JPS60209252A - 脱硝触媒の再生方法 - Google Patents
脱硝触媒の再生方法Info
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- JPS60209252A JPS60209252A JP59065269A JP6526984A JPS60209252A JP S60209252 A JPS60209252 A JP S60209252A JP 59065269 A JP59065269 A JP 59065269A JP 6526984 A JP6526984 A JP 6526984A JP S60209252 A JPS60209252 A JP S60209252A
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- Japan
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- tungsten
- vanadium
- performance
- oxalic acid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
、本発明は排ガス中の窒素酸化物除去用触媒（以下脱硝
触媒という）の再生方法に係るもので、更に詳しくはア
ンモニアを還元剤として排ガス中の窒素酸化物（以下Ｎ
Ｏｘという）を除去するバナジウム−タングルチン−チ
タニア系触媒の再生方法に関する。
触媒という）の再生方法に係るもので、更に詳しくはア
ンモニアを還元剤として排ガス中の窒素酸化物（以下Ｎ
Ｏｘという）を除去するバナジウム−タングルチン−チ
タニア系触媒の再生方法に関する。
排ガス中のＮｏ、は近年光化学スモッグの原因物質の一
つとして注目され、その除去法が種々提案されているが
、その中でアンモニアを還元剤として触媒の存在下、Ｎ
ＯＸ ｋ無害な窒素まで還元せしめる接触還元法がすで
に実用段階に到達している。ここで用いられる触媒はバ
ナジウム−チタニア系が優れた活性會示すものとして一
般的である。しかし硫黄分の高い重油（０重油）を使用
するボイラ排ガス処理においては処理ガス中に高濃度の
亜硫酸ガス（以下８０．という）が存在するため、ＮＯ
ｘ還元除去反応と同時に生じるＳＯ，の三酸化硫黄（以
下８０ｓという）への酸化反応により、高濃度の８０３
が発生し、還元剤として使用するＮＨｓの未反応分と低
温領域で容易に結合し酸性硫安その他の化合物を生成す
るため、ＮＯｘ除去後の熱、交換器などの各種装置内へ
の閉塞現象、集じん機の能力アンプが必要となるので、
できるだけＳＯ，の酸化反応を抑制するため、８０．酸
化抑制型のバナジウム−タングルチン−チタニア系触媒
が開発され数多く適用されている。しかしながら硫黄分
の高い重油の燃焼排ガス中にはＳＯ，の他にバナジウム
、ニッケル、鉄等の重金属類や芒硝等のアルカリ塩を含
むダストが存在し、該排ガスの長時間の処理により触媒
表面にダスト中の成分が付着、蓄積するため触媒の脱硝
性能が低下するととも４ｃ ｓｏ、酸化能が上昇する現
象が認められる。
つとして注目され、その除去法が種々提案されているが
、その中でアンモニアを還元剤として触媒の存在下、Ｎ
ＯＸ ｋ無害な窒素まで還元せしめる接触還元法がすで
に実用段階に到達している。ここで用いられる触媒はバ
ナジウム−チタニア系が優れた活性會示すものとして一
般的である。しかし硫黄分の高い重油（０重油）を使用
するボイラ排ガス処理においては処理ガス中に高濃度の
亜硫酸ガス（以下８０．という）が存在するため、ＮＯ
ｘ還元除去反応と同時に生じるＳＯ，の三酸化硫黄（以
下８０ｓという）への酸化反応により、高濃度の８０３
が発生し、還元剤として使用するＮＨｓの未反応分と低
温領域で容易に結合し酸性硫安その他の化合物を生成す
るため、ＮＯｘ除去後の熱、交換器などの各種装置内へ
の閉塞現象、集じん機の能力アンプが必要となるので、
できるだけＳＯ，の酸化反応を抑制するため、８０．酸
化抑制型のバナジウム−タングルチン−チタニア系触媒
が開発され数多く適用されている。しかしながら硫黄分
の高い重油の燃焼排ガス中にはＳＯ，の他にバナジウム
、ニッケル、鉄等の重金属類や芒硝等のアルカリ塩を含
むダストが存在し、該排ガスの長時間の処理により触媒
表面にダスト中の成分が付着、蓄積するため触媒の脱硝
性能が低下するととも４ｃ ｓｏ、酸化能が上昇する現
象が認められる。
本発明者らは実プラントに使用されている脱硝触媒の性
能低下とＳＯ，酸化能の上昇現象について鋭意検討を重
ねた結果、触媒性能の低下は排ガス中のダストに含まれ
るＭａ、になどのアルカリ成分の触媒への蓄積が主な原
因であシ、また８０意酸化能の上昇は排ガス中のダスト
に含まれるバナジウムの触媒への蓄積が主原因であるこ
とをつきとめた。この工うにして脱硝性能が低下し、Ｓ
Ｏ，酸化能が上昇した触媒は通常、圧縮エアー全欧き付
は脱塵処理、水洗、あるいは無機酸の水浴液で洗う等に
より脱硝性能ならびに８０雪酸化能の回復が行なわれて
いる。しかしながら前記洗浄処理においては水溶性の触
媒蓄積成分やダストが除去され、脱硝性能はかなり回復
しそれなりの効果は認められるものの、ＳＯ，酸化能の
上昇の原因物質であるバナジウム化合物線その大部分が
触媒中に残存するため、未使用触媒のＳＯ，酸化率と同
等のレベルまで再生することはできない。
能低下とＳＯ，酸化能の上昇現象について鋭意検討を重
ねた結果、触媒性能の低下は排ガス中のダストに含まれ
るＭａ、になどのアルカリ成分の触媒への蓄積が主な原
因であシ、また８０意酸化能の上昇は排ガス中のダスト
に含まれるバナジウムの触媒への蓄積が主原因であるこ
とをつきとめた。この工うにして脱硝性能が低下し、Ｓ
Ｏ，酸化能が上昇した触媒は通常、圧縮エアー全欧き付
は脱塵処理、水洗、あるいは無機酸の水浴液で洗う等に
より脱硝性能ならびに８０雪酸化能の回復が行なわれて
いる。しかしながら前記洗浄処理においては水溶性の触
媒蓄積成分やダストが除去され、脱硝性能はかなり回復
しそれなりの効果は認められるものの、ＳＯ，酸化能の
上昇の原因物質であるバナジウム化合物線その大部分が
触媒中に残存するため、未使用触媒のＳＯ，酸化率と同
等のレベルまで再生することはできない。
本発明者らはバナジウム−タングステン−チタニア系触
媒の再生法について検討した結果、ＢＯ諺酸酸化が上昇
したバナジウム−タングステン−チタニア系触媒に蓚酸
水溶液を接触させて、８０、酸化能上昇の原因物質であ
る触媒中に蓄積したバナジウム化合物の大部分を蓚酸バ
ナジルとして強制的に溶出できることを見い出した。
媒の再生法について検討した結果、ＢＯ諺酸酸化が上昇
したバナジウム−タングステン−チタニア系触媒に蓚酸
水溶液を接触させて、８０、酸化能上昇の原因物質であ
る触媒中に蓄積したバナジウム化合物の大部分を蓚酸バ
ナジルとして強制的に溶出できることを見い出した。
しかしながら上記処理に１って活性成分であるタングス
テンの一部が溶出して来るので、８０嵩酸化能は未使用
触媒と同等のレベルまで回復するものの、脱硝性能が低
下するため、洗浄後に活性成分であるタングステン化合
物を含浸担持し、次いで焼成することにより触媒を再生
し得ることを見い出し本発明を完成するに至った。
テンの一部が溶出して来るので、８０嵩酸化能は未使用
触媒と同等のレベルまで回復するものの、脱硝性能が低
下するため、洗浄後に活性成分であるタングステン化合
物を含浸担持し、次いで焼成することにより触媒を再生
し得ることを見い出し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明μダスト成分の付着又は蓄積によって
、脱硝性能が低下し、 ＳＯ，酸化能が上昇した使用済
のバナジウムータンクステンーチタニア系脱硝触媒の再
生にあたり、水又は稀無機酸水溶液で該触媒全洗浄した
後、蓚酸水溶液で洗浄し、次いでタングステン化合物を
含浸担持し、乾燥、焼成すること１−＊徴とする脱硝触
媒の再生方法に関するものである。
、脱硝性能が低下し、 ＳＯ，酸化能が上昇した使用済
のバナジウムータンクステンーチタニア系脱硝触媒の再
生にあたり、水又は稀無機酸水溶液で該触媒全洗浄した
後、蓚酸水溶液で洗浄し、次いでタングステン化合物を
含浸担持し、乾燥、焼成すること１−＊徴とする脱硝触
媒の再生方法に関するものである。
以下本発明の詳細な説明する。本発明方法が適用される
バナジウム−タングステン−チタニア系使用済触媒とは
Ｎｏ！含有排ガスの脱硝用触媒として長時間使用された
結果、脱硝性能が低下し、Ｂ０３酸化能が上昇した触媒
を意味する。
バナジウム−タングステン−チタニア系使用済触媒とは
Ｎｏ！含有排ガスの脱硝用触媒として長時間使用された
結果、脱硝性能が低下し、Ｂ０３酸化能が上昇した触媒
を意味する。
特に本発明方法はＯＯＭ焚または重油焚ボイラ−々どの
Ｂｏｘおよびダスト含含有するダーティ−排ガスの脱硝
にエリ性能が低下し、ＳＯ，酸化能が上昇したタングス
テン・チタニア系使用済触媒に有効に適用される。バナ
ジウム−タングステン−チタニア系触媒は成形チタニア
担体にバナジウム化合物およびタングステン化合物を含
浸担持する方法、チタニア粉末とタングステン化合物粉
末とバナジウム化合物粉末とをパイングーの存在下に混
合し成形する方法などにより製造され、バナジウム成分
およびタングステン成分は触媒中に通常それぞれａ１〜
２． Ｏｗｔ％ 。
Ｂｏｘおよびダスト含含有するダーティ−排ガスの脱硝
にエリ性能が低下し、ＳＯ，酸化能が上昇したタングス
テン・チタニア系使用済触媒に有効に適用される。バナ
ジウム−タングステン−チタニア系触媒は成形チタニア
担体にバナジウム化合物およびタングステン化合物を含
浸担持する方法、チタニア粉末とタングステン化合物粉
末とバナジウム化合物粉末とをパイングーの存在下に混
合し成形する方法などにより製造され、バナジウム成分
およびタングステン成分は触媒中に通常それぞれａ１〜
２． Ｏｗｔ％ 。
５〜２５ ｗｔ％含有されている。またバナジウム、タ
ングステン以外にも活性成分が含有されているものもあ
るが、本発明方法はいかなる組成のバナジウム−タング
ステン−チタニア系使用済触媒についても、適用するこ
藷ができる。また触媒形状についても粒状、円柱状、だ
臼体状、板状、パイプ状、格子状、ハニカム状等の任意
の形状の触媒について適用し得る。
ングステン以外にも活性成分が含有されているものもあ
るが、本発明方法はいかなる組成のバナジウム−タング
ステン−チタニア系使用済触媒についても、適用するこ
藷ができる。また触媒形状についても粒状、円柱状、だ
臼体状、板状、パイプ状、格子状、ハニカム状等の任意
の形状の触媒について適用し得る。
バナジウム−タングステン−チタニア使用済触媒には、
多くの場合触媒表面にダストが付着堆積しているのであ
らかじめ水又は稀無機酸水溶液で洗浄除去するものであ
るが、この時ダスト中に含まれる鉄、ニッケル等の重金
属化合物、芒硝等のアルカリ金属塩などの水溶性の触媒
被毒物が除去されるので脱硝性能の回復に効果的である
。蓚酸水溶液によるバナジウム−タングステン−チタニ
ア系使用済触媒からのバナジウム成分の抽出は蓚酸濃度
をａ１〜５．０重量％、好ましくはα５〜＆０重量−の
蓚酸水浴液中に常温〜８０℃、好ましくは２０℃へ６０
℃の温度条件下で浸漬することにより行なわれ、ノクナ
ジウム成分は蓚酸バナジルとして抽出される。
多くの場合触媒表面にダストが付着堆積しているのであ
らかじめ水又は稀無機酸水溶液で洗浄除去するものであ
るが、この時ダスト中に含まれる鉄、ニッケル等の重金
属化合物、芒硝等のアルカリ金属塩などの水溶性の触媒
被毒物が除去されるので脱硝性能の回復に効果的である
。蓚酸水溶液によるバナジウム−タングステン−チタニ
ア系使用済触媒からのバナジウム成分の抽出は蓚酸濃度
をａ１〜５．０重量％、好ましくはα５〜＆０重量−の
蓚酸水浴液中に常温〜８０℃、好ましくは２０℃へ６０
℃の温度条件下で浸漬することにより行なわれ、ノクナ
ジウム成分は蓚酸バナジルとして抽出される。
この際、抽出処理に要する時間は温度、蓚酸水浴液の濃
度及び量、攪拌の程度あるいはノくカリウム化合物など
により異なるが、通常３０分〜１２０分である。上記の
洗浄に工９ダストや蓄積成分を除去した触−は次いでタ
ングステン化合物を担持する。タングステン化合物の担
持法としてｆｌ ハラタングステン酸アンモニウム、メ
タタングステン酸アンモニウム等全モノエタノールアミ
ンまたはモノメタノールなどの水浴液中に浸漬するか、
または該水溶液管スプレー法などで上記チタニア担体に
含浸させる方法が挙げられる。タングステン化合物を含
浸担持させたチタニア担体を乾燥後焼成することにより
、バナジウム−タングステン−チタニア再生触媒を得る
ことができる。以上詳述したように本発明によれば脱硝
性能が低下し、ＳＯ，酸化能が上昇したバナジウム−タ
ングステン−チタニア系触媒を形状を損うこともなく、
未’Ｌ用触媒と同等のレベルまで再生することができる
。
度及び量、攪拌の程度あるいはノくカリウム化合物など
により異なるが、通常３０分〜１２０分である。上記の
洗浄に工９ダストや蓄積成分を除去した触−は次いでタ
ングステン化合物を担持する。タングステン化合物の担
持法としてｆｌ ハラタングステン酸アンモニウム、メ
タタングステン酸アンモニウム等全モノエタノールアミ
ンまたはモノメタノールなどの水浴液中に浸漬するか、
または該水溶液管スプレー法などで上記チタニア担体に
含浸させる方法が挙げられる。タングステン化合物を含
浸担持させたチタニア担体を乾燥後焼成することにより
、バナジウム−タングステン−チタニア再生触媒を得る
ことができる。以上詳述したように本発明によれば脱硝
性能が低下し、ＳＯ，酸化能が上昇したバナジウム−タ
ングステン−チタニア系触媒を形状を損うこともなく、
未’Ｌ用触媒と同等のレベルまで再生することができる
。
次に本発明全実施例により具体的に説明する。
実施例１
Ｔｉｅ、８７． Ｏｗｔ％、７１０ｇ （Ｌ ５ ｗｔ
％、ＷＯ５１２，５ｗｔ％ ｆ含む）・ニカム触媒を用
い、下記条件でボイラ排ガスを１年４ケ月間処理したと
ころ、５８０℃における初期ＮＯｘ除去率ａｏｌのもの
が７４．５チに低下し、ｓｏ、酸化率は［１５％のもの
が、五〇％に上昇し、触媒中にＶ、Ｏ，がα９ｖｔチ蓄
積していた。
％、ＷＯ５１２，５ｗｔ％ ｆ含む）・ニカム触媒を用
い、下記条件でボイラ排ガスを１年４ケ月間処理したと
ころ、５８０℃における初期ＮＯｘ除去率ａｏｌのもの
が７４．５チに低下し、ｓｏ、酸化率は［１５％のもの
が、五〇％に上昇し、触媒中にＶ、Ｏ，がα９ｖｔチ蓄
積していた。
排ガス処理条件
ｉ理ガス量 温度 空間速度 ＨＨＪＮＯｘ比 ＮＯｘ
ＢｏｘこのＮＯｘ除去率が低下し、８０嵩酸化能が上
昇した触媒を見かけ容積（外寸より算出）の４倍の水及
び温水に浸漬し、３０〜９０分間洗浄した。洗浄水はバ
ナジウムの溶出により橙色に着色し、化学分析によって
バナジウム金定量し友ところ１０〜２０％が溶出してい
た。またナトリウム及びカリウムはいずれの条件下でも
ほとんど溶出していた。洗浄後の触媒を乾燥し、前記排
ガス条件の１／１００の処理ガス量でＮＯｘ除去率およ
び８０３酸化率を測定したところ比較例１のようにＮｏ
、除去率はほとんど回復したものの、８０冨酸化率は完
全に回復しなかった。次に比較例１で使用した触媒全触
媒の見かけ容積の４倍の蓚酸溶液（６０℃）に浸漬し、
６０分間洗浄した。この時の触媒に蓄積したバナジウム
の溶出率は蓚酸濃度によｐ第１図のように変化した。
ＢｏｘこのＮＯｘ除去率が低下し、８０嵩酸化能が上
昇した触媒を見かけ容積（外寸より算出）の４倍の水及
び温水に浸漬し、３０〜９０分間洗浄した。洗浄水はバ
ナジウムの溶出により橙色に着色し、化学分析によって
バナジウム金定量し友ところ１０〜２０％が溶出してい
た。またナトリウム及びカリウムはいずれの条件下でも
ほとんど溶出していた。洗浄後の触媒を乾燥し、前記排
ガス条件の１／１００の処理ガス量でＮＯｘ除去率およ
び８０３酸化率を測定したところ比較例１のようにＮｏ
、除去率はほとんど回復したものの、８０冨酸化率は完
全に回復しなかった。次に比較例１で使用した触媒全触
媒の見かけ容積の４倍の蓚酸溶液（６０℃）に浸漬し、
６０分間洗浄した。この時の触媒に蓄積したバナジウム
の溶出率は蓚酸濃度によｐ第１図のように変化した。
蓚酸濃度が１．０％の濃度で触媒に蓄積したバナジウム
の内約９０％のバナジウムが溶出し、濃度を更に上昇さ
せると溶出率は向上し、１００チ以上となる。これは活
性成分として加えられたバナジウムの一部が溶出したた
めである。蓚酸水溶液で洗浄した触媒を乾燥してＮＯｘ
除去率およびＳＯ，酸化率を測定したところ比較例２に
示すとおｆｉ、ｓｏ、酸化率は初期と同等まで回復する
もののＮＯｘ除去率は低下した。次に比較例２で使用し
た触媒をタングステン成分ｙ ｗｏｓとして５ ｗｔ％
担持てきるようにｌ！４製したパラタングステン酸アン
モニウム水溶液に含浸し、乾燥、焼成全行ないＳＯ，酸
化率とＮＯｘ除去率を測定したところ表１に示すとおり
、ＳＯ，酸化率およびＮＯｘ除去率とも初期と同等まで
回復した。
の内約９０％のバナジウムが溶出し、濃度を更に上昇さ
せると溶出率は向上し、１００チ以上となる。これは活
性成分として加えられたバナジウムの一部が溶出したた
めである。蓚酸水溶液で洗浄した触媒を乾燥してＮＯｘ
除去率およびＳＯ，酸化率を測定したところ比較例２に
示すとおｆｉ、ｓｏ、酸化率は初期と同等まで回復する
もののＮＯｘ除去率は低下した。次に比較例２で使用し
た触媒をタングステン成分ｙ ｗｏｓとして５ ｗｔ％
担持てきるようにｌ！４製したパラタングステン酸アン
モニウム水溶液に含浸し、乾燥、焼成全行ないＳＯ，酸
化率とＮＯｘ除去率を測定したところ表１に示すとおり
、ＳＯ，酸化率およびＮＯｘ除去率とも初期と同等まで
回復した。
第１表 ｓＯ雪酸化率／ＮＯ！除去率
実施例２
実施例１と同様にして得られたＳＯ，酸化能上昇触媒を
、触媒の見かけ容積の４倍のｌ１ｊＮ硫酸水溶液（２０
℃）に６０分間浸漬し、洗浄した。その後実施例１と同
様に１．０ ｗｔ％蓚酸（６０℃）で６０分間洗浄した
のち、タングステン會担持し、乾燥、焼成して実施例１
と同様の排ガス処理条件でＳＯ，酸化率およびＮＯｘ除
去率を測定したところ、それぞれ１５％、８１％であっ
た。
、触媒の見かけ容積の４倍のｌ１ｊＮ硫酸水溶液（２０
℃）に６０分間浸漬し、洗浄した。その後実施例１と同
様に１．０ ｗｔ％蓚酸（６０℃）で６０分間洗浄した
のち、タングステン會担持し、乾燥、焼成して実施例１
と同様の排ガス処理条件でＳＯ，酸化率およびＮＯｘ除
去率を測定したところ、それぞれ１５％、８１％であっ
た。
実施例３
実施例１と同様圧して得られ７’ＣＮＯｘ除去率が低下
し、８０．酸化能が上昇した触媒を、触媒の見かけ容積
の４倍の水に６０分間浸漬したのち、触媒の見かけ容積
の４倍のｉ、 Ｏｗｔ％蓚酸水溶液（６０℃）に浸漬し
、一定時間洗浄した。この時の触媒からのバナジウムお
よびタングステンの溶出率は第２図のように変化した。
し、８０．酸化能が上昇した触媒を、触媒の見かけ容積
の４倍の水に６０分間浸漬したのち、触媒の見かけ容積
の４倍のｉ、 Ｏｗｔ％蓚酸水溶液（６０℃）に浸漬し
、一定時間洗浄した。この時の触媒からのバナジウムお
よびタングステンの溶出率は第２図のように変化した。
第２図中、○はバナジウム、Ｏはタングステンの溶出率
曲線である。上記により洗浄された触媒を得、タングス
テンを担持し、乾燥、焼成して実施例１と同様の排ガス
処理条件で８０３酸化率およびＮＯｘ除去率を測定した
ところ第２表に示すとおり、ＳＯｓ酸化率および１１０
ｘ除去率とも初期と同等まで回復した。
曲線である。上記により洗浄された触媒を得、タングス
テンを担持し、乾燥、焼成して実施例１と同様の排ガス
処理条件で８０３酸化率およびＮＯｘ除去率を測定した
ところ第２表に示すとおり、ＳＯｓ酸化率および１１０
ｘ除去率とも初期と同等まで回復した。
第 ２ 表
実施例４
実施例１と同様にして得られたＮＯｘ除去率が低下し、
８０雪酸化能が上昇した触媒を、触媒の見かけ容積の４
倍の水に６０分浸漬したのち、触媒の見かけ４容積の４
倍の１． Ｏｗｔチ蓚酸水溶液に６０分間浸漬し、洗浄
した。この時間のバナジウムの溶出は温度によって、第
３図の工うに変化した。上記により洗浄された触媒會得
、タングステンを担持し、乾燥、焼成して実施例１と同
様の排ガス処理条件で８０３酸化率およびＮｏ、除去率
全測定したところ第３表に示すとお９、蓚酸水浴液温度
４０〜８０℃の条件でＳＯ。
８０雪酸化能が上昇した触媒を、触媒の見かけ容積の４
倍の水に６０分浸漬したのち、触媒の見かけ４容積の４
倍の１． Ｏｗｔチ蓚酸水溶液に６０分間浸漬し、洗浄
した。この時間のバナジウムの溶出は温度によって、第
３図の工うに変化した。上記により洗浄された触媒會得
、タングステンを担持し、乾燥、焼成して実施例１と同
様の排ガス処理条件で８０３酸化率およびＮｏ、除去率
全測定したところ第３表に示すとお９、蓚酸水浴液温度
４０〜８０℃の条件でＳＯ。
酸化率およびＮｏ、除去率とも初期と同等まで回復した
。
。
＃！ ３ 表
第１図はバナジウム−タングステン−チタニア系の使用
済触媒を蓚酸水浴液で洗浄するときの、蓚酸水溶液の濃
度に対するバナジウムの溶出率であり、第２図は１．
Ｏｗｔ−の蓚酸水溶液を使用したときのバナジウムおよ
びタングステンの浴出率と洗浄時間の関係を示したもの
であり、第３図は１． Ｏｗｔ％の蓚酸水溶液を使用し
、６０分間洗浄したときのバナジウムの溶出率と温度と
の関係全図示したものである。
済触媒を蓚酸水浴液で洗浄するときの、蓚酸水溶液の濃
度に対するバナジウムの溶出率であり、第２図は１．
Ｏｗｔ−の蓚酸水溶液を使用したときのバナジウムおよ
びタングステンの浴出率と洗浄時間の関係を示したもの
であり、第３図は１． Ｏｗｔ％の蓚酸水溶液を使用し
、６０分間洗浄したときのバナジウムの溶出率と温度と
の関係全図示したものである。
Claims (1)
- ダスト成分の付着又は蓄積によって、脱硝性能が低下し
、８０り酸化能が上昇した使用済のバナジウム−タング
ステン−チタニア系脱硝触媒の再生にあたり、水又は稀
無機酸水溶液で該触媒を洗浄した後、蓚酸水浴液で洗浄
し、次いでタングステン化合物を°含浸担持し、乾燥、
焼成することを特徴とする脱硝触媒の再生方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59065269A JPS60209252A (ja) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | 脱硝触媒の再生方法 |
| EP85730044A EP0161206A3 (en) | 1984-04-03 | 1985-03-25 | Method for regenerating a denitration catalyst |
| US06/719,163 US4615991A (en) | 1984-04-03 | 1985-04-02 | Method for recovering denitrating catalyst |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59065269A JPS60209252A (ja) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | 脱硝触媒の再生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60209252A true JPS60209252A (ja) | 1985-10-21 |
| JPH0534057B2 JPH0534057B2 (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=13282034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59065269A Granted JPS60209252A (ja) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | 脱硝触媒の再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60209252A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009001891A1 (ja) * | 2007-06-27 | 2008-12-31 | Babcock-Hitachi Kabushiki Kaisha | 使用済触媒の再生方法 |
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| Publication number | Publication date |
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| JPH0534057B2 (ja) | 1993-05-21 |
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