JP3275481B2 - ハニカム体の製造方法 - Google Patents
ハニカム体の製造方法Info
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Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ディーゼル発電機等の
ディーゼル機関の排気ガス中に含まれる窒素酸化物（Ｎ
Ｏｘ）の除去触媒等に使用されるハニカムの製造方法に
関する。
ディーゼル機関の排気ガス中に含まれる窒素酸化物（Ｎ
Ｏｘ）の除去触媒等に使用されるハニカムの製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】ディーゼル機関の排ガス中のＮＯｘの除
去は、通常Ｎａ−Ｙ型ゼオライトを脱硝触媒とし、触媒
反応により行っている。一般に触媒は、ＮＯｘとの接触
面積が大きくなるように、Ｎａ−Ｙ型ゼオライトに粘土
及び有機バインダを加えハニカム状に成形し、焼成して
ハニカム体とする。
去は、通常Ｎａ−Ｙ型ゼオライトを脱硝触媒とし、触媒
反応により行っている。一般に触媒は、ＮＯｘとの接触
面積が大きくなるように、Ｎａ−Ｙ型ゼオライトに粘土
及び有機バインダを加えハニカム状に成形し、焼成して
ハニカム体とする。
【０００３】このＮａ−Ｙ型ゼオライトハニカム体は、
Ｎａ−Ｙ型ゼオライトのＮａとＣｏをイオン交換させる
ために、硝酸コバルト水溶液の含浸をする。この水溶液
の含浸は、ハニカム体を硝酸コバルト０．１ｍｏｌ、溶
液（ｐＨ２．４）中に２時間浸漬して行う。
Ｎａ−Ｙ型ゼオライトのＮａとＣｏをイオン交換させる
ために、硝酸コバルト水溶液の含浸をする。この水溶液
の含浸は、ハニカム体を硝酸コバルト０．１ｍｏｌ、溶
液（ｐＨ２．４）中に２時間浸漬して行う。
【０００４】この含浸がすんだハニカム体は手洗洗浄を
２回行い精製水に３０分浸漬した後、１５０℃で８時間
乾燥して使用する。
２回行い精製水に３０分浸漬した後、１５０℃で８時間
乾燥して使用する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】図５に硝酸コバルト
（６水和物）国産化学製国産１級を含浸させたＮａ−Ｙ
型ゼオライトハニカム体のＸ線回折を示す。図５の
（Ｂ）（Ｃ）のように、ｐＨの低い硝酸コバルト水溶液
を含浸したハニカム体のピーク値は、図５の（Ａ）に示
す含浸前のハニカム体のピーク値より著しく低下してお
り、ゼオライトの結晶が破壊されていることが分かる。
結晶構造が破壊されると、脱硝性能、圧縮強度、脱硝触
媒としての寿命及び性能が低下する。
（６水和物）国産化学製国産１級を含浸させたＮａ−Ｙ
型ゼオライトハニカム体のＸ線回折を示す。図５の
（Ｂ）（Ｃ）のように、ｐＨの低い硝酸コバルト水溶液
を含浸したハニカム体のピーク値は、図５の（Ａ）に示
す含浸前のハニカム体のピーク値より著しく低下してお
り、ゼオライトの結晶が破壊されていることが分かる。
結晶構造が破壊されると、脱硝性能、圧縮強度、脱硝触
媒としての寿命及び性能が低下する。
【０００６】本発明は、従来のこのような問題点に鑑み
てなされたものであり、その目的とするところは、脱硝
触媒として長期間使用できるハニカム体の製造方法を提
供することにある。
てなされたものであり、その目的とするところは、脱硝
触媒として長期間使用できるハニカム体の製造方法を提
供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び作用】上記目的を達成
するために、本発明におけるハニカム体の製造方法は、
Ｎａ−Ｙ型ゼオライトを原料とするハニカム体にＮａと
Ｃｏをイオン交換する硝酸コバルト水溶液を含浸させて
作る脱硝用ハニカム体の製造方法において、上記水溶液
の含浸の際、緩衝液として酢酸アンモニウム及び酢酸を
使用してｐＨの低下を防ぐｐＨが４以下にならないよう
にした高濃度硝酸コバルト水溶液に、ハニカム体を１〜
２時間浸漬して含浸させ、高濃度硝酸コバルト水溶液で
の含浸を可能にし、含浸過程でのゼオライト結晶構造の
破壊を無くする。含浸後ハニカム体を洗浄し１５０〜２
００℃で６〜１０時間乾燥する。
するために、本発明におけるハニカム体の製造方法は、
Ｎａ−Ｙ型ゼオライトを原料とするハニカム体にＮａと
Ｃｏをイオン交換する硝酸コバルト水溶液を含浸させて
作る脱硝用ハニカム体の製造方法において、上記水溶液
の含浸の際、緩衝液として酢酸アンモニウム及び酢酸を
使用してｐＨの低下を防ぐｐＨが４以下にならないよう
にした高濃度硝酸コバルト水溶液に、ハニカム体を１〜
２時間浸漬して含浸させ、高濃度硝酸コバルト水溶液で
の含浸を可能にし、含浸過程でのゼオライト結晶構造の
破壊を無くする。含浸後ハニカム体を洗浄し１５０〜２
００℃で６〜１０時間乾燥する。
【０００８】
【実施例】図１に本発明の製造フローを示す。予め、従
来同様にＮａ−Ｙ型ゼオライトに粘土及び有機バインダ
を加えハニカム状に成形し、焼成してＮａ−Ｙ型ゼオラ
イトハニカム体を作る。
来同様にＮａ−Ｙ型ゼオライトに粘土及び有機バインダ
を加えハニカム状に成形し、焼成してＮａ−Ｙ型ゼオラ
イトハニカム体を作る。
【０００９】先ず、含浸工程で、このハニカム体に硝酸
コバルトを含浸させＮａ−Ｙ型ゼオライトのＮａとＣｏ
をイオン交換させる。この含浸は、バッファ（緩衝液）
として、０．６ｍｏｌ酢酸アンモニウム／５００ｍｏｌ
＋０．１Ｎ酢酸／５００ｍｏｌ＝トータル１リトルを使
用し、この１リトルバッファ中に硝酸コバルト０．１ｍ
ｏｌを入れた水溶液（ｐＨ４．４）中に上記ハニカム体
を２時間浸漬して行う。
コバルトを含浸させＮａ−Ｙ型ゼオライトのＮａとＣｏ
をイオン交換させる。この含浸は、バッファ（緩衝液）
として、０．６ｍｏｌ酢酸アンモニウム／５００ｍｏｌ
＋０．１Ｎ酢酸／５００ｍｏｌ＝トータル１リトルを使
用し、この１リトルバッファ中に硝酸コバルト０．１ｍ
ｏｌを入れた水溶液（ｐＨ４．４）中に上記ハニカム体
を２時間浸漬して行う。
【００１０】使用した薬品：酢酸アンモニウム→国産化
学製国産１級、硝酸コバルト（６水和物）→国産化学製
国産１級、酢酸→国産化学製グリーンラベル１級。
学製国産１級、硝酸コバルト（６水和物）→国産化学製
国産１級、酢酸→国産化学製グリーンラベル１級。
【００１１】次に、洗浄工程で、含浸のすんだハニカム
を従来同様に、手洗を２回行い精製水に３０分浸漬して
洗浄し、最後の乾燥工程で、１５０℃で８時間乾燥を行
い脱硝用ハニカム体を完成させた。
を従来同様に、手洗を２回行い精製水に３０分浸漬して
洗浄し、最後の乾燥工程で、１５０℃で８時間乾燥を行
い脱硝用ハニカム体を完成させた。
【００１２】図２は硝酸Ｃｏ濃度によるｐＨの依存性を
示すもので、この図によれば、本発明によるバッファを
用いたものはバッファを用いない従来方法によるものに
比べかなりｐＨが抑えられていることが分かる。また、
図３はハニカム体のＸ線回折を示すもので、この図によ
れば、本発明によるバッファを用いたもの（Ｂ）は含浸
前のもの（Ａ）に比べゼオライト結晶のピーク値が落ち
ていないので、結晶構造は破壊されていないものと考え
られる。
示すもので、この図によれば、本発明によるバッファを
用いたものはバッファを用いない従来方法によるものに
比べかなりｐＨが抑えられていることが分かる。また、
図３はハニカム体のＸ線回折を示すもので、この図によ
れば、本発明によるバッファを用いたもの（Ｂ）は含浸
前のもの（Ａ）に比べゼオライト結晶のピーク値が落ち
ていないので、結晶構造は破壊されていないものと考え
られる。
【００１３】表１に含浸後のハニカムの圧縮強度試験結
果を示す。
果を示す。
【００１４】
【表１】
【００１５】この表によれば、ハニカム体の強度が従来
方法によるものに比し著しく向上していることが分か
る。
方法によるものに比し著しく向上していることが分か
る。
【００１６】図４はハニカム体の脱硝率を示すもので、
この図によれば、従来方法では硝酸コバルト濃度が０．
０１ｍｏｌをピークに脱硝性能が低下している。これは
水溶液のｐＨが低くなってしまったためＮａ−Ｙ型ゼオ
ライトの結晶構造が破壊したためと考えられる。
この図によれば、従来方法では硝酸コバルト濃度が０．
０１ｍｏｌをピークに脱硝性能が低下している。これは
水溶液のｐＨが低くなってしまったためＮａ−Ｙ型ゼオ
ライトの結晶構造が破壊したためと考えられる。
【００１７】これに対し本発明方法では、硝酸コバルト
濃度を高くしても脱硝性能が低下していない。これはバ
ッファを使用することによりｐＨが抑えられたため、高
濃度での含浸が可能となり、結晶構造が破壊されず、従
来方法に比べＣｏがより多くハニカム体に付いたためと
考えられる。
濃度を高くしても脱硝性能が低下していない。これはバ
ッファを使用することによりｐＨが抑えられたため、高
濃度での含浸が可能となり、結晶構造が破壊されず、従
来方法に比べＣｏがより多くハニカム体に付いたためと
考えられる。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、上述のとおり構成されている
