JP3291891B2 - ポリエチレンナフタレートフィルムの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ポリエチレンナフタレ
ートフィルムの製造方法に関する。

【０００２】さらに詳しくは、良好な生産性で表面欠点
の無いポリエチレンナフタレートフィルムを製造する方
法に関する。

【０００３】

【従来の技術】ポリエチレンナフタレートは、従来知ら
れているポリエステルの中でも機械的特質、耐熱性、耐
薬品性などに優れた性質を有しており、フィルム用途で
は、例えば磁気記録媒体、コンデンサー、電気絶縁、製
版、写真用フィルムなどの材料として好適である。

【０００４】しかしながら、ポリエチレンナフタレート
は、例えばポリエチレンテレフタレートと比較し、製膜
時において溶融ポリマをダイスリットを通して薄膜化す
る際、口金部にポリマの劣化物が付着することに起因す
る筋状の白濁部分（筋状欠点）がフィルムに発生しやす
く、また、ポリマの劣化物がフィルムに混入して粗大な
突起を形成し、その結果商品価値を著しく低下させる現
象が生じるため、表面に欠点の無いフィルムの生産性が
低いという問題がある。

【０００５】これらのポリマの劣化物が口金部に付着す
ることによる生産性低下を抑制する方法として、口金部
分に油状物を塗り、ポリマ劣化物の離脱を容易にするこ
と、口金部の形状を最適化すること、口金部を定期的に
清掃することなどが行なわれているが、未だ生産性を十
分に向上させるに至っていない。

【０００６】また、生産性を低下させる原因になってい
るポリマの劣化物の発生を抑制するため、例えば特開昭
６２−１４３９３８号公報などに示されるように、回分
式重縮合法でポリマを製造時に熱安定剤として添加する
リン化合物の量や種類の最適化を図る検討が行なわれて
きたが未だ十分な効果を奏するに至っていない。

【０００７】ポリエチレンナフタレートが上記の欠点が
生じやすいのは、ポリエチレンテレフタレートと比較
し、産業上有用な重合度のポリマとなるまで重縮合反応
を進行させると溶融粘度が高くなるため、回分式の製造
法においては重縮合缶からポリマを排出する際に長時間
を必要とする結果、排出初期に比べ末期ではカルボキシ
ル基末端濃度は増加し、分子量は小さくなるなどポリマ
の品質低下が原因になっている。さらに、ポリエチレン
ナフタレートは高粘度のために缶内に付着残留するポリ
マが多くなるため熱劣化が進行し、回分式重縮合法では
前述のごとく、１回の重縮合反応によって得られたポリ
マで重縮合缶からの排出初期と末期におけるポリマ特性
が異なるという問題点に加えて、さらに回を重ねて重縮
合反応を行なった場合、缶内に付着残留した熱劣化ポリ
マの影響のために回分毎に得られたポリマの特性の間に
さらに大きなバラツキが生じ、ポリマの分子量、カルボ
キシル基末端濃度やジエチレングリコール含量をさらに
大きく変動させる。この結果、回分式重縮合法で得たポ
リエチレンナフタレートを用いてフィルムを製造する
際、製膜時の破れや厚み斑が発生し、生産安定性を低下
させるという問題がある。

【０００８】上記回分式の重縮合方式で製造したポリマ
から得たフィルムの筋状欠点、熱劣化物の微小の固まり
による粗大突起の生成は、表面の平滑性が高度に要求さ
れる磁気テープ用途、特に磁性金属を蒸着して磁性層を
形成する蒸着テープや金属磁性体とバインダーの混合物
を塗布して磁性層を形成するメタルテープの支持体、な
らびに写真用途、特に微小な欠点が画像の価値を著しく
低下させる高感度写真フィルムなどに用いるフィルムの
生産性を著しく低下させる。また、上記回分式の重縮合
方式で製造したポリエチレンナフタレートの分子量、カ
ルボキシル末端基濃度やジエチレングリコール含量の変
動ならびに熱劣化物の生成は、厚さが薄いフィルム、特
に厚さが０．５〜２０μｍ域のフィルムを製膜する際に
は、フィルム破れの多発や、厚み斑の原因になり、良好
なフィルムの生産性を極度に低下させる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前述の
ようなポリエチレンナフタレートの製膜時の筋状欠点や
熱劣化物による粗大突起の生成などによる表面欠点の無
く、厚み斑の小さいポリエチレンナフタレートフィルム
を良好な生産性で製造する方法を見出だすこと課題に鋭
意検討を重ね本発明に到達した。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記した本発明の課題
は、以下の構成によって達成される。１ ．ビス（ヒドロキシエチル）ナフタレートを連続的に
重縮合して得たポリエチレンナフタレートを用いる、粒
子を含有し、かつ、表面突起の平均高さが５〜４００ｎ
ｍ以下であるポリエチレンナフタレートフィルムの製造
方法。２ ． カルボキシル末端基数が５〜４５当量／１０⁶ｇ
である上記１項に記載のポリエチレンナフタレートフィ
ルムの製造方法。

【００１１】本発明において、フィルムの製膜に用いる
ポリエチレンナフタレートは、ビス（ヒドロキシエチ
ル）ナフタレートを連続的に重縮合する方法によって製
造する。

【００１２】本発明において、ビス（ヒドロキシエチ
ル）ナフタレートは、ナフタレンジカルボン酸とエチレ
ングリコールを直接エステル化する方法または、ジメチ
ルナフタレートとエチレングリコールを用いエステル交
換によって得る方法のいずれの方法により得られたもの
であってもよく、上記のエステル化反応またはエステル
交換反応を所望によって１槽または複数の槽に分け、連
続的に反応を行なうことによって得ることができる。

【００１３】本発明において、ビス（ヒドロキシエチ
ル）ナフタレートというのは、エステル交換反応または
エステル化反応によって得られたビス（ヒドロキシエチ
ル）ナフタレートならびにこの化合物の１０重量体以下
の低重合体の混合物をいう。

【００１４】また、エステル交換反応またはエステル化
反応は、触媒としてマグネシウム、リチウム、亜鉛、カ
ルシウム、マンガンなどの金属化合物を用いることによ
って、反応時間を短縮することができる。この場合、最
終的に得られたポリエチレンナフタレート中に触媒残渣
による不溶物を少なくすることができる点から、マグネ
シウム、マンガン、亜鉛化合物を用いるのが好ましく、
特に好ましいのはマグネシウム化合物である。

【００１５】上記で得られたビス（ヒドロキシエチル）
ナフタレートを撹拌ならびに反応物を連続的に移動させ
る機能を備えた反応槽で２３０℃から３１０℃まで加熱
し、減圧下で重縮合反応を行なう。この際、所望に応じ
て重縮合工程を１槽または複数槽に分割して連続的に行
なうことができる。重縮合反応の触媒としては、アンチ
モン、ゲルマニウム、チタンなど重縮合触媒として公知
の金属化合物を用いることができるが、好ましくはアン
チモン、ゲルマニウム化合物で、特に好ましくはゲルマ
ニウム化合物である。

【００１６】本発明において用いるジカルボン酸は、
２，６−ナフタレンジカルボン酸を主成分とするが、そ
の一部（通常、全酸成分の３０モル％以下）を、例えば
シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、セバチン酸、ダイマ
ー酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、２，７−ナフタレンジカルボン
酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカ
ルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェノ
キシエタン−４，４′−ジカルボン酸、ジフェニルスル
ホンジカルボン酸、３，５−ジカルボキシベンゼンスル
ホン酸ナトリウム、グリコール酸、ｐ−オキシ安息香
酸、ｐ−オキシエトキシ安息香酸などの二官能性酸の１
種または２種以上でおきかえることができる。

【００１７】また、本発明において用いるグリコールは
エチレングリコールを主成分するが、その一部（通常、
全グリコール成分の３０モル％以下）を、例えばＨＯ
（ＣＨ₂ ）ｎＯＨ（ここでｎは３〜１０の整数を示す）
で示される直鎖脂肪族グリコール、イソブチレングリコ
ール、ポリエチレングリコ−ル、ネオペンチルグリコー
ル、１，４−シクロヘキサンジオール、２，２−ビス−
４−ヒドロキシフェニルプロパン、ヒドロキノン、１，
５−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナ
フタレンなどのジオキシ化合物の１種または２種以上で
おきかえることができる。

【００１８】本発明に用いるポリエチレンナフタレート
の固有粘度は０．５〜０．８が好ましく、さらには０．
５５〜０．７，特には０．５８〜０．６５が好ましい。
固有粘度が０．５以下の場合は得られたフィルムの機械
的強度が低く、０．８以上になると製膜時の溶融粘度が
高くなり過ぎる傾向がある。

【００１９】本発明に用いるポリエチレンナフタレート
のカルボキシル末端基濃度は、得られるフィルムのカル
ボキシル末端基濃度が４５当量／１０⁶ ｇ以下になる範
囲のものがが好ましく、さらには４０当量／１０⁶ ｇ以
下、特に３５当量／１０⁶ ｇ以下になるものが好まし
い。なお、カルボキシル末端基濃度は低い方が好ましい
が、５当量／１０⁶ ｇ以下のフィルムが得られるポリマ
を工業的に経済性良く製造するのが困難になる。また、
カルボキシル末端基濃度が４５当量／１０⁶ ｇ以上にな
ると、製膜時の口金部分に劣化物の付着が増加し、良好
な表面を有するフィルムの収率の低下が相対的に大きく
なる。また、ジエチレングリコールの含量は１．５重量
％以下、特に１．３重量％以下が好ましい。ジエチレン
グリコールの含量が１．５重量％以上になると、得られ
るフィルムの軟化温度が低下し、製膜時やフィルムを加
工する際の巻取時にフィルム同士が粘着しやすくなり好
ましくない。

【００２０】本発明のフィルムの製造方法は、上記の連
続重縮合で得たポリエチレンナフタレートを用い、製膜
用口金を備えた押出機でポリマを２９０〜３２０℃の溶
融状態で押出し、２０〜５０℃の冷却ロールで冷却して
未延伸フィルムを得る。この未延伸フィルムを縦方向に
３〜１０倍、横方向に３〜１０倍延伸し、所望によって
は、再度縦方向に１〜３倍延伸した後、１９０〜２３０
℃で熱処理して二軸延伸フィルムを得る。

【００２１】また、本発明のフィルムの製造方法は、２
〜３基の押出機と溶融ポリマの合流部ならびに溶融ポリ
マの分配装置を備えた製膜用の口金を用い、溶融状態で
２〜５層に積層し、上記と同様に冷却、縦ならびに横延
伸、熱処理をして２〜５層の積層フィルムを得ることが
できる。

【００２２】また本発明において、ポリエチレンナフタ
レートに無機粒子、有機塩粒子、架橋性高分子粒子など
の公知の粒子を添加して製膜することによって、製膜
時、加工時、使用時の走行性やハンドリング性を向上す
ることができる。無機粒子としては、例えば炭酸カルシ
ウム、カオリン、タルク、炭酸マグネシウム、炭酸バリ
ウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウ
ム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、酸化アル
ミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、フッ化リチウム、
シュウ酸カルシウム、Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｍｎなどのテ
レフタル酸塩などを挙げることができ、これらのうち１
種または２種以上を添加することができる。また、架橋
性高分子粒子としては、例えばジビニルベンゼン、スチ
レン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸もしくは
メタクリル酸のアルキルエステルなどのビニル系モノマ
の単独重合体または共重合体を挙げることができる。

【００２３】所望によって前記の粒子を添加して本発明
の方法で得たフィルムは、表面に筋状欠点や熱劣化物に
よる粗大突起が無く極めて良好な表面特性を有している
が、この特性が好ましく発揮されるのはフィルムの表面
突起の平均高さが４００ｎｍ以下であり、さらには２０
０ｎｍ以下、特には８０ｎｍ以下である。なお、突起の
平均高さが５ｎｍ以下になると、フィルムの加工時、使
用時の走行性が著しく低下する傾向がある。

【００２４】また、本発明の方法で得たフィルムは前記
の表面欠点が無いので、すべての厚みのフィルムで良好
な表面特性を有しているが、この特性が好ましく発揮さ
れるのは８０μｍ以下、さらには２０μｍ以下、特には
１０μｍ以下である。フィルム表面の突起の平均高さが
４００ｎｍを越える場合や、厚さが８０μｍを越える場
合は、前記の熱劣化物による粗大突起や筋状欠点が相対
的に目立たなくなる傾向が見られる。

【００２５】本発明の方法によって得られたフィルム
は、磁気記録媒体、フィルムコンデンサー、電気絶縁、
感光剤またはさらに磁気記録層を塗布した写真用フィル
ム、製版などの材料として好ましく使用できる。上記各
種用途の中でも、金属酸化物あるいは金属の磁性体を用
いたいずれの磁気記録媒体に使用するフィルム用途にも
好適であるが、特に好適な用途は、磁気記録媒体の中
で、支持体に高度の平滑性、無欠点性を要求される金属
蒸着タイプの磁気記録媒体、デジタル記録方式の磁気記
録媒体の支持体用のフィルムである。

【００２６】

【実施例】本発明をさらに具体的に説明するために、以
下実施例および比較例を挙げて説明するが、これら実施
例は、本発明を限定するものではない。なお、本発明に
おける種々の物性、特性の測定方法、定義は下記のとお
りである。また、本発明の実施例および比較例に示す触
媒、リン化合物の添加量は、ジカルボン酸成分１００重
量部に対する重量部数である。 １．固有粘度 ｏ−クロロフェノールを溶媒とし、２５℃で測定した。 ２．カルボキシル基濃度 Pohlらによる Analytical Chemistry 第２６巻１６１４
頁記載の方法で測定した。 ３．ジエチレングリコール含量の測定 ポリマチップ０．５ｇをモノエタノールアミン中でアミ
ン分解し、遊離したジエチレングリコールをガスクロマ
トグラフィーで測定した。なお、数値はポリマ中のジエ
チレングリコールの重量％である。 ４．平均突起高さ ４検出方式のフィールドエミション電子線三次元粗さ解
析装置（エリオニクス社製ＥＲＡ−８０００ＦＥ）を用
い、フィルム表面の平坦面の高さを０としたときの突起
高さを測定した。ここで、走査型電子顕微鏡の倍率は１
０００〜３００００倍の間を選択し、測定を１００視野
について行い、５ｎｍ以上の高さを有するものを突起と
し、その高さの平均値を用いた。なお、場合によって
は、原子間力顕微鏡（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍ
ｅｎｔ社製 Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ２）をもちいて５μｍ
四方の視野を走査速度０．６９Ｈｚで走査することによ
って得られた高さ情報を、上記粗さ解析装置の値に読み
替えて用いた。

【００２７】５．粗大突起 小坂研究所の非接触３次元表面粗さ計ＨＩＰＯＳＳ（Ｅ
Ｔ−３０ＨＫ）を用い、高さ４００ｎｍ以上の突起の数
をつぎの条件で２０回測定し、１ｍｍ² 当たりの個数に
換算して求めた。数が多いほど、粗大突起が多いことを
示す。 ・縦倍率：２００００倍 ・横倍率：５００倍 ・カットオフ：０．０８ｍｍ ・送りピッチ：０．５μｍ ・測定長 ：５００μｍ ・測定面積 ：０．０１９４ｍｍ² ・走査速度 ：１００μｍ／秒

【００２８】６．筋状欠点 同一原料組成で３時間製膜した後、直後に得た５０ｃｍ
四方のフィルムを１０倍に拡大した視野で観察して筋状
欠点の個数を測定した。なお、次の基準で１、２級を合
格とした。 筋状欠点の個数 ０ 個 ：１級 １ 〃 ：２級 ２〜３〃 ：３級 ４個以上 ：４級

【００２９】７．厚み斑 アンリツ社製フィルムシックネステスタＫＧ６０１Ａを
使用し、所定の方向に幅５０ｍｍ，長さ５０ｍ長の試料
を速度３ｍ／分で走行させフィルム厚みを測定した。ア
ンリツ社製広範囲電子マイクロメータＫ３０６Ｃでフィ
ルム厚みを読取り、次式から厚み斑を算出した。 厚み斑（％）＝（最大厚さ−最小厚さ）／平均厚さ×１
００

【００３０】（連続重縮合方法によるポリマの製造）精
留塔を備えた縦型の多段の流下式反応槽で上部から下部
に温度１９０℃から２３０℃に加熱できる第１エステル
交換反応槽へ、溶融した２，６−ナフタレンジカルボン
酸ジメチル１００部、予熱したエチレングリコール５１
部、酢酸マグネシウム０．０５部を連続的に供給し、エ
ステル交換反応率９５％の反応物を連続的に抜き出し
た。この反応物を精留塔、撹拌機を備えた第２エステル
交換反応槽に連続的に移行し、２３０℃で加熱してエス
テル交換反応率が９９．９％以上のビス（ヒドロキシエ
チル）ナフタレートを得た。上記ビス（ヒドキシエチ
ル）ナフタレートを次工程へ移行させる過程で、アルカ
リ水溶液にした二酸化ゲルマニウム０．０１部とリン酸
トリメチル０．０３部をラインミキサーを用いて各々別
の供給口から供給した。

【００３１】さらに、上記反応物を撹拌機、減圧系およ
び副生物の流出装置を備えた予備重縮合槽へ移行させ、
２６５℃、４０Ｔｏｒｒで１時間の滞留時間反応させ
た。次いで、横型の撹拌翼、減圧系および副生物の流出
装置およびスクリュー方式の反応物の系外への流出装置
を備えた横型反応槽へ上記反応物を連続的に移行させ、
流入口から流出装置の方向へ２７０℃から２９０℃の温
度勾配をつけた状態で反応を行ない、流出装置から連続
的にガット状で排出、冷却し、カッターで切断してチッ
プ状の固有粘度０．６３、ジエチレングリコール含量
１．０％、カルボキシル基末端濃度３０当量／１０⁶ ｇ
のポリエチレンナフタレート（ポリマＡ）を得た。

【００３２】（回分式重縮合方法によるポリマの製造）
精留塔、撹拌機を備えたオートクレーブに、２，６−ナ
フタレンジカルボン酸ジメチル１００部、エチレングリ
コール５１部を仕込み、さらに０．０５部の酢酸マグネ
シウムを加え、２００℃から２３５℃へ加熱昇温し、生
成するメタノールを排出しながら３．５時間反応して、
エステル交換反応率が９９．９％のビス（ヒドロキシエ
チル）ナフタレートを得た。得られた反応生成物にアル
カリ水溶液にした二酸化ゲルマニウム０．０１部を加
え、さらにリン酸トリメチルエステル０．０３部を加え
て、２３５℃から２９０℃まで昇温しながら徐々に減圧
し、１Ｔｏｒｒ以下で２９０℃、２時間維持して重縮合
反応を完結させた。その後、缶内のポリマをガット状で
排出したものを冷却、切断してチップ状の固有粘度は
０．６２、ジエチレングリコール含量１．３％カルボキ
シル基末端濃度５０当量／１０⁶ ｇのポリエチレンナフ
タレート（ポリマＢ）を得た。

【００３３】（粒子マスタポリマの製造）前記の回分式
重縮合方法によるポリマの製造の方法を用い、ビス（ヒ
ドロキシエチル）ナフタレートを得た段階で、エチレン
グリコールへ均一に分散させた平均径０．４μｍの炭酸
カルシウム粒子、平均径０．２μｍの球形ポリジビニル
ベンゼン粒子、平均径０．０５μｍの球形酸化ケイ素粒
子の各スラリを別々の反応系に添加し、その後は同様に
して重縮合反応を行い、前記粒子を２重量％含有した３
種類の粒子マスタポリマを得た。

【００３４】実施例１ 溶融押出機、Ｔ型の製膜用口金、冷却ドラム、縦延伸装
置、横延伸装置ならびに熱処理装置を備えた通常の二軸
延伸製膜機を用い、前記の連続式重縮合反応で得たポリ
マＡ８０重量％、ジビニルベンゼン粒子マスタポリマ１
５重量％ならびに炭酸カルシウム粒子マスタポリマ５重
量％をチップ状態で混合して押出機に供給し、３００℃
で溶融押出して３５℃の冷却ドラムで冷却し、厚さ３７
５μｍの未延伸フィルムを得た。このフィルムを再度１
３５℃に加熱して縦方向に５倍、横方向に５倍延伸し、
続いて２１０℃で熱処理して厚さ１５μｍのフィルムを
得た。

【００３５】比較例１ 実施例１において、ポリマＡに替えて前記の回分式重縮
合反応で得たポリマＢを用いる以外は実施例１と同様に
して、厚さ１５μｍのフィルムを得た。

【００３６】実施例２ ２基の押出機と溶融ポリマの合流部ならびに表裏が同じ
で中層が異なる溶融ポリマにすることができる分配装置
を備えた３層複合製膜用口金を用いる以外は、実施例１
と同様の二軸延伸製膜機を用い、一方の押出機にポリマ
Ａのみを、他方の押出機にポリマＡ８５重量％とジビル
ベンゼン粒子マスタポリマ１５重量％の混合物を供給
し、口金部の溶融ポリマの分配装置を調節して、中層が
ポリマＡのみからなる３００μｍの層、表裏がポリマＡ
と粒子マスタの混合物からなる各３０μｍの層からなる
複合状態で溶融押出して３５℃の冷却ドラムで冷却し、
厚さ３６０μｍの未延伸フィルムを得た。この未延伸フ
ィルムを再度１３５℃に加熱して縦方向に６倍、横方向
に５倍延伸し、ひきつずき２１５℃で熱処理して、中層
がポリマＡのみからなる１０μｍの層、表裏がポリマＡ
と粒子マスタの混合物である各１μｍの層からなり、全
厚みが１２μｍのフィルムを得た。

【００３７】比較例２ 実施例２において、ポリマＡに替えてポリマＢを用いる
以外は実施例２と同様にして、中層がポリマＢのみから
なる１０μｍの層、表裏がポリマＢと粒子マスタの混合
物である各１μｍの層からなり、全厚みが１２μｍのフ
ィルムを得た。

【００３８】実施例３ ３基の押出機（押出機イ、ロ、ハ）と溶融ポリマの合流
部ならびに各層が異なる溶融ポリマにすることができる
分配装置を備えた３層複合製膜用口金を用いる以外は、
実施例１と同様の二軸延伸製膜機を用い、押出機イにポ
リマＡ７０重量％と前記球形酸化ケイ素粒子マスタポリ
マ３０重量％の混合物を、押出機ロにポリマＡのみを、
押出機ハにはポリマＡ８５重量％とポリジビニルベンゼ
ン粒子マスタポリマ１５重量％の混合物を各々供給し、
口金部の溶融ポリマの分配装置を調節して、第１層がポ
リマＡと酸化ケイ素粒子マスタポリマの混合物からなる
０．９μｍの層、第２層がポリマＡのみからなる２０
４．６μｍの層、第３層がポリマＡとポリジビニルベン
ゼン粒子マスタの混合物からなる４．５μｍの層からな
る複合状態で溶融押出して、３５℃の冷却ドラムで冷却
し、厚さ２１０μｍの未延伸フィルムを得た。この未延
伸フィルムを再度１３５℃に加熱して縦方向に６倍、横
方向に５倍延伸し、ひきつずき２１５℃で熱処理して、
第１層がポリマＡと酸化ケイ素粒子マスタポリマの混合
物からなる０．０３μｍの層、第２層がポリマＡのみか
らなる６．８２μｍの層、第３層がポリマＡとポリジビ
ニルベンゼン粒子マスタの混合物からなる０．１５μｍ
の層からなり、全厚みが７μｍの３層複合フィルムを得
た。

【００３９】比較例３ 実施例３において、ポリマＡに替えてポリマＢを用いる
以外は実施例３と同様にして、第１層がポリマＢと酸化
ケイ素粒子マスタポリマの混合物からなる０．０３μｍ
の層、第２層がポリマＢのみからなる６．８２μｍの
層、第３層がポリマＢとポリジビニルベンゼン粒子マス
タの混合物からなる０．１５μｍの層からなり、全厚み
が７μｍの３層複合フィルムを得た。

【００４０】上記で得られた二軸延伸フィルムの性質を
測定し、結果を表１に示す。

【００４１】

【表１】 表１に示す通り、ビス（ヒドロキシエチル）ナフタレー
トを連続的に重縮合して得たポリエチレンナフタレート
を用いたフィルムは、表面に粗大突起や筋状欠点がほと
んど無く、さらに厚み斑が著しく少なく良好な特性を有
している。これに対し、従来の回分式重縮合方法で得た
ポリエチレンナフタレートを用いたフィルムは、上記の
各特性で劣っている。

【００４２】

【発明の効果】本発明の方法で得たポリエチレンナフタ
レートフィルムは、表面に粗大突起や筋状欠点がほとん
ど無く、さらに厚み斑が著しく少なく良好な特性を有し
ているので、表面欠点や厚み斑によって性能に著しく影
響を受ける磁気記録媒体、フィルムコンデンサー、電気
絶縁、感光剤またはさらに磁気記録層を塗布した写真用
フィルム、製版などの材料として好適であり、これらの
性能向上に寄与する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08G 63/00 - 63/91

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ビス（ヒドロキシエチル）ナフタレート
   を連続的に重縮合して得たポリエチレンナフタレートを
   用いる、粒子を含有し、かつ、表面突起の平均高さが５
   〜４００ｎｍ以下であるポリエチレンナフタレートフィ
   ルムの製造方法。
2. 【請求項２】 カルボキシル末端基数が５〜４５当量／
   １０⁶ｇである請求項１に記載のポリエチレンナフタレ
   ートフィルムの製造方法。