KR100816414B1 - 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름 및 이의 제조방법 - Google Patents

이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지의 축중합 반응 및 제막 과정에서 특정 조건의 여과 공정 및 연신비를 적용하여 제조된 본 발명의 필름은 기계 방향으로의 5% 신장시 응력(F-5)이 20 kg/㎟ 이상이고, 인장강도가 40 kg/㎟ 이상이며, 필름 표면상에 형성된 돌기의 높이가 100nm 이하로서, 기계적 강도 및 평활성이 모두 우수하여 자기기록매체 또는 전기절연용으로 유용하게 사용될 수 있다.

Description

이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름 및 이의 제조방법 {BIAXIALLY ORIENTED POLYETHYLENENAPHTHALATE FILM AND THE PREPARATION THEREOF}
본 발명은 기계적 강도 및 평활성이 모두 우수한 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 비해서 기계적 특성, 내열성, 내습성 및 내화학성이 우수하기 때문에 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 대체하여 자기용, 사진용, 전기절연용, 공업용 소재로서 광범위하게 이용되고 있다. 특히, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름은 내열성과 함께 고온에서의 치수안정성이 대단히 우수하여 유연성 인쇄 배선(flexible printed circuit), 유연성 플랫 케이블(flexible flat cable), 막 접촉 스위치(membrane touch switch), 콘덴서(condenser), 내열성 점착테이프, 변압기, 모터 등과 같은 전기절연용 및 공업용 재료로 많이 이용되고 있다.
상기 다양한 용도들 중 자기기록 매체용 필름으로 적합한 폴리에틸렌나프탈레이트 필름에 대한 연구가 제안된 바 있는데, 예를들어, 일본 특허출원공개 제 1993-131538호에는 내마모성과 내인열성이 우수한 자기기록 매체용 필름이 개시되어 있다. 그러나, 이 필름은 필름 내에 함유된 불활성 고체 미립자에 의해 필름의 평활성이 떨어져 자기기록 매체용으로 제조시 전자기 변환 특성이 저하되는 문제점이 있다.
또한, 일본 특허출원공개 제1993-117421호에는 폴리에틸렌나프탈레이트 필름의 표면 거침도(Roughness) 및 표면 돌기를 특정하는 기술이 개시되어 있으나, 이를 구현하는 구체적인 방법이 제시되어 있지 않을 뿐만 아니라, 고온 및 고하중 조건하에서 장시간 사용할 경우, 필름의 물성이 저하된다는 문제가 있다.
대한민국 특허출원공개 제1996-010707호에는 고순도 폴리에틸렌나프탈레이트를 제조하는 방법이 명시되어 있으나, 에스터 교환반응 및 축중합반응에서의 여과공정 기술만이 개시되어 있어, 평활성이 우수한 고순도 필름을 제조하는 방법으로는 부족하다.
이외에도 자기기록용이나 전기절연용 폴리에틸렌나프탈레이트 필름에 대한 많은 연구가 제안된 바 있으나, 기계적 강도 및 평활성이 동시에 우수한 필름을 제조하는 방법이 구체적으로 제시된 바는 없다.
따라서, 본 발명의 목적은 기계적 강도 및 평활성이 모두 우수한, 자기기록용 또는 전기절연용의 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에서는 기계 방향으로의 5% 신장시 응력(F-5)이 20 kg/㎟ 이상이고, 인장강도가 40 kg/㎟ 이상이며, 필름 표면상에 형성된 돌기의 높이가 100nm 이하인 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 제공한다.
또한, 본 발명에서는 다이메틸-2,6-나프탈렌다이카복실레이트와 에틸렌글리콜을 에스터 교환반응시킨 후 축중합반응시켜 폴리에틸렌나프탈레이트 수지를 수득하고, 수득된 수지를 용융압출시켜 얻은 미연신 시트를 종방향 및 횡방향으로 연신시킴으로써 이축연신 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 제조하는 방법에 있어서,
상기 축중합 반응 이전에 반응용액을 20㎛ 이하의 메쉬 크기를 갖는 필터로 여과하고, 수지의 용융압출 과정중에 10㎛ 이하의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하는 여과공정을 추가로 수행하며, 미연신 시트를 종방향으로 4.3 내지 5.8배 및 횡방향으로 3.5 내지 5.0배로 연신하여 총 연신비가 20 이상이 되게 하는 것을 특징으로 하는 방법을 제공한다.
이하에서는 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.
본 발명의 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름은 축중합 반응 및 제막 과정에서 특정 조건의 여과 공정 및 연신비를 적용하여 제조됨으로써 우수한 기계적 특성 및 평활성을 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 사용되는 폴리에틸렌나프탈레이트 수지는 에틸렌-2,6-나프탈레이트를 주된 반복단위로 하며, 다음과 같은 방법으로 제조될 수 있다.
먼저, 다이메틸-2,6-나프탈레이트와 에틸렌글리콜을 약 1:2의 몰비로 150℃ 내지 180℃의 온도에서 가열 및 용융시키고, 망간, 칼륨, 리튬, 칼슘, 마그네슘, 아연 등의 금속성분을 포함하는 촉매를 투입하여 에스터 교환반응시킨 다음, 에틸렌글리콜에 분산시킨 안정제와 축중합 촉매를 투입하여 분산시킨다. 이때, 안정제로는 트리메틸렌포스페이트 등의 포스페이트계를 투입할 수 있으며, 촉매로는 티타늄, 게르마늄, 주석, 안티몬, 아연, 코발트, 망간, 칼슘 등의 금속성분을 포함하는 촉매를 투입할 수 있다.
이어서, 반응 용액을 축중합시키기 전에 적어도 1단계의 여과공정을 수행한다. 여과공정은 20㎛ 이하, 바람직하게는 10㎛ 이하의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하는 것이 효과적이다. 메쉬 크기가 20㎛ 초과의 필터를 사용하는 경우에는 최종 필름의 기계적 물성 및 평활성이 불량해진다. 대안적으로, 축중합전의 여과공정은 20㎛ 이상의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하여 1차 여과한 후, 다시 20㎛ 이하의 메쉬 크기를 갖는 필터를 여과하는 2단계 과정을 거칠 수도 있다. 이러한 여과공정에 사용될 수 있는 필터의 형태는 디스크형, 막대형 등 어떠한 형태를 사용하여도 무방하다.
여과 공정을 거친 후, 반응 용액을 축중합 반응기에 투입하여 260℃ 내지 300℃의 온도에서 5 내지 0.1 Torr의 고진공 조건하에 축중합 반응시켜 폴리에틸렌나프탈레이트 수지를 제조하며, 수득된 수지는 0.5 ㎗/g 이상의 극한점도를 갖는 것이 바람직하다.
추가로, 상기 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지의 제조공정에 있어서, 최종 필름 표면에 슬립 특성이나 주행성 등을 부여하여 공정성을 개선하고, 특히 자기기록용 필름에서 테이프의 주행시 헤드와의 점착 현상을 개선할 목적으로, 불활성 입자를 첨가하는 것이 바람직하다. 상기 불활성 입자의 적합한 예로는 탄산칼슘, 실리카, 알루미나, 카오린 등의 무기입자, 또는 폴리에틸렌, 가교 폴리스티렌, 스티렌/아크릴계 및 아크릴계 가교입자 등의 비닐계 입자, 실리콘 유도체 등의 유기입자가 포함되나, 당해 기술분야에서 통상적으로 사용되는 것이고 본 발명의 특성과 목적에 맞게 필름에 적당한 표면 돌기를 부여할 수 있는 입자라면 특별한 제한 없이 어느 것을 선택해도 무방하며, 2종 이상의 입자를 혼합 사용하는 것도 가능하다.
본 발명에서 사용되는 불활성 입자는 0.1 내지 1.0 ㎛의 평균 입경을 갖는 것이 바람직하다. 불활성 입자의 평균 입경이 0.1 ㎛ 미만인 경우는 필름 표면에 생성되는 돌기의 크기가 너무 작아서 주행성 등의 가공성이 용이하지 않으며, 1.0㎛을 초과하는 경우에는 축중합 반응 직전 및 미연신 시트 제조 직전의 여과공정에서 필터가 막히거나, 연신 과정에서의 보이드 형성으로 인해 필름의 기계적 물성을 저하시키거나 필름 표면상에 거대 돌기를 형성하여 본 발명의 목적에 부합하는 평활성이 우수한 필름을 제조하기 어렵다. 또한, 상기 불활성 입자는 0.001 내지 1.0 중량%의 범위로 첨가되는 것이 바람직하다.
이렇게 하여 얻은 폴리에틸렌나프탈레이트 수지를 T-다이(die) 등에 의해 용융압출하여 미연신 시트를 만든 다음, 이를 종 및 횡방향으로 축차 또는 동시 이축 연신한 후 열고정 및 냉각시킴으로써 제조될 수 있다. 이때, 본 발명에서는 최종 필름의 원하는 기계적 물성 및 평활성을 얻기 위해 용융압출 과정중에 여과공정을 수행하며, 연신 공정을 총 연신비가 20 이상, 바람직하게는 20 내지 25가 되도록 수행한다.
상기 여과공정은 폴리에틸렌나프탈레이트 수지를 용융압출시킨 후 T-다이를 통해 방류하기 전에 적어도 1단계의 공정으로 10㎛ 이하, 바람직하게는 5㎛ 이하의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하여 수행한다. 메쉬 크기가 10㎛ 초과의 필터를 사용하는 경우에는 최종 필름의 평활성이 불량해진다. 대안적으로, 상기 여과공정은 10㎛ 이상의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하여 1차 여과한 후, 다시 10㎛ 이하의 메쉬 크기를 갖는 필터를 여과하는 2단계 과정을 거칠 수도 있다. 이러한 여과공정에 사용될 수 있는 필터의 형태는 디스크형, 막대형 등 어떠한 형태를 사용하여도 무방하다.
성형된 미연신 시트에 대한 종방향 연신온도는 폴리에틸렌나프탈레이트의 유리전이온도(Tg) 내지 Tg+30℃의 온도, 바람직하게는 Tg+10℃ 내지 Tg+20℃의 온도범위가 적당하다. 종방향 연신온도가 상기 범위보다 낮은 경우에는 미연신 시트에 백탁현상이 발생하고 최종 필름의 파단이 심해지며 열수축률이 높아진다. 반면, 상기 범위보다 높은 경우에는 연신롤에 점착이 심해져서 연신무늬가 발생하거나, 배향된 고분자 사슬의 이완현상으로 인하여 배향도와 내열성이 떨어지며, 두께가 불균일해지는 단점이 있다.
본 발명에서, 종방향 연신비는 4.3 내지 5.8배가 적당하며, 바람직하게는 4.5 내지 5.5배이다. 종방향 연신비가 4.3배 미만인 경우 고분자 사슬의 배향이 불충분하여 원하는 기계적 물성이 발현되기 어려우며, 5.8배를 초과하는 경우에는 기계 방향으로의 기계적 물성은 양호하지만, 고온에서의 수축이 증가하여 치수안정성이 떨어지고 횡방향 연신공정 중에 쉽게 갈라지거나 가공성이 떨어지게 된다.
횡방향 연신온도는 폴리에틸렌나프탈레이트의 Tg+10℃ 내지 Tg+30℃의 온도 범위가 적당하다. 횡방향 연신온도가 상기 범위보다 낮은 경우에는 파단이 심해져서 공정성이 떨어지고, 상기 온도범위보다 높은 경우에는 고분자 사슬의 이완현상으로 인하여 배향도가 떨어지고, 횡방향의 두께가 불균일해지는 단점이 있다.
본 발명에서, 횡방향 연신비는 3.5 내지 5.0배가 적당하며, 바람직하게는 3.8 내지 4.7배이다. 횡방향 연신비가 3.5배 미만인 경우 고분자 사슬의 배향이 불충분하여 필름의 내열성이 떨어지고 두께가 불균일하게 되며, 5.0배를 초과하는 경우에는 고온에서의 치수안정성이 떨어지고 파단이 심해져서 공정이 불안정해지며, 특히 횡방향으로 고분자 사슬의 배향이 이루어지면서 종방향으로의 고분자 사슬 배향이 이완되어 기계방향으로의 물성이 저하된다.
종연신과 횡연신을 통해 배향이 이루어진 필름은 치수안정성을 높이기 위해서 200 내지 250℃, 바람직하게는 220 내지 240℃에서 열처리를 거친다. 열처리 온도가 200℃ 미만인 경우 열처리 효과가 불충분하여 열수축율이 높아지고, 250℃를 초과하는 경우에는 열수축율은 낮아지지만, 필름의 투명도와 배향도가 감소하고 두께 편차가 증가하며 기계적 물성을 저하시킨다.
추가로, 본 발명에서는 원하는 효과를 손상시키지 않는 범위 내에서 상기 폴리에틸렌나프탈레이트 수지 이외에 폴리에틸렌나프탈레이트와 기타 폴리에스터의 혼합물 또는 에틸렌나프탈레이트를 주요 구성단위체로 하는 공중합물을 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 필름은 폴리에틸렌나프탈레이트를 기저층으로 하면서 이에 하나 이상의 다른 층이 구비되는 다층 형태로도 제조될 수 있으며, 이때 하나 이상의 다른 층은 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌나프탈레이트 등을 주성분으로 하는 폴리에스터 재질이거나 실리콘, 아크릴, 에폭시, 우레탄 등의 재질일 수 있다.
상기에 따라 제조된 본 발명의 이축연신 폴리에틸렌나프탈레이트 필름은 기계 방향의 F-5가 20 kg/㎟ 이상이고, 인장강도가 40 kg/㎟ 이상이며, 필름 표면상에 형성된 돌기의 높이가 100nm 이하인 것을 특징으로 한다. 특히, 본 발명에 따라 제조된 필름은 표면상에 50 내지 100 nm 크기의 돌기가 50개/㎟ 이하, 바람직하게는 30개/㎟ 이하의 범위로 분포되어 있다.
필름의 기계 방향의 F-5가 20 kg/㎟ 미만이거나, 인장강도가 40 kg/㎟ 미만인 경우에는 기계 방향의 내인열성 등이 부족하여 후가공 또는 장기 사용시 열에 의한 변형 등이 발생하거나 자기기록매체로 사용시 반복 주행함에 의해 데이터 변형을 유발할 수 있으며, 필름 표면상에 형성된 돌기의 높이가 100nm를 초과하는 경우에는 필름의 평활성이 저하되어 자기기록매체로 사용시 자기 변환 특성이 저하되거나 데이터 기록시 누실이 발생한다.
또한, 본 발명의 필름은 평균표면조도(Ra)가 0.003 내지 0.030㎛, 바람직하게는 0.005 내지 0.020㎛ 이다. Ra가 0.003㎛보다 작은 경우에는 필름의 이활성 및 주행 특성이 불량하고, 0.030㎛ 보다 큰 경우에는 만족하는 평활성을 얻지 못한다.
이하에서는 본 발명을 실시예에 의하여 더욱 상세히 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
다이메틸-2,6-나프탈레이트와 에틸렌글리콜을 1:2 몰비로 하고, 여기에 불활성 입자로서 평균입자 크기가 0.30㎛인 실리카 입자를 0.2 중량% 투입한 후 망간아세테이트 사수화물을 0.05 중량% 투입하여 메탄올을 유출시키면서 에스터 교환반응을 완료한 다음, 안정제로서 0.05 중량%의 트리메틸렌포스페이트 및 축중합 촉매로서 0.05 중량%의 안티몬트리옥시드를 첨가하였다. 혼합 용액을 20㎛ 크기의 메쉬 크기를 갖는 필터를 통과시켜 여과한 후, 축중합 반응을 실시하여 폴리에틸렌나프탈레이트 수지를 수득하였다.
수득된 수지를 180℃에서 6시간 동안 건조하고, 285℃에서 용융압출하는 과정에서 다시 10㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하여 여과한 후 T-다이를 통과시켜 얻은 미연신 시트를 135℃에서 종방향으로 5.2배 연신하고, 145℃에서 횡방향으로 4.0배 연신한 후, 235℃에서 30초간 열처리하여, 10㎛ 두께의 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 수득하였다.
실시예 2
불활성 입자로서 평균입자 크기가 0.23㎛인 실리카를 0.3 중량% 사용하고, 축중합 반응전의 여과공정에서 10㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하며, 미연신 시트를 종방향으로 4.8배 및 횡방향으로 4.5배 연신한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 수득하였다.
실시예 3
불활성 입자로서 평균입자 크기가 0.12㎛인 실리카를 1.0 중량% 사용하고, 축중합 반응전의 여과공정에서 10㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터 및 융용압출 과정중의 여과공정에서 5㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하며, 미연신 시트를 종방향으로 5.5배, 횡방향으로 3.8배 연신한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 수득하였다.
비교예 1
수지의 용융압출하는 과정에서 여과공정을 거치지 않는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 수득하였다.
비교예 2
축중합 반응전의 여과공정에서 30㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하고 융 용압출 과정중의 여과공정에서 20㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 2와 동일한 방법으로 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 수득하였다.
비교예 3
축중합 반응전의 여과공정에서 20㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하고 융용압출 과정중의 여과공정에서 20㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 수득하였다.
실시예 4
불활성 입자로서 평균입자 크기가 1.0㎛인 알루미나를 0.05 중량% 사용하고, 축중합 반응전의 여과공정에서 20㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터 및 융용압출 과정중의 여과공정에서 5㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하며, 미연신 시트를 종방향으로 5.0배, 횡방향으로 4.0배 연신한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 수득하였다.
비교예 4
수지의 융용압출 과정중의 여과공정에서 20㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 4와 동일한 방법으로 이축배향 폴리에틸렌나프탈레 이트 필름을 수득하였다.
비교예 5
미연신 시트를 종방향으로 4.2배, 횡방향으로 5.0배 연신한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 수득하였다.
비교예 6
미연신 시트를 종방향으로 6.0배, 횡방향으로 4.0배 연신한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 수득하였다.
비교예 7
불활성 입자로서 실리카를 1.0 중량%의 함량으로 사용하고, 축중합 반응전에는 여과공정을 수행하지 않으며, 융용압출 과정중의 여과공정에서 5㎛의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 수득하였다.
본 발명의 실시예 및 비교예에서 제조된 필름 및 공정상의 성능 평가를 다음과 같이 수행한 후, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
1) F-5
인스트론사의 인장시험기를 이용하여 길이 50mm, 폭 15mm 크기의 필름을 200mm/min 속도로 인장할 때 5% 신장시 응력을 측정하였다.
2) 인장강도
인스트론사의 인장시험기를 이용하여 길이 50mm, 폭 15mm 크기의 필름을 200mm/min 속도로 인장하여 파단될 때의 응력을 측정하였다.
3) 평균표면조도(Ra) 및 표면돌기수
코사카(Kosaka) 연구소(일본)의 접촉식 표면조도계 (SURFCORDER SE-30D)를 사용하여 촉침경=2㎛, 컷오프=0.08㎜, 측정길이=3㎜의 측정조건하에 표면조도를 측정하하고, 7점 측정 후 최대, 최소치를 제외한 5점을 산술 평균하였다. 이때, 평균표면조도(Ra)는 조도곡선의 평균선에 평행인 직선을 그었을 때 그 직선의 양쪽 면적이 동일해지는 직선의 높이를 말한다.
이어서, 표면 돌기의 높이와 돌기수의 히스토그램도를 구하여 돌기 높이별 돌기수를 측정하였다. 돌기 높이를 0.005㎛ 단위로 나누어 구간별 돌기수를 구하여 단위면적(1㎟) 당 돌기수로 환산하였으며, 7점 측정 후 최대, 최소치를 제외한 5점을 산술 평균하였다.
Figure 112006079482842-pat00001
상기 표 1로부터, 본 발명에 따라 제조된 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름은 우수한 기계적 강도 및 평활성을 동시에 갖는 반면에, 비교예 1 내지 7의 필름은 그러하지 못함을 알 수 있다. 즉, 여과공정을 수행하지 않거나 수행하더라도 필터의 메쉬 크기가 소정의 범위를 벗어나는 경우(비교예 1 내지 4 및 비교예 7) 필름의 기계적 강도 및 평활성이 만족스럽지 못하거나, 사용 필터의 막힘으로 미연신 시트의 제조 자체가 어려웠으며, 연신조건 역시 본 발명에서 적용한 범위를 벗어난 경우(비교예 5 및 6) 기계적 물성이 불량하거나 파단으로 인해 성능 평가를 할 수 없었다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름은 축중합 반응 및 제막 과정에서 특정 조건의 여과 공정 및 연신비를 적용하여 제조됨으로써 우수한 기계적 특성 및 평활성을 가져, 자기기록매체 또는 전기절연용으로 유용하게 사용될 수 있다.

Claims (8)

  1. 기계 방향으로의 5% 신장시 응력(F-5)이 21 kg/㎟ 이상이고, 인장강도가 40 kg/㎟ 이상이며, 필름 표면상에 형성된 돌기의 높이가 100nm 이하인 것을 특징으로 하는, 이축배향 폴리에틸렌나프탈레이트 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    필름 표면에 높이 50 내지 100 nm의 돌기가 50개/㎟ 이하로 분포되어 있는 것을 특징으로 하는 필름.
  3. 제 2 항에 있어서,
    필름 표면에 높이 50 내지 100 nm의 돌기가 30개/㎟ 이하로 분포되어 있는 것을 특징으로 하는 필름.
  4. 다이메틸-2,6-나프탈렌다이카복실레이트와 에틸렌글리콜을 에스터 교환반응시킨 후 축중합반응시켜 폴리에틸렌나프탈레이트 수지를 수득하고, 수득된 수지를 용융압출시켜 얻은 미연신 시트를 종방향 및 횡방향으로 연신시킴으로써 이축연신 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 제조하는 방법에 있어서,
    상기 축중합 반응 이전에 반응용액을 20㎛ 이하의 메쉬 크기를 갖는 필터로 여과하고, 수지의 용융압출 과정중에 10㎛ 이하의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하는 여 과공정을 추가로 수행하며, 미연신 시트를 종방향으로 4.3 내지 5.8배 및 횡방향으로 3.5 내지 5.0배로 연신하여 총 연신비가 20 이상이 되게 하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    수지의 용융압출 과정중의 여과공정이 5㎛ 이하의 메쉬 크기를 갖는 필터를 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 4 항에 있어서,
    미연신 시트의 총 연신비가 20 내지 25인 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따른 이축연신 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 기재로 사용한 자기기록 매체.
  8. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따른 이축연신 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 기재로 사용한 전기절연재료.
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