ので、以下に記載する効果を奏する。
ので、以下に記載する効果を奏する。
【００１９】（１）Ｎａ−Ｙ型ゼオライトハニカムに硝
酸コバルト水溶液の含浸を行う際、バッファを使用する
ことによりｐＨを抑えることができるので、Ｎａ−Ｙ型
ゼオライトの結晶構造が破壊されることなく、高濃度硝
酸水溶液での含浸が可能となる。
酸コバルト水溶液の含浸を行う際、バッファを使用する
ことによりｐＨを抑えることができるので、Ｎａ−Ｙ型
ゼオライトの結晶構造が破壊されることなく、高濃度硝
酸水溶液での含浸が可能となる。
【００２０】（２）また、ハニカムの圧縮強度、脱硝性
能が向上し、脱硝触媒として長期間使用できる。
能が向上し、脱硝触媒として長期間使用できる。
【図１】実施例にかかる製造フロー図。
【図２】硝酸Ｃｏ濃度によるｐＨの依存性を示すグラ
フ。
フ。
【図３】Ｘ線回折のグラフ。
【図４】脱硝率を示すグラフ。
【図５】従来ハニカムのＸ線回折のグラフ。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−220351（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−219944（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−71145（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−193139（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01J 21/00 - 37/36 B01D 53/86
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｎａ−Ｙ型ゼオライトを原料として焼成
したハニカム体に硝酸コバルト水溶液を含浸させて作る
脱硝用ハニカム体の製造方法において、 上記水溶液の含浸の際、緩衝液として酢酸アンモニウム
及び酢酸を使用し、ｐＨが４以下に低下しないようにし
た硝酸コバルト水溶液に、上記ハニカム体を１〜２時間
浸漬して含浸を行い、 含浸後ハニカム体を洗浄し、１５０〜２００℃で６〜１
０時間乾燥することを特徴としたハニカム体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26285093A JP3275481B2 (ja) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | ハニカム体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26285093A JP3275481B2 (ja) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | ハニカム体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07116521A JPH07116521A (ja) | 1995-05-09 |
| JP3275481B2 true JP3275481B2 (ja) | 2002-04-15 |
Family
ID=17381494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26285093A Expired - Fee Related JP3275481B2 (ja) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | ハニカム体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3275481B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110203945A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-09-06 | 太原大成环能化工技术有限公司 | 一种高结晶度和高硅铝比的改性y型分子筛的制备方法 |
-
1993
- 1993-10-21 JP JP26285093A patent/JP3275481B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07116521A (ja) | 1995-05-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |