチル、ホスホン酸フェノキシエチル、ホスホン酸
アリル、ホスホン酸ベンジル、ホスホン酸ビフェニル、
ホスホン酸ベンジルオキシエチル、メチルホスホン酸、
エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、イソプロピル
ホスホン酸、ブチルホスホン酸、イソブチルホスホン
酸、ｓｅｃ−ブチルホスホン酸、ｔｅｒｔ−ブチルホス
ホン酸、ヘキシルホスホン酸、シクロヘキシルホスホン
酸、オクチルホスホン酸、２−エチルヘキシルホスホン
酸、ドデシルホスホン酸、テトラデシルホスホン酸、ヘ
キサデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、エイ
コサニルホスホン酸、フェニルホスホン酸、ナフチルホ
スホン酸、クロロフェニルホスホン酸、ジフルオロフェ
ニルホスホン酸、トリルホスホン酸、エチルフェニルホ
スホン酸、ｔｅｒｔ−ブチルフェニルホスホン酸、シク
ロヘキシルフェニルホスホン酸、テトラデシルフェニル
ホスホン酸、ベンジルフェニルホスホン酸、キシリルホ
スホン酸、メチル−，ジｔｅｒｔ−ブチルフェニルホス
ホン酸、ジイソプロピルフェニルホスホン酸、メトキシ
フェニルホスホン酸、エトキシフェニルホスホン酸、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシフェニルホスホン酸、イソプロポキシ
フェニルホスホン酸、ベンジルオキシフェニルホスホン
酸、ジメトキシフェニルホスホン酸、フェノキシフェニ
ルホスホン酸、トリルオキシフェニルホスホン酸、メト
キシフェノキシフェニルホスホン酸、メトキシエチルホ
スホン酸、エトキシエチルホスホン酸、プロポキシエチ
ルホスホン酸、ブトキシエチルホスホン酸、メトキシプ
ロピルホスホン酸、エトキシプロピルホスホン酸、プロ
ポキシプロピルホスホン酸、ブトキシプロピルホスホン
酸、フェノキシエチルホスホン酸、ビフェニルオキシエ
チルホスホン酸、ナフトキシエチルホスホン酸、フェノ
キシプロピルホスホン酸、ビフェニルオキシプロピルホ
スホン酸、ナフトキシプロピルホスホン酸、アリルホス
ホン酸、ベンジルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、
ベンジルオキシエチルホスホン酸、ベンジルオキシプロ
ピルホスホン酸、メチルホスホン酸メチル、メチルホス
ホン酸エチル、エチルホスホン酸メチル、メチルホスホ
ン酸イソプロピル、イソプロピルホスホン酸メチル、メ
チルホスホン酸ブチル、ブチルホスホン酸メチル、メチ
ルホスホン酸オクチル、オクチルホスホン酸メチル、メ
チルホスホン酸デシル、デシルホスホン酸メチル、メチ
ルホスホン酸ドデシル、ドデシルホスホン酸メチル、メ
チルホスホン酸トリデシル、トリデシルホスホン酸メチ
ル、メチルホスホン酸オクタデシル、オクタデシルホス
ホン酸メチル、メチルホスホン酸シクロヘキシル、シク
ロヘキシルホスホン酸メチル、オクチルホスホン酸エチ
ル、エチルホスホン酸オクチル、オクチルホスホン酸イ
ソプロピル、イソプロピルホスホン酸オクチル、オクチ
ルホスホン酸プロピル、プロピルホスホン酸オクチル、
オクチルホスホン酸ブチル、ブチルホスホン酸オクチ
ル、オクチルホスホン酸ヘキシル、ヘキシルホスホン酸
オクチル、オクチルホスホン酸シクロヘキシル、シクロ
ヘキシルホスホン酸オクチル、オクチルホスホン酸デシ
ル、デシルホスホン酸オクチル、オクチルホスホン酸ド
デシル、ドデシルホスホン酸オクチル、オクチルホスホ
ン酸トリデシル、トリデシルホスホン酸オクチル、オク
チルホスホン酸オクタデシル、オクタデシルホスホン酸
オクチル、２−エチルヘキシルホスホン酸エチル、エチ
ルホスホン酸２−エチルヘキシル、２−エチルヘキシル
ホスホン酸イソプロピル、イソプロピルホスホン酸２−
エチルヘキシル、２−エチルヘキシルホスホン酸プロピ
ル、プロピルホスホン酸２−エチルヘキシル、２−エチ
ルヘキシルホスホン酸ブチル、ブチルホスホン酸２−エ
チルヘキシル、２−エチルヘキシルホスホン酸ヘキシ
ル、ヘキシルホスホン酸２−エチルヘキシル、２−エチ
ルヘキシルホスホン酸シクロヘキシル、シクロヘキシル
ホスホン酸２−エチルヘキシル、２−エチルヘキシルホ
スホン酸デシル、デシルホスホン酸２−エチルヘキシ
ル、２−エチルヘキシルホスホン酸ドデシル、ドデシル
ホスホン酸２−エチルヘキシル、２−エチルヘキシルホ
スホン酸トリデシル、トリデシルホスホン酸２−エチル
ヘキシル、２−エチルヘキシルホスホン酸オクタデシ
ル、オクタデシルホスホン酸２−エチルヘキシル、エチ
ルホスホン酸エチル、プロピルホスホン酸プロピル、イ
ソプロピルホスホン酸イソプロピル、ブチルホスホン酸
ブチル、イソブチルホスホン酸イソブチル、ｓｅｃ−ブ
チルホスホン酸ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルホス
ホン酸 ｔｅｒｔ−ブチル、ヘキシルホスホン酸ヘキシ
ル、シクロヘキシルホスホン酸シクロヘキシル、オクチ
ルホスホン酸オクチル、２−エチルヘキシルホスホン酸
２−エチルヘキシル、デシルホスホン酸デシル、ドデシ
ルホスホン酸ドデシル、トリデシルホスホン酸トリデシ
ル、テトラデシルホスホン酸テトラデシル、ヘキサデシ
ルホスホン酸ヘキサデシル、オクタデシルホスホン酸オ
クタデシル、エイコサニルホスホン酸エイコサニル、フ
ェニルホスホン酸メチル、メチルホスホン酸フェニル、
フェニルホスホン酸エチル、エチルホスホン酸フェニ
ル、フェニルホスホン酸プロピル、プロピルホスホン酸
フェニル、フェニルホスホン酸イソプロピル、イソプロ
ピルホスホン酸フェニル、フェニルホスホン酸ブチル、
ブチルホスホン酸フェニル、フェニルホスホン酸イソブ
チル、イソブチルホスホン酸フェニル、フェニルホスホ
ン酸ｓｅｃ−ブチル、ｓｅｃ−ブチルホスホン酸フェニ
ル、フェニルホスホン酸ｔｅｒｔ−ブチル、ｔｅｒｔ−
ブチルホスホン酸フェニル、フェニルホスホン酸ヘキシ
ル、ヘキシルホスホン酸フェニル、フェニルホスホン酸
シクロヘキシル、シクロヘキシルホスホン酸フェニル、
フェニルホスホン酸オクチル、オクチルホスホン酸フェ
ニル、フェニルホスホン酸２−エチルヘキシル、２−エ
チルヘキシルホスホン酸フェニル、フェニルホスホン酸
ドデシル、ドデシルホスホン酸フェニル、フェニルホス
ホン酸トリデシル、トリデシルホスホン酸フェニル、フ
ェニルホスホン酸オクタデシル、オクタデシルホスホン
酸フェニル、トリルホスホン酸メチル、メチルホスホン
酸トリル、トリルホスホン酸エチル、エチルホスホン酸
トリル、トリルホスホン酸イソプロピル、イソプロピル
ホスホン酸トリル、トリルホスホン酸ブチル、ブチルホ
スホン酸トリル、トリルホスホン酸シクロヘキシル、シ
クロヘキシルホスホン酸トリル、ナフチルホスホン酸メ
チル、メチルホスホン酸ナフチル、ナフチルホスホン酸
エチル、エチルホスホン酸ナフチル、ナフチルホスホン
酸イソプロピル、イソプロピルホスホン酸ナフチル、ナ
フチルホスホン酸ブチル、ブチルホスホン酸ナフチル、
ナフチルホスホン酸シクロヘキシル、シクロヘキシルホ
スホン酸ナフチル、メトキシフェニルホスホン酸メチ
ル、メチルホスホン酸メトキシフェニル、トリルオキシ
フェニルホスホン酸メチル、メチルホスホン酸トリルオ
キシフェニル、メトキシエチルホスホン酸メチル、メチ
ルホスホン酸メトキシエチル、フェノキシエチルホスホ
ン酸メチル、メチルホスホン酸フェノキシエチル、アリ
ルホスホン酸メチル、メチルホスホン酸アリル、ベンジ
ルホスホン酸メチル、メチルホスホン酸ベンジル、ビフ
ェニルホスホン酸メチル、メチルホスホン酸ビフェニ
ル、ベンジルオキシエチルホスホン酸メチル、メチルホ
スホン酸ベンジルオキシエチル、フェニルホスホン酸フ
ェニル、フェニルホスホン酸ナフチル、ナフチルホスホ
ン酸フェニル、フェニルホスホン酸クロロフェニル、ク
ロロフェニルホスホン酸フェニル、フェニルホスホン酸
トリル、トリルホスホン酸フェニル、フェニルホスホン
酸キシリル、キシリルホスホン酸フェニル、トリルホス
ホン酸トリル、ナフチルホスホン酸ナフチル、クロロフ
ェニルホスホン酸クロロフェニル、キシリルホスホン酸
キシリル、フェニルホスホン酸メトキシフェニル、メト
キシフェニルホスホン酸フェニル、フェニルホスホン酸
ベンジルオキシフェニル、ベンジルオキシフェニルホス
ホン酸フェニル、フェニルホスホン酸ジメトキシフェニ
ル、ジメトキシフェニルホスホン酸フェニル、フェニル
ホスホン酸フェノキシフェニル、フェノキシフェニルホ
スホン酸フェニル、フェニルホスホン酸メトキシエチ
ル、メトキシエチルホスホン酸フェニル、フェニルホス
ホン酸メトキシプロピル、メトキシプロピルホスホン酸
フェニル、フェニルホスホン酸フェノキシエチル、フェ
ノキシエチルホスホン酸フェニル、フェニルホスホン酸
フェノキシプロピル、フェノキシプロピルホスホン酸フ
ェニル、フェニルホスホン酸アリル、アリルホスホン酸
フェニル、フェニルホスホン酸ベンジル、ベンジルホス
ホン酸フェニル、フェニルホスホン酸ビフェニル、ビフ
ェニルホスホン酸フェニル、フェニルホスホン酸ベンジ
ルオキシエチル、ベンジルオキシエチルホスホン酸フェ
ニル、メトキシフェニルホスホン酸メトキシフェニル、
メトキシフェニルホスホン酸ベンジルオキシフェニル、
ベンジルオキシフェニルホスホン酸メトキシフェニル、
メトキシフェニルホスホン酸ジメトキシフェニル、ジメ
トキシフェニルホスホン酸メトキシフェニル、エトキシ
フェニルホスホン酸エトキシフェニル、メトキシフェニ
ルホスホン酸フェノキシフェニル、フェノキシフェニル
ホスホン酸メトキシフェニル、メトキシフェニルホスホ
ン酸トリルオキシフェニル、トリルオキシフェニルホス
ホン酸メトキシフェニル、メトキシフェニルホスホン酸
メトキシエチル、メトキシエチルホスホン酸メトキシフ
ェニル、メトキシフェニルホスホン酸メトキシプロピ
ル、メトキシプロピルホスホン酸メトキシフェニル、メ
トキシフェニルホスホン酸フェノキシエチル、フェノキ
シエチルホスホン酸メトキシフェニル、メトキシフェニ
ルホスホン酸フェノキシプロピル、フェノキシプロピル
ホスホン酸メトキシフェニル、メトキシフェニルホスホ
ン酸アリル、アリルホスホン酸メトキシフェニル、メト
キシフェニルホスホン酸ベンジル、ベンジルホスホン酸
メトキシフェニル、メトキシフェニルホスホン酸ビフェ
ニル、ビフェニルホスホン酸メトキシフェニル、メトキ
シフェニルホスホン酸ベンジルオキシエチル、ベンジル
オキシエチルホスホン酸メトキシフェニル、フェノキシ
フェニルホスホン酸フェノキシフェニル、フェノキシフ
ェニルホスホン酸トリルオキシフェニル、トリルオキシ
フェニルホスホン酸フェノキシフェニル、フェノキシフ
ェニルホスホン酸メトキシフェノキシフェニル、メトキ
シフェノキシフェニルホスホン酸フェノキシフェニル、
トリルオキシフェニルホスホン酸トリルオキシフェニ
ル、メトキシフェノキシフェニルホスホン酸メトキシフ
ェノキシフェニル、フェノキシフェニルホスホン酸メト
キシエチル、メトキシエチルホスホン酸フェノキシフェ
ニル、フェノキシフェニルホスホン酸メトキシプロピ
ル、メトキシプロピルホスホン酸フェノキシフェニル、
フェノキシフェニルホスホン酸フェノキシエチル、フェ
ノキシエチルホスホン酸フェノキシフェニル、フェノキ
シフェニルホスホン酸フェノキシプロピル、フェノキシ
プロピルホスホン酸フェノキシフェニル、フェノキシフ
ェニルホスホン酸アリル、アリルホスホン酸フェノキシ
フェニル、フェノキシフェニルホスホン酸ベンジル、ベ
ンジルホスホン酸フェノキシフェニル、フェノキシフェ
ニルホスホン酸ビフェニル、ビフェニルホスホン酸フェ
ノキシフェニル、フェノキシフェニルホスホン酸ベンジ
ルオキシエチル、ベンジルオキシエチルホスホン酸フェ
ノキシフェニル、メトキシエチルホスホン酸メトキシエ
チル、メトキシエチルホスホン酸メトキシプロピル、メ
トキシプロピルホスホン酸メトキシエチル、メトキシエ
チルホスホン酸フェノキシエチル、フェノキシエチルホ
スホン酸メトキシエチル、メトキシエチルホスホン酸フ
ェノキシプロピル、フェノキシプロピルホスホン酸メト
キシエチル、メトキシエチルホスホン酸アリル、アリル
ホスホン酸メトキシエチル、メトキシエチルホスホン酸
ベンジル、ベンジルホスホン酸メトキシエチル、メトキ
シエチルホスホン酸ビフェニル、ビフェニルホスホン酸
メトキシエチル、メトキシエチルホスホン酸ベンジルオ
キシエチル、ベンジルオキシエチルホスホン酸メトキシ
エチル、フェノキシエチルホスホン酸フェノキシエチ
ル、フェノキシエチルホスホン酸ビフェニルオキシエチ
ル、ビフェニルオキシエチルホスホン酸フェノキシエチ
ル、フェノキシエチルホスホン酸ナフトキシエチル、ナ
フトキシエチルホスホン酸フェノキシエチル、フェノキ
シエチルホスホン酸フェノキシプロピル、フェノキシプ
ロピルホスホン酸フェノキシエチル、フェノキシエチル
ホスホン酸アリル、アリルホスホン酸フェノキシエチ
ル、フェノキシエチルホスホン酸ベンジル、ベンジルホ
スホン酸フェノキシエチル、フェノキシエチルホスホン
酸ビフェニル、ビフェニルホスホン酸フェノキシエチ
ル、フェノキシエチルホスホン酸ベンジルオキシエチ
ル、ベンジルオキシエチルホスホン酸フェノキシエチ
ル、アリルホスホン酸アリル、アリルホスホン酸ベンジ
ル、ベンジルホスホン酸アリル、アリルホスホン酸ビフ
ェニル、ビフェニルホスホン酸アリル、アリルホスホン
酸ベンジルオキシエチル、ベンジルオキシエチルホスホ
ン酸アリル、ベンジルホスホン酸ベンジル、ベンジルホ
スホン酸ビフェニル、ビフェニルホスホン酸ベンジル、
ベンジルホスホン酸ベンジルオキシエチル、ベンジルオ
キシエチルホスホン酸ベンジル、ビフェニルホスホン酸
ビフェニル、ビフェニルホスホン酸ベンジルオキシエチ
ル、ベンジルオキシエチルホスホン酸ビフェニル、ベン
ジルオキシエチルホスホン酸ベンジルオキシエチル、ベ
ンジルオキシエチルホスホン酸ベンジルオキシプロピ
ル、ベンジルオキシプロピルホスホン酸ベンジルオキシ
エチル、ベンジルオキシプロピルホスホン酸ベンジルオ
キシプロピル等が挙げられる。

