JP3299028B2 - 廃液処理構造 - Google Patents
廃液処理構造Info
- Publication number
- JP3299028B2 JP3299028B2 JP07699294A JP7699294A JP3299028B2 JP 3299028 B2 JP3299028 B2 JP 3299028B2 JP 07699294 A JP07699294 A JP 07699294A JP 7699294 A JP7699294 A JP 7699294A JP 3299028 B2 JP3299028 B2 JP 3299028B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste liquid
- tank
- drying
- fixing
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 128
- 239000002699 waste material Substances 0.000 title claims description 126
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title description 34
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 31
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 27
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 20
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 9
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 8
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/02—Details of liquid circulation
- G03D3/06—Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
- G03D3/065—Liquid supply; Liquid circulation outside tanks replenishment or recovery apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D15/00—Apparatus for treating processed material
- G03D15/02—Drying; Glazing
- G03D15/022—Drying of filmstrips
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、写真感光材料を処理液
（例えば、現像液、定着液等）で処理する感光材料処理
装置に用いられる廃液処理構造に関する。
（例えば、現像液、定着液等）で処理する感光材料処理
装置に用いられる廃液処理構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】自動現像機等の感光材料処理装置では、
感光材料を現像液、定着液等で処理するようになってい
る。また、感光材料処理装置において感光材料を現像
液、定着液等の処理液で処理するための処理液槽から排
出される廃液を処理することも知られている。
感光材料を現像液、定着液等で処理するようになってい
る。また、感光材料処理装置において感光材料を現像
液、定着液等の処理液で処理するための処理液槽から排
出される廃液を処理することも知られている。
【０００３】図４に示される如く、従来は、自動現像機
７０の現像槽７２、定着槽７４、水洗槽７６から排出さ
れた各廃液を、個別の廃液タンク７８、８０、８２内に
収容し、各廃液タンク７８、８０、８２がオーバーフロ
ーする前に各廃液タンク７８、８０、８２内の各廃液を
所定の廃棄場所へ移している。また、廃液を乾燥させて
固形物に変えて廃棄しやすくすることも知られている。
７０の現像槽７２、定着槽７４、水洗槽７６から排出さ
れた各廃液を、個別の廃液タンク７８、８０、８２内に
収容し、各廃液タンク７８、８０、８２がオーバーフロ
ーする前に各廃液タンク７８、８０、８２内の各廃液を
所定の廃棄場所へ移している。また、廃液を乾燥させて
固形物に変えて廃棄しやすくすることも知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、廃液タ
ンクを用いる方法は、各廃液を全て各廃液タンク７８、
８０、８２内に溜めているため、各廃液タンク７８、８
０、８２が短時間で満杯になり、その都度、各廃液タン
ク７８、８０、８２内の各廃液を所定の廃棄場所へ移す
ため、廃液処理の作業効率が良くなかった。また、廃液
を乾燥させる装置は、大容量の熱源を使用する等、大規
模なものにならざるを得なかった。
ンクを用いる方法は、各廃液を全て各廃液タンク７８、
８０、８２内に溜めているため、各廃液タンク７８、８
０、８２が短時間で満杯になり、その都度、各廃液タン
ク７８、８０、８２内の各廃液を所定の廃棄場所へ移す
ため、廃液処理の作業効率が良くなかった。また、廃液
を乾燥させる装置は、大容量の熱源を使用する等、大規
模なものにならざるを得なかった。
【０００５】さらに、従来の定着液は成分としてチオ硫
酸アンモニウムを使用しているため、多量の廃液が発生
し廃液処理間隔が短く、この点においても廃液処理の作
業効率が良くなかった。
酸アンモニウムを使用しているため、多量の廃液が発生
し廃液処理間隔が短く、この点においても廃液処理の作
業効率が良くなかった。
【０００６】本発明は上記事実を考慮し、廃液処理の作
業効率を向上できる廃液処理構造を提供することが目的
である。
業効率を向上できる廃液処理構造を提供することが目的
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の廃液処
理構造は、処理槽から排出された廃液を含浸するための
吸収材を具えた廃液回収部と、この廃液回収部内の廃液
を乾燥させるために感光材料処理装置の乾燥部から乾燥
風を前記廃液回収部へ導く廃液乾燥手段と、を有するこ
とを特徴としている。
理構造は、処理槽から排出された廃液を含浸するための
吸収材を具えた廃液回収部と、この廃液回収部内の廃液
を乾燥させるために感光材料処理装置の乾燥部から乾燥
風を前記廃液回収部へ導く廃液乾燥手段と、を有するこ
とを特徴としている。
【０００８】請求項２に記載の廃液処理構造は、請求項
１に記載の廃液処理構造において、アンモニアフリーの
定着剤を使用しこの定着剤と現像剤とを同一の前記廃液
回収部に回収する配管を有することを特徴としている。
１に記載の廃液処理構造において、アンモニアフリーの
定着剤を使用しこの定着剤と現像剤とを同一の前記廃液
回収部に回収する配管を有することを特徴としている。
【０００９】
【作用】請求項１に記載の廃液処理構造では、処理槽か
ら排出された廃液は廃液回収部にて吸収材に一旦吸収さ
れた後、処理槽での処理が終わった感光材料を乾燥する
ための乾燥風によって乾燥される。このため、廃液回収
部内の吸収材には脱水または濃縮された各処理剤が残
り、廃液として処理する量に較べて極めて少量を処理す
ればよい。よって、廃液回収部内のメンテナンス間隔が
長くなり廃液処理の作業効率を向上することができる。
ら排出された廃液は廃液回収部にて吸収材に一旦吸収さ
れた後、処理槽での処理が終わった感光材料を乾燥する
ための乾燥風によって乾燥される。このため、廃液回収
部内の吸収材には脱水または濃縮された各処理剤が残
り、廃液として処理する量に較べて極めて少量を処理す
ればよい。よって、廃液回収部内のメンテナンス間隔が
長くなり廃液処理の作業効率を向上することができる。
【００１０】具体的には、吸収材を交換すれば良く、廃
液処理の作業効率を向上することができる。
液処理の作業効率を向上することができる。
【００１１】請求項２に記載の廃液処理構造では、請求
項１に記載の廃液処理構造において、定着剤と現像剤と
が配管によって、同一の廃液回収部に回収されるため、
廃液回収部を複数設ける必要が無く構造が簡単になる。
このとき、定着剤にアンモニアフリーの定着剤を使用し
たため、定着剤と現像剤とが混合しても、アンモニアガ
スは発生しない。このため、廃液回収部を各処理液毎に
設ける必要が無く構造が簡単になる。また、定着剤にア
ンモニアフリーの定着剤を使用することによって、各処
理液の使用量が減少するため、廃液回収部が廃液物で満
杯になる時間がさらに長くなる。よって、廃液回収部内
のメンテナンス間隔が広がり廃液処理の作業効率を向上
することができる。
項１に記載の廃液処理構造において、定着剤と現像剤と
が配管によって、同一の廃液回収部に回収されるため、
廃液回収部を複数設ける必要が無く構造が簡単になる。
このとき、定着剤にアンモニアフリーの定着剤を使用し
たため、定着剤と現像剤とが混合しても、アンモニアガ
スは発生しない。このため、廃液回収部を各処理液毎に
設ける必要が無く構造が簡単になる。また、定着剤にア
ンモニアフリーの定着剤を使用することによって、各処
理液の使用量が減少するため、廃液回収部が廃液物で満
杯になる時間がさらに長くなる。よって、廃液回収部内
のメンテナンス間隔が広がり廃液処理の作業効率を向上
することができる。
【００１２】
【実施例】図１には、本発明の第１実施例に係る廃液処
理構造が適用された自動現像装置１０が示されている。
この自動現像装置１０は、現像槽１２、定着槽１４、水
洗槽１６及び乾燥部１８を備えており、フィルム２０
を、現像槽１２、定着槽１４、水洗槽１６、乾燥部１８
内の順に搬送し、周知の現像方向によって自動現像する
ようになっている。
理構造が適用された自動現像装置１０が示されている。
この自動現像装置１０は、現像槽１２、定着槽１４、水
洗槽１６及び乾燥部１８を備えており、フィルム２０
を、現像槽１２、定着槽１４、水洗槽１６、乾燥部１８
内の順に搬送し、周知の現像方向によって自動現像する
ようになっている。
【００１３】現像槽１２内には現像液１３が充填されて
おり、自動現像装置１０のフィルム挿入口に設けれたフ
ィルム挿入センサー（図示せず）により検出される処理
すべきフィルムの面積に応じて、補充タンク４０から補
充液４３が現像槽１２へ供給される。また、補充タンク
４０から供給される現像補充液に相当する量の現像液１
３が現像槽１２からオーバーフローし、これが管路４６
を通して廃液回収部としてのバット２４に溜まるように
なっている。
おり、自動現像装置１０のフィルム挿入口に設けれたフ
ィルム挿入センサー（図示せず）により検出される処理
すべきフィルムの面積に応じて、補充タンク４０から補
充液４３が現像槽１２へ供給される。また、補充タンク
４０から供給される現像補充液に相当する量の現像液１
３が現像槽１２からオーバーフローし、これが管路４６
を通して廃液回収部としてのバット２４に溜まるように
なっている。
【００１４】なお、現像槽１２内の現像液全部を交換す
る際に、排出する現像液１３をバッド２４内に溜めても
よい。
る際に、排出する現像液１３をバッド２４内に溜めても
よい。
【００１５】定着槽１４内には現像槽１２の現像液１３
と同様に定着液１５が充填されており、定着槽１４から
オーバーフローする定着液１５はバット２４で回収され
る。なお、定着液１５としては、アンモニアフリーの定
着剤、例えば、フィックス成分としてチオ硫酸ナトリウ
が使用されており、現像液１３と混合してもアンモニア
ガスが発生しないようになっている。
と同様に定着液１５が充填されており、定着槽１４から
オーバーフローする定着液１５はバット２４で回収され
る。なお、定着液１５としては、アンモニアフリーの定
着剤、例えば、フィックス成分としてチオ硫酸ナトリウ
が使用されており、現像液１３と混合してもアンモニア
ガスが発生しないようになっている。
【００１６】水洗槽１６内には水洗水１７が充填されて
おり、同様に水洗槽１６からオーバーフローする水洗水
１７はバット２４に供給される。
おり、同様に水洗槽１６からオーバーフローする水洗水
１７はバット２４に供給される。
【００１７】なお、水洗槽１６に水補充タンク４５から
水洗水１７を供給する場合には、オーバーフローする水
洗水１７をバット２４へ供給するが、水洗水１７として
流水を使用する場合には、オーバーフロー水量が多いが
比較的汚れが少ないため、一般排水として処理すること
ができる。
水洗水１７を供給する場合には、オーバーフローする水
洗水１７をバット２４へ供給するが、水洗水１７として
流水を使用する場合には、オーバーフロー水量が多いが
比較的汚れが少ないため、一般排水として処理すること
ができる。
【００１８】バット２４は、自動現像機の箱状の室内に
配置され廃液乾燥手段としての排気ファン３４が配設さ
れており、バット２４の上方へ自然蒸発した水分を機外
へ排気することによって、バット２４内の廃液３６を短
時間で乾燥できるようになっている。
配置され廃液乾燥手段としての排気ファン３４が配設さ
れており、バット２４の上方へ自然蒸発した水分を機外
へ排気することによって、バット２４内の廃液３６を短
時間で乾燥できるようになっている。
【００１９】以下に、本第１実施例の作用を説明する。
本第１実施例の廃液処理構造では、現像補充液４３を供
給すると、現像槽１２からオーバーフローする現像液１
３は、オーバーフロー槽４６を介して管路５３を経て廃
液回収部２５内へ排出され、同様に定着補充液４４を供
給すると、定着槽１４からオーバーフローする定着液１
５は、オーバーフロー槽５１を介して管路５４を経て廃
液回収部２５内へ排出され、水洗槽１６内の水洗水１７
は、オーバーフロー槽５２を介して管路５５を経て廃液
回収部２５内へ排出される。なお、図１では搬送ローラ
等の図示を省略してある。
本第１実施例の廃液処理構造では、現像補充液４３を供
給すると、現像槽１２からオーバーフローする現像液１
３は、オーバーフロー槽４６を介して管路５３を経て廃
液回収部２５内へ排出され、同様に定着補充液４４を供
給すると、定着槽１４からオーバーフローする定着液１
５は、オーバーフロー槽５１を介して管路５４を経て廃
液回収部２５内へ排出され、水洗槽１６内の水洗水１７
は、オーバーフロー槽５２を介して管路５５を経て廃液
回収部２５内へ排出される。なお、図１では搬送ローラ
等の図示を省略してある。
【００２０】この時、定着液１５としては、フィックス
成分としてチオ硫酸ナトリウを含む定着剤が使用されて
おり、現像液１３、定着液１５、水洗水１７の各廃液量
がフィックス成分としてチオ硫酸アンモニウムを含む定
着剤に比べ大幅に少なくなるとともに、現像液１３と定
着液１５とが混合してもアンモニアガスが発生しない。
従って、バット２４を各処理液毎に設ける必要が無く構
造が簡単になる。
成分としてチオ硫酸ナトリウを含む定着剤が使用されて
おり、現像液１３、定着液１５、水洗水１７の各廃液量
がフィックス成分としてチオ硫酸アンモニウムを含む定
着剤に比べ大幅に少なくなるとともに、現像液１３と定
着液１５とが混合してもアンモニアガスが発生しない。
従って、バット２４を各処理液毎に設ける必要が無く構
造が簡単になる。
【００２１】また、排気ファン３４によって、バット２
４を配置した箱状の室内の空気を機外へ排気することに
よって、バット２４内の廃液３６を短時間に乾燥するこ
とができる。このため、バット２４内には脱水された各
処理剤または濃縮された廃液が残り、廃液をそのまま溜
める従来の廃液処理構造に比べバット２４が満杯になる
時間が長くなる。また、それらの取扱いも容易となる。
よって、バット２４内のメンテナンス間隔が広がり廃液
処理の作業効率を向上することができる。
４を配置した箱状の室内の空気を機外へ排気することに
よって、バット２４内の廃液３６を短時間に乾燥するこ
とができる。このため、バット２４内には脱水された各
処理剤または濃縮された廃液が残り、廃液をそのまま溜
める従来の廃液処理構造に比べバット２４が満杯になる
時間が長くなる。また、それらの取扱いも容易となる。
よって、バット２４内のメンテナンス間隔が広がり廃液
処理の作業効率を向上することができる。
【００２２】なお、廃液回収部に単にバット２４を使用
するだけでなく、図１に示される如く、バット２４の上
に、内部に廃液を含浸するスポンジ、布、発泡ポリウレ
タンシート、高分子吸収体入り吸収体等の吸収材３８を
配設しても良い。この場合には、脱水された各処理剤ま
たは濃縮された廃液が吸収材３８に付着または含浸する
ため、廃液回収部２５内のメンテナンス時には、吸収材
３８を交換すれば良く、廃液処理の作業効率をさらに向
上することができる。また、吸収材３８の下側には、廃
液が吸収材３８の下方へ漏れバット２４を汚すのを防止
するための、漏れ防止シート３９を設けることが好まし
い。
するだけでなく、図１に示される如く、バット２４の上
に、内部に廃液を含浸するスポンジ、布、発泡ポリウレ
タンシート、高分子吸収体入り吸収体等の吸収材３８を
配設しても良い。この場合には、脱水された各処理剤ま
たは濃縮された廃液が吸収材３８に付着または含浸する
ため、廃液回収部２５内のメンテナンス時には、吸収材
３８を交換すれば良く、廃液処理の作業効率をさらに向
上することができる。また、吸収材３８の下側には、廃
液が吸収材３８の下方へ漏れバット２４を汚すのを防止
するための、漏れ防止シート３９を設けることが好まし
い。
【００２３】この自動現像装置１０の廃液回収部２５の
下部または近傍に、廃液乾燥手段としてのヒータ４２を
配設してもよい。このヒータ４２は制御装置４４によっ
て、必要に応じて所定の温度に上昇することができるよ
うになっている。これは、乾燥風のよる脱水で不十分な
場合に用いる。
下部または近傍に、廃液乾燥手段としてのヒータ４２を
配設してもよい。このヒータ４２は制御装置４４によっ
て、必要に応じて所定の温度に上昇することができるよ
うになっている。これは、乾燥風のよる脱水で不十分な
場合に用いる。
【００２４】従って、ヒータ４２を設けた廃液処理構造
では、ヒータ４２によって、廃液回収部２５の内部また
はバット２４の周辺を加温することによって、バット２
４内のまたは吸収部材３８に吸収された廃液３６を短時
間に乾燥することができる。このため、廃液回収部２５
内には脱水された各処理剤または濃縮された廃液が残
り、廃液をそのまま溜める従来の廃液処理構造に比べ廃
液回収部２５が満杯になる時間が長くなる。よって、バ
ット２４内のメンテナンス間隔が広がり、さらにその取
扱いも容易になって廃液処理の作業効率を向上すること
ができる。特に、廃液を乾燥させた場合にこの効果は著
しい。
では、ヒータ４２によって、廃液回収部２５の内部また
はバット２４の周辺を加温することによって、バット２
４内のまたは吸収部材３８に吸収された廃液３６を短時
間に乾燥することができる。このため、廃液回収部２５
内には脱水された各処理剤または濃縮された廃液が残
り、廃液をそのまま溜める従来の廃液処理構造に比べ廃
液回収部２５が満杯になる時間が長くなる。よって、バ
ット２４内のメンテナンス間隔が広がり、さらにその取
扱いも容易になって廃液処理の作業効率を向上すること
ができる。特に、廃液を乾燥させた場合にこの効果は著
しい。
【００２５】バット２４は吸収材３８が配置される廃液
回収部２５は箱状の室を形成しており、この室へは廃液
乾燥手段としての送風ダクト４８を介して、自動現像装
置１０でフィルムを乾燥するための乾燥部１８で使用し
た乾燥温風を矢印Ｄで示されるように、送り込む構造と
なっている。
回収部２５は箱状の室を形成しており、この室へは廃液
乾燥手段としての送風ダクト４８を介して、自動現像装
置１０でフィルムを乾燥するための乾燥部１８で使用し
た乾燥温風を矢印Ｄで示されるように、送り込む構造と
なっている。
【００２６】このように乾燥風を利用することにより、
フィルム乾燥後の乾燥温風を有効に利用するため、乾燥
環境を悪化させるような熱の排出を回避できる。排気フ
ァン３４は箱状の室内に空気の流れをつくり、室温の高
い空気を装置外へ排出するために用いられる。
フィルム乾燥後の乾燥温風を有効に利用するため、乾燥
環境を悪化させるような熱の排出を回避できる。排気フ
ァン３４は箱状の室内に空気の流れをつくり、室温の高
い空気を装置外へ排出するために用いられる。
【００２７】送風ダクト４８によって、処理済のフィル
ムを乾燥するための乾燥部１８からの乾燥風を廃液回収
部２５の上部に送風することによって、廃液回収部２５
内の廃液３６を短時間に乾燥することができる。このた
め、廃液回収部２５内には脱水された各処理剤または濃
縮された廃液が残り、廃液をそのまま溜める従来構造に
比べバット２４または吸収材３８が満杯になる時間が長
くなる。よって、廃液回収部２５内のメンテナンス間隔
が広がり廃液処理の作業効率を向上することができる。
ムを乾燥するための乾燥部１８からの乾燥風を廃液回収
部２５の上部に送風することによって、廃液回収部２５
内の廃液３６を短時間に乾燥することができる。このた
め、廃液回収部２５内には脱水された各処理剤または濃
縮された廃液が残り、廃液をそのまま溜める従来構造に
比べバット２４または吸収材３８が満杯になる時間が長
くなる。よって、廃液回収部２５内のメンテナンス間隔
が広がり廃液処理の作業効率を向上することができる。
【００２８】乾燥ダクト４８からの乾燥風のみで廃液を
脱水させるかヒータ４２を併用するかは環境条件、自動
現像装置１０のフィルム処理量等により決定できる。
脱水させるかヒータ４２を併用するかは環境条件、自動
現像装置１０のフィルム処理量等により決定できる。
【００２９】例えば、吸収材３８へ上面積が３０ｃｍ×
５０ｃｍ（１５００ｃｍ2 ）の場合、実験によると吸収
材３８に吸収されている廃液の温度と吸収材３８の上面
からの水分蒸発は図３に示す関係を有する。
５０ｃｍ（１５００ｃｍ2 ）の場合、実験によると吸収
材３８に吸収されている廃液の温度と吸収材３８の上面
からの水分蒸発は図３に示す関係を有する。
【００３０】現像槽１２、定着槽１４及び水洗槽１６へ
の各補充液の補充量がフィルム四つ切１枚当たりそれぞ
れ２５ｃｃとすると四つ切１枚当たりの処理に発生する
廃液量は７５ｃｃとなる。自動現像装置１０の１日の稼
働時間を８時間とし、１日の廃液をその日のうちに乾燥
処理してしまうためには、 （１）１日に四つ切１０枚を処理する自動現像装置で
は、廃液量は７５０ｃｃであるから１時間当たり９３．
８ｃｃの水分を蒸発させる必要がある。そのためには、
図３によると、廃液の液温度を４０°Ｃ以上に加熱する
必要がある。このためには、廃液回収部２５へ導入する
乾燥風温度を６０°Ｃ程度にすればよい。通常乾燥風温
度は４０°Ｃ〜６０°Ｃで用いられるので、廃液を２０
°Ｃ〜４０°Ｃに加熱することができる。
の各補充液の補充量がフィルム四つ切１枚当たりそれぞ
れ２５ｃｃとすると四つ切１枚当たりの処理に発生する
廃液量は７５ｃｃとなる。自動現像装置１０の１日の稼
働時間を８時間とし、１日の廃液をその日のうちに乾燥
処理してしまうためには、 （１）１日に四つ切１０枚を処理する自動現像装置で
は、廃液量は７５０ｃｃであるから１時間当たり９３．
８ｃｃの水分を蒸発させる必要がある。そのためには、
図３によると、廃液の液温度を４０°Ｃ以上に加熱する
必要がある。このためには、廃液回収部２５へ導入する
乾燥風温度を６０°Ｃ程度にすればよい。通常乾燥風温
度は４０°Ｃ〜６０°Ｃで用いられるので、廃液を２０
°Ｃ〜４０°Ｃに加熱することができる。
【００３１】（２）１日に四つ切１００枚を処理する場
合には、１時間当たり９３７．５ｃｃの蒸発量が必要で
あるから、図３によれば、廃液の液温度を８０°Ｃ以上
に保つ必要がある。そのためには、廃液回収部２５にお
いてヒータ４２を使用する必要がある。
合には、１時間当たり９３７．５ｃｃの蒸発量が必要で
あるから、図３によれば、廃液の液温度を８０°Ｃ以上
に保つ必要がある。そのためには、廃液回収部２５にお
いてヒータ４２を使用する必要がある。
【００３２】このように自動現像装置１０によるフィル
ム処理量に応じて蒸発させるための手段を選べばよい。
なお、処理量が極端に少ない場合には大気温度で蒸発す
る場合もあるが、冬期や室温が１０°Ｃ以下のときは、
廃液回収部の飽和水蒸気圧で蒸発量が決まってしまうの
で、加温しなければならないことが多い。
ム処理量に応じて蒸発させるための手段を選べばよい。
なお、処理量が極端に少ない場合には大気温度で蒸発す
る場合もあるが、冬期や室温が１０°Ｃ以下のときは、
廃液回収部の飽和水蒸気圧で蒸発量が決まってしまうの
で、加温しなければならないことが多い。
【００３３】
【発明の効果】以上説明した如く請求項１記載の本発明
に係る廃液処理構造は、廃液回収部のメンテナンス間隔
が長くなり廃液処理の作業効率を向上できるという優れ
た効果を有する。
に係る廃液処理構造は、廃液回収部のメンテナンス間隔
が長くなり廃液処理の作業効率を向上できるという優れ
た効果を有する。
【００３４】また、請求項２記載の本発明に係る廃液処
理構造は、廃液回収部を各処理液毎に設ける必要が無く
構造が簡単になるとともに、各処理液の使用量が減少す
るため廃液回収部のメンテナンス間隔が長くなり、かつ
廃液の取扱いが容易となるため廃液処理の作業効率を向
上できるという優れた効果を有する。
理構造は、廃液回収部を各処理液毎に設ける必要が無く
構造が簡単になるとともに、各処理液の使用量が減少す
るため廃液回収部のメンテナンス間隔が長くなり、かつ
廃液の取扱いが容易となるため廃液処理の作業効率を向
上できるという優れた効果を有する。
【図１】本発明に係る廃液処理構造が適用された自動現
像装置を示す概略斜視図である。
像装置を示す概略斜視図である。
【図２】本発明に係る廃液処理構造を示す概略側断面図
である。
である。
【図３】廃液の温度と吸収材の上面からの水分蒸発との
関係を示すグラフである。
関係を示すグラフである。
【図４】従来例に係る廃液処理構造が適用された自動現
像装置を示す概略側断面図である。
像装置を示す概略側断面図である。
１０ 自動現像装置 １２ 現像槽 １４ 定着槽 １６ 水洗槽 １８ 乾燥部 ２４ バット ２５ 廃液回収部 ３４ 排気ファン（廃液乾燥手段） ３６ 廃液 ３８ 吸収材（廃液回収部） ４２ ヒータ（廃液乾燥手段） ４８ 送風ダクト（廃液乾燥手段）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−163972（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−245468（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−166485（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−201442（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−121052（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−92199（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−123490（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C02F 1/04 G03D 3/00
Claims (2)
- 【請求項１】 処理槽から排出された廃液を含浸するた
めの吸収材を具えた廃液回収部と、この廃液回収部内の
廃液を乾燥させるために感光材料処理装置の乾燥部から
乾燥風を前記廃液回収部へ導く廃液乾燥手段と、を有す
ることを特徴とする感光材料処理装置の廃液処理構造。 - 【請求項２】 アンモニアフリーの定着剤を使用しこの
定着剤と現像剤とを同一の前記廃液回収部に回収する配
管を有することを特徴とする請求項１記載の廃液処理構
造。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07699294A JP3299028B2 (ja) | 1994-04-15 | 1994-04-15 | 廃液処理構造 |
| US08/394,500 US5526087A (en) | 1994-04-15 | 1995-02-27 | Photosensitive material processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07699294A JP3299028B2 (ja) | 1994-04-15 | 1994-04-15 | 廃液処理構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07284757A JPH07284757A (ja) | 1995-10-31 |
| JP3299028B2 true JP3299028B2 (ja) | 2002-07-08 |
Family
ID=13621283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07699294A Expired - Fee Related JP3299028B2 (ja) | 1994-04-15 | 1994-04-15 | 廃液処理構造 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5526087A (ja) |
| JP (1) | JP3299028B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2313923B (en) * | 1996-06-07 | 2000-03-29 | Kodak Ltd | Improvements in or relating to photographic processing apparatus |
| JP3591206B2 (ja) * | 1997-04-10 | 2004-11-17 | ノーリツ鋼機株式会社 | 写真感光材料の自動現像処理装置 |
| US6217238B1 (en) * | 1999-02-17 | 2001-04-17 | Phototrader, Inc. | Photographic film processor and method of developing film |
| US6290404B1 (en) * | 2000-11-03 | 2001-09-18 | Eastman Kodak Company | Processing system and method which includes heat recovery and reuse in a photographic processing machine |
| US6468722B1 (en) * | 2001-03-30 | 2002-10-22 | Eastman Kodak Company | Photofinishing processing system and a processing solution supply cartridge for the processing system |
| US6520693B2 (en) | 2001-03-30 | 2003-02-18 | Eastman Kodak Company | Method of providing photoprocessing services |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1491196A (en) * | 1973-11-07 | 1977-11-09 | Agfa Gevaert | Method and apparatus for processing photographic silver halide material |
| JPS61231548A (ja) * | 1985-04-05 | 1986-10-15 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 写真廃液の処理方法及び写真自動現像機 |
| DE3686406T2 (de) * | 1985-12-09 | 1993-03-25 | Konishiroku Photo Ind | Behaelter fuer eine photographische behandlungsloesung. |
| AU6696386A (en) * | 1985-12-30 | 1987-07-02 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Disk film development apparatus |
| US4791444A (en) * | 1986-06-04 | 1988-12-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Waste solution treating apparatus |
| JPS62286046A (ja) * | 1986-06-04 | 1987-12-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 自動現像機の廃液処理装置 |
-
1994
- 1994-04-15 JP JP07699294A patent/JP3299028B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-02-27 US US08/394,500 patent/US5526087A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5526087A (en) | 1996-06-11 |
| JPH07284757A (ja) | 1995-10-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4940134A (en) | Waste solution treatment method and apparatus therefor | |
| JP3299028B2 (ja) | 廃液処理構造 | |
| US5079853A (en) | Photosensitive material drying apparatus | |
| US6508598B2 (en) | Method and system for processing photographic material which includes water recovery from humid air for re-use in the processing | |
| JPH0635165A (ja) | 感光材料処理装置 | |
| JP2959039B2 (ja) | 写真処理廃液の蒸発濃縮装置 | |
| JP2729519B2 (ja) | 感光材料乾燥方法 | |
| JPH0852460A (ja) | 写真処理廃液の処理方法及びその装置 | |
| JP2956940B2 (ja) | 写真処理廃液の減圧蒸発濃縮装置 | |
| JPH04116645A (ja) | 写真感光材料処理装置 | |
| JP2004278972A (ja) | 調湿装置および調湿排気システム | |
| JP3091330B2 (ja) | 自動現像機 | |
| JP3483989B2 (ja) | 感光材料処理装置 | |
| JPH07128831A (ja) | 感光材料を処理液で処理する感光材料処理装置 | |
| JPH01100543A (ja) | 写真処理方法および装置 | |
| JPH06118597A (ja) | 感光材料処理装置 | |
| JPH0478851A (ja) | 感光材料処理装置 | |
| JPH03238079A (ja) | 写真処理廃液の減圧蒸発濃縮装置 | |
| JPS59164556A (ja) | 感光材料の処理装置 | |
| JPH04362639A (ja) | 感光材料処理装置 | |
| JPH10123717A (ja) | 感光性平版印刷版処理方法及び該処理装置 | |
| JPS62286046A (ja) | 自動現像機の廃液処理装置 | |
| JPS63128346A (ja) | 現像廃液処理装置 | |
| JPS63167363A (ja) | 現像廃液処理装置 | |
| JPH09127667A (ja) | 自動現像装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080419 Year of fee payment: 6 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080419 Year of fee payment: 6 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090419 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |