JP3274618B2

JP3274618B2 - ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの製造方法

Info

Publication number: JP3274618B2
Application number: JP04511097A
Authority: JP
Inventors: 恭宏新谷; 忠義川嶋; 正敏上岡
Original assignee: Nippon Shokubai Co Ltd
Current assignee: Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date: 1997-02-28
Filing date: 1997-02-28
Publication date: 2002-04-15
Anticipated expiration: 2017-02-28
Also published as: JPH10237022A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレートの製造方法に関し、詳しくは（メ
タ）アクリル酸とアルキレンオキシドとを反応させて工
業的に有利にヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
を製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレー
トは、塩化第二鉄などの鉄化合物、塩化クロムなどのク
ロム化合物などの触媒の存在下に、（メタ）アクリル酸
とアルキレンオキシドとを反応させることによって得ら
れる。

【０００３】なお、本発明において、（メタ）アクリル
酸とはアクリル酸およびメタクリル酸を、ヒドロキシア
ルキル（メタ）アクリレートとはヒドロキシアルキルア
クリレートおよびヒドロキシアルキルメタクリレート
を、またアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート
とはアルキレングリコールジアクリレートおよびアルキ
レングリコールジメタクリレートを意味する。

【０００４】一般に、ヒドロキシアルキル（メタ）アク
リレートを合成する場合、反応の副生物としてアルキレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート（以下、単に「ジ
エステル」という）が生成する。特に、反応終了時の近
くで未反応の（メタ）アクリル酸が少なくなった時点
（仕込み量の０．１重量％以下）で反応液に過剰のアル
キレンオキシドが溶存残留しているとヒドロキシアルキ
ル（メタ）アクリレートの不均化反応が起こり易く、ア
ルキレングリコールとともにジエステルが副生する。

【０００５】また、このジエステルは、合成したヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレートを蒸留精製する際に
も、その不均化反応によって生成する。特に、反応に使
用した触媒の共存下に比較的高温にさらされると、ヒド
ロキシアルキル（メタ）アクリレートの不均化反応が起
こり易くなる。

【０００６】上記副生ジエステルの量が増大すると、ヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレートの合成および蒸
留工程において、重合が起こり、装置閉塞などのトラブ
ルが発生する。また、このジエステルは目的物としての
ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと蒸気圧が近
似しているため、いったん生成すると以後の分離がほと
んど不可能となる。そして、ジエステルの含有量の大き
いヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを製品とし
て使用し、これを単独重合または他の共重合可能なモノ
マーと共重合すると、得られる重合体に「にごり」が発
生したり、あるいは重合時にゲル化が起こる。

【０００７】上記ジエステルの生成を抑制する手段とし
て種々の方法が提案されている。例えば、反応時におけ
るジエステルの生成を抑制するものとして、特開昭５１
−１３３２２７号公報には、ヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートよりも沸点の高いプロトン酸を添加す
る方法が、また特開昭５２−２３０１９号公報には、触
媒として無水クロム酸を用い、水および低級飽和または
不飽和アルコールを添加して反応を行うことによりジエ
ステルの生成を抑制する方法が開示されている。しか
し、前者の方法は、ジエステルの生成抑制効果が十分で
ないばかりか、添加剤として硫酸などの鉱酸を用いると
ジエステルの生成量が増加するという現象が見られる。
また、後者の方法も、ジエステルの生成抑制効果が十分
でない。さらに、通常、ヒドロキシアルキル（メタ）ア
クリレートの精製には、それが易重合性であることか
ら、フラッシュ蒸留法が用いられるが、このフラッシュ
蒸留の場合、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
と易混和性の水およびメタノールをジエステル生成防止
剤として使用すると、後工程として、これらジエステル
生成防止剤をヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
から分離する工程が別途必要となりプロセスが煩雑とな
る。

【０００８】また、蒸留工程におけるジエステルの生成
を抑制する方法としては、例えば特開平５−１９４３２
１号公報に、触媒として鉄を用いた際に触媒不活性化剤
である長鎖脂肪酸類またはジオール類を添加する方法
が、また特開平７−１１８２０３号公報には、反応終了
後、蒸留前に多価アルコールを添加する方法が開示され
ている。しかし、これらジエステル生成防止剤は、ジエ
ステルの生成を十分に抑制するためには、ある一定量以
上を添加する必要があり、そうした場合、蒸留工程にお
いて蒸留ボトム液の粘度が上昇したり、蒸留ボトム液中
に好ましくない重合物が生成するなど、蒸留ボトム液の
性状が悪化する。

