JP3299468B2 - ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレートの製造法に関し、詳しくは（メ
タ）アクリル酸とアルキレンオキシドとを反応させて工
業的に有利にヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
を製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレー
トは、塩化第二鉄などの鉄化合物、塩化クロムなどのク
ロム化合物などの触媒の存在下に、（メタ）アクリル酸
とアルキレンオキシドとを反応させることによって得ら
れる。

【０００３】なお、本発明において、（メタ）アクリル
酸とはアクリル酸およびメタクリル酸を、ヒドロキシア
ルキル（メタ）アクリレートとはヒドロキシアルキルア
クリレートおよびヒドロキシアルキルメタクリレート
を、またアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート
とはアルキレングリコールジアクリレートおよびアルキ
レングリコールジメタクリレートを意味する。

【０００４】一般に、ヒドロキシアルキル（メタ）アク
リレートを合成する場合、反応の副生物としてアルキレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート（以下、単に「ジ
エステル」という）が生成する。特に、反応終了時の近
くで未反応の（メタ）アクリル酸が少なくなった時点
（仕込み量の０．１重量％以下）で反応液に過剰のアル
キレンオキシドが溶存残留しているとヒドロキシアルキ
ル（メタ）アクリレートの不均化反応が起こり易く、ア
ルキレングリコールとともにジエステルが副生する。

【０００５】また、このジエステルは、合成したヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレートを蒸留精製する際に
も、その不均化反応によって生成する。特に、反応に使
用した触媒の共存下に比較的高温にさらされると、ヒド
ロキシアルキル（メタ）アクリレートの不均化反応が起
こり易くなる。

【０００６】上記副生ジエステルの量が増大すると、ヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレートの合成および蒸
留工程において、重合が起こり、装置閉塞などのトラブ
ルが発生する。また、このジエステルは目的物としての
ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと蒸気圧が近
似しているため、いったん生成すると以後の分離がほと
んど不可能となる。そして、ジエステルの含有量の大き
いヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを製品とし
て使用し、これを単独重合または他の共重合可能なモノ
マーと共重合すると、得られる重合体に「にごり」が発
生したり、あるいは重合時にゲル化が起こる。

【０００７】上記ジエステルの生成を抑制する手段とし
て種々の方法が提案されている。例えば、反応時におけ
るジエステルの生成を抑制するものとして、特開昭５１
−１３３２２７号公報には、ヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートよりも沸点の高いプロトン酸を添加す
る方法が、また特開昭５２−２３０１９号公報には、触
媒として無水クロム酸を用い、水および低級飽和または
不飽和アルコールを添加して反応を行うことによりジエ
ステルの生成を抑制する方法が開示されている。しか
し、前者の方法は、ジエステルの生成抑制効果が十分で
ないばかりか、添加剤として硫酸などの鉱酸を用いると
ジエステルの生成量が増加するという現象が見られる。
また、後者の方法も、ジエステルの生成抑制効果が十分
でない。さらに、通常、ヒドロキシアルキル（メタ）ア
クリレートの精製には、それが易重合性であることか
ら、フラッシュ蒸留法が用いられるが、このフラッシュ
蒸留の場合、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
と易混和性の水およびメタノールをジエステル生成防止
剤として使用すると、後工程として、これらジエステル
生成防止剤をヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
から分離する工程が別途必要となりプロセスが煩雑とな
る。

【０００８】また、蒸留工程におけるジエステルの生成
を抑制する方法としては、例えば特開平５−１９４３２
１号公報に、触媒として鉄を用いた際に触媒不活性化剤
である長鎖脂肪酸類またはジオール類を添加する方法
が、また特開平７−１１８２０３号公報には、反応終了
後、蒸留前に多価アルコールを添加する方法が開示され
ている。しかし、これらジエステル生成防止剤は、ジエ
ステルの生成を十分に抑制するためには、ある一定量以
上を添加する必要があり、そうした場合、蒸留工程にお
いて蒸留ボトム液の粘度が上昇したり、蒸留ボトム液中
に好ましくな重合物が生成するなど、蒸留ボトム液の性
状が悪化する。

【０００９】要するに、反応工程でのジエステルの生成
を抑制するために、ジエステル生成防止剤を多量に使用
することは、経済的でないばかりか、その後の蒸留工程
で上記のような問題が生じて好ましくない。一方、添加
量を低減させれば蒸留ボトム液の性状は改善されるが、
反応工程においてジエステルの生成を十分に抑制できな
い。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点を解決し、蒸留ボトム液中での好ましくない
重合物の発生などといった、蒸留ボトム液の性状の悪化
を招くことなく、反応および蒸留工程で副生するジエス
テル量を最小限とし、ジエステル含有量の少ない高品質
のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを効率よく
製造する方法を提供することを目的とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
の結果、次のことを見出した。

【００１２】すなわち、ジエステル生成防止剤は、通
常、反応工程または蒸留工程のいずれかにおいて一括し
て投入されているが、反応工程で添加した場合にはジエ
ステル生成防止剤の一部または全部がアルキレンオキシ
ドと反応するなどしてジエステルの生成を抑制する効力
を失う（失活）。したがって、ジエステル生成防止剤を
添加することにより反応工程でのジエステルの生成を防
止ないしは抑制するためには、ジエステル生成防止剤が
失活する分を考慮して多量に添加する必要がある。しか
し、多量に添加すると、蒸留工程において蒸留ボトム液
の性状が悪化する。また、蒸留工程で添加した場合に
は、反応工程におけるジエステルの生成を防止ないしは
抑制することができない。

【００１３】また、ジエステル生成防止剤の失活は、ヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレートの製造工程での
熱履歴によって促進される。したがって、ジエステル生
成防止剤を製造工程において２以上に分割して投入し、
ジエステル生成防止剤の総熱履歴を短くすることで失活
をきわめて低い水準に押え得る。そのため、工程中にお
けるジエステル生成防止剤のロスが少なくなり、その添
加量を低減できる。その結果、蒸留工程での蒸留ボトム
の性状悪化という問題を生じることなく、ジエステル含
有量の少ない高品質のヒドロキシ（メタ）アクリレート
を製造することができる。

【００１４】そして、本発明者らは、上記知見に基づい
て本発明を完成するに至った。

【００１５】すなわち、本発明は、（メタ）アクリル酸
とアルキレンオキシドとを触媒の存在下に反応させてヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレートを製造するに当
り、ジエステル生成防止剤を２以上に分割して添加する
ことを特徴とするヒドロキシアルキル（メタ）アクリレ
ートの製造法である。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明のアルキレンオキシドと
は、炭素数２〜６、好ましくは炭素数２〜４のアルキレ
ンオキシドを意味する。そして、その代表例としては、
エチレンオキシド、プロピレンオキシドおよびブチレン
オキシドを挙げることができる。

【００１７】アルキレンオキシドは（メタ）アクリル酸
に対して等モル以上、好ましくは１．０３〜１．２倍モ
ルの範囲で用いられる。反応温度は、通常、４０〜１３
０℃、好ましくは５０〜１００℃である。反応は、通
常、加圧下に液状で行われる。また、反応を行う際の雰
囲気については特に制限はないが、窒素などの不活性雰
囲気で行うのがよい。

【００１８】反応の際に（メタ）アクリレートの重合を
防止する目的で使用する重合防止剤には特に制限はな
く、この種の反応に一般に用いられている重合防止剤を
使用することができる。その代表例としては、ハイドロ
キノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチ
アジン、ジブチルジチオカルバミン酸銅などを挙げるこ
とができる。重合防止剤の使用量は、通常、（メタ）ア
クリル酸の０．００１〜１重量％、好ましくは０．０１
〜０．５重量％である。

【００１９】反応に使用する触媒についても特に制限は
なく、この種の反応に一般に用いられている触媒を使用
することができる。具体的には、塩化第二鉄、酢酸第二
鉄、鉄粉などの鉄化合物、重クロム酸ソーダ、塩化クロ
ム、不飽和酸のクロム塩などのクロム化合物などを用い
ることができる。その使用量については、通常、（メ
タ）アクリル酸の０．０１〜１０重量％、好ましくは
０．０３〜３重量％である。

【００２０】（メタ）アクリル酸とアルキレンオキシド
との反応は、この種の反応に一般に用いられている方法
にしたがって行うことができる。通常、（メタ）アクリ
ル酸中に液状のアルキレンオキシドを導入して行われ
る。この際、アルキレンオキシドは一括して、あるいは
連続的または間歇的に添加してもよい。そして、連続的
または間歇的に添加する場合、この種の反応においてよ
く行われるように、アルキレンオキシドの導入が終了し
た後も前記範囲の温度で反応を継続させて、いわゆる熟
成を行い反応を完結させることもできる（なお、本発明
における「熟成」とは、アルキレンオキシドを連続的ま
たは間歇的に添加する場合に、アルキレンオキシドの添
加が終了した後に継続して行う反応を意味する）。さら
に、この種の反応に一般に行われているように、反応生
成物を蒸留することにより高純度のヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレートが得られる。

【００２１】本発明の特徴は、（メタ）アクリル酸とア
ルキレンオキシドとからヒドロキシアルキル（メタ）ア
クリレートを製造するに際し、反応および蒸留、または
反応、熟成および蒸留を含めた全製造工程においてジエ
ステル生成防止剤を２以上に分割して添加する点にあ
る。

【００２２】ジエステル生成防止剤の分割の程度につい
ては特に制限はないが、作業性などを考慮すると、ジエ
ステル生成防止剤を２〜１０に分割して添加するのがよ
く、特に３分割して添加するのが好適である。

【００２３】２分割する場合の代表的な添加方法を列挙
すると次のとおりである。なお、「反応前」とはアルキ
レンオキシドの導入前を意味し、出発原料とは（メタ）
アクリル酸（触媒、（メタ）アクリル酸の重合禁止剤な
どを含んでいてもよい）を意味する。

【００２４】（１）一部を反応前の出発原料に添加し、
残りを反応中の反応液に添加する。

【００２５】（２）一部を反応前の出発原料に添加し、
残りを反応液の熟成の段階で添加する。

【００２６】（３）一部を反応前の出発原料に添加し、
残りを反応生成物を蒸留する前に添加する。

【００２７】（４）一部を反応中の反応液に添加し、残
りを反応液の熟成の段階で添加する。 （５）一部を反応中の反応液に添加し、残りを反応生成
物を蒸留する前に添加する。

【００２８】（６）一部を反応液の熟成の段階で添加
し、残りを反応生成物を蒸留する前に添加する。

【００２９】これら方法（１）〜（６）のなかでも、ジ
エステル生成防止剤の一部を反応前の出発原料に添加し
て、反応開始時から反応液中にジエステル生成防止剤が
存在するようにするのがジエステルの副生の効果的な防
止ないしは抑制の点から好適であり、特に方法（３）が
好適に用いられる。

【００３０】３分割する場合の代表的な添加方法を列挙
すると次のとおりである。

【００３１】（７）一部を反応前の出発原料に添加し、
残りを反応中および反応液の熟成の段階で添加する。

【００３２】（８）一部を反応前の出発原料に添加し、
残りを反応中および反応生成物を蒸留する前に添加す
る。

【００３３】（９）一部を反応前の出発原料に添加し、
残りを反応液の熟成の段階および反応生成物を蒸留する
前に添加する。

【００３４】（１０）一部を反応中の反応液に添加し、
残りを反応液の熟成の段階および反応生成物を蒸留する
前に添加する。

【００３５】これらの方法（７）〜（１０）のなかで
も、方法（９）が好適に用いられる。なお、本発明は上
記方法（１）〜（１０）に限定されるものではなく、ジ
エステル生成防止剤を２以上、特に好ましくは３に分割
して、その総熱履歴を短くするように添加する限り、ヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレートの全製造工程の
任意の箇所に添加することができる。

【００３６】上記のような条件下にジエステル生成防止
剤を添加することにより、ジエステルの副生を効果的に
防止ないしは抑制しながらヒドロキシアルキル（メタ）
アクリレートを製造することができる。

【００３７】本発明にしたがって２以上に分割して添加
するジエステル生成防止剤の合計量は、使用触媒１モル
当り０．１〜１０モル、好ましくは０．５〜５モルとす
るのがよい。使用量が少なすぎると、ジエステルの副生
を効果的に抑制できず、また多すぎると蒸留工程で蒸留
ボトム液中の性状の悪化が起こり易くなる。

【００３８】なお、各添加箇所におけるジエステル生成
防止剤の添加量は、少なくともジエステル生成防止剤の
効果が得られる範囲内で決定されなければならない。そ
の範囲はジエステル生成防止剤の種類にもよるので一概
に特定できないが、通常、触媒１モル当り少なくとも
０．０１モル添加すれば十分である。例えば、２分割し
て添加する場合、各添加箇所におけるジエステル生成防
止剤の添加量は、触媒１モル当り少なくとも０．０５モ
ル、好ましくは少なくとも０．１モル、また３分割する
場合には、触媒１モル当り少なくとも０．０３モル、好
ましくは少なくとも０．１モルとすればよい。

【００３９】上記ジエステル生成防止剤としては、（メ
タ）アクリル酸とアルキレンオキシドとからヒドロキシ
アルキル（メタ）アクリレートを合成する際、あるいは
蒸留する際にジエステルが副生するのを防止ないしは抑
制できるものであればいずれも使用することができる。
具体的には次のようなジエステル生成防止剤を使用する
ことができる。

【００４０】カルボン酸およびその無水物 シュウ酸、無水シュウ酸、マロン酸、コハク酸、無水コ
ハク酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、オク
タン酸、アジピン酸、セバシン酸、テトラデカンジカル
ボン酸、１，２，４−ブタントリカルボン酸、１，３，
６−ヘキサントリカルボン酸、１，２，３，４−ブタン
テトラカルボン酸、１，２，３，４−ペンタンテトラカ
ルボン酸、１，６，７，１２−ドデカンテトラカルボン
酸、安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パ
ラトルイル酸、フタル酸、無水フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、
ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、１，２，４−ベ
ンゼントリカルボン酸、１，４，５，８−ナフタレンテ
トラカルボン酸、１，３，５，７−ナフタレンテトラカ
ルボン酸、ポリアクリル酸など多価アルコール類 グリセリン、ジエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、１，２，６−ヘキサントリオール、ペンタエリ
スリトール、ジペンタエリスリトール、２，３，４，５
−テトラヒドロキシヘキサン、キシリトール、マンニト
ール、カテコール、レゾルシン、２，６−ジヒドロキシ
トルエン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、２，
４−ビス（ヒドロキシメチル）フェノール、１，２，４
−トリヒドロキシベンゼン、１，３，５−トリヒドロキ
シベンゼン、２，４，６−トリス（ヒドロキシメチル）
フェノール、１，２，４，５−テトラヒドロキシベンゼ
ンなど金属キレート剤 エチレンジアミン四酢酸、エチレンジアミン四プロピオ
ン酸、ニトリロ三酢酸、イミノ二酢酸、１，２−ジアミ
ノシクロヘキサン四酢酸、アセチルアセトン、クペロ
ン、オキシン、ベンジジン、ジエチルジチオカルバミン
酸など これらジエステル生成防止剤は単独でも、あるいは２種
以上を適宜組み合わせて使用することもできる。

【００４１】本発明においては、（メタ）アクリル酸と
アルキレンオキシドとの反応の際の反応液中のアルキレ
ンオキシド濃度には特に制限はないが、アルキレンオキ
シド濃度が高くなるとジエステル生成防止剤の失活が起
こり易くなり、ジエステルの副生を効果的に防止ないし
は抑制できなくなるので、反応液中のアルキレンオキシ
ド濃度を１０重量％以下、好ましくは０．１〜１０重量
％、更に好ましくは０．１〜５重量％の範囲に維持しな
がら反応を行うのが好ましい。

【００４２】また、（メタ）アクリル酸にアルキレンオ
キシドを添加した後にジエステル生成防止剤を添加する
場合には、上記と同じ理由により、反応液中のアルキレ
ンオキシド濃度が反応の経過とともに１０重量％以下
（好ましくは５重量％以下、更に好ましくは３重量％以
下）になった後、あるいは反応に不活性な溶剤（例え
ば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、アセト
ン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、テトラヒド
ロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）を添加
して反応液中のアルキレンオキシド濃度を１０重量％以
下に調整した後にジエステル生成防止剤を添加するのが
好ましい。

【００４３】このような理由からも、前記のように、反
応開始前の出発原料にジエステル生成防止剤を添加し、
その後は反応液中のアルキレンオキシド濃度を１０重量
％以下（好ましくは０．１〜１０重量％、更に好ましく
は０．１〜５重量％）に維持しながら反応させるのが好
ましい。

【００４４】上記方法において、反応液中のアルキレン
オキシド濃度を１０重量％以下に維持するには、例えば
出発原料に液状のアルキレンオキシドを少量づつ連続ま
たは間歇的に導入すればよい。

【００４５】したがって、本発明においては、前記の方
法（１）〜（３）、（７）〜（９）、特に方法（７）〜
（９）において、反応液中のアルキレンオキシド濃度を
１０重量％以下に維持しながら反応を行うのが特に好適
である。そして、このようにして得られた反応生成物を
蒸留することにより、ジエステルの含有量の少ない、一
段と高品質のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
を得ることができる。また、ジエステル生成防止剤の合
計使用量を少なくすることができるので、蒸留時の蒸留
ボトム液の性状の悪化も効果的に防止することができ
る。

【００４６】上記蒸留精製は、ヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートの蒸留に一般に用いられている条件下
に行うことができる。なお、通常、残存する未反応アル
キレンオキシドを減圧下に除去した後に蒸留に供するの
がよい。具体的には、１〜１０ｍｍＨｇ、好ましくは２
〜７ｍｍＨｇの圧力下、５０〜１２０℃、好ましくは６
０〜１００℃の温度で蒸留する。

【００４７】

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。

【００４８】実施例１ メタクリル酸２８０ｇをオートクレーブに仕込み、これ
に重合防止剤としてのフェノチアジン０．５ｇおよびハ
イドロキノンモノメチルエーテル０．２ｇ、触媒として
の鉄粉１．０ｇ、並びにピロガロール４．２ｇ（ピロガ
ロール／鉄粉（モル比）＝１．９）を添加して溶解させ
た。反応器内空間部を窒素ガスで置換した後、エチレン
オキシド１６５ｇをオートクレーブへ一括注入した。次
いで、反応液を７０℃に加温して反応を開始させた。２
時間後、この反応液にトリメチロールプロパン０．８ｇ
（トリメチロールプロパン／鉄粉（モル比）＝０．３）
を添加した。その後、７０℃で１時間反応を行った。得
られた反応液中のジエステル濃度は０．１０重量％、メ
タクリル酸濃度は０．０２重量％であった。

【００４９】次に、この反応液にアセチルアセトン２．
５ｇ（アセチルアセトン／鉄粉（モル比）＝１．４）を
添加し、未反応のエチレンオキシドを減圧下で除去した
後、５〜７ｍｍＨｇの減圧下に蒸留を行った。得られた
製品中のジエステル濃度は０．１０重量％であった。ま
た、蒸留ボトム液中に重合物の生成は全く認められなか
った。

【００５０】比較例１ 実施例１の反応工程において、ピロガロールの添加量を
８．１ｇ（ピロガロール／鉄粉（モル比）＝３．６）に
したが、反応途中でトリメチロールプロパンを添加しな
かった以外は実施例１と同様にして反応を行った。得ら
れた反応液中のジエステル濃度は０．２０重量％、メタ
クリル酸濃度は０．０２重量％であった。

【００５１】次に、実施例１の蒸留工程において、アセ
チルアセトンを添加しなかった以外は実施例１と同様に
して蒸留を行った。得られた製品中のジエステル濃度は
０．４０重量％であった。また、蒸留ボトム液中に重合
物の生成は全く認められなかった。

【００５２】実施例１と比較例１との比較により、ジエ
ステル生成防止剤を分割して添加することにより、反応
および蒸留工程におけるジエステルの副生を抑制できる
ことがわかる。

【００５３】実施例２ メタクリル酸２８０ｇをオートクレーブに仕込み、これ
に重合防止剤としてのフェノチアジン０．５ｇおよびハ
イドロキノンモノメチルエーテル０．２ｇ、触媒として
の鉄粉１．０ｇ、並びにペンタエリスリトール０．８ｇ
（ペンタエリスリトール／鉄粉（モル比）＝０．３）を
添加して溶解させた。反応器内空間部を窒素ガスで置換
した後、反応液を７０℃に加温した。次いで、エチレン
オキシド１６５ｇを液状で９０分かけて撹拌しつつ注入
し、注入後、トリメチロールプロパン１．２ｇ（トリメ
チロール／鉄粉（モル比）＝０．５）を添加した。その
後、７０℃で２時間反応を行った。得られた反応液中の
ジエステル濃度は０．０８重量％、メタクリル酸濃度は
０．０１重量％であった。

【００５４】次に、この反応液に無水フタル酸１．２ｇ
（無水フタル酸／鉄粉（モル比）＝０．５）を添加し、
未反応のエチレンオキシドを減圧下で除去した後、５〜
７ｍｍＨｇの減圧下に蒸留を行った。得られた製品中の
ジエステル濃度は０．０７重量％であった。また、蒸留
ボトム液中に重合物の生成は全く認められなかった。 比較例２ 実施例２の反応工程において、ペンタエリスリトールお
よびトリメチロールプロパンを添加しなかった以外は実
施例２と同様にして反応を行った。得られた反応液中の
ジエステル濃度は０．２５重量％、メタクリル酸濃度は
０．０２重量％であった。

【００５５】次に、実施例２の蒸留工程において、無水
フタル酸の添加量を３７．８ｇ（無水フタル酸／鉄粉
（モル比）＝１４．３）に変更した以外は実施例２と同
様に、未反応のエチレンオキシドを除去した後、蒸留を
行った。製品中のジエステル濃度は０．２５重量％であ
った。また、蒸留終了時の蒸留ボトム液は粘度が高く、
冷却するとプリン状に固化してしまい蒸留装置からの抜
き出しが不可能となった。

【００５６】実施例２と比較例２との比較により、反応
時にジエステル生成防止剤が存在しないとジエステルが
副生し易く、また蒸留時にジエステル生成防止剤が多量
に存在すると蒸留ボトム液の性状が著しく悪化すること
がわかる。

【００５７】比較例３ 実施例２の反応工程において、ペンタエリスリトールの
代わりにアセチルアセトン２３．６ｇ（アセチルアセト
ン／鉄粉（モル比）＝１３．２）を用い、トリメチロー
ルプロパンを添加しなかった以外は実施例２と同様にし
て反応を行った。得られた反応液中のジエステル濃度は
０．０６重量％、メタクリル酸濃度は０．０１重量％で
あった。

【００５８】次に、実施例２の蒸留工程において、無水
フタル酸を添加しなかった以外は実施例２と同様に、未
反応のエチレンオキサイドを除去した後、蒸留を行った
ところ、蒸留途中で蒸留ボトム液がゲル化してしまい蒸
留不能となった。

【００５９】上記結果から、反応時にジエステル生成防
止剤を多量に添加することで、一回の添加でも反応工程
中のジエステルの生成を抑制できるが、蒸留時に多量の
ジエステル生成防止剤が存在することにより蒸留ボトム
液の性状が著しく悪化することがわかる。

【００６０】

【発明の効果】本発明によれば、ジエステルの副生を効
果的に防止ないしは抑制してヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートを効率よく製造することができる。

【００６１】本発明によれば、ジエステル生成防止剤の
失活を効果的に防止できるので、その使用量を低減する
ことができ、その結果、蒸留工程での蒸留ボトム液の性
状の悪化を効果的に防止することができる。

【００６２】さらに、本発明によれば、反応および蒸留
工程をへてジエステル含有量の少ない、高品質のヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレートを効率よく製造する
ことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭51−133227（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−23019（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−118203（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−194321（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−66554（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−156437（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−48410（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−135913（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07C 67/26 C07C 69/54

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （メタ）アクリル酸とアルキレンオキシ
   ドとを触媒の存在下に反応させてヒドロキシアルキル
   （メタ）アクリレートを製造し、次いで得られる反応液
   を蒸留してヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを
   分離することによりヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
   レートを製造する方法において、触媒１モル当たり５モ
   ル以下のジエステル生成防止剤を２分割し、反応開始前
   の（メタ）アクリル酸に０．０５モル以上の割合で添加
   し、また反応生成物を蒸留する前に０．０５モル以上の
   割合で添加することを特徴とするヒドロキシアルキル
   （メタ）アクリレートの製造法。
2. 【請求項２】 （メタ）アクリル酸とアルキレンオキシ
   ドとを触媒の存在下に反応させてヒドロキシアルキル
   （メタ）アクリレートを製造し、次いで得られる反応液
   を蒸留してヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを
   分離することによりヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
   レートを製造する方法において、触媒１モル当たり５モ
   ル以下のジエステル生成防止剤を３分割し、反応開始前
   の（メタ）アクリル酸に０．０３モル以上、反応液の熟
   成の段階で０．０３モル以上、また反応生成物を蒸留す
   る前に０．０３モル以上の割合で添加することを特徴と
   するヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの製造
   法。