JP3279164B2 - 誘導加熱調理器 - Google Patents
誘導加熱調理器Info
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- H05B6/02—Induction heating
- H05B6/10—Induction heating apparatus, other than furnaces, for specific applications
- H05B6/12—Cooking devices
- H05B6/1209—Cooking devices induction cooking plates or the like and devices to be used in combination with them
- H05B6/1245—Cooking devices induction cooking plates or the like and devices to be used in combination with them with special coil arrangements
- H05B6/1272—Cooking devices induction cooking plates or the like and devices to be used in combination with them with special coil arrangements with more than one coil or coil segment per heating zone
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- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B40/00—Technologies aiming at improving the efficiency of home appliances, e.g. induction cooking or efficient technologies for refrigerators, freezers or dish washers
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般家庭で使用す
る誘導加熱調理器に関するものである。
る誘導加熱調理器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、誘導加熱調理器は安全、清潔、高
効率という優れた特徴に加え、付加である鍋やプレート
自体が直接発熱するという特性から種々の調理器への応
用が図られており、焼き物用のプレートも種々発売され
ている。また火力は一般家庭の１００ボルト電圧では１
４００Ｗの高火力の商品が主流になっている。従来の誘
導加熱調理器の一般的な構成を図１０を参照しながら説
明する。図に示すように４０の本体の上部には耐熱絶縁
板よりなる４１のトッププレートを有し、４２のプレー
トをトッププレート４１上に載置するようになってい
る。本体４０の内部には製造が比較的容易な円形が多く
そのほとんどが外直径が１８０ミリ程度の４３の加熱コ
イルを内蔵し、また４４の駆動回路部も本体４０内に配
置されている。以上のように構成された誘導加熱調理器
において駆動回路部４４により交流電源を直流に変換
し、加熱コイル４３に高周波電流を供給し、プレート４
２を誘導加熱している。
効率という優れた特徴に加え、付加である鍋やプレート
自体が直接発熱するという特性から種々の調理器への応
用が図られており、焼き物用のプレートも種々発売され
ている。また火力は一般家庭の１００ボルト電圧では１
４００Ｗの高火力の商品が主流になっている。従来の誘
導加熱調理器の一般的な構成を図１０を参照しながら説
明する。図に示すように４０の本体の上部には耐熱絶縁
板よりなる４１のトッププレートを有し、４２のプレー
トをトッププレート４１上に載置するようになってい
る。本体４０の内部には製造が比較的容易な円形が多く
そのほとんどが外直径が１８０ミリ程度の４３の加熱コ
イルを内蔵し、また４４の駆動回路部も本体４０内に配
置されている。以上のように構成された誘導加熱調理器
において駆動回路部４４により交流電源を直流に変換
し、加熱コイル４３に高周波電流を供給し、プレート４
２を誘導加熱している。
【０００３】また特開平５−１６６５７９号公報に記載
の誘導加熱調理器では焼き物プレートを加熱する第１及
び第２の加熱コイルと、前記第１及び第２の加熱コイル
に高周波電流を供給する第１及び第２のインバータ回路
と、前記第１及び第２のインバータ回路からの高周波電
流の供給を一定の周期でかつ任意の比率にてデューティ
制御する分配器を備えており、電源からの入力電力値に
応じて第１及び第２のインバータ回路のデューティ制御
の周期を増減させたり、プレートの各々の温度の変動幅
に応じて第１及び第２のインバータ回路のデューティ制
御の周期を増減させて、温度リップルを低減させてい
た。
の誘導加熱調理器では焼き物プレートを加熱する第１及
び第２の加熱コイルと、前記第１及び第２の加熱コイル
に高周波電流を供給する第１及び第２のインバータ回路
と、前記第１及び第２のインバータ回路からの高周波電
流の供給を一定の周期でかつ任意の比率にてデューティ
制御する分配器を備えており、電源からの入力電力値に
応じて第１及び第２のインバータ回路のデューティ制御
の周期を増減させたり、プレートの各々の温度の変動幅
に応じて第１及び第２のインバータ回路のデューティ制
御の周期を増減させて、温度リップルを低減させてい
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の一般的な誘導加熱調理器では、外直径が１８０ミリ
程度の比較的面積の小さい加熱コイルで１４００Ｗの高
電力を用いるため、焼きもの調理をするのに充分な火力
は得られるが、お好み焼きなどの調理では調理面積の大
きいプレートが必要であり、この誘導加熱調理器に大き
いプレートを載置すると高温に加熱できる面積はほぼ加
熱コイルの直上のみであるため、焼きムラが生じ、うま
く調理ができなかった。
来の一般的な誘導加熱調理器では、外直径が１８０ミリ
程度の比較的面積の小さい加熱コイルで１４００Ｗの高
電力を用いるため、焼きもの調理をするのに充分な火力
は得られるが、お好み焼きなどの調理では調理面積の大
きいプレートが必要であり、この誘導加熱調理器に大き
いプレートを載置すると高温に加熱できる面積はほぼ加
熱コイルの直上のみであるため、焼きムラが生じ、うま
く調理ができなかった。
【０００５】また特開平５−１６６５７９号公報に記載
の誘導加熱調理器の構成では、２つの加熱コイルをデュ
ーティ制御させ、電源からの入力電力値に応じて第１及
び第２のインバータ回路のデューティ制御の周期を増減
させたり、プレートの各々の温度の変動幅に応じて第１
及び第２のインバータ回路のデューティ制御の周期を増
減させているため、温度リップルの少ない、高性能の温
度制御ができ、調理面積の大きいプレートでも２つの加
熱コイルを設けているためプレート全面を高温に加熱で
きたが、しかしながら、２つの加熱コイルは一般には同
形状にしてプレートの中央から対称形状に配置すること
で温度分布を最も良くしており、デューティ制御で片側
ずつ加熱するため、各加熱コイルの直上に比べてプレー
トの調理面の外周部と２つの加熱コイルの境界部分は温
度が低くなり、焼きムラが生じやすく、ホットケーキや
お好み焼きではうまく調理ができなかった。
の誘導加熱調理器の構成では、２つの加熱コイルをデュ
ーティ制御させ、電源からの入力電力値に応じて第１及
び第２のインバータ回路のデューティ制御の周期を増減
させたり、プレートの各々の温度の変動幅に応じて第１
及び第２のインバータ回路のデューティ制御の周期を増
減させているため、温度リップルの少ない、高性能の温
度制御ができ、調理面積の大きいプレートでも２つの加
熱コイルを設けているためプレート全面を高温に加熱で
きたが、しかしながら、２つの加熱コイルは一般には同
形状にしてプレートの中央から対称形状に配置すること
で温度分布を最も良くしており、デューティ制御で片側
ずつ加熱するため、各加熱コイルの直上に比べてプレー
トの調理面の外周部と２つの加熱コイルの境界部分は温
度が低くなり、焼きムラが生じやすく、ホットケーキや
お好み焼きではうまく調理ができなかった。
【０００６】ここで、２つの加熱コイルを近づけると、
２つの加熱コイルの境界部分の温度は上昇するが、プレ
ートの外周部の温度は低下してしまう。また、加熱コイ
ルの面積を拡大することで温度分布が改良できるが、加
熱コイルの単位面積あたりの電力密度が低下し、加熱コ
イルの通電での損失が大きくなり、火力が低下して調理
がうまくできなくなった。
２つの加熱コイルの境界部分の温度は上昇するが、プレ
ートの外周部の温度は低下してしまう。また、加熱コイ
ルの面積を拡大することで温度分布が改良できるが、加
熱コイルの単位面積あたりの電力密度が低下し、加熱コ
イルの通電での損失が大きくなり、火力が低下して調理
がうまくできなくなった。
【０００７】更に一方の加熱コイルを他方の加熱コイル
の中に含む構成にすると、プレートは中央部の熱損失に
比べて外周部の熱損失が大きくなるため、プレート全面
を均一に加熱するのは困難であった。
の中に含む構成にすると、プレートは中央部の熱損失に
比べて外周部の熱損失が大きくなるため、プレート全面
を均一に加熱するのは困難であった。
【０００８】また誘導加熱では熱損失が少ないため、プ
レートの設定温度が低温の場合には、高温時と同じ火力
では強すぎ温度幅が大きくなるため、電力を可変して火
力を少なくしていたが、中央部の熱損失に比べて外周部
の熱損失が大きく、低温時には中央部と外周部の熱損失
の割合が異なるため、プレートの温度分布は高温時によ
り悪くなった。
レートの設定温度が低温の場合には、高温時と同じ火力
では強すぎ温度幅が大きくなるため、電力を可変して火
力を少なくしていたが、中央部の熱損失に比べて外周部
の熱損失が大きく、低温時には中央部と外周部の熱損失
の割合が異なるため、プレートの温度分布は高温時によ
り悪くなった。
【０００９】本発明は上記課題を解決するもので、調理
面積の大きいプレートを用いても温度分布が良い誘導加
熱調理器を提供することを目的とする。
面積の大きいプレートを用いても温度分布が良い誘導加
熱調理器を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、調理を行うプレートと、前記プレートの中央部下方
に配置した第１の加熱コイルと、前記第１の加熱コイル
の外周を覆い前記プレートの調理面の外周部の下方に配
置した輪型状の第２の加熱コイルと、前記各加熱コイル
に高周波電流を供給する第１及び第２のインバータ回路
を有し、前記各インバータ回路からの高周波電流の供給
の有無を一定の周期でデューティ制御する分配装置を有
する駆動回路部とを備え、前記駆動回路部のデューティ
制御は、各インバータ回路とも略３０秒以内の周期で行
うと共に、前記プレート予熱時に、前記プレートの温度
が所定の温度以下の時には、前記第２の加熱コイルに高
周波電流を提供する時間に比べて前記第１の加熱コイル
に高周波電流を供給する時間を長くし、前記プレート温
度が所定の温度以上の時には、前記第１の加熱コイルに
高周波電流を提供する時間に比べて前記第２の加熱コイ
ルに高周波電流を供給する時間を略２倍以内に長くして
なるものである。
に、調理を行うプレートと、前記プレートの中央部下方
に配置した第１の加熱コイルと、前記第１の加熱コイル
の外周を覆い前記プレートの調理面の外周部の下方に配
置した輪型状の第２の加熱コイルと、前記各加熱コイル
に高周波電流を供給する第１及び第２のインバータ回路
を有し、前記各インバータ回路からの高周波電流の供給
の有無を一定の周期でデューティ制御する分配装置を有
する駆動回路部とを備え、前記駆動回路部のデューティ
制御は、各インバータ回路とも略３０秒以内の周期で行
うと共に、前記プレート予熱時に、前記プレートの温度
が所定の温度以下の時には、前記第２の加熱コイルに高
周波電流を提供する時間に比べて前記第１の加熱コイル
に高周波電流を供給する時間を長くし、前記プレート温
度が所定の温度以上の時には、前記第１の加熱コイルに
高周波電流を提供する時間に比べて前記第２の加熱コイ
ルに高周波電流を供給する時間を略２倍以内に長くして
なるものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】請求項１記載の発明は、プレート
の温度が低温時にはプレートの調理面の中央部を加熱す
る加熱コイルに高周波電流を提供する時間の比率を長く
することで、外周部に比べて中央部は熱損失が少ないた
めに短時間で上昇させることができる。そしてプレート
温度が高温に到達した後、プレートの調理面の外周部を
加熱する加熱コイルに高周波電流を提供する時間の比率
を長くすることで、途中までの加熱で悪かった温度分布
を改良することで最初から温度分布を良くした制御で加
熱する方法より短時間で設定温度に加熱することができ
る。
の温度が低温時にはプレートの調理面の中央部を加熱す
る加熱コイルに高周波電流を提供する時間の比率を長く
することで、外周部に比べて中央部は熱損失が少ないた
めに短時間で上昇させることができる。そしてプレート
温度が高温に到達した後、プレートの調理面の外周部を
加熱する加熱コイルに高周波電流を提供する時間の比率
を長くすることで、途中までの加熱で悪かった温度分布
を改良することで最初から温度分布を良くした制御で加
熱する方法より短時間で設定温度に加熱することができ
る。
【００１２】請求項２記載の発明は、プレートの設定温
度が高温に設定され、一度設定温度に到達した後にプレ
ートに調理物を投入してプレートの温度が低温した場合
においては、プレートの全面を加熱する制御手段から特
定の部分を加熱する制御手段に切り替えることで１つの
加熱コイルで加熱される部分において、絶えず加熱され
るために高火力で加熱することができる。
度が高温に設定され、一度設定温度に到達した後にプレ
ートに調理物を投入してプレートの温度が低温した場合
においては、プレートの全面を加熱する制御手段から特
定の部分を加熱する制御手段に切り替えることで１つの
加熱コイルで加熱される部分において、絶えず加熱され
るために高火力で加熱することができる。
【００１３】以下、本発明の実施の形態について、図面
を参照しながら説明する。
を参照しながら説明する。
【００１４】（実施の形態１） 図１及び図２において１は調理を行う角型のプレート
で、２の調理面と３の外側面を有している。４はセラミ
ック製の平板から成るトッププレートで、５はＰＥＴ樹
脂等の２００℃を越える高耐熱樹脂から成る本体ケース
であり、トッププレート４は本体ケース５の平坦となっ
ている６の周縁部において珪素樹脂等の７の耐熱性接着
剤で固定されている。８は本体ケース５の下部を成形す
る本体底板であり、９の加熱コイル支持台は本体底板８
に取り付けられており、１０のプレートの中央部の下方
に配置した第１の加熱コイルと１１および１２の第１の
加熱コイル１０の両側に設けた第２の加熱コイル及び第
３の加熱コイルが取り付けられている。また本体底板８
には１３の駆動回路部が設けてあり、第１の加熱コイル
１０、第２の加熱コイル１１、第２の加熱コイル１２に
高周波電流を供給する第１、第２及び第３のインバータ
回路と、インバータ回路からの高周波電流の供給を一定
の周期でデューティ制御する分配装置が備えられてお
り、デューティ制御でプレートを加熱している。
で、２の調理面と３の外側面を有している。４はセラミ
ック製の平板から成るトッププレートで、５はＰＥＴ樹
脂等の２００℃を越える高耐熱樹脂から成る本体ケース
であり、トッププレート４は本体ケース５の平坦となっ
ている６の周縁部において珪素樹脂等の７の耐熱性接着
剤で固定されている。８は本体ケース５の下部を成形す
る本体底板であり、９の加熱コイル支持台は本体底板８
に取り付けられており、１０のプレートの中央部の下方
に配置した第１の加熱コイルと１１および１２の第１の
加熱コイル１０の両側に設けた第２の加熱コイル及び第
３の加熱コイルが取り付けられている。また本体底板８
には１３の駆動回路部が設けてあり、第１の加熱コイル
１０、第２の加熱コイル１１、第２の加熱コイル１２に
高周波電流を供給する第１、第２及び第３のインバータ
回路と、インバータ回路からの高周波電流の供給を一定
の周期でデューティ制御する分配装置が備えられてお
り、デューティ制御でプレートを加熱している。
【００１５】つぎに図３及び図４を参照しながら動作を
説明すると、誘導加熱調理器はプレート１自体が直接発
熱するという特性から１つの加熱コイルに高周波電流を
提供して加熱されるプレート１の範囲は加熱コイルのほ
ぼ直上に限られるため、図３（ａ）に示すようにプレー
ト１の長手方向に中央で測定した温度分布では３つの加
熱コイルの中央で温度が高くなると共に中央の温度が高
くなっている。これはプレート１の調理面２の外周部は
外側面３に熱が伝導するために温度が低下するのであ
る。そのため、第２の加熱コイル１１と第３の加熱コイ
ル１２を中央から離すことで、プレート１の調理面２の
外周部への熱供給量を増し、各加熱コイルに高周波電流
を提供する周期を図４に示すように第１の加熱コイル１
０に高周波電流を供給する時間に比べて第２の加熱コイ
ル１１と第３の加熱コイル１２に高周波電流を供給する
合計の時間を長くした周期で、例えば第１の加熱コイル
１０に７秒、第２の加熱コイル１１と第３の加熱コイル
１２に１５秒にすることで、プレート１の中央部の加熱
をやや弱め、外周部の加熱を強めることができ、図３
（ｂ）に示すようなプレート１の調理面２の温度分布を
実現できる。
説明すると、誘導加熱調理器はプレート１自体が直接発
熱するという特性から１つの加熱コイルに高周波電流を
提供して加熱されるプレート１の範囲は加熱コイルのほ
ぼ直上に限られるため、図３（ａ）に示すようにプレー
ト１の長手方向に中央で測定した温度分布では３つの加
熱コイルの中央で温度が高くなると共に中央の温度が高
くなっている。これはプレート１の調理面２の外周部は
外側面３に熱が伝導するために温度が低下するのであ
る。そのため、第２の加熱コイル１１と第３の加熱コイ
ル１２を中央から離すことで、プレート１の調理面２の
外周部への熱供給量を増し、各加熱コイルに高周波電流
を提供する周期を図４に示すように第１の加熱コイル１
０に高周波電流を供給する時間に比べて第２の加熱コイ
ル１１と第３の加熱コイル１２に高周波電流を供給する
合計の時間を長くした周期で、例えば第１の加熱コイル
１０に７秒、第２の加熱コイル１１と第３の加熱コイル
１２に１５秒にすることで、プレート１の中央部の加熱
をやや弱め、外周部の加熱を強めることができ、図３
（ｂ）に示すようなプレート１の調理面２の温度分布を
実現できる。
【００１６】（実施の形態２） 図５及び図６において２１は調理を行う丸型のプレート
で、２２の調理面と２３の外側面を有している。２４は
セラミック製の平板から成るトッププレートで、２５の
本体ケースに固定されている。２６は本体ケース２５の
下部を成形する本体底板であり、２７の加熱コイル支持
台は本体底板２６に取り付けられており、２８のプレー
トの中央部の下方に配置した第１の加熱コイルと、２９
の第１の加熱コイル２８の外周を覆った輪型状の第２の
加熱コイルが取り付けられている。また本体底板２６に
は３０の駆動回路部が設けてあり、第１の加熱コイル２
８及び第２の加熱コイル２９に高周波電流を供給する第
１及び第２のインバータ回路と、インバータ回路からの
高周波電流の供給を一定の周期でデューティ制御する分
配装置が備えられており、デューティ制御でプレートを
加熱している。
で、２２の調理面と２３の外側面を有している。２４は
セラミック製の平板から成るトッププレートで、２５の
本体ケースに固定されている。２６は本体ケース２５の
下部を成形する本体底板であり、２７の加熱コイル支持
台は本体底板２６に取り付けられており、２８のプレー
トの中央部の下方に配置した第１の加熱コイルと、２９
の第１の加熱コイル２８の外周を覆った輪型状の第２の
加熱コイルが取り付けられている。また本体底板２６に
は３０の駆動回路部が設けてあり、第１の加熱コイル２
８及び第２の加熱コイル２９に高周波電流を供給する第
１及び第２のインバータ回路と、インバータ回路からの
高周波電流の供給を一定の周期でデューティ制御する分
配装置が備えられており、デューティ制御でプレートを
加熱している。
【００１７】つぎに動作を説明すると、デューティ制御
は第１の加熱コイル２８に１４秒、第２の加熱コイル２
９に１８秒の周期で高周波電流を供給すると、プレート
２１の調理面２２の外周部は中央部に加熱される熱量よ
りも増し、外周部が外側面２３に熱伝導で失う熱量を補
充するため、プレート２１の温度分布は良くなり、調理
を行っても焼きムラが生じず、うまく調理ができる。
は第１の加熱コイル２８に１４秒、第２の加熱コイル２
９に１８秒の周期で高周波電流を供給すると、プレート
２１の調理面２２の外周部は中央部に加熱される熱量よ
りも増し、外周部が外側面２３に熱伝導で失う熱量を補
充するため、プレート２１の温度分布は良くなり、調理
を行っても焼きムラが生じず、うまく調理ができる。
【００１８】（実施の形態３） 誘導加熱調理器の部品構成は実施の形態２に示した構成
と同じ構成として、図７を用いて動作を説明すると、プ
レート２１の温度を最高設定温度の３００℃になるよう
に第１の加熱コイル２８及び第２の加熱コイル２９に最
大電力の１４００Ｗを入力すると、、プレート２１調理
面２２の温度分布を良くするためにデューティ制御は図
７（ａ）に示すように第１の加熱コイル２８に１４秒、
第２の加熱コイル２９に１６秒の周期で高周波電流を供
給すると、もっとも調理面２２の温度分布が良くなる。
と同じ構成として、図７を用いて動作を説明すると、プ
レート２１の温度を最高設定温度の３００℃になるよう
に第１の加熱コイル２８及び第２の加熱コイル２９に最
大電力の１４００Ｗを入力すると、、プレート２１調理
面２２の温度分布を良くするためにデューティ制御は図
７（ａ）に示すように第１の加熱コイル２８に１４秒、
第２の加熱コイル２９に１６秒の周期で高周波電流を供
給すると、もっとも調理面２２の温度分布が良くなる。
【００１９】ここでプレート２１の温度を１６０℃の低
温にするには、電力は弱くした８００Ｗの火力が最適
で、デューティ制御は高温時に最適の第１の加熱コイル
２８に１４秒と第２の加熱コイル２９に１６秒の周期で
高周波電流を供給する方法では、調理面２２の温度は低
温時に中央部に比べて外周部の低下温度が大きくなるた
め、温度分布が悪くなってしまう。そのため外周部への
火力を強くする必要があり、さらに入力電力を少なくし
た時、温度制御の性能が劣るため、周期時間を短縮する
必要がある。よって以上を改善するためにデューティ制
御を図７（ｂ）に示す第１の加熱コイル２８に１０秒、
第２の加熱コイル２９に１５秒の周期で高周波電流を供
給して、高温時と同性能の温度分布を確保できるように
なる。
温にするには、電力は弱くした８００Ｗの火力が最適
で、デューティ制御は高温時に最適の第１の加熱コイル
２８に１４秒と第２の加熱コイル２９に１６秒の周期で
高周波電流を供給する方法では、調理面２２の温度は低
温時に中央部に比べて外周部の低下温度が大きくなるた
め、温度分布が悪くなってしまう。そのため外周部への
火力を強くする必要があり、さらに入力電力を少なくし
た時、温度制御の性能が劣るため、周期時間を短縮する
必要がある。よって以上を改善するためにデューティ制
御を図７（ｂ）に示す第１の加熱コイル２８に１０秒、
第２の加熱コイル２９に１５秒の周期で高周波電流を供
給して、高温時と同性能の温度分布を確保できるように
なる。
【００２０】（実施の形態４） 誘導加熱調理器の部品構成は実施の形態２に示した構成
と同じ構成として、図８を用いて動作を説明すると、プ
レート２１の設定温度をＸとして、予熱を開始すると最
も時間がかかるのは設定温度が最高温度の３００℃の時
であり、この時の予熱時間を測定すると、まず通常の加
熱方法は予熱完了後に温度分布が良くなる制御方法の第
１の加熱コイル２８に１４秒と第２の加熱コイル２９に
１６秒のデューティ制御で予熱を開始する方法であり、
この時は図８のグラフの（ａ）に示すような温度上昇を
示す。しかし時間がかかるため、図８（ｂ）に示すよう
に開始時の常温から３００℃までの間のＹの温度、ここ
では２００℃までは第１の加熱コイル２８に２６秒と第
２の加熱コイル２９に１０秒のデューティ制御を行い、
プレート２１の加熱は調理面２２の外周部に対して中央
部を加熱する入力電力を多くすることで、プレート２１
の中央温度の上昇を速くできる。なぜなら中央部は外周
部に比べて熱損失が少ないためである。そして２００℃
に到達した後、第１の加熱コイル２８に８秒と第２の加
熱コイル２９に２５秒のデューティ制御を行い、調理面
２２の外周部の温度を上昇でき、プレート２１の温度が
３００℃に到達するときには温度分布も良くなり、予熱
時間も短縮することができる。
と同じ構成として、図８を用いて動作を説明すると、プ
レート２１の設定温度をＸとして、予熱を開始すると最
も時間がかかるのは設定温度が最高温度の３００℃の時
であり、この時の予熱時間を測定すると、まず通常の加
熱方法は予熱完了後に温度分布が良くなる制御方法の第
１の加熱コイル２８に１４秒と第２の加熱コイル２９に
１６秒のデューティ制御で予熱を開始する方法であり、
この時は図８のグラフの（ａ）に示すような温度上昇を
示す。しかし時間がかかるため、図８（ｂ）に示すよう
に開始時の常温から３００℃までの間のＹの温度、ここ
では２００℃までは第１の加熱コイル２８に２６秒と第
２の加熱コイル２９に１０秒のデューティ制御を行い、
プレート２１の加熱は調理面２２の外周部に対して中央
部を加熱する入力電力を多くすることで、プレート２１
の中央温度の上昇を速くできる。なぜなら中央部は外周
部に比べて熱損失が少ないためである。そして２００℃
に到達した後、第１の加熱コイル２８に８秒と第２の加
熱コイル２９に２５秒のデューティ制御を行い、調理面
２２の外周部の温度を上昇でき、プレート２１の温度が
３００℃に到達するときには温度分布も良くなり、予熱
時間も短縮することができる。
【００２１】（実施の形態５） 誘導加熱調理器の部品構成は実施の形態２に示した構成
と同じ構成として、図９を用いて動作を説明すると、第
１の加熱コイル２８に１４秒と第２の加熱コイル２９に
１６秒のデューティ制御でプレート２１の予熱を開始し
て最高設定温度の３００℃に予熱完了した後、飽和され
ている状態で、Ｘの時点で高火力を必要とする焼きそば
を開始すると、プレート２１の温度は低下して、Ｙの時
点で最も低下する。そしてその後は調理中に徐々にプレ
ート２１の温度が図９（ａ）に示すように上昇し始める
が、調理時にプレート２１の温度が低温であるため、調
理がうまくできなかった。プレート２１の温度が下がっ
たＹの時点で第１の加熱コイル２８と第２の加熱コイル
２９にデューティ制御で切り替えて高周波電流を提供し
てプレートの調理面の全面を加熱する制御手段から第１
の加熱コイル２８に常時高周波電流を提供してプレート
２１の調理面２２の中央部だけを加熱する制御手段に切
り替えることで、調理面２２の中央部の温度は図９
（ｂ）に示すように素早く高温に上昇することができ
る。そしてプレート２１の温度は中央部のみが高温にな
り、外周部は低温になるが、焼きそば調理には調理物を
かき混ぜながら調理ができるので、全面を低温で調理し
た場合よりも、中央部のみを高温にしてかき混ぜながら
調理した方がおいしく調理することができる。また焼き
そばの調理のほかに、ステーキ１枚を高火力で焼きたい
時や、焼き肉なども調理物の配置を変えることができる
ので、焼く時と、焼いたものを保温する時などに便利で
ある。
と同じ構成として、図９を用いて動作を説明すると、第
１の加熱コイル２８に１４秒と第２の加熱コイル２９に
１６秒のデューティ制御でプレート２１の予熱を開始し
て最高設定温度の３００℃に予熱完了した後、飽和され
ている状態で、Ｘの時点で高火力を必要とする焼きそば
を開始すると、プレート２１の温度は低下して、Ｙの時
点で最も低下する。そしてその後は調理中に徐々にプレ
ート２１の温度が図９（ａ）に示すように上昇し始める
が、調理時にプレート２１の温度が低温であるため、調
理がうまくできなかった。プレート２１の温度が下がっ
たＹの時点で第１の加熱コイル２８と第２の加熱コイル
２９にデューティ制御で切り替えて高周波電流を提供し
てプレートの調理面の全面を加熱する制御手段から第１
の加熱コイル２８に常時高周波電流を提供してプレート
２１の調理面２２の中央部だけを加熱する制御手段に切
り替えることで、調理面２２の中央部の温度は図９
（ｂ）に示すように素早く高温に上昇することができ
る。そしてプレート２１の温度は中央部のみが高温にな
り、外周部は低温になるが、焼きそば調理には調理物を
かき混ぜながら調理ができるので、全面を低温で調理し
た場合よりも、中央部のみを高温にしてかき混ぜながら
調理した方がおいしく調理することができる。また焼き
そばの調理のほかに、ステーキ１枚を高火力で焼きたい
時や、焼き肉なども調理物の配置を変えることができる
ので、焼く時と、焼いたものを保温する時などに便利で
ある。
【００２２】
【発明の効果】以上のように、請求項１記載の発明によ
れば、プレートの予熱時の加熱手段を複数の加熱制御手
段を用いることで、温度分布を良くした制御で短時間で
設定温度に加熱することを実現した。
れば、プレートの予熱時の加熱手段を複数の加熱制御手
段を用いることで、温度分布を良くした制御で短時間で
設定温度に加熱することを実現した。
【００２３】さらに、請求項２記載の発明によれば、プ
レートの設定温度が高温に設定され、一度設定温度に到
達した後にプレートに調理物を投入してプレートの温度
が低温した場合においては、プレートの全面を加熱する
制御手段から特定の部分を加熱する制御手段に切り替え
ることで調理時に調理に高火力を提供でき、うまく調理
を行うことができた。
レートの設定温度が高温に設定され、一度設定温度に到
達した後にプレートに調理物を投入してプレートの温度
が低温した場合においては、プレートの全面を加熱する
制御手段から特定の部分を加熱する制御手段に切り替え
ることで調理時に調理に高火力を提供でき、うまく調理
を行うことができた。
【図１】本発明の第１の実施の形態の誘導加熱調理器の
断面図
断面図
【図２】同、誘導加熱調理器の斜視図
【図３】（ａ）は、同、誘導加熱調理器の動作説明図 （ｂ）は、同、誘導加熱調理器の別の動作説明図
【図４】同、誘導加熱調理器の時間に対する動作説明図
【図５】本発明の第２の実施の形態の誘導加熱調理器の
断面図
断面図
【図６】同、誘導加熱調理器の斜視図
【図７】（ａ）は、本発明の第３の実施の形態の誘導加
熱調理器の動作説明図 （ｂ）は、同、誘導加熱調理器の別の動作説明図
熱調理器の動作説明図 （ｂ）は、同、誘導加熱調理器の別の動作説明図
【図８】本発明の第４の実施の形態の誘導加熱調理器の
動作説明図
動作説明図
【図９】本発明の第５の実施の形態の誘導加熱調理器の
動作説明図
動作説明図
【図１０】従来例の誘導加熱調理器の断面図
１ プレート ２ プレートの調理面 ３ プレートの外側面 ５ 本体ケース １０ 第１の加熱コイル １１ 第２の加熱コイル １２ 第３の加熱コイル １３ 駆動回路部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H05B 6/12
Claims (2)
- 【請求項１】 調理を行うプレートと、前記プレートの
中央部下方に配置した第１の加熱コイルと、前記第１の
加熱コイルの外周を覆い前記プレートの調理面の外周部
の下方に配置した輪型状の第２の加熱コイルと、前記各
加熱コイルに高周波電流を供給する第１及び第２のイン
バータ回路を有し、前記各インバータ回路からの高周波
電流の供給の有無を一定の周期でデューティ制御する分
配装置を有する駆動回路部とを備え、前記駆動回路部の
デューティ制御は、各インバータ回路とも略３０秒以内
の周期で行うと共に、前記プレート予熱時に、前記プレ
ートの温度が所定の温度以下の時には、前記第２の加熱
コイルに高周波電流を提供する時間に比べて前記第１の
加熱コイルに高周波電流を供給する時間を長くし、前記
プレート温度が所定の温度以上の時には、前記第１の加
熱コイルに高周波電流を提供する時間に比べて前記第２
の加熱コイルに高周波電流を供給する時間を略２倍以内
に長くしてなる誘導加熱調理器。 - 【請求項２】 駆動回路部のデューティ制御は、プレー
トの温度が一旦設定温度に到達した後に、前記プレート
の温度が所定の温度以下である時には特定の加熱コイル
のみに高周波電流を供給してなる請求項１に記載の誘導
加熱調理器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00056596A JP3279164B2 (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | 誘導加熱調理器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00056596A JP3279164B2 (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | 誘導加熱調理器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09190879A JPH09190879A (ja) | 1997-07-22 |
| JP3279164B2 true JP3279164B2 (ja) | 2002-04-30 |
Family
ID=11477248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00056596A Expired - Fee Related JP3279164B2 (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | 誘導加熱調理器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3279164B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4974498B2 (ja) * | 2005-09-08 | 2012-07-11 | タマティーエルオー株式会社 | 誘導加熱装置 |
| JP5005320B2 (ja) * | 2006-11-06 | 2012-08-22 | 三菱電機株式会社 | 誘導加熱装置 |
| JP5369773B2 (ja) * | 2009-03-10 | 2013-12-18 | パナソニック株式会社 | 誘導加熱装置 |
| JP5473864B2 (ja) * | 2010-11-02 | 2014-04-16 | 三菱電機株式会社 | 誘導加熱装置 |
| EP2632229A1 (en) * | 2012-02-22 | 2013-08-28 | Electrolux Home Products Corporation N.V. | A heating plate including at least one heating element |
| JP5445628B2 (ja) * | 2012-06-27 | 2014-03-19 | 三菱電機株式会社 | 誘導加熱調理器 |
| JP5679039B2 (ja) * | 2013-12-25 | 2015-03-04 | 三菱電機株式会社 | 誘導加熱調理器 |
| JP6211175B2 (ja) * | 2014-04-14 | 2017-10-11 | 三菱電機株式会社 | 誘導加熱調理器 |
-
1996
- 1996-01-08 JP JP00056596A patent/JP3279164B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09190879A (ja) | 1997-07-22 |
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