【０００９】要するに、反応工程でのジエステルの生成
を抑制するために、ジエステル生成防止剤を多量に使用
することは、経済的でないばかりか、その後の蒸留工程
で上記のような問題が生じて好ましくない。一方、添加
量を低減させれば蒸留ボトム液の性状は改善されるが、
反応および蒸留工程においてジエステルの生成を十分に
抑制できない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点を解決し、蒸留ボトム液中での好ましくない
重合物の発生などといった、蒸留ボトム液の性状の悪化
を招くことなく、反応および蒸留工程で副生するジエス
テル量を最小限とし、ジエステル含有量の少ない高品質
のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを効率よく
製造する方法を提供することを目的とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らの研究によれ
ば、ジエステルの副生を抑制するために一般に用いられ
ているジエスエル生成防止剤は、反応に使用した触媒の
共存下で、しかも反応液中にアルキレンオキシドが多量
に含まれていると、その一部または全部がアルキレンオ
キシドと反応するなどして、ジエステルの副生を抑制す
る効力を失ってしまう（失活）こと、またこのジエステ
ル生成防止剤の失活を、反応液中のアルキレンオキシド
濃度を特定量以下に維持しながら反応を行うことによ
り、効果的に防止できることを見出した。

【００１２】さらに、本発明者らは、ジエステル生成防
止剤の失活が効果的に防止され、その性能が十分に発揮
されることから、反応工程におけるジエステル生成防止
剤の使用量を低減することが可能となり、その結果、そ
の後の蒸留工程でのジエステル生成防止剤に起因する蒸
留ボトム液の性状の悪化などの問題も回避できることを
見出し、これら知見に基づいて、ジエステル含有量の少
ない高品質のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
の製造方法を完成するに至った。

【００１３】すなわち、本発明は、（メタ）アクリル酸
とアルキレンオキシドとを触媒の存在下に反応させてヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレートを製造するに当
り、反応液中のアルキレンオキシド濃度が１０重量％以
下の条件下にジエステル生成防止剤を添加し、その後は
該ジエステル生成防止剤の存在下に反応液中のアルキレ
ンオキシド濃度を１０重量％以下に維持しながら反応を
行うことを特徴とするヒドロキシアルキル（メタ）アク
リレートの製造方法である。

【００１４】また、本発明は、（メタ）アクリル酸とア
ルキレンオキシドとを触媒の存在下に反応させてヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレートを製造するに当り、
触媒１モル当り０．１〜１０モルの範囲のジエステル生
成防止剤を反応液中のアルキレンオキシド濃度が１０重
量％以下の条件下に添加し、その後は該ジエステル生成
防止剤の存在下に反応液中のアルキレンオキシド濃度を
１０重量％以下に維持しながら反応を行い、次いで反応
生成物を蒸留することを特徴とするヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレートの製造方法である。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明のアルキレンオキシドと
は、炭素数２〜６、好ましくは炭素数２〜４のアルキレ
ンオキシドを意味する。そして、その代表例としては、
エチレンオキシド、プロピレンオキシドおよびブチレン
オキシドを挙げることができる。

【００１６】アルキレンオキシドは（メタ）アクリル酸
に対して等モル以上、好ましくは１．０３〜１．２倍モ
ルの範囲で用いられる。反応温度は、通常、４０〜１３
０℃、好ましくは５０〜１００℃である。反応は、通
常、加圧下に液状で行われる。また、反応を行う際の雰
囲気については特に制限はないが、窒素などの不活性雰
囲気で行うのがよい。

【００１７】反応の際に（メタ）アクリレートの重合を
防止する目的で使用する重合防止剤には特に制限はな
く、この種の反応に一般に用いられている重合防止剤を
使用することができる。その代表例としては、ハイドロ
キノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチ
アジン、ジブチルジチオカルバミン酸銅などを挙げるこ
とができる。重合防止剤の使用量は、通常、（メタ）ア
クリル酸の０．００１〜１重量％、好ましくは０．０１
〜０．５重量％である。

【００１８】反応に使用する触媒についても特に制限は
なく、この種の反応に一般に用いられている触媒を使用
することができる。具体的には、塩化第二鉄、酢酸第二
鉄、鉄粉などの鉄化合物、重クロム酸ソーダ、塩化クロ
ム、不飽和酸のクロム塩などのクロム化合物などを用い
ることができる。その使用量については、通常、（メ
タ）アクリル酸の０．０１〜１０重量％、好ましくは
０．０３〜３重量％である。

【００１９】（メタ）アクリル酸とアルキレンオキシド
との反応は、この種の反応に一般に用いられている方法
にしたがって行うことができる。通常、（メタ）アクリ
ル酸中に液状のアルキレンオキシドを導入して行われ
る。そして、この種の反応においてよく行われるよう
に、アルキレンオキシドの導入が終了した後も前記範囲
の温度で反応を継続させて反応を完結させることができ
る。

【００２０】本発明の特徴は、ジエステル生成防止剤の
添加を反応液中のアルキレンオキシド濃度が１０重量％
以下の条件下に行い、かつジエステル生成防止剤の添加
後は反応液中のアルキレンオキシド濃度を１０重量％以
下に維持しながら反応を行う点にある。

【００２１】上記のような条件下にジエステル生成防止
剤の添加および反応を行うことによりジエステル生成防
止剤の失活が効果的に防止され、かくして、ジエステル
の副生を効果的に防止ないしは抑制しながらヒドロキシ
アルキル（メタ）アクリレートを製造することができ
る。

【００２２】また、ジエステル生成防止剤の使用量を低
減することが可能となり、本発明においては、前記反応
を、使用触媒１モル当り０．１〜１０モル、好ましくは
０．５〜５モル、更に好ましくは１〜３モルの範囲の量
のジエステル生成防止剤の存在下に行うことにより効果
的にジエステルの副生を抑制することができる。使用量
が少なすぎると、ジエステルの副生を効果的に抑制でき
ず、また多すぎると、蒸留工程で蒸留ボトム液中の性状
の悪化が起こり易くなる。

【００２３】上記ジエステル生成防止剤としては、（メ
タ）アクリル酸とアルキレンオキシドとからヒドロキシ
アルキル（メタ）アクリレートを合成する際、あるいは
この生成ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを蒸
留する際にジエステルが副生するのを防止ないしは抑制
できるものであればいずれも使用することができる。具
体的には次のようなジエステル生成防止剤を使用するこ
とができる。

【００２４】カルボン酸およびその無水物シュウ酸、無水シュウ酸、マロン酸、コハク酸、無水コ
ハク酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、オク
タン酸、アジピン酸、セバシン酸、テトラデカンジカル
ボン酸、１，２，４−ブタントリカルボン酸、１，３，
６−ヘキサントリカルボン酸、１，２，３，４−ブタン
テトラカルボン酸、１，２，３，４−ペンタンテトラカ
ルボン酸、１，６，７，１２−ドデカンテトラカルボン
酸、安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パ
ラトルイル酸、フタル酸、無水フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、
ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、１，２，４−ベ
ンゼントリカルボン酸、１，４，５，８−ナフタレンテ
トラカルボン酸、１，３，５，７−ナフタレンテトラカ
ルボン酸、ポリアクリル酸など多価アルコール類グリセリン、ジエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、１，２，６−ヘキサントリオール、ペンタエリ
スリトール、ジペンタエリスリトール、２，３，４，５
−テトラヒドロキシヘキサン、キシリトール、マンニト
ール、カテコール、レゾルシン、２，６−ジヒドロキシ
トルエン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、２，
４−ビス（ヒドロキシメチル）フェノール、１，２，４
−トリヒドロキシベンゼン、１，３，５−トリヒドロキ
シベンゼン、２，４，６−トリス（ヒドロキシメチル）
フェノール、１，２，４，５−テトラヒドロキシベンゼ
ンなど金属キレート剤エチレンジアミン四酢酸、エチレンジアミン四プロピオ
ン酸、ニトリロ三酢酸、イミノ二酢酸、１，２−ジアミ
ノシクロヘキサン四酢酸、アセチルアセトン、クペロ
ン、オキシン、ベンジジン、ジエチルジチオカルバミン
酸などこれらジエステル生成防止剤は単独でも、あるいは２種
以上を適宜組み合わせて使用することもできる。

【００２５】本発明にしたがって、ジエステル生成防止
剤を、反応液中のアルキレンオキシド濃度が１０重量％
以下、好ましくは５重量％以下、特に好ましくは３重量
％以下の条件下に添加することは、例えば、次の方法に
より行うことができる。

【００２６】（１）予め（メタ）アクリル酸にジエステ
ル生成防止剤を添加し、その後にアルキレンオキシドを
添加する。

【００２７】（２）（メタ）アクリル酸に、反応液中の
アルキレンオキシド濃度がせいぜい２０重量％程度とな
るような量のアルキレンオキシドを添加して、反応させ
た後、反応液中のアルキレンオキシド濃度が１０重量％
以下に低下した時点でジエステル生成防止剤を添加す
る。

【００２８】（３）上記方法（２）のように、（メタ）
アクリル酸とアルキレンオキシドとを反応させた後に、
反応に不活性な溶剤を添加して反応液中のアルキレンオ
キシド濃度を１０重量％以下に低下させた後に、ジエス
テル生成防止剤を添加する。

【００２９】ジエステル生成防止剤の添加方法は上記方
法に限定されるものではなく、ジエステル生成防止剤を
添加する際の、反応液中のアルキレンオキシド濃度が１
０重量％以下であるとの条件が満たされる限り、各種方
法にしたがってジエステル生成防止剤を添加することが
できる。

【００３０】これら種々の方法のなかでも、上記方法
（１）のように予めジエステル生成防止剤を（メタ）ア
クリル酸に添加しておき、その後でアルキレンオキシド
を導入するのが、反応工程におけるジエステルの生成を
効果的に防止ないしは抑制できるので、好都合である。

【００３１】上記方法（３）で使用する不活性な溶剤と
しては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ア
セトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、テトラ
ヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを挙
げることができる。

【００３２】なお、ジエステル生成防止剤は、反応液中
のアルキレンオキシド濃度が１０重量％以下の条件下で
添加するとの規定が満たされる限り、一括して添加して
も、あるいは反応工程および後記の蒸留工程を含めた任
意の箇所で、２以上に分割して添加してもよい。特に、
ジエステル生成防止剤の一部または全部を予め（メタ）
アクリル酸に添加しておくのがよい。

【００３３】ジエステル生成防止剤の添加後には、前記
のとおり、反応液中のアルキレンオキシド濃度を１０重
量％以下に維持しながら反応を行う。なお、アルキレン
オキシド濃度の下限は、アルキレンオキシドと（メタ）
アクリル酸との反応が許容し得る速度で進行する範囲内
で適宜決定できる。通常、反応液中のアルキレンオキシ
ド濃度を０．１〜１０重量％、好ましくは０．１〜３重
量％の範囲に維持しながら反応を行う。

【００３４】本発明にしたがって、ジエステル生成防止
剤の存在下に反応液中のアルキレンオキシド濃度を１０
重量％以下に維持しながら反応を行うことは、例えば、
次の方法により行うことができる。

【００３５】（１）反応液中のアルキレンオキシド濃度
が１０重量％以下となるようにして、液状のアルキレン
オキシドを少量づつ連続または間歇的に導入する。

【００３６】（２）反応液中に不活性な溶剤を添加し
て、反応液中のアルキレンオキシド濃度を１０重量％以
下に調整する。

【００３７】反応液中のアルキレンオキシド濃度を１０
重量％以下に維持しながら反応を行う方法は、上記方法
に限定されるものではなく、反応液中のアルキレンオキ
シド濃度が１０重量％以下に維持される限り、その他各
種方法によって行うことができる。

【００３８】上記方法（２）で使用する溶剤としては、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、アセトン、
メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、テトラヒドロフ
ラン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを挙げること
ができる。

【００３９】また、前記のように、アルキレンオキシド
の導入が終了した後も反応を継続させて反応を完結させ
るのがよい。

【００４０】さらに、本発明によれば、上記反応によっ
て得られる反応生成物を蒸留することにより高純度のヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレートを製造すること
ができる。

【００４１】特に、触媒１モル当り０．１〜１０モルの
ジエステル生成防止剤を反応液中のアルキレンオキシド
濃度が１０重量％以下の条件下に添加し、その後は（メ
タ）アクリル酸とアルキレンオキシドとを触媒１モル当
り０．１〜１０モルの範囲のジエステル生成防止剤の存
在下に、かつ反応液中のアルキレンオキシド濃度を１０
重量％以下に維持しながら反応を行い、得られるヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレートを更に蒸留すること
により、ジエステルの含有量の少ない、高品質の製品ヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレートを得ることがで
きる。

【００４２】この方法におけるジエステル生成防止剤の
添加および反応方法については、前記の反応工程で述べ
たような方法にしたがって行うことができる。

【００４３】したがって、本発明の好ましい一つの態様
によれば、触媒１モル当り０．１〜１０モルのジエステ
ル生成防止剤を予め（メタ）アクリル酸に添加し、これ
にアルキレンオキシドを反応液中のアルキレンオキシド
濃度が１０重量％以下となるように添加して反応を行わ
せ、次いで未反応アルキレンオキシドを除去した後、反
応生成物を蒸留して製品ヒドロキシアルキル（メタ）ア
クリレートを製造する。

【００４４】上記方法によれば、ジエステル生成防止剤
の使用量が少ないため、蒸留工程において蒸留ボトム液
の性状の悪化などの問題は起こらない。また、ジエステ
ル生成防止剤の失活を防止できるので、反応および蒸留
工程におけるジエステルの生成を効果的に防止ないしは
抑制することができる。

【００４５】上記蒸留精製は、ヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートの蒸留に一般に用いられている条件下
に行うことができる。なお、通常、残存する未反応アル
キレンオキシドを減圧下に除去した後に蒸留に供するの
がよい。具体的には、１〜１０ｍｍＨｇ、好ましくは２
〜７ｍｍＨｇの圧力下、５０〜１２０℃、好ましくは６
０〜１００℃の温度で蒸留する。

【００４６】なお、蒸留の際に、反応時に使用したジエ
ステル生成防止剤との合計量が触媒１モル当り０．１〜
１０モル、好ましくは０．５〜５モルの範囲となる量の
ジエステル生成防止剤を添加してもよい。この場合、ジ
エステル生成防止剤は、反応工程で使用したのと同一で
も異なっていてもよい。

【００４７】

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。

【００４８】実施例１メタクリル酸２８８ｇをオートクレーブに仕込み、これ
に重合防止剤としてのフェノチアジン０．５ｇおよびハ
イドロキノンモノメチルエーテル０．２ｇ、触媒として
の鉄粉１．２ｇおよびジエステル生成防止剤としてのペ
ンタエリスリトール８．２ｇ（ペンタエリスリトール／
鉄粉（モル比）＝２．８／１）を添加して溶解させた。
反応器内空間部を窒素ガスで置換した後、反応液を７０
℃に加温した。次いで、エチレンオキシド１７７ｇを液
状で９０分かけて撹拌しつつ注入し、注入後、７０℃で
２時間反応を行った。得られた反応液中のジエステル濃
度は０．０８重量％、メタクリル酸濃度は０．０２重量
％であった。また、この反応液中のエチレンオキシド濃
度は７重量％以下で推移した。なお、反応液中のエチレ
ンオキサイド濃度は反応液を適宜取り出して測定した。

【００４９】次に、未反応のエチレンオキシドを減圧下
で除去した後、５〜７ｍｍＨｇの減圧下に蒸留を行っ
た。得られた製品中のジエステル濃度は０．０７重量％
であった。また、蒸留ボトム液中に重合物の生成は全く
認められなかった。

【００５０】実施例２実施例１において、ペンタエリスリトールの代わりにア
セチルアセトン１５．４ｇ（アセチルアセトン／鉄粉
（モル比）＝７．２／１）を使用した以外は実施例１と
同様にして反応を行った。得られた反応液中のジエステ
ル濃度は０．０７重量％、メタクリル酸濃度は０．０１
重量％であった。また、反応液中のエチレンオキシド濃
度は８重量％以下で推移した。

【００５１】次に、実施例１と同様に、未反応のエチレ
ンオキシドを除去した後、蒸留を行った。得られた製品
中のジエステル濃度は０．０８重量％であった。また、
蒸留ボトム液中に重合物の生成は全く認められなかっ
た。

【００５２】実施例３実施例１において、ペンタエリスリトールの添加量を１
２．８ｇ（ペンタエリスリトール／鉄粉（モル比）＝
４．４／１）とした以外は実施例１と同様にして反応を
行った。得られた反応液中のジエステル濃度は０．０９
重量％、メタクリル酸濃度は０．０１重量％であった。
また、反応液中のエチレンオキシド濃度は７重量％以下
で推移した。

【００５３】次に、フマル酸３．２ｇ（フマル酸／鉄粉
（モル比）＝１．３／１）を添加し、その後は実施例１
と同様に、未反応のエチレンオキシドを除去し、蒸留を
行った。得られた製品中のジエステル濃度は０．０８重
量％であった。また、蒸留ボトム液中に重合物の生成は
全く認められなかった。

【００５４】比較例１実施例１において、エチレンオキシド１７７ｇを液状で
３０分かけて撹拌しながら注入し、注入後、７０℃で１
時間反応を行った以外は実施例１と同様にして反応を行
った。

【００５５】得られた反応液中のジエステル濃度は０．
２１重量％、メタクリル酸濃度は０．０２重量％であっ
た。また、この反応液中のエチレンオキシド濃度の最大
値は１４重量％であった。

【００５６】次に、実施例１と同様に、未反応のエチレ
ンオキシドを除去した後、蒸留を行った。得られた製品
中のジエステル濃度は０．３７重量％であった。また、
蒸留ボトム液中に重合物の生成は全く認められなかっ
た。

【００５７】比較例２実施例１において、ペンタエリスリトールの代わりにト
リメチロールプロパンを５７．４ｇ（トリメチロールプ
ロパン／鉄粉（モル比）＝１９．９／１）使用した以外
は実施例１と同様にして反応を行った。得られた反応液
中のジエステル濃度は０．０８重量％、メタクリル酸濃
度は０．０２重量％であった。また、反応液中のエチレ
ンオキシド濃度は７重量％以下で推移した。

【００５８】次に、実施例１と同様に、未反応のエチレ
ンオキシドを除去した後、蒸留を行ったところ、蒸留途
中で蒸留ボトム液がゲル化してしまい蒸留不能となっ
た。

【００５９】

【発明の効果】本発明によれば、反応および蒸留工程で
のジエステルの副生を効果的に防止ないしは抑制してヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレートを効率よく製造
することができる。

【００６０】また、反応工程でのジエステル生成防止剤
の使用量を低減することにより、蒸留工程での蒸留ボト
ム液の性状の悪化を効果的に防止できる。

【００６１】さらに、本発明によれば、反応および蒸留
工程をへてジエステル含有量の少ない、高品質のヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレートを効率よく製造する
ことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平７−118203（ＪＰ，Ａ) 特開平５−194321（ＪＰ，Ａ) 特開平４−66554（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07C 67/26 C07C 67/54 C07C 67/62 C07C 69/54

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】（メタ）アクリル酸とアルキレンオキシ
ドとを触媒の存在下に反応させてヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレートを製造するに当り、反応液中のア
ルキレンオキシド濃度が１０重量％以下の条件下にジエ
ステル生成防止剤を添加し、その後は該ジエステル生成
防止剤の存在下に反応液中のアルキレンオキシド濃度を
１０重量％以下に維持しながら反応を行うことを特徴と
するヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの製造方
法。
【請求項２】ジエステル生成防止剤の添加量が触媒１
モル当り０．１〜１０モルの範囲にある請求項１記載の
方法。
【請求項３】（メタ）アクリル酸とアルキレンオキシ
ドとを触媒の存在下に反応させてヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレートを製造するに当り、触媒１モル当
り０．１〜１０モルの範囲のジエステル生成防止剤を反
応液中のアルキレンオキシド濃度が１０重量％以下の条
件下に添加し、その後は該ジエステル生成防止剤の存在
下に反応液中のアルキレンオキシド濃度を１０重量％以
下に維持しながら反応を行い、次いで反応生成物を蒸留
することを特徴とするヒドロキシアルキル（メタ）アク
リレートの製造方法。