【００１５】式（２）中のＲ₃及びＲ₄としては、具体的
には水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エ
イコサニル基、フェニル基、ナフチル基、クロロフェニ
ル基、ジフロロフェニル基、トリル基、エチルフェニル
基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、シクロヘキシルフェ
ニル基、テトラデシルフェニル基、ベンジルフェニル
基、キシリル基、メチル，ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル
基、ジイソプロピルフェニル基、メトキシフェニル基、
エトキシフェニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、
イソプロピルフェニル基、ベンジルオキシフェニル基、
ジメトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、トリル
オキシフェニル基、メトキシフェノキシフェニル基、メ
トキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル
基、ブトキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシ
プロピル基、プロポキシプロピル基、ブトキシプロピル
基、フェノキシエチル基、ビフェノキシエチル基、ナフ
トキシエチル基、フェノキシプロピル基、ビフェノキシ
プロピル基、ナフトキシプロピル基、アリル基、ベンジ
ル基、ビフェニル基、ベンジルオキシエチル基、ベンジ
ルオキシプロピル基等が挙げられる。

【００１６】式（２）中のＸとしては、具体的には単結
合、−ＣＨ₂Ｏ−，−（ＣＨ₂）₄Ｏ−，−（ＣＨ₂）₅Ｏ
−，−（ＣＨ₂）₈Ｏ−，−（ＣＨ₂）₁₀Ｏ−，−｛（Ｃ
Ｈ₂） ₂Ｏ｝₂−，−（ＣＨ₂Ｏ）₄−，−｛（ＣＨ₂）
₅Ｏ｝₄−，−｛（ＣＨ₂）₁₀Ｏ｝₄−等が挙げられる。

【００１７】本発明の対象となる樹脂は特に制限はな
く、熱硬化性樹脂として、例えばウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエン−ポリチオール
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、フラ
ン樹脂、キシレン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、ケトン
樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アニリン樹脂、スルホ
ンアミド樹脂、アルキド樹脂、及びこれらの複合樹脂が
挙げられる。

【００１８】また、熱可塑性樹脂として、ポリオレフィ
ン樹脂、ポリカーボネート樹脂、熱可塑性ポリエステル
樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリビニ
ルエーテル樹脂、及びこれらの複合樹脂が挙げられる。

【００１９】成形方法は樹脂の特性により適宜選択され
るが、一般に熱硬化性樹脂は鋳型重合法、圧縮成形法等
により成形され、熱可塑性樹脂は射出成形法、押出成形
法等により成形されるが、いずれの方法においても本発
明を実施することができる。鋳型重合の場合は酸性ホス
ホン酸誘導体をあらかじめモノマー又はモノマー混合物
に添加したあと、鋳型内で重合することにより行われ
る。

【００２０】その他の成形法では樹脂の粉体又はペレッ
トを成形に供するが、樹脂粉体に酸性ホスホン酸誘導体
を混合したあと、溶融あるいは可塑化して鋳型に注入し
て成形する方法、又は樹脂粉体又はペレットの製造時に
あらかじめ酸性ホスホン酸誘導体を添加しておき、得ら
れた樹脂粉体又はペレットをそのまま成形に供する方法
等いずれの方法でも良い。

【００２１】酸性ホスホン酸誘導体の使用量は、樹脂総
量に対して０．００１〜２０重量％が好ましく、特に好
ましくは０．０１〜５重量％である。０．００１重量％
より少ないと離型性が低下する傾向があり、２０重量％
より多いと、樹脂本来の諸物性への影響が懸念される。

【００２２】鋳型材質としては、一般に使用されるステ
ンレス鋼、銅、アルミ及びこれらの合金、木、セラミッ
クス及びガラス等が使用できる。

【００２３】以下、本発明をいくつかの代表的樹脂につ
いてより詳細に説明する。本発明の対象となるウレタン
樹脂として、ポリイソシアナート化合物、ポリイソチオ
シアナート化合物、及びイソシアナト基を有するイソチ
オシアナート化合物から選ばれる１種又は２種以上のイ
ソ（チオ）シアナート化合物とポリオール化合物、ポリ
チオール化合物、及びヒドロキシチオール化合物から成
る群より選ばれる１種又は２種以上の活性水素化合物を
重合して得られる樹脂を挙げることができ、重合成形の
際に目的に応じて公知の鎖延長剤、架橋剤、光安定剤、
紫外線吸収剤、酸化防止剤、油溶染料、充填剤、重合触
媒等の種々の添加剤を加えても良い。

【００２４】ポリイソシアナート化合物としては、例え
ばエチレンジイソシアナート、トリメチレンジイソシア
ナート、テトラメチレンジイソシアナート、ヘキサメチ
レンジイソシアナート、オクタメチレンジイソシアナー
ト、ノナメチレンジイソシアナート、２，２’−ジメチ
ルペンタンジイソシアナート、２，２，４−トリメチル
ヘキサンジイソシアナート、デカメチレンジイソシアナ
ート、ブテンジイソシアナート、１，３−ブタジエン−
１，４−ジイソシアナート、２，４，４−トリメチルヘ
キサメチレンジイソシアナート、１，６，１１−ウンデ
カントリイソシアナート、１，３，６−ヘキサメチレン
トリイソシアナート、１，８−ジイソシアナト−４−イ
ソシアナトメチルオクタン、２，５，７−トリメチル−
１，８−ジイソシアナト−５−イソシアナトメチルオク
タン、ビス（イソシアナトエチル）カーボネート、ビス
（イソシアナトエチル）エーテル、１，４−ブチレング
リコールジプロピルエーテル−α，α’−ジイソシアナ
ート、リジンジイソシアナートメチルエステル、リジン
トリイソシアナート、２−イソシアナトエチル−２，６
−ジイソシアナトヘキサノエート、２−イソシアナトプ
ロピル−２，６−ジイソシアナトヘキサノエート、キシ
リレンジイソシアナート、ビス（イソシアナトエチル）
ベンゼン、ビス（イソシアナトプロピル）ベンゼン、
α，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシ
アナート、ビス（イソシアナトブチル）ベンゼン、ビス
（イソシアナトメチル）ナフタリン、ビス（イソシアナ
トメチル）ジフェニルエーテル、ビス（イソシアナトエ
チル）フタレート、メシチリレントリイソシアナート、
２，６−ジ（イソシアナトメチル）フラン等の脂肪族ポ
リイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ビス
（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ジシクロヘキ
シルメタンジイソシアナート、シクロヘキサンジイソシ
アナート、メチルシクロヘキサンジイソシアナート、ジ
シクロヘキシルジメチルメタンジイソシアナート、２，
２’−ジメチルジシクロヘキシルメタンジイソシアナー
ト、ビス（４−イソシアナト−ｎ−ブチリデン）ペンタ
エリスリトール、ダイマ酸ジイソシアナート、２−イソ
シアナトメチル−３−（３−イソシアナトプロピル）−
５−イソシアナトメチル−ビシクロ〔２，２，１〕−ヘ
プタン、２−イソシアナトメチル−３−（３−イソシア
ナトプロピル）−６−イソシアナトメチル−ビシクロ
〔２，２，１〕−ヘプタン、２−イソシアナトメチル−
２−（３−イソシアナトプロピル）−５−イソシアナト
メチル−ビシクロ〔２，２，１〕−ヘプタン、２−イソ
シアナトメチル−２−（３−イソシアナトプロピル）−
６−イソシアナトメチル−ビシクロ〔２，２，１〕−ヘ
プタン、２−イソシアナトメチル−３−（３−イソシア
ナトプロピル）−５−（２−イソシアナトエチル）−ビ
シクロ−〔２，２，１〕−ヘプタン、２−イソシアナト
メチル−３−（３−イソシアナトプロピル）−６−（２
−イソシアナトエチル）−ビシクロ−〔２，２，１〕−
ヘプタン、２−イソシアナトメチル−２−（３−イソシ
アナトプロピル）−５−（２−イソシアナトエチル）−
ビシクロ−〔２，２，１〕−ヘプタン、２−イソシアナ
トメチル−２−（３−イソシアナトプロピル）−６−
（２−イソシアナトエチル）−ビシクロ−〔２，２，
１〕−ヘプタン、２，５（または６）−ビス（イソシア
ナトメチル）−ビシクロ〔２，２，１〕−ヘプタン等の
脂環族ポリイソシアナート、フェニレンジイソシアナー
ト、トリレンジイソシアナート、エチルフェニレンジイ
ソシアナート、イソプロピルフェニレンジイソシアナー
ト、ジメチルフェニレンジイソシアナート、ジエチルフ
ェニレンジイソシアナート、ジイソプロピルフェニレン
ジイソシアナート、トリメチルベンゼントリイソシアナ
ート、ベンゼントリイソシアナート、ナフタリンジイソ
シアナート、メチルナフタレンジイソシアナート、ビフ
ェニルジイソシアナート、トリジンジイソシアナート、
４，４’−ジフェニルメタンジイソシアナート、３，
３’−ジメチルジフェニルメタン−４，４’−ジイソシ
アナート、ビベンジル−４，４’−ジイソシアナート、
ビス（イソシアナトフェニル）エチレン、３，３’−ジ
メトキシビフェニル−４，４’−ジイソシアナート、ト
リフェニルメタントリイソシアナート、ポリメリック
ＭＤＩ、ナフタリントリイソシアナート、ジフェニルメ
タン−２，４，４’−トリイソシアナート、３−メチル
ジフェニルメタン−４，６，４’−トリイソシアナー
ト、４−メチルジフェニルメタン−３，５，２’，
４’，６’−ペンタイソシアナート、フェニルイソシア
ナトメチルイソシアナート、フェニルイソシアナトエチ
ルイソシアナート、テトラヒドロナフタレンジイソシア
ナート、ヘキサヒドロベンゼンジイソシアナート、ヘキ
サヒドロジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアナー
ト、ジフェニルエーテルジイソシアナート、エチレング
リコールジフェニルエーテルジイソシアナート、１，３
−プロピレングリコールジフェニルエーテルジイソシア
ナート、ベンゾフェノンジイソシアナート、ジエチレン
グリコールジフェニルエーテルジイソシアナート、ジベ
ンゾフランジイソシアナート、カルバゾールジイソシア
ナート、エチルカルバゾールジイソシアナート、ジクロ
ロカルバゾールジイソシアナート等の芳香族ポリイソシ
アナートが挙げられる。

【００２５】また、硫黄原子を含有するポリイソシアナ
ート化合物として、例えばチオジエチレンジイソシアナ
ート、チオジプロピルジイソシアナート、チオジヘキシ
ルジイソシアナート、ジメチルスルフォンジイソシアナ
ート、ジチオジメチルジイソシアナート、ジチオジエチ
ルジイソシアナート、ジチオジプロピルジイソシアナー
ト等の含硫脂肪族イソシアナート、ジフェニルスルフィ
ド−２，４’−ジイソシアナート、ジフェニルスルフィ
ド−４，４’−ジイソシアナート、３，３’−ジメトキ
シ−４，４’−ジイソシアナートジベンジルチオエーテ
ル、ビス（４−イソシアナトメチルフェニル）スルフィ
ド、４，４’−メトキシフェニルチオエチレングリコー
ル−３，３’−ジイソシアナートなどのスルフィド結合
を有する芳香族イソシアナート、ジフェニルジスルフィ
ド−４，４’−ジイソシアナート、２，２’−ジメチル
ジフェニルジスルフィド−５，５’−ジイソシアナー
ト、３，３’−ジメチルジフェニルジスルフィド−５，
５’−ジイソシアナート、３，３’−ジメチルジフェニ
ルジスルフィド−６，６’−ジイソシアナート、４，
４’−ジメチルジフェニルジスルフィド−５，５’−ジ
イソシアナート、３，３’−ジメトキシジフェニルジス
ルフィド−４，４’−ジイソシアナート、４，４’−ジ
メトキシジフェニルジスルフィド−３，３’−ジイソシ
アナートなどのジスルフィド結合を有する芳香族イソシ
アナート、ジフェニルスルホン−４，４’−ジイソシア
ナート、ジフェニルスルホン−３，３’−ジイソシアナ
ート、ベンジディンスルホン−４，４’−ジイソシアナ
ート、ジフェニルメタンスルホン−４，４’−ジイソシ
アナート、４−メチルジフェニルスルホン−２，４’−
ジイソシアナート、４，４’−ジメトキシジフェニルス
ルホン−３，３’−ジイソシアナート、３，３’−ジメ
トキシ−４，４’−ジイソシアナトベンジルジスルホ
ン、４，４’−ジメチルジフェニルスルホン−３，３’
−ジイソシアナート、４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
ジフェニルスルホン−３，３’−ジイソシアナート、
４，４’−メトキシフェニルエチレンスルホン−３，
３’−ジイソシアナート、４，４’−ジシクロジフェニ
ルスルホン−３，３’−ジイソシアナートなどのスルホ
ン結合を有する芳香族イソシアナート、４−メチル−３
−イソシアナトフェニルスルホニル−４’−イソシアナ
トフェノールエステル、４−メトキシ−３−イソシアナ
ートフェニルスルホニル−４’−イソシアナトフェノー
ルエステルなどのスルホン酸エステル結合を有する芳香
族イソシアナート、４−メチル−３−イソシアナトフェ
ニルスルホニルアニリド−３’−メチル−４’−イソシ
アナート、ジフェニルスルホニル−エチレンジアミン−
４，４’−ジイソシアナート、４，４’−メトキシフェ
ニルスルホニル−エチレンジアミン−３，３’−ジイソ
シアナート、４−メチル−３−イソシアナトフェニルス
ルホニルアニリド−４−メチル−３’−イソシアナート
などのスルホン酸アミド結合を有する芳香族イソシアナ
ート、チオフェン−２，５−ジイソシアナート等の含硫
複素環化合物、その他１，４−ジチアン−２，５−ジイ
ソシアナートなどが挙げられる。

【００２６】ポリイソチオシアナート化合物としては、
例えば、１，２−ジイソチオシアナトエタン、１，３−
ジイソチオシアナトプロパン、１，４−ジイソチオシア
ナトブタン、１，６−ジイソチオシアナトヘキサン、ｐ
−フェニレンジイソプロピリデンジイソチオシアナート
等の脂肪族ポリイソチオシアナート、シクロヘキサンジ
イソチオシアナート等の脂肪族イソチオシアナート、
１，２−ジイソチオシアナトベンゼン、１，３−ジイソ
チオシアナトベンゼン、１，４−ジイソチオシアナトベ
ンゼン、２，４−ジイソチオシアナトトルエン、２，５
−ジイソチオシアナト−ｍ−キシレン、４，４−ジイソ
チオシアナト−１，１’−ビフェニル、１，１’−メチ
レンビス（４−イソチオシアナトベンゼン）、１，１’
−メチレンビス（４−イソチオシアナト−２−メチルベ
ンゼン）、１，１’−メチレンビス（４−イソチオシア
ナト−３−メチルベンゼン）、１，１’−（１，２−エ
タンジイル）ビス（４−イソチオシアナトベンゼン）、
４，４’−ジイソチオシアナトベンゾフェノン、４，
４’−ジイソチオシアナト−３，３’−ジメチルベンゾ
フェノン、ベンズアニリド−３，４’−ジイソチオシア
ナート、ジフェニルエーテル−４，４’−ジイソチオシ
アナート、ジフェニルアミン−４，４’−ジイソシアナ
ート等の芳香族ポリイソチオシアナート、２，４，６−
トリイソチオシアナト−３，５−トリアジン等の複素環
含有イソチオシアナート、さらにはヘキサンジオイルジ
イソチオシアナート、ノナンジオイルジイソチオシアナ
ート、カルボニックジイソチオシアナート、１，３−ベ
ンゼンカルボニルジイソチオシアナート、１，４−ベン
ゼンカルボニルジイソチオシアナート、（２，２’−ビ
ピリジン）−４，４’−ジカルボニルジイソチオシアナ
ート等のカルボニルイソチオシアナート等が挙げられ
る。

【００２７】また、イソチオシアナト基の他に１つ以上
の硫黄原子を含有するポリイソチオシアナートとして、
例えばチオビス（３−イソチオシアナトプロパン）、チ
オビス（２−イソチオシアナトエタン）、ジチオビス
（２−イソチオシアナトエタン）等の含硫脂肪族ポリイ
ソチオシアナート、１−イソチオシアナト−４−｛（２
−イソシアナト）スルホニル｝ベンゼン、チオビス（４
−イソチオシアナトベンゼン）、スルホニルビス（４−
イソチオシアナトベンゼン）、スルフィニルビス（４−
イソチオシアトベンゼン）、ジチオビス（４−イソチオ
シアナトベンゼン）、４−イソチオシアナト−１−
｛（４−イソシアナトフェニル）スルホニル｝−２−メ
トキシ−ベンゼン、４−メチル−３−イソチオシアナト
ベンゼンスルホニル−４’−イソシアナトフェニルエス
テル、４−メチル−３−イソチオシアナトベンゼンスル
ホニルアニリド−３’−メチル−４’−イソシアナート
等の含硫芳香族ポリイソチオシアナート、チオフェノン
−２，５−ジイソチオシアナート、１，４−ジチアン−
２，５−ジイソチオシアナート等の含硫複素環化合物等
が挙げられる。

【００２８】さらに、イソシアナト基を有するイソチオ
シアナート化合物としては、例えば、１−イソシアナト
−３−イソチオシアナトプロパン、１−イソシアナト−
５−イソチオシアナトペンタン、１−イソシアナト−６
−イソチオシアナトヘキサン、イソチオシアナトカルボ
ニルイソシアナ−ト、１−イソシアナト−４−イソチオ
シアナトシクロヘキサン等の脂肪族あるいは脂環族化合
物、１−イソシアナト−４−イソチオシアナトベンゼ
ン、４−メチル−３−イソチオシアナト−１−イソチオ
シアナトベンゼン等の芳香族化合物、２−イソシアナト
−４，６−ジイソチオシアナト−１，３，５−トリアジ
ン等の複素環式化合物、さらには４−イソチオシアナト
−４’−イソチオシアナトジフェニルスルフィド、２−
イソチオシアナト−２’−イソチオシアナトジエチルジ
スルフィド等のイソチオシアナト基以外にも硫黄原子を
含有する化合物等が挙げられる。

【００２９】また、これらイソ（チオ）シアナート化合
物の塩素置換体、臭素置換体等のハロゲン置換化合物、
さらにはこれらのビュウレット化反応生成物、トリメチ
ロールプロパンとのアダクト反応生成物、ダイマー化あ
るいはトリマー化反応生成物等もまた使用できる。これ
らはそれぞれ単独で用いることも、また二種類以上を混
合して用いてもよい。

【００３０】ポリオール化合物としては、例えばエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ブタントリオー
ル、１，２−メチルグルコサイド、ペンタエリスリトー
ル、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトー
ル、ソルビトール、エリスリトール、スレイトール、リ
ビトール、アラビニトール、キシリトール、アリトー
ル、マニトール、ドルシトール、イディトール、グリコ
ール、イノシトール、ヘキサントリオール、トリグリセ
ロース、ジグリペロール、トリエチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート、シクロブタンジオール、シクロ
ペンタンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘ
プタンジオール、シクロオクタンジオール、シクロヘキ
サンジメタノール、ヒドロキシプロピルシクロヘキサノ
ール、トリシクロ〔５，２，１，０，２，６〕デカン−
ジメタノール、ビシクロ〔４，３，０〕−ノナンジオー
ル、ジシクロヘキサンジオール、トリシクロ〔５，３，
１，１〕ドデカンジオール、ビシクロ〔４，３，０〕ノ
ナンジメタノール、トリシクロ〔５，３，１，１〕ドデ
カン−ジエタノール、ヒドロキシプロピルトリシクロ
〔５，３，１，１〕ドデカノール、スピロ〔３，４〕オ
クタンジオール、ブチルシクロヘキサンジオール、１，
１’−ビシクロヘキシリデンジオール、シクロヘキサン
トリオール、マルチトール、ラクチトール等の脂肪族ポ
リオール、ジヒドロキシナフタレン、トリヒドロキシナ
フタレン、テトラヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシ
ベンゼン、ベンゼントリオール、ビフェニルテトラオー
ル、ピロガロール、（ヒドロキシナフチル）ピロガロー
ル、トリヒドロキシフェナントレン、ビスフェノール
Ａ、ビスフェノールＦ、キシリレングリコール、ジ（２
−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、ビスフェノールＡ−
ビス−（２−ヒドロキシエチルエーテル）、テトラブロ
ムビスフェノールＡ、テトラブロムビスフェノールＡ−
ビス−（２−ヒドロキシエチルエーテル）等の芳香族ポ
リオール、ジブロモネオペンチルグリコール等のハロゲ
ン化ポリオール、エポキシ樹脂等の高分子ポリオールの
他にシュウ酸、グルタミン酸、アジピン酸、酢酸、プロ
ピオン酸、シクロヘキサンカルボン酸、β−オキソシク
ロヘキサンプロピオン酸、ダイマー酸、フタル酸、イソ
フタル酸、サリチル酸、３−ブロモプロピオン酸、２−
ブロモグリコール、ジカルボキシシクロヘキサン、ピロ
メリット酸、ブタンテトラカルボン酸、ブロモフタル酸
などの有機酸と前記ポリオールとの縮合反応生成物、前
記ポリオールとエチレンオキサイドやプロピレンオキサ
イドなどアルキレンオキサイドとの付加反応生成物、ア
ルキレンポリアミンとエチレンオキサイドや、プロピレ
ンオキサイドなどアルキレンオキサイドとの付加反応生
成物、さらには、ビス−〔４−（ヒドロキシエトキシ）
フェニル〕スルフィド、ビス−〔４−（２−ヒドロキシ
プロポキシ）フェニル〕スルフィド、ビス−〔４−
（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）フェニル〕スルフ
ィド、ビス−〔４−（４−ヒドロキシシクロヘキシロキ
シ）フェニル〕スルフィド、ビス−〔２−メチル−４−
（ヒドロキシエトキシ）−６−ブチルフェニル〕スルフ
ィドおよびこれらの化合物に水酸基当たり平均３分子以
下のエチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシ
ドが付加された化合物、ジ−（２−ヒドロキシエチル）
スルフィド、１，２−ビス−（２−ヒドロキシエチルメ
ルカプト）エタン、ビス（２−ヒドロキシエチル）ジス
ルフィド、１，４−ジチアン−２，５−ジオール、ビス
（２，３−ジヒドロキシプロピル）スルフィド、テトラ
キス（４−ヒドロキシ−２−チアブチル）メタン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホン（商品名ビスフェ
ノールＳ）、テトラブロモビスフェノールＳ、テトラメ
チルビスフェノールＳ、４，４’−チオビス（６−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３−ビス
（２−ヒドロキシエチルチオエチル）−シクロヘキサン
などの硫黄原子を含有したポリオール等が挙げられる。

【００３１】また、ポリチオール化合物としては、例え
ば、メタンジチオール、１，２−エタンジチオール、
１，１−プロパンジチオール、１，２−プロパンジチオ
ール、１，３−プロパンジチオール、２，２−プロパン
ジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，２，３
−プロパントリチオール、１，１−シクロヘキサンジチ
オール、１，２−シクロヘキサンジチオール、２，２−
ジメチルプロパン−１，３−ジチオール、３，４−ジメ
トキシブタン−１，２−ジチオール、２−メチルシクロ
ヘキサン−２，３−ジチオール、ビシクロ〔２，２，
１〕ペプタ−ｅｘｏ−ｃｉｓ−２，３−ジチオール、
１，１−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、チ
オリンゴ酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、
２，３−ジメルカプトコハク酸（２−メルカプトエチル
エステル）、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール
（２−メルカプトアセテート）、２，３−ジメルカプト
−１−プロパノール（３−メルカプトアセテート）、ジ
エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテー
ト）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロ
ピオネート）、１，２−ジメルカプトプロピルメチルエ
ーテル、２，３−ジメルカプトプロピルメチルエーテ
ル、２，２−ビス（メルカプトメチル）−１，３−プロ
パンジチオール、ビス（２−メルカプトエチル）エーテ
ル、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテー
ト）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピ
オネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メル
カプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス
（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリト
ールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタ
エリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネ
ート）、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−
３−メルカプトプロパン）等の脂肪族ポリチオール、
１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカプト
ベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，２−ビ
ス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３−ビス（メル
カプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメ
チル）ベンゼン、１，２−ビス（メルカプトエチル）ベ
ンゼン、１，３−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、
１，４−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２−
ビス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，３−
ビス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，４−
ビス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，２−
ビス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，３−
ビス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，４−
ビス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，２，
３−トリメルカプトベンゼン、１，２，４−トリメルカ
プトベンゼン、１，３，５−トリメルカプトベンゼン、
１，２，３−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、
１，２，４−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、
１，３，５−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、
１，２，３−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、
１，２，４−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、
１，３，５−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、
１，２，３−トリス（メルカプトメチレンオキシ）ベン
ゼン、１，２，４−トリス（メルカプトメチレンオキ
シ）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトメチレ
ンオキシ）ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプト
エチレンオキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（メル
カプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス
（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，２，３，
４−テトラメルカプトベンゼン、１，２，３，５−テト
ラメルカプトベンゼン、１，２，４，５−テトラメルカ
プトベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプ
トメチル）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メ
ルカプトメチル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキ
ス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３，４−テ
トラキス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３，
５−テトラキス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，
２，４，５−テトラキス（メルカプトエチル）ベンゼ
ン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプトエチル）
ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトメ
チレンオキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス
（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，２，３，
４−テトラキス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼ
ン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトエチレン
オキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メル
カプトエチレンオキシ）ベンゼン、２，２’−ジメルカ
プトビフェニル、４，４’−ジメルカプトビフェニル、
４，４’−ジメルカプトビベンジル、２，５−トルエン
ジチオール３，４−トルエンジチオール、１，４−ナフ
タレンジチオール、１，５−ナフタレンジチオール、
２，６−ナフタレンジチオール、２，７−ナフタレンジ
チオール、２，４−ジメチルベンゼン−１，３−ジチオ
ール、４，５−ジメチルベンゼン−１，３−ジチオー
ル、９，１０−アントラセンジメタンチオール、１，３
−ジ（ｐ−メトキシフェニル）プロパン− ２，２−ジ
チオール、１，３−ジフェニルプロパン−２，２−ジチ
オール、フェニルメタン−１，１−ジチオール、２，４
−ジ（ｐ−メルカプトフェニル）ペンタン等の芳香族ポ
リチオール、また、２，５−ジクロロベンゼン−１，３
−ジチオール、１，３−ジ（ｐ−クロロフェニル）プロ
パン−２，２−ジチオール、３，４，５−トリブロム−
１，２−ジメルカプトベンゼン、２，３，４，６−テト
ラクロル−１，５−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン
等の塩素置換体、臭素置換体等のハロゲン置換芳香族ポ
リチオール、また、２−メチルアミノ−４，６−ジチオ
ール−ｓｙｍ−トリアジン、２−エチルアミノ−４，６
−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−アミノ−４，
６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−モルホリノ
−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−シク
ロヘキシルアミノ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリ
アジン、２−メトキシ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−
トリアジン、２−フェノキシ−４，６−ジチオール−ｓ
ｙｍ−トリアジン、２−チオベンゼンオキシ−４，６−
ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−チオブチルオキ
シ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン等の複素
環を含有したポリチオール、さらには１，２−ビス（メ
ルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，３−ビス（メルカ
プトメチルチオ）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプト
メチルチオ）ベンゼン、１，２−ビス（メルカプトエチ
ルチオ）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトエチルチ
オ）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトエチルチオ）
ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトメチルチ
オ）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルメルカプトメ
チルチオ）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプト
メチルチオ）ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプ
トエチルチオ）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカ
プトエチルチオ）ベンゼン、１，３，５−トリス（メル
カプトエチルチオ）ベンゼン、１，２，３，４−テトラ
キス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，２，３，
５−テトラキス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、
１，２，４，５−テトラキス（メルカプトメチルチオ）
ベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプトエ
チルチオ）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メ
ルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，２，４，５−テト
ラキス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン等、及びこれ
らの核アルキル化物等のメルカプト基以外に硫黄原子を
含有する芳香族ポリチオール、ビス（メルカプトメチ
ル）スルフィド、ビス（メルカプトエチル）スルフィ
ド、ビス（メルカプトプロピル）スルフィド、ビス（メ
ルカプトメチルチオ）メタン、ビス（２−メルカプトエ
チルチオ）メタン、ビス（３−メルカプトプロピル）メ
タン、１，２−ビス（メルカプトメチルチオ）エタン、
１，２−（２−メルカプトエチルチオ）エタン、１，２
−（３−メルカプトプロピル）エタン、１，３−ビス
（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，３−ビス（２
−メルカプトエチルチオ）プロパン、１，３−ビス（３
−メルカプトプロピルチオ）プロパン、１，２，３−ト
リス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，２，３−
トリス（２−メルカプトエチルチオ）プロパン、１，
２，３−トリス（３−メルカプトプロピルチオ）プロパ
ン、テトラキス（メルカプトメチルチオメチル）メタ
ン、テトラキス（２−メルカプトエチルチオメチル）メ
タン、テトラキス（３−メルカプトプロピルチオメチ
ル）メタン、ビス（２，３−ジメルカプトプロピル）ス
ルフィド、２，５−ジメルカプト−１，４−ジチアン、
２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチア
ン、ビス（メルカプトメチル）ジスルフィド、ビス（メ
ルカプトエチル）ジスルフィド、ビス（メルカプトプロ
ピル）ジスルフィド等、及びこれらのチオグリコール酸
及びメルカプトプロピオン酸のエステル、ヒドロキシメ
チルスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒ
ドロキシメチルスルフィドビス（３−メルカプトプロピ
オネート）、ヒドロキシエチルスルフィドビス（２−メ
ルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルスルフィドビ
ス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシプロ
ピルスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒ
ドロキシプロピルスルフィドビス（３−メルカプトプロ
ピオネート）、ヒドロキシメチルジスルフィドビス（２
−メルカプトアセテート）、ヒドロキシメチルジスルフ
ィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキ
シエチルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテー
ト）、ヒドロキシエチルジスルフィドビス（３−メルカ
プトプロピオネート）、ヒドロキシプロピルジスルフィ
ドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシプロ
ピルジスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、２−メルカプトエチルエーテルビス（２−メルカ
プトアセテート）、２−メルカプトエチルエーテルビス
（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ジチアン
−２，５−ジオールビス（２−メルカプトアセテー
ト）、１，４−ジチアン−２，５−ジオールビス（３−
メルカプトプロピオネート）、チオグリコール酸ビス
（２−メルカプトエチルエステル）、チオジプロピオン
酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、４，４−チ
オジブチル酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、
ジチオジグリコール酸ビス（２−メルカプトエチルエス
テル）、ジチオジプロピオン酸ビス（２−メルカプトエ
チルエステル）、４，４−ジチオジブチル酸ビス（２−
メルカプトエチルエステル）、チオジグリコール酸ビス
（２，３−ジメルカプトプロピルエステル）、チオジプ
ロピオン酸ビス（２，３−ジメルカプトプロピルエステ
ル）、ジチオグリコール酸ビス（２，３−ジメルカプト
プロピルエステル）、ジチオジプロピオン酸（２，３−
ジメルカプトプロピルエステル）等のメルカプト基以外
に硫黄原子を含有する脂肪族ポリチオール、３，４−チ
オフェンジチオール、２，５−ジメルカプト−１，３，
４−チアジアゾール等のメルカプト基以外に硫黄原子を
含有する複素環化合物等が挙げられる。

【００３２】また、ヒドロキシチオール化合物として
は、例えば、２−メルカプトエタノール、３−メルカプ
ト−１，２−プロパンジオール、グルセリンジ（メルカ
プトアセテート）、１−ヒドロキシ−４−メルカプトシ
クロヘキサン、２，４−ジメルカプトフェノール、２−
メルカプトハイドロキノン、４−メルカプトフェノー
ル、３，４−ジメルカプト−２−プロパノール、１，３
−ジメルカプト−２−プロパノール、２，３−ジメルカ
プト−１−プロパノール、１，２−ジメルカプト−１，
３−ブタンジオール、ペンタエリスリトールトリス（３
−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトール
モノ（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリス
リトールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ペン
タエリスリトールトリス（チオグリコレート）、ペンタ
エリスリトールペンタキス（３−メルカプトプロピオネ
ート）、ヒドロキシメチル−トリス（メルカプトエチル
チオメチル）メタン、１−ヒドロキシエチルチオ−３−
メルカプトエチルチオベンゼン、４−ヒドロキシ−４’
−メルカプトジフェニルスルホン、２−（２−メルカプ
トエチルチオ）エタノール、ジヒドロキシエチルスルフ
ィドモノ（３−メルカプトプロピオネート）ジメルカプ
トエタンモノ（サルチレート）、ヒドロキシエチルチオ
メチル−トリス（メルカプトエチルチオ）メタン等が挙
げられる。

【００３３】さらには、これら活性水素化合物の塩素置
換体、臭素置換体のハロゲン置換体を使用してもよい。
これらはそれぞれ単独で用いることも、また２種類以上
を混合して用いてもよい。

【００３４】これらイソ（チオ）シアネート化合物と活
性水素化合物との使用割合は、（ＮＣＯ＋ＮＣＳ）／
（ＯＨ＋ＳＨ）の官能基モル比が通常０．５〜３．０の
範囲内、好ましくは０．５〜１．５の範囲内である。

【００３５】ウレタン樹脂の成形方法としては、通常、
鋳型重合法、リアクションインジェクションモールド法
が行われる。

【００３６】鋳型重合法としては例えば、１種又は２種
以上のポリイソチオシアナート化合物と１種又は２種以
上の活性水素化合物の混合物に１種又は２種以上の酸性
ホスホン酸誘導体を溶解した後、必要により脱泡操作を
行う。次に鋳型内に注入し、−２０〜２００℃、好まし
くは室温〜１５０℃、さらに好適には５０〜１２０℃の
範囲において徐々に昇温し０．５〜７２時間で重合させ
る。

【００３７】リアクションインジェクションモールド法
としては例えば、酸性ホスホン酸誘導体を溶解した活性
水素化合物とイソチオシアナート化合物を別々に高圧混
合機タンクに装入し、加熱下に高圧混合機で混合後、鋳
型内に射出し成形する。

【００３８】エポキシ樹脂は、エポキシ基を有するモノ
マーを含む原料を重合して成る樹脂であり特に制限は無
く、エポキシ基を有するモノマーとして例えば次のもの
が挙げられる。

【００３９】（１）アミン系エポキシ化合物（化１３）

【００４０】

【化１３】

【００４１】基を有するエポキシ化合物で、例えば、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジルアミノジフェニ
ルメタン、メタ−Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノフェニル
グリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリ
シジルテレフタルアミドなどのようなアミノ基やアミド
基を有する化合物と、エピクロルヒドリン、メチルエピ
クロルヒドリン、エピブロムヒドリンなどのエピハロヒ
ドリンとから合成される化合物である。

【００４２】アミノ基を有する化合物の具体例として
は、ジアミノジフェニルメタン、メタキシリレンジアミ
ン、パラキシリレンジアミン、メタアミノベンジルアミ
ン、パラアミノベンジルアミン、１，３−ビスアミノメ
チルシクロヘキサン、１，４−ビスアミノメチルシクロ
ヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、１，４−
ジアミノシクロヘキサン、メタフェニレンジアミン、パ
ラフェニレンジアミン、ベンジルアミン、ジアミノジフ
ェニルスルホン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミ
ノジフェニルサルファイド、ジアミノジフェニルケト
ン、ナフタリンジアミン、アニリン、トルイジン、メタ
アミノフェノール、パラアミノフェノール、アミノナフ
トールなどが挙げられる。

【００４３】またアミド基を有する化合物の具体例とし
ては、フタルアミド、イソフタルアミド、テレフタルア
ミド、ベンズアミド、トルアミド、パラヒドロキシベン
ズアミド、メタヒドロキシベンズアミドなどが挙げられ
る。

【００４４】これらのアミノ基またはアミド基を有する
化合物において、アミノ基またはアミド基以外のヒドロ
キシル基、カルボキシル基、メルカプト基などのエピハ
ロヒドリンと反応する基を有する場合、これらのエピハ
ロヒドリンと反応する基の一部または全部がエピハロヒ
ドリンと反応し、エポキシ基で置換されていてもよい。

【００４５】（２）フェノール系エポキシ化合物 このタイプの化合物は、ビスフェノールＡジグリシジル
エーテル、エポトートＹＤＣＮ−２２０（東都化成株式
会社の商品）などのように、フェノール系化合物とエピ
ハロヒドリンから合成することができる。

【００４６】フェノール系化合物の具体例としては、ハ
イドロキノン、カテコール、レゾルシン、ビスフェノー
ルＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールスルホン、臭
素化ビスフェノールＡ、ノボラック、クレゾールノボラ
ック、テトラフェニルエタン、トリフェニルエタンなど
が挙げられる。

【００４７】（３）アルコール系エポキシ化合物 トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオ
ペンチルグリコールジグリシジルエーテルなどのように
アルコール系化合物とエピハロヒドリンから合成するこ
とができる化合物である。アルコール系化合物の具体例
としては、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
ポリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、
１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、
ジブロモネオペンチルグリコール、トリメチロールプロ
パン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ポリカプロ
ラクトン、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポ
リブタジエングリコール、水添ビスフェノールＡ、シク
ロヘキサンジメタノール、ビスフェノールＡ・エチレン
オキシド付加物、ビスフェノールＡ・プロピレンオキシ
ド付加物などの多価アルコール、およびこれら多価アル
コールと多価カルボン酸から作られるポリエステルポリ
オールなどが挙げられる。

【００４８】（４）不飽和化合物のエポキシ化物 シクロペンタジエンジエポキシド、エポキシ化大豆油、
エポキシ化ポリブタジエン、ビニルシクロヘキセンエポ
キシド、ユニオンカーバイト社の商品名ＥＲＬ−４２２
１、ＥＲＬ−４２３４、ＥＲＬ−４２９９などで知られ
る不飽和化合物のエポキシ化物などが挙げられる。

【００４９】（５）グリシジルエステル系エポキシ化合
物 テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステルなどのよう
にカルボン酸とエピハロヒドリンから合成することがで
きる化合物。

【００５０】カルボン酸の具体例としては、アジピン
酸、セバチン酸、ドデカンジカルボン酸、ダイマー酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロ
フタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロ
フタル酸、ヘット酸、ナジック酸、マレイン酸、フマー
ル酸、トリメリット酸、ベンゼンテトラカルボン酸、ブ
タンテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン
酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３
−メチル−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸など
の多価カルボン酸が挙げられる。

【００５１】（６）ウレタン系エポキシ化合物 （３）で挙げた多価アルコールとジイソシアナートおよ
びグリシドール又は３−ヒドロキシプロピレンスルフィ
ドとから合成することができる。

【００５２】ジイソシアナートの具体例としては、トリ
レンジイソシアナート、ジフェニルメタン−４，４’−
ジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、
イソホロンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナ
ート、ナフタリンジイソシアナートなどが挙げられる。

【００５３】（７）脂環型エポキシ化合物 ３，４−エポキシシクロヘキシル−３，４−エポキシシ
クロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセン
ジオキサイド、２−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキ
サン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）アジペートなどの脂環型エポキシ化合物な
どが挙げられる。

【００５４】（８）不飽和二重結合を有するエポキシ化
合物 グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、
アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシジルエー
テル、４−（グリシジルオキシ）スチレン、α−メチル
−４−（グリシジルオキシ）スチレン、４−ビニル安息
香酸グリシジルエステル、４−イソプロペニル安息香酸
グリシジルエステル、２，２’−ジビニルビスフェノー
ルＡグリシジルエーテル、２，２’−ジプロペニルビス
フェノールＡグリシジルエーテル、ビス（２−ビニル安
息香酸グリシジルエステル）メタン、ビス（２−プロペ
ニル安息香酸グリシジルエステル）メタン、エポキシコ
ハク酸ジアリルエステル、３，４−エポキシメタクリロ
イルオキシトリシクロ［５．２．１．０２．６］デカン
などが挙げられる。

【００５５】これらエポキシ化合物は塩素、臭素等によ
るハロゲン置換体でも良く、さらにエポキシ基をエピス
ルフィド基に置換した化合物であっても良い。また、こ
れらエポキシ化合物はそれぞれ単独で重合させても、二
種以上を混合して重合しても良い。

【００５６】さらに、エポキシ化合物は一般にエポキシ
樹脂硬化剤とし分類されるアルコール類、フェノール
類、チオール類、カルボン酸類、無水カルボン酸類、ア
ミン類、アミド類、スルホン酸類、イソシアナート類等
の公知化合物と共に重合させても良い。これらエポキシ
樹脂硬化剤の具体例としては、例えば、エチレングリコ
ール、トリメチロールプロパン等のアルコール類；ビス
フェノールＡ、テトラブロムビスフェノールＡ、ビス
（ヒドロキシエチル）スルフィド、ビス−〔４−（ヒド
ロキシエトキシ）フェニル〕スルフィド等のフェノール
類；エタンジチオール、トリチオグリセリン、ペンタエ
リスリトールテトラキス（チオグリコレート）、ビス
（メルカプトエチル）スルフィド等のチオール類；マレ
イン酸、コハク酸、チオジグリコール酸、３，３’−チ
オジプロピオン酸、フタル酸、ｐ−フェニレンジチオジ
グリコール酸等のカルボン酸類；無水フタル酸、無水ヘ
キサヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、ドデシル無
水コハク酸、テトラブロモ無水フタル酸、メチルシクロ
ペンタジエンと無水マレイン酸の付加物等のカルボン酸
無水物類；ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
アミン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニル
アミン、ジアミノジフェニルスルホン等のアミン類；脂
肪酸、ダイマー酸、トリマー酸等の脂肪酸と脂肪族ポリ
アミンとの縮合物等のポリアミド類；ｍ−ベンゼンジス
ルホン酸、ビス（４−スルホベンゼン）ジスルフィド等
のスルホン酸類；トルエンジイソシアナート、ジフェニ
ルメタンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナー
ト、ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイ
ソシアナート等のイソシアナート類；二種以上の官能基
を有する硬化剤として、２−メルカプトエタノール、チ
オグリコール酸、グリコール酸、３−（ヒドロキシスル
ホキシ）プロピオン酸、４−アミノベンゼンスルホン
酸、４−メルカプトベンゼンスルホン酸、４−アミノベ
ンゼンチオフェノール、２−メルカプトエチルアミン等
が挙げられる。

【００５７】また、三フッ化ホウ素とエチルアミンの錯
体、四フッ化ホウ素、六フッ化リン等のジアゾニウム
塩、ヨウドニウム塩、ブロモニウム塩、スルフィニウム
塩等の塩も挙げられる。これらエポキシ樹脂硬化剤は１
種又は２種以上を同時に使用しても良い。

【００５８】エポキシ化合物として不飽和二重結合を有
するエポキシ化合物を使用する場合には、アクリル酸エ
ステル、スチレン、ジアリルフタレート、ジエチレング
リコールメタクリレート、ジエチレングリコールビスア
リルカーボネート等のビニルモノマーと共重合させても
良い。

【００５９】エポキシ樹脂硬化剤を使用する場合には、
硬化剤の有する反応性基／エポキシ化合物のエポキシ基
の官能基モル比を０．１〜２．０の範囲とするのが好ま
しい。

【００６０】エポキシ樹脂成形は通常鋳型重合により行
われるが、重合法としては加熱重合法と光重合法があり
エポキシ樹脂の種類により適宜選択される。

【００６１】加熱重合法の一般的方法は、エポキシモノ
マー混合物に酸性ホスホン酸誘導体内部離型剤と重合触
媒を加え、樹脂製ガスケットと金属製又はガラス製モー
ルドを組合せた鋳型内に注入し、１０〜１５０℃に２〜
３０時間加熱する事により行われる。

【００６２】加熱重合法における重合触媒としては、第
三級アミン及びその塩、第四級アンモニウム塩、イミダ
ゾール類、スズ化合物、パーオキシド類、カルボン酸金
属塩、ホスフィン類、テトラフェニルボロン塩等公知重
合触媒がエポキシ樹脂の種類により適宜選択される。

【００６３】光重合法の場合には、エポキシモノマー混
合物に酸性ホスホン酸誘導体内部離型剤、パーオキシド
類、ルイス酸アニオンのオニウム塩、シラノール誘導体
アルミニウムキレート等公知重合触媒、さらに必要によ
り光重合開始助剤、増感剤等公知添加剤を加え、樹脂製
ガスケットとガラス製モールドを組合せた鋳型内に注入
し、１８０〜７００ｎｍの光を０．５〜１５分間照射す
る事により行われる。また、これら鋳型重合において必
要により紫外線吸収剤、酸化防止剤、染料、充填物等公
知の添加物を加えても良い。

【００６４】ポリオレフィン樹脂は、不飽和二重結合を
有するモノマーをラジカル重合して成る樹脂であり、不
飽和二重結合を有するモノマーとして次のものを例示す
ることが出来る。エチレン、プロピレン、塩化ビニル等
の脂肪族オレフィン化合物；スチレン、α−メチルスチ
レン、ｐ−メチルチオスチレン、ｍ−ジビニルベンゼ
ン、３，３’−ジビニルビフェニル、２−（４−ビニル
ベンジルチオ）エタノール、イソプロペニルナフタレ
ン、１，４−ビス（４−ビニルベンジルチオ）ベンゼ
ン、１，２−ビス（４−ビニルベンジルチオ）エタン、
２−（ｐ−ビニルフェニルチオ）ベンゾチアゾール、ケ
イ皮酸ｐ−ビニルベンジルエステル等の芳香族ビニル化
合物；メチルアクリレート、メチルメタクリレート、ベ
ンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、トリフェニルメチルメタクリレート、トリブロモフ
ェニルメタクリレート、イソノルボルニルメタクリレー
ト、２−メタクリロイルオキシメチルチオフェン、２−
ビシクロ［２．２．１］ヘプタンメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、２，２−ビス−（４
−メタクリロキシフェニル）プロパン、１，１，１−ト
リメチロールプロパントリアクリレート、Ｎ，Ｎ’，
Ｎ”−イソシアヌルトリアクリレート、ビス（２−メタ
クリロイルチオエチル）スルフィド、２，５−ジ（メタ
クリロイルオキシ）−１，４−ジチアン、ビス（アクリ
ロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デ
カン、Ｓ−メチルチオメタクリレート、１，２−ビス
（メタクリロイルチオ）エタン、ビス（メタクリロイル
チオエチル）スルフィド、４，４’−ジメルカプトジフ
ェニルスルフィドジメタクリレート等のアクリル酸エス
テル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
シンナモニトリル等の不飽和ニトリル化合物；アクリル
アミド、メタクリルアミド等のアクリルアミド化合物；
ジアリルフタレート、ジアリルマレエート、ジアリルフ
マレート、アリルシンナメート、アリルベンゾエート等
のアリルエステル化合物；ジアリルエーテル、ビス（ア
リルオキシ）エタン、２，２−ビス（４−アリルオキシ
フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アリルオキシ
エトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（アリルチ
オ）ベンゼン、ジアリリデンペンタエリスリトール等の
アリルエーテル化合物；ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート、β−チオジグリコールビスアリルカー
ボネート、２，２−ビス〔４−（２−アリルオキシカル
ボニルオキシ）エトキシ−３，５−ジブロモフェニル〕
プロパン等のアリルカーボネート化合物；シクロヘキシ
ルマレイミド、ｍ−オクチルマレイミド、フェニルマレ
イミド、クロルフェニルマレイミド、Ｎ，Ｎ’−（４，
４’−ジフェニルメタン）ビスマレイミド等のマレイミ
ド化合物であり、これら不飽和二重結合を有する化合物
はそれぞれ単独で重合させても、二種以上を混合して重
合しても良い。通常、熱可塑性ポリオレフィン樹脂は射
出成形により、熱硬化性ポリオレフィン樹脂は鋳型重合
により成形される。

【００６５】鋳型重合の条件は使用するモノマーにより
適宜選択されるが、原料モノマーに酸性ホスホン酸誘導
体、ラジカル重合開始剤を加え、必要により減圧脱泡操
作を行い鋳型内に注入し、熱、マイクロ波、赤外線、紫
外線によるラジカル重合される。熱、マイクロ波、赤外
線による重合に際して使用できるラジカル重合開始剤と
しては、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリ
ル、２，２’−アゾビスイソバレロニトリル、２，２’
−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のア
ゾ系化合物；メチルエチルケトンパーオキシド、メチル
イソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパー
オキシド、アセチルアセトンパーオキシド等のケトンパ
ーオキシド類；イソブチリルパーオキシド、２，４−ジ
クロロベンゾイルパーオキシド、ｏ−メチルベンゾイル
パーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ｐ−クロロベ
ンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類；
２，４，４−トリメチルペンチル−２−ヒドロパーオキ
シド、ジイソプロピルベンゼンパーオキシド、クメンヒ
ドロパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシド等のヒドロ
パーオキシド類；ジクミルパーオキシド、ｔ−ブチルク
ミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド、トリ
ス（ｔ−ブチルパーオキシ）トリアジン等のジアルキル
パーオキシド類；１，１−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシ
クロヘキサン、２，２−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ブ
タン等のパーオキシケタール類；ｔ−ブチルパーオキシ
ピバレード、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサ
ノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ジ−
ｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ジ
−ｔ−ブチルパーオキシアゼレート、ｔ−ブチルパーオ
キシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブ
チルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベン
ゾエート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシトリメチルアジペ
ート等のアルキルパーエステル類；ジイソプロピルパー
オキシジカーボナート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシ
ジカーボナート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカ
ーボナート等のパーカーボナート類があげられる。

【００６６】紫外線による重合に際して使用できるラジ
カル重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、２，
２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２
−ジエトキシアセトフェノン、４’−イソプロピル−２
−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４，４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェノン、
メチル（ｏ−ベンゾイル）ベンゾエート、１−フェニル
−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボ
ニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオ
ン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエ
ーテル、ベンゾインオクチルエーテル、ベンジル、ベン
ジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ジ
アセチル等のカルボニル化合物；メチルアントラキノ
ン、クロロアントラキノン、クロロチオキサントン、２
−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサン
トン等のアントラキノンまたはチオキサントン誘導体；
ジフェニルジスルフィド、ジチオカーバメート等の硫黄
化合物があげられる。

【００６７】ラジカル重合開始剤の使用量は、ラジカル
重合開始剤の種類、原料モノマーの種類等により適宜選
択されるが、通常は原料モノマーに対して０．００１〜
１０重量％、好ましくは０．１〜３重量％の範囲であ
る。

【００６８】ラジカル重合開始剤の使用量が０．００１
重量％未満では、重合が実質的に進まず、また１０重量
％を越える使用量では、経済的でないばかりか場合によ
っては重合中に発泡したり、重合によって得られる硬化
物の分子量が著しく小さくなるために好ましくない。

【００６９】鋳型重合の場合、モノマー組成物は、その
まま重合、硬化してもよいし、目的によっては予備重合
した後に重合、硬化することによって粘度の調整を図っ
たり重合時の収縮率を軽減することができる。

【００７０】透明性が特に要求されない場合には必要に
応じて種々の充填材を配合して使用することも可能であ
る。ここで用いられる充填材としてはガラスファイバ
ー、アルミナ繊維、カーボンファイバー、アラミド繊維
等の他、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、酸化チタン
等の粉末状充填材があげられる。その他、難燃剤、染
料、顔料等も使用できることは言うまでもない。

【００７１】鋳型重合に際しての重合温度及び重合時間
については、使用するラジカル重合開始剤の種類及びそ
の使用量により異なるため一概には規定できないが、重
合温度については０〜１５０℃の範囲、好ましくは２０
〜１２０℃の範囲であり、熱による重合は通常１０〜３
０時間を要して徐々に昇温する事により行われ、紫外線
による場合は０．５〜１０分間の照射で重合を完結する
ことができる。

【００７２】ポリオレフィン樹脂の内、射出成形が行わ
れる例として、熱可塑性アクリル樹脂を示すが、アクリ
ル系モノマーの単独重合体、共重合体、さらにはアクリ
ル系モノマーとその他のオレフィンモノマーとの共重合
体でも良い。

【００７３】アクリル系モノマーとしては例えば次のも
のを挙げることができる。 アクリル酸化合物として、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル等のアクリル酸アル
キルエステル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸
ボルニル、アクリル酸メンチル、アクリル酸アダマンチ
ル、アクリル酸トリシクロデシル等のアクリル酸シクロ
アルキルエステル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸ナフチル等のアクリル酸芳香族エス
テル、アクリル酸フルオロフェニル、アクリル酸クロロ
フェニル等のアクリル酸ハロゲン置換芳香族エステル、
アクリル酸フルオロメチル、アクリル酸クロロエチル、
アクリル酸ブロモエチル等のアクリル酸ハロゲン化アル
キルエステル、アクリル酸ヒドロキシアルキルエステ
ル、チオアクリル酸Ｓ−メチル等のチオアクリル酸Ｓ−
アルキルエステル等がある。

【００７４】メタクリル酸化合物として、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メ
タクリル酸２−エチルヘキシル等のメタクリル酸アルキ
ルエステル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル
酸ボルニル、メタクリル酸メンチル、メタクリル酸アダ
マンチル、メタクリル酸トリシクロデシル等のメタクリ
ル酸シクロアルキルエステル、メタクリル酸フェニル、
メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸ナフチル等のメタ
クリル酸芳香族エステル、メタクリル酸フルオロフェニ
ル、メタクリル酸クロロフェニル等のメタクリル酸ハロ
ゲン置換芳香族エステル、メタクリル酸フルオロメチ
ル、メタクリル酸クロロエチル、メタクリル酸ブロモエ
チル等のメタクリル酸ハロゲン化アルキルエステル、メ
タクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、チオメタクリ
ル酸Ｓ−メチル等のチオメタクリル酸Ｓ−アルキルエス
テル等がある。

【００７５】他のオレフィンモノマーとしては例えば次
のものを挙げる事が出来る。ビニル化合物として、スチ
レン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、フル
オロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メチ
ルスチレン、メチルチオスチレン等の芳香族ビニル化合
物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン
化ビニル化合物がある。

【００７６】不飽和二塩基酸およびその誘導体として、
Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プ
ロピルマレイミド、Ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−シク
ロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等のＮ
−置換マレイミド、マレイン酸ジプロピル、マレイン酸
ジブチル、フマル酸ジプロピル、フマル酸ジブチル、無
水マレイン酸等がある。

【００７７】不飽和脂肪酸およびその誘導体として、ア
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド等のア
クリルアミドがある。

【００７８】射出成形条件は樹脂の種類によって適宜選
択されるが、一般的にはアクリル樹脂と酸性ホスホン酸
誘導体混合物を２２０〜３２０℃の樹脂温にて溶融し押
出機により５０〜１５０℃の金型に射出し成形後離型さ
れる。

【００７９】また、本発明において、目的に応じて公知
の酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、着色剤、充填
剤等の添加剤を使用しても良い。

【００８０】ポリエン−ポリチオール樹脂は、分子内に
２個以上の不飽和二重結合を有するポリエン化合物と分
子内に２個以上のメルカプト基を有するポリチオール化
合物を付加重合させて得られる樹脂である。

【００８１】ポリエン−ポリチオール樹脂に使用される
ポリエン化合物としては例えば次のものを挙げることが
できる。ｍ−ジビニルベンゼン、３，３’−ジビニルビ
フェニル、１，４−ビス（４−ビニルベンジルチオ）ベ
ンゼン、１，２−ビス（４−ビニルベンジルチオ）エタ
ン等の芳香族ビニル化合物、エチレングリコールジメタ
クリレート、エチレングリコールジアクリレート、２，
２−ビス−（４−メタクリロキシフェニル）プロパン、
ビス（２−メタクリロイルチオエチル）スルフィド、
２，５−ジ（メタクリロイルオキシ）−１，４−ジチア
ン、１，２−ビス（アクリロイルチオ）エタン、ビス
（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド等のア
クリル酸エステル化合物、ジアリルフタレート、ジアリ
ルマレエート、ジアリルフマレート、アリルシンナメー
ト等のアリルエステル化合物、ジアリルエーテル、ジア
リルスルフィド、ビス（アリルオキシ）エタン、２，２
−ビス（４−アリルオキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（４−アリルオキシエトキシフェニル）プロパ
ン、１，４−ビス（アリルチオ）ベンゼン、ジアリリデ
ンペンタエリスリトール、ジアリリデン−２，２，６，
６−テトラメチロールシクロヘキサン等のアリルエーテ
ル化合物、ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト、β−チオジグリコールビスアリルカーボネート、
２，２−ビス〔４−（アリルオキシカルボニルオキシ）
フェニル〕プロパン等のアリルカーボネート化合物。こ
れらポリエン化合物は単独でも２種以上を混合して使用
しても良い。

【００８２】ポリエン−ポリチオール樹脂に使用される
ポリチオール化合物として例えば次のものを挙げること
ができる。メタンジチオール、１，２−エタンジチオー
ル、１，１−プロパンジチオール、１，２−プロパンジ
チオール、１，３−プロパンジチオール、２，２−プロ
パンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，
２，３−プロパントリチオール、１，１−シクロヘキサ
ンジチオール、１，２−シクロヘキサンジチオール、
２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジチオール、３，
４−ジメトキシブタン−１，２−ジチオール、２−メチ
ルシクロヘキサン−２，３−ジチオール、ビシクロ
〔２．２．１〕ペプタ−ｅｘｏ−ｃｉｓ−２，３−ジチ
オール、１，１−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキ
サン、チオリンゴ酸ビス（２−メルカプトエチルエステ
ル）、２，３−ジメルカプトコハク酸（２−メルカプト
エチルエステル）、２，３−ジメルカプト−１−プロパ
ノール（２−メルカプトアセテート）、２，３−ジメル
カプト−１−プロパノール（３−メルカプトアセテー
ト）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセ
テート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプト
プロピオネート）、１，２−ジメルカプトプロピルメチ
ルエーテル、２，３−ジメルカプトプロピルメチルエー
テル、２，２−ビス（メルカプトメチル）−１，３−プ
ロパンジチオール、ビス（２−メルカプトエチル）エー
テル、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテ
ート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロ
ピオネート）、トリメチロールプロパンビス（２−メル
カプトアセテート）、トリメチロールプロパンビス（３
−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトール
テトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリ
スリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、ビス（メルカプトメチル）スルフィド、ビス（メ
ルカプトエチル）スルフィド、ビス（メルカプトプロピ
ル）スルフィド、ビス（メルカプトメチルチオ）メタ
ン、ビス（２−メルカプトエチルチオ）メタン、ビス
（３−メルカプトプロピルチオ）メタン、１，２−ビス
（メルカプトメチルチオ）エタン、１，２−ビス（メル
カプトエチルチオ）エタン、１，２−ビス（メルカプト
プロピルチオ）エタン、１，３−ビス（メルカプトメチ
ルチオ）プロパン、１，３−ビス（２−メルカプトエチ
ルチオ）プロパン、１，３−ビス（３−メルカプトプロ
ピルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（メルカプト
メチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（２−メル
カプトエチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（３
−メルカプトプロピルチオ）プロパン、テトラキス（メ
ルカプトメチルチオ）メタン、テトラキス（２−メルカ
プトエチルチオメチル）メタン、テトラキス（３−メル
カプトプロピルチオメチル）メタン、ビス（２，３−ジ
メルカプトプロピル）スルフィド、２，５−ジメルカプ
ト−１，４−ジチアン、２，５−ビス（メルカプトメチ
ル）−１，４−ジチアン、ビス（メルカプトメチル）ジ
スルフィド、ビス（メルカプトエチル）ジスルフィド、
ビス（メルカプトプロピル）ジスルフィド等及びこれら
のチオグリコール酸及びメルカプトプロピオン酸のエス
テル、ヒドロキシメチルスルフィドビス（２−メルカプ
トアセテート）、ヒドロキシメチルスルフィドビス（３
−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシエチルスル
フィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシ
エチルスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、ヒドロキシプロピルスルフィドビス（２−メルカ
プトアセテート）、ヒドロキシプロピルスルフィドビス
（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシメチル
ジスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒド
ロキシメチルジスルフィドビス（３−メルカプトプロピ
オネート）、ヒドロキシエチルジスルフィドビス（２−
メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルジスルフィ
ドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシ
プロピルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテー
ト）、ヒドロキシプロピルジスルフィドビス（３−メル
カプトプロピオネート）、２−メルカプトエチルエーテ
ルビス（２−メルカプトアセテート）、２−メルカプト
エチルエーテルビス（３−メルカプトプロピオネー
ト）、１，４−ジチアン−２，５−ジオールビス（２−
メルカプトアセテート）、１，４−ジチアン−２，５−
ジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、チオ
グリコール酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、
チオジプロピオン酸ビス（２−メルカプトエチルエステ
ル）、４，４−チオジブチル酸ビス（２−メルカプトエ
チルエステル）、ジチオジグリコール酸ビス（２−メル
カプトエチルエステル）、ジチオジプロピオン酸ビス
（２−メルカプトエチルエステル）、４，４−ジチオジ
ブチル酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、チオ
ジグリコール酸ビス（２，３−ジメルカプトプロピルエ
ステル）、チオジプロピオン酸ビス（２，３−ジメルカ
プトプロピルエステル）、ジチオグリコール酸ビス
（２，３−ジメルカプトプロピルエステル）、ジチオジ
プロピオン酸ビス（２，３−ジメルカプトプロピルエス
テル）等の脂肪族ポリチオール、１，２−ジメルカプト
ベンゼン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジ
メルカプトベンゼン、１，２−ビス（メルカプトメチ
ル）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベン
ゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、
１，２−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３−
ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，４−ビス（メ
ルカプトエチル）ベンゼン、１，２−ビス（メルカプト
メチレンオキシ）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプト
メチレンオキシ）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプト
メチレンオキシ）ベンゼン、１，２−ビス（メルカプト
エチレンオキシ）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプト
エチレンオキシ）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプト
エチレンオキシ）ベンゼン、１，２，３−トリメルカプ
トベンゼン、１，２，４−トリメルカプトベンゼン、
１，３，５−トリメルカプトベンゼン、１，２，３−ト
リス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，４−トリ
ス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３，５−トリス
（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３−トリス
（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，４−トリス
（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３，５−トリス
（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３−トリス
（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，２，４−
トリス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，
３，５−トリス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼ
ン、１，２，３−トリス（メルカプトエチレンオキシ）
ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトエチレンオ
キシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトエチ
レンオキシ）ベンゼン、１，２，３，４−テトラメルカ
プトベンゼン、１，２，３，５−テトラメルカプトベン
ゼン、１，２，４，５−テトラメルカプトベンゼン、
１，２，３，４−テトラキス（メルカプトメチル）ベン
ゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトメチ
ル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メルカプ
トメチル）ベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メ
ルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキ
ス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，４，５−テ
トラキス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３，
４−テトラキス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼ
ン、１，２，４，５−テトラキス（メルカプトメチレン
オキシ）ベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メル
カプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，２，３，５−テ
トラキス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，
２，４，５−テトラキス（メルカプトエチレンオキシ）
ベンゼン、２，２’−ジメルカプトビフェニル、４，
４’−ジメルカプトビフェニル、４，４’−ジメルカプ
トビベンジル、２，５−トルエンジチオール、３，４−
トルエンジチオール、１，４−ナフタレンジチオール、
１，５−ナフタレンジチオール、２，６−ナフタレンジ
チオール、２，７−ナフタレンジチオール、２，４−ジ
メチルベンゼン−１，３−ジチオール、４，５−ジメチ
ルベンゼン−１，３−ジチオール、９，１０−アントラ
センジメタンチオール、１，３−ジ（ｐ−メトキシフェ
ニル）プロパン−２，２−ジチオール、１，３−ジフェ
ニルプロパン−２，２−ジチオール、フェニルメタン−
１，１−ジチオール、２，４−ジ（ｐ−メルカプトフェ
ニル）ペンタン、１，２−ビス（メルカプトメチルチ
オ）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチルチオ）
ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチルチオ）ベン
ゼン、１，２−ビス（メルカプトエチルチオ）ベンゼ
ン、１，３−ビス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、
１，４−ビス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，
２，３−トリス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、
１，２，４−トリス（メルカプトメチルチオ）ベンゼ
ン、１，３，５−トリス（メルカプトメチルチオ）ベン
ゼン、１，２，３−トリス（メルカプトエチルチオ）ベ
ンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトエチルチオ）
ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトエチルチ
オ）ベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプ
トメチルチオ）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス
（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，２，４，５−
テトラキス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，
２，３，４−テトラキス（メルカプトエチルチオ）ベン
ゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトエチル
チオ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メルカ
プトエチルチオ）ベンゼン等、及びこれらの核アルキル
化物等の芳香族ポリチオール、２−メチルアミノ−４，
６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−エチルアミ
ノ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−ア
ミノ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−
モルホリノ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジ
ン、２−シクロヘキシルアミノ−４，６−ジチオール−
ｓｙｍ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ジチオー
ル−ｓｙｍ−トリアジン、２−フェノキシ−４，６−ジ
チオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−チオベンゼンオキ
シ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、３，４
−チオフェンジチオール、ビスムチオール、２，５−ジ
メルカプト−１，３，４−チアジアゾール等の複素環ポ
リチオール化合物等が挙げられる。さらには、これらポ
リチオール化合物は塩素、臭素等のハロゲン基、水酸
基、アミノ基等の置換基を有していても良い。また、こ
れらポリチオール化合物は単独または２種以上を同時に
使用しても良い。

【００８３】ポリエン化合物とポリチオール化合物の配
合割合はメルカプト基／二重結合の官能基モル比が０．
００１〜１．２の範囲、より好ましくは０．０１〜１．
０の範囲とするのが良い。割合が１．２より多い場合
は、得られる樹脂の硬度が不十分となり、また割合が
０．００１より少ない場合にはポリエン−ポリチオール
樹脂の高屈折率、低吸水性等の諸物性が十分に発揮され
ないので好ましくない。

【００８４】また、架橋密度を調節する目的でアクリル
酸メチル、スチレン等のモノオレフイン化合物やオクチ
ルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等のモノチオー
ル化合物をポリエン化合物とポリチオール化合物の混合
物に加えても良い。

【００８５】鋳型重合の条件は使用するモノマーにより
適宜選択されるが、原料モノマーに酸性ホスホン酸誘導
体、ラジカル重合開始剤を加え、必要により減圧脱泡操
作を行い鋳型内に注入し、熱、マイクロ波、赤外線、紫
外線等によりラジカル重合される。

【００８６】熱、マイクロ波、赤外線による重合に際し
て使用できるラジカル重合開始剤としては、例えば２，
２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビ
スイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−
ジメチルバレロニトリル）等のアゾ系化合物；メチルエ
チルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパー
オキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、アセチルア
セトンパーオキシド等のケトンパーオキシド類；イソブ
チリルパーオキシド、２，４−ジクロロベンゾイルパー
オキシド、ｏ−メチルベンゾイルパーオキシド、ラウロ
イルパーオキシド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキシド
等のジアシルパーオキシド類；２，４，４−トリメチル
ペンチル−２−ヒドロパーオキシド、ジイソプロピルベ
ンゼンパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、ｔ−
ブチルパーオキシド等のヒドロパーオキシド類；ジクミ
ルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−
ｔ−ブチルパーオキシド、トリス（ｔ−ブチルパーオキ
シ）トリアジン等のジアルキルパーオキシド類；１，１
−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキサン、２，２−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン等のパーオキシケタ
ール類；ｔ−ブチルパーオキシピバレード、ｔ−ブチル
パーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパ
ーオキシイソブチレート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘ
キサヒドロテレフタレート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシ
アゼレート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリ
メチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシアセテー
ト、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ｔ−ブチ
ルパーオキシトリメチルアジペート等のアルキルパーエ
ステル類；ジイソプロピルパーオキシジカーボナート、
ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボナート、ｔ−ブ
チルパーオキシイソプロピルカーボナート等のパーカー
ボナート類があげられる。

【００８７】紫外線による重合に際して使用できるラジ
カル重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、２，
２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２
−ジエトキシアセトフェノン、４’−イソプロピル−２
−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４，４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェノン、
メチル（ｏ−ベンゾイル）ベンゾエート、１−フェニル
−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボ
ニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオ
ン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエ
ーテル、ベンゾインオクチルエーテル、ベンジル、ベン
ジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ジ
アセチル等のカルボニル化合物；メチルアントラキノ
ン、クロロアントラキノン、クロロチオキサントン、２
−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサン
トン等のアントラキノンまたはチオキサントン誘導体；
ジフェニルジスルフィド、ジチオカーバメート等の硫黄
化合物があげられる。

【００８８】ラジカル重合開始剤の使用量は、ラジカル
重合開始剤の種類、原料モノマーの種類等により適宜選
択されるが、通常は原料モノマーに対して０．００１〜
１０重量％、好ましくは０．１〜３重量％の範囲であ
る。ラジカル重合開始剤の使用量が０．００１重量％未
満では重合が実質的に進まず、また１０重量％を越える
使用量では、経済的でないばかりか場合によっては重合
中に発泡したり、重合によって得られる硬化物の分子量
が著しく小さくなるために好ましくない。

【００８９】鋳型重合の場合、モノマー組成物は、その
まま重合、硬化してもよいし、目的によっては予備重合
した後に重合、硬化することによって粘度の調整を図っ
たり重合時の収縮率を軽減することができる。

【００９０】透明性が特に要求されない場合には必要に
応じて種々の充填材を配合して使用することも可能であ
る。ここで用いられる充填材としてはガラスファイバ
ー、アルミナ繊維、カーボンファイバー、アラミド繊維
等の他、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、酸化チタン
等の粉末状充填材があげられる。その他、難燃剤、染
料、顔料等も使用できることは言うまでもない。

【００９１】鋳型重合に際しての重合温度及び重合時間
については、使用するラジカル重合開始剤の種類及びそ
の使用量により異なるため一概には規定できないが、重
合温度については０〜１５０℃の範囲、好ましくは２０
〜１２０℃の範囲であり、熱による重合は通常１０〜３
０時間を要して徐々に昇温する事により行われ、紫外線
による場合は０．５〜１０分間の照射で重合を完結する
ことができる。

【００９２】ポリカーボネート樹脂は、二価フェノール
類とホスゲンあるいはジフェニルカーボネート等のカル
ボニル化剤の反応により得られるホモポリマー又はコポ
リマー、更に分岐化したもの、末端に長鎖アルキル基を
導入したもの等の平均分子量が１２，０００〜３０，０
００程度のものが挙げられる。

【００９３】さらに、コモノマーや末端停止剤として炭
素−炭素不飽和二重結合を有するビスフェノールやビニ
ルフェノールなどを用いて得た変性ポリカーボネート樹
脂にスチレンなどをグラフトしたもの、更にホスゲンの
一部としてテレフタル酸クロリド、イソフタル酸クロリ
ドを用い、一部にエステル結合を有するもの、又はフェ
ノール性水酸基等をコモノマーとして導入した変性ポリ
スチレンにポリカーボネート樹脂をグラフト重合したも
のなど何れでも使用可能なもとして例示される。また、
ポリカーボネート樹脂にガラス繊維、炭素繊維などを用
いて複合強化した強化樹脂組成物、ＡＢＳ樹脂、ポリエ
チレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ＰＭＭ
Ａ樹脂などとの樹脂組成物に対しても本発明が有効に使
用される。

【００９４】ここに二価フェノール類としては、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４
−ヒドロキシフェニル）メタン、１，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル−１，１−ジフェニル）メタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、さらにはこれらのフェニ
ル基に低級アルキル基やハロゲン原子を置換したものな
どが例示される。さらに、本発明では目的に応じて公知
の酸化防止剤、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤等を加え
ても良い。

【００９５】ポリエステル樹脂としては、アルキド樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性ポリエステル
樹脂、ポリエチレンテレフタレートによって代表される
熱可塑性ポリエステル樹脂が挙げられる。ポリエステル
樹脂は多塩基酸ポリオールを縮合して成る樹脂であり、
多塩基酸としては無水フタル酸、イソフタル酸、マレイ
ン酸、フマール酸、セバシン酸、アジピン酸、クエン
酸、酒石酸、リンゴ酸の他、ジフェン酸、１，８−ナフ
タリル酸、テレフタル酸等が挙げられる。ポリオールと
してはグリセリン、ペンタエリスリトール、エチレング
リコール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロ
パン等が挙げられる。さらに、目的に応じて公知の酸化
防止剤、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤等を加えても良
い。

【００９６】

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定され
るものではない。以下、実施例１〜４３、比較例１〜８
６のウレタン樹脂は鋳型により径７０ｍｍ、厚さ９ｍｍ
の平板に成形した。離型性の評価は、成形物と鋳型の間
にテフロン製くさびを打込み、容易に離型する場合を
○、抵抗あるが離型する場合を△、離型出来なかった場
合を×とした。また、成形物の濁りはスガ試験機（株）
製デジタルヘーズコンピューターＨＧＭ−２ＤＰを使用
し、厚さ９ｍｍ平板ウレタン樹脂のヘーズ（曇価）をＪ
ＩＳＫ７１０５の６．４に従って測定した。

【００９７】実施例１〜４３ 第１表（表１〜１５）に示すポリイソシアナート化合
物、活性水素化合物、酸性ホスホン酸誘導体の混合物を
ガラス鋳型内に注入し、２５℃から１２０℃まで４８時
間を要して徐々に昇温し、鋳型重合した。重合後の離型
性及びウレタン樹脂平板のヘーズ測定値を第１表（表１
〜１５）に示した。いずれも容易に離型し、ウレタン樹
脂平板のヘーズは小さく良好であった。また、作業中特
に気分が悪くなるようなことはなかった。

【００９８】比較例１〜８６ 実施例１〜４３において酸性ホスホン酸誘導体に代え公
知の内部離型剤を使用した場合、及び離型剤を全く使用
しなかった場合において同様に行い、結果を第１表（表
１〜１５）に示した。本発明の酸性ホスホン酸誘導体に
対して公知の内部離型剤ではいずれも離型が容易でな
く、ウレタン樹脂平板のヘーズ値も高かった。また離型
剤を使用しない場合にはいずれも離型できず、ヘーズ値
の測定は出来なかった。

【００９９】

【表１】

【０１００】

【表２】

【０１０１】

【表３】

【０１０２】

【表４】

【０１０３】

【表５】

【０１０４】

【表６】

【０１０５】

【表７】

【０１０６】

【表８】

【０１０７】

【表９】

【０１０８】

【表１０】

【０１０９】

【表１１】

【０１１０】

【表１２】

【０１１１】

【表１３】

【０１１２】

【表１４】

【０１１３】

【表１５】

【０１１４】実施例４４ 分岐ポリオキシアルキレンエーテルポリオール（ＯＨＶ
２８）１００部に重合触媒としてトリエチレンジアミン
０．１部及びジブチル錫ジラウレート０．１部を混合
し、さらに内部離型剤としてフェノキシフェニルホスホ
ン酸プロピル５部を加え均一溶液とした。上記溶液に対
し、ウレタン変性ジフェニルメタンジイソシアナート
（イソシアナート含有率２３％）の配合量をイソシアナ
ートインデックスが１０７となるように調製し、リアク
ションインジェクションモールド法によりアルミ製金型
中で径７０ｍｍ、厚さ９ｍｍの平板に成形した。 離型
は容易であり、得られた平板のヘーズ値は０．４％と良
好であった。また、作業中特に気分が悪くなるようなこ
とはなかった。

【０１１５】比較例８７ 実施例２において内部離型剤としてチオリン酸ジエチル
を０．０５重量部使用した。離型性は良く、ヘーズ値も
０．１と良好であったが、モノマーに内部離型剤をあら
かじめ添加する作業において、強い不快臭のために気分
が悪くなった。

【０１１６】比較例８８ 実施例２０において内部離型剤としてステアリン酸亜鉛
２部とＮ，Ｎ，Ｎ’−トリス（２−ヒドロキシプロピ
ル）エチレンジアミン３部とを９０〜１００℃に加熱し
均一溶液にしたものを使用した。離型は容易であった
が、得られた平板のヘーズ値は２３．７％と悪かった。

【０１１７】実施例４５〜５６ 第２表（表１６〜１９）に示すエポキシ化合物及び各種
添加剤の組合せにおいて、酸性ホスホン酸誘導体を内部
離型剤として混合後、樹脂製ガスケットとガラス製モー
ルドを組合せた鋳型内に注入し加熱重合あるいは光重合
を行い、直径７０ｍｍ、厚さ９ｍｍの平板樹脂を成形し
た。この作業中、特に気分が悪くなるようなことはなか
った。離型性の評価は、成形物と鋳型の間にテフロン製
くさびを打込み、容易に離型する場合を○、抵抗あるが
離型する場合を△、離型出来なかった場合を×とした。
また、成形物の濁りはスガ試験機（株）製デジタルヘー
ズコンピューターＨＧＭ−２ＤＰを使用し、厚さ９ｍｍ
平板エポキシ樹脂のヘーズ（曇価）をＪＩＳＫ７１０５
の６．４に従って測定し、小数点以下１桁まで求めた。
結果を第２表（表１６〜１９）に示した。

【０１１８】比較例８９〜１１２ 実施例の原料モノマー組合せにおいて、酸性ホスホン酸
誘導体に代え公知の内部離型剤を用いた場合、及び離型
剤を全く使用しない場合について同様に行い、離型性及
び成形物のヘーズ値を測定した。結果を第２表（表１６
〜１９）に示した。本発明の酸性ホスホン酸誘導体に対
して公知の内部離型剤ではいずれも離型が容易でなく、
樹脂のヘーズ値も高かった。また、離型剤を使用しない
場合にはいずれも離型できず、ヘーズ値の測定は出来な
かった。

【０１１９】

【表１６】

【０１２０】

【表１７】

【０１２１】

【表１８】

【０１２２】

【表１９】

【０１２３】比較例１１３ 実施例４７においてチオリン酸ジオクチルを２．０部使
用した。離型性は良く、ヘーズ値も０．１％と良好であ
ったが、モノマーに内部離型剤をあらかじめ添加する作
業において、強い不快臭のために気分が悪くなった。

【０１２４】実施例５７〜６８及び比較例１１４〜１３
７ 第３表（表２０〜２３）に示すオレフィンモノマー組成
物に内部離型剤として酸性ホスホン酸誘導体を添加した
もの、公知の内部離型剤を添加したもの、離型剤を全く
使用しないものに付き各々樹脂製ガスケットとガラス円
板を組合せた鋳型内で鋳型重合し、直径７０ｍｍ、厚さ
９ｍｍのポリエン−ポリチオール樹脂から成る平板成形
物を作製した。作業中、特に気分が悪くなるようなこと
はなかった。離型性の評価は成形物とガラス平板の間に
テフロン製くさびを打込み容易に離型する場合を○、離
型に抵抗がある場合を×とした。 また、成形物の濁り
をスガ試験機（株）製デジタルヘーズコンピューターＨ
ＧＭ−２ＤＰを使用し、厚さ９ｍｍでのヘーズ値（曇
価）をＪＩＳ Ｋ７１０５の６．４に従って測定し、小
数点以下１桁まで求めた。結果を第３表（表２０〜２
３）に示した。

【０１２５】

【表２０】

【０１２６】

【表２１】

【０１２７】

【表２２】

【０１２８】

【表２３】

【０１２９】実施例６９〜７９及び比較例１３８〜１５
９ 第４表（表２４〜２７）のモノマー組成から成るアクリ
ル樹脂に内部離型剤として酸性ホスホン酸誘導体を添加
したもの、公知の内部離型剤を添加したもの、内部離型
剤を使用しないものに付き各々を射出成形し、直径７０
ｍｍ、厚さ９ｍｍの平板を作製した。作業中、特に気分
が悪くなるようなことはなかった。離型性の評価は成形
物と金型の間にくさびを打込み容易に離型する場合を
○、離型に抵抗がある場合を×とした。また、成形物の
濁りはスガ試験機（株）製デジタルヘーズコンピュータ
ーＨＧＭ−２ＤＰを使用し、厚さ９ｍｍでのヘーズ値
（曇価）をＪＩＳ Ｋ７１０５の６．４に従って測定
し、小数点以下１桁まで求めた。結果を第４表（表２４
〜２７）に示した。

【０１３０】

【表２４】

【０１３１】

【表２５】

【０１３２】

【表２６】

【０１３３】

【表２７】

【０１３４】実施例８０〜８９及び比較例１６０〜１７
９ 第５表（表２８〜３１）に示す原料モノマー組成物に内
部離型剤として酸性ホスホン酸誘導体を添加したもの、
公知の内部離型剤を添加したもの、離型剤を全く使用し
ないものに付き各々樹脂製ガスケットとガラス円板を組
合せた鋳型内で鋳型重合し、直径７０ｍｍ、厚さ９ｍｍ
のポリエン−ポリチオール樹脂からなる平板成形物を作
製した。作業中、特に気分が悪くなるようなことはなか
った。離型性の評価は成形物とガラス平板の間にテフロ
ン製くさびを打込み容易に離型する場合を○、離型に抵
抗がある場合を×とした。また、成形物の濁りをスガ試
験機（株）製デジタルヘーズコンピューターＨＧＭ−２
ＤＰを使用し、厚さ９ｍｍでのヘーズ値（曇価）をＪＩ
Ｓ Ｋ７１０５の６．４に従って測定し、小数点以下１
桁まで求めた。結果を第５表（表２８〜３１）に示し
た。

【０１３５】

【表２８】

【０１３６】

【表２９】

【０１３７】

【表３０】

【０１３８】

【表３１】

【０１３９】実施例９０〜９９及び比較例１８０〜１８
５ 平均分子量１５，０００の２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン型ポリカーボネート粉末に第６表
（表３２）に示す内部離型剤を添加したもの、及び無添
加のものを２５０℃〜２７０℃の樹脂温度に溶融後、１
３０℃の金型中に射出し、直径７０ｍｍ、厚さ９ｍｍの
平板に成形した。作業中、特に気分が悪くなるようなこ
とはなかった。離型性の評価は成形物金型の間にくさび
を打込み容易に離型する場合を○、離型に抵抗ある場合
を×とした。成形物の光学歪みは東芝検査機ＳＶＰ−１
００により測定し、歪みの無いものを○、有るものを×
とした。さらに、成形物の濁りはスガ試験機（株）製デ
ジタルヘーズコンピューターＨＧＭ−２ＤＰを使用し、
厚さ９ｍｍ平板樹脂のヘーズ（曇価）をＪＩＳ Ｋ７１
０５の６．４に従って測定し、小数点以下１桁まで求め
た。結果を第６表（表３２）に示した。

【０１４０】

【表３２】

【０１４１】

【発明の効果】本発明の酸性ホスホン酸誘導体を内部離
型剤として使用する成形方法は、樹脂と鋳型との離型性
を改良し、離型時の応力により成形物に歪みが発生した
り、鋳型表面を樹脂で汚染することがない。また、透明
樹脂の成形においてはその透明性をほとんど損なうこと
が無い。更に、内部離型剤そのものに不快臭がなく、取
り扱いやすい。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ１０Ｎ 40:36 Ｃ１０Ｎ 40:36 (72)発明者 永田 輝幸 福岡県大牟田市浅牟田町30番地 三井東 圧化学株式会社内 (72)発明者 中塩 文行 福岡県福岡市南区西長住２丁目15の１ (72)発明者 新海 征治 福岡県福岡市東区三苫２丁目13の17 (72)発明者 後藤 雅宏 福岡県福岡市西区生松台２丁目41の５ (56)参考文献 特開 昭56−53192（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−190309（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−193615（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−285312（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−80772（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−149261（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−122761（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−20305（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−75855（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−112244（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−348918（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B29C 33/00 - 33/76 C08K 1/00 - 13/08 C10M 101/00 - 177/00

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式（１）（化１）で表される化合物、 【化１】 ［式（１）中、Ｒ₁及びＲ₂は同一でもそれぞれ異なって
   も良く、水素原子、又は炭素数１〜２０までのアルキル
   残基、又は炭素数１〜２０までのアリール残基、又は炭
   素数１〜２０までのアルコキシアルキル残基、又は炭素
   数１〜２０までのアルキレン残基、又は炭素数１〜２０
   までのアラアルキル残基、又は炭素数１〜２０までのア
   ラアリール残基、又は炭素数１〜２０までのアラアルコ
   キシアルキル残基を表す。］又は、式（２）（化２）で
   表される化合物 【化２】 ［式（２）中、Ｘは式（３）（化３）で表され、式
   （３）中、ｍは１〜１０の整数、ｎは０〜４の整数を表
   す。 【化３】 式（２）中、Ｒ₃及びＲ₄は同一でもそれぞれ異なっても
   良く、水素原子、又は炭素数１〜２０までのアルキル残
   基、又は炭素数１〜２０までのアリール残基、又は炭素
   数１〜２０までのアルコキシアルキル残基、又は炭素数
   １〜２０までのアルキレン残基、又は炭素数１〜２０ま
   でのアラアルキル残基、又は炭素数１〜２０までのアラ
   アリール残基、又は炭素数１〜２０までのアラアルコキ
   シアルキル残基を表す。］である酸性ホスホン酸誘導体
   を含有する内部離型剤。
2. 【請求項２】 式（４）（化４）で表される化合物、 【化４】 ［式（４）中、Ｒ₅は、水素原子、又は炭素数１〜１０
   までのアルキル残基、又は炭素数１〜１０までのアルコ
   キシ残基、又は炭素数１〜１０までのアルキレン残基、
   又は炭素数１〜１０までのアラアルキル残基、又は炭素
   数１〜１０までのアラアルコキシ残基、又はフッ素原
   子、塩素原子、臭素原子、沃素原子を表し、ｐは０〜５
   の整数を表す。Ｒ₆は、水素原子、又は炭素数１〜２０
   までのアルキル残基、又は炭素数１〜２０までのアリー
   ル残基、又は炭素数１〜２０までのアルコキシアルキル
   残基、又は炭素数１〜２０までのアルキレン残基、又は
   炭素数１〜２０までのアラアルキル残基、又は炭素数１
   〜２０までのアラアリール残基、又は炭素数１〜２０ま
   でのアラアルコキシアルキル残基を表す。］又は、式
   （５）（化５）で表される化合物 【化５】 ［式（５）中、Ｘは，式（６）（化６）で表され、式
   （６）中、ｓは１〜１０の整数、ｔは０〜４の整数を表
   す。］ 【化６】 ［式（５）中、Ｒ₇及びＲ₈は、それぞれ同一でも異なっ
   てもよく、水素原子、又は炭素数１〜１０までのアルキ
   ル残基、又は炭素数１〜１０までのアルコキシ残基、又
   は炭素数１〜１０までのアルキレン残基、又は炭素数１
   〜１０までのアラアルキル残基、又は炭素数１〜１０ま
   でのアラアルコキシ残基、又はフッ素原子、塩素原子、
   臭素原子、沃素原子を表し、ｑ及びｒは０〜５の整数を
   表す。］である酸性ホスホン酸誘導体を含有する内部離
   型剤。