JP3268993B2 - 表示装置 - Google Patents
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
- H10K59/1213—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
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- H10K59/125—Active-matrix OLED [AMOLED] displays including organic TFTs [OTFT]
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- Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は表示装置に係り、詳
しくは、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた表
示装置に関するものである。
しくは、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた表
示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】エレクトロルミネッセンス(EL;Electro
Luminescence)素子には、セレンや亜鉛などの無機化
合物薄膜を発光材料として用いる無機EL素子と、有機
化合物を発光材料として用いる有機EL素子とがある。
有機EL素子には、(1) 発光効率が高い、(2) 駆動電圧
が低い、(3) 発光材料を選択することで様々な色(緑、
赤、青、黄など)を表示することが可能、(4) 自発光型
であるため表示が鮮明でバックライトが不要、(5) 面発
光であり、視野角依存性が無い、(6) 薄型で軽量、(7)
製造プロセスの最高温度が低いため、基板材料にプラス
チックフィルムなどのような柔らかい材質を用いること
が可能、などの優れた特徴がある。そこで、近年、CR
TやLCDに代わる表示装置として、有機EL素子を用
いた表示装置(以下、有機EL表示装置という)が注目
されている。
Luminescence)素子には、セレンや亜鉛などの無機化
合物薄膜を発光材料として用いる無機EL素子と、有機
化合物を発光材料として用いる有機EL素子とがある。
有機EL素子には、(1) 発光効率が高い、(2) 駆動電圧
が低い、(3) 発光材料を選択することで様々な色(緑、
赤、青、黄など)を表示することが可能、(4) 自発光型
であるため表示が鮮明でバックライトが不要、(5) 面発
光であり、視野角依存性が無い、(6) 薄型で軽量、(7)
製造プロセスの最高温度が低いため、基板材料にプラス
チックフィルムなどのような柔らかい材質を用いること
が可能、などの優れた特徴がある。そこで、近年、CR
TやLCDに代わる表示装置として、有機EL素子を用
いた表示装置(以下、有機EL表示装置という)が注目
されている。
【0003】マトリックスに配置された点(ドット)で
表示を行うドットマトリックスの有機EL表示装置に
は、単純マトリックス方式とアクティブマトリックス方
式とがある。単純マトリックス方式は、表示パネル上に
マトリックスに配置された各画素の有機EL素子を走査
信号に同期して外部から直接駆動する方式であり、有機
EL素子だけで表示装置の表示パネルが構成されてい
る。そのため、走査線数が増大すると1つの画素に割り
当てられる駆動時間(デューティ)が少なくなり、コン
トラストが低下するという問題がある。
表示を行うドットマトリックスの有機EL表示装置に
は、単純マトリックス方式とアクティブマトリックス方
式とがある。単純マトリックス方式は、表示パネル上に
マトリックスに配置された各画素の有機EL素子を走査
信号に同期して外部から直接駆動する方式であり、有機
EL素子だけで表示装置の表示パネルが構成されてい
る。そのため、走査線数が増大すると1つの画素に割り
当てられる駆動時間(デューティ)が少なくなり、コン
トラストが低下するという問題がある。
【0004】一方、アクティブマトリックス方式は、マ
トリックスに配置された各画素に画素駆動素子(アクテ
ィブエレメント)を設け、その画素駆動素子を走査信号
によってオン・オフ状態が切り替わるスイッチとして機
能させる。そして、オン状態にある画素駆動素子を介し
てデータ信号(表示信号)を有機EL素子の陽極に伝達
することで、有機EL素子の駆動が行われる。その後、
画素駆動素子がオフ状態になると、有機EL素子の陽極
に印加されたデータ信号は電荷の状態で補助容量に蓄え
られ、次に画素駆動素子がオン状態になるまで引き続き
有機EL素子の駆動が行われる。そのため、走査線数が
増大して1つの画素に割り当てられる駆動時間が少なく
なっても、有機EL素子の駆動が影響を受けることはな
く、コントラストが低下することもない。従って、アク
ティブマトリックス方式によれば、単純マトリックス方
式に比べてはるかに高画質な表示が可能となる。
トリックスに配置された各画素に画素駆動素子(アクテ
ィブエレメント)を設け、その画素駆動素子を走査信号
によってオン・オフ状態が切り替わるスイッチとして機
能させる。そして、オン状態にある画素駆動素子を介し
てデータ信号(表示信号)を有機EL素子の陽極に伝達
することで、有機EL素子の駆動が行われる。その後、
画素駆動素子がオフ状態になると、有機EL素子の陽極
に印加されたデータ信号は電荷の状態で補助容量に蓄え
られ、次に画素駆動素子がオン状態になるまで引き続き
有機EL素子の駆動が行われる。そのため、走査線数が
増大して1つの画素に割り当てられる駆動時間が少なく
なっても、有機EL素子の駆動が影響を受けることはな
く、コントラストが低下することもない。従って、アク
ティブマトリックス方式によれば、単純マトリックス方
式に比べてはるかに高画質な表示が可能となる。
【0005】アクティブマトリックス方式は画素駆動素
子の違いにより、トランジスタ型(3端子型)とダイオ
ード型(2端子型)とに大別される。トランジスタ型
は、ダイオード型に比べて製造が困難である反面、コン
トラストや解像度を高くするのが容易でCRTに匹敵す
る高品位な有機EL表示装置を実現することができると
いう特徴がある。前記したアクティブマトリックス方式
の動作原理の説明は、主にトランジスタ型に対応したも
のである。
子の違いにより、トランジスタ型(3端子型)とダイオ
ード型(2端子型)とに大別される。トランジスタ型
は、ダイオード型に比べて製造が困難である反面、コン
トラストや解像度を高くするのが容易でCRTに匹敵す
る高品位な有機EL表示装置を実現することができると
いう特徴がある。前記したアクティブマトリックス方式
の動作原理の説明は、主にトランジスタ型に対応したも
のである。
【0006】そこで、特開平4−125683号公報
(G09F 9/30,GO9K 11/06,H05B 33/14)に開示されるよ
うに、能動層として多結晶シリコン膜または非晶質シリ
コン膜を用いたTFT(Thin Film Transistor)を画素
駆動素子として用いるアクティブマトリックス方式の有
機EL表示装置が提案されている。同公報に記載の有機
EL表示装置では、有機EL素子とTFTとをガラス基
板上に並べて配置している。また、TFTはMOS構造
をとっている。
(G09F 9/30,GO9K 11/06,H05B 33/14)に開示されるよ
うに、能動層として多結晶シリコン膜または非晶質シリ
コン膜を用いたTFT(Thin Film Transistor)を画素
駆動素子として用いるアクティブマトリックス方式の有
機EL表示装置が提案されている。同公報に記載の有機
EL表示装置では、有機EL素子とTFTとをガラス基
板上に並べて配置している。また、TFTはMOS構造
をとっている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】有機EL素子は、駆動
電圧が低い反面、駆動電流が大きいという特徴がある。
そのため、アクティブマトリックス方式の有機EL表示
装置において、画素駆動素子としてトランジスタを用い
る場合、そのトランジスタは大電流駆動が可能でなけれ
ばならない。
電圧が低い反面、駆動電流が大きいという特徴がある。
そのため、アクティブマトリックス方式の有機EL表示
装置において、画素駆動素子としてトランジスタを用い
る場合、そのトランジスタは大電流駆動が可能でなけれ
ばならない。
【0008】ところで、MOSトランジスタはバイポー
ラトランジスタに比べてオン抵抗が高い。オン抵抗が高
いと大電流駆動には不利になる。MOSトランジスタが
通常のバルク型でプレーナ構造をとる場合、ソース・ド
レイン間のオン抵抗を下げるにはゲート幅を非常に長く
する必要があり、素子面積を大きくしなければならな
い。能動層として多結晶シリコン膜または非晶質シリコ
ン膜を用いたMOS構造のTFTでは、バルク型でプレ
ーナ構造をとるMOSトランジスタよりもソース・ドレ
イン間のオン抵抗が高くなるため、大電流駆動を可能に
するとなると、素子面積は非常に大きくなる。
ラトランジスタに比べてオン抵抗が高い。オン抵抗が高
いと大電流駆動には不利になる。MOSトランジスタが
通常のバルク型でプレーナ構造をとる場合、ソース・ド
レイン間のオン抵抗を下げるにはゲート幅を非常に長く
する必要があり、素子面積を大きくしなければならな
い。能動層として多結晶シリコン膜または非晶質シリコ
ン膜を用いたMOS構造のTFTでは、バルク型でプレ
ーナ構造をとるMOSトランジスタよりもソース・ドレ
イン間のオン抵抗が高くなるため、大電流駆動を可能に
するとなると、素子面積は非常に大きくなる。
【0009】しかし、前記公報に記載の有機EL表示装
置では、有機EL素子とTFTとをガラス基板上に並べ
て配置しているため、TFTの素子面積を大きくするに
は限界があり、有機EL素子を十分に大電流駆動するの
が難しいという問題がある。有機EL素子の駆動電流が
不足すると、高画質な有機EL表示装置を得ることはで
きなくなる。
置では、有機EL素子とTFTとをガラス基板上に並べ
て配置しているため、TFTの素子面積を大きくするに
は限界があり、有機EL素子を十分に大電流駆動するの
が難しいという問題がある。有機EL素子の駆動電流が
不足すると、高画質な有機EL表示装置を得ることはで
きなくなる。
【0010】また、能動層として多結晶シリコン膜また
は非晶質シリコン膜を用いるMOS構造のTFTは製造
に手間がかかる上に、多結晶シリコン膜や非晶質シリコ
ン膜は有機EL素子を構成する有機化合物層と同一プロ
セスでは製造できない。そのため、前記公報に記載の有
機EL表示装置には、製造コストが大きいという問題も
ある。
は非晶質シリコン膜を用いるMOS構造のTFTは製造
に手間がかかる上に、多結晶シリコン膜や非晶質シリコ
ン膜は有機EL素子を構成する有機化合物層と同一プロ
セスでは製造できない。そのため、前記公報に記載の有
機EL表示装置には、製造コストが大きいという問題も
ある。
【0011】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、高画質で製造コストが
低いアクティブマトリックス方式の有機エレクトロルミ
ネッセンス素子を用いた表示装置を提供することにあ
る。
れたものであって、その目的は、高画質で製造コストが
低いアクティブマトリックス方式の有機エレクトロルミ
ネッセンス素子を用いた表示装置を提供することにあ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、画素駆動素子としてのバイポーラトランジスタの有
機半導体から成るコレクタ領域と、有機エレクトロルミ
ネッセンス素子を構成する有機化合物層の少なくとも一
部とを共通にし、当該バイポーラトランジスタと有機エ
レクトロルミネッセンス素子とを積層形成し、前記有機
エレクトロルミネッセンス素子は発光層と、少なくとも
ホール輸送層または電子輸送層のうちいずれか一方とを
備え、前記バイポーラトランジスタのコレクタ電極と、
電子輸送層またはホール輸送層との間に補助容量を設け
ることをその要旨とする。
は、画素駆動素子としてのバイポーラトランジスタの有
機半導体から成るコレクタ領域と、有機エレクトロルミ
ネッセンス素子を構成する有機化合物層の少なくとも一
部とを共通にし、当該バイポーラトランジスタと有機エ
レクトロルミネッセンス素子とを積層形成し、前記有機
エレクトロルミネッセンス素子は発光層と、少なくとも
ホール輸送層または電子輸送層のうちいずれか一方とを
備え、前記バイポーラトランジスタのコレクタ電極と、
電子輸送層またはホール輸送層との間に補助容量を設け
ることをその要旨とする。
【0013】請求項2に記載の発明は、画素駆動素子と
してのバイポーラトランジスタの有機半導体から成るn
型のコレクタ領域と、有機エレクトロルミネッセンス素
子を構成するn型の電子輸送層とが同一層によって形成
され、当該バイポーラトランジスタと有機エレクトロル
ミネッセンス素子とを積層形成し、前記バイポーラトラ
ンジスタのコレクタ電極と、前記電子輸送層との間に補
助容量を設けることをその要旨とする。
してのバイポーラトランジスタの有機半導体から成るn
型のコレクタ領域と、有機エレクトロルミネッセンス素
子を構成するn型の電子輸送層とが同一層によって形成
され、当該バイポーラトランジスタと有機エレクトロル
ミネッセンス素子とを積層形成し、前記バイポーラトラ
ンジスタのコレクタ電極と、前記電子輸送層との間に補
助容量を設けることをその要旨とする。
【0014】請求項3に記載の発明は、画素駆動素子と
してのバイポーラトランジスタの有機半導体から成るp
型のコレクタ領域と、有機エレクトロルミネッセンス素
子を構成するp型のホール輸送層とが同一層によって形
成され、当該バイポーラトランジスタと有機エレクトロ
ルミネッセンス素子とを積層形成し、前記バイポーラト
ランジスタのコレクタ電極と、前記ホール輸送層との間
に補助容量を設けることをその要旨とする。
してのバイポーラトランジスタの有機半導体から成るp
型のコレクタ領域と、有機エレクトロルミネッセンス素
子を構成するp型のホール輸送層とが同一層によって形
成され、当該バイポーラトランジスタと有機エレクトロ
ルミネッセンス素子とを積層形成し、前記バイポーラト
ランジスタのコレクタ電極と、前記ホール輸送層との間
に補助容量を設けることをその要旨とする。
【0015】請求項4に記載の発明は、請求項1〜3の
うちいずれか1項に記載の表示装置において、前記バイ
ポーラトランジスタは、データ信号を電流増幅して前記
有機エレクトロルミネッセンス素子へ供給することをそ
の要旨とする。
うちいずれか1項に記載の表示装置において、前記バイ
ポーラトランジスタは、データ信号を電流増幅して前記
有機エレクトロルミネッセンス素子へ供給することをそ
の要旨とする。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した一実施
形態を図面に従って説明する。図1は、本実施形態の有
機EL表示装置を示す一部断面斜視図である。有機EL
表示装置の1つの画素1は、透明絶縁基板2、陽極3、
ホール輸送層4、発光層5、電子輸送層6、p型有機半
導体層7、n型有機半導体層8、ベース電極9、陰極1
0から構成されている。その各部材2〜7はこの順番で
積層形成されており、p型有機半導体層7上にn型有機
半導体層8とベース電極9とが形成され、n型有機半導
体層8上に陰極10が形成されている。
形態を図面に従って説明する。図1は、本実施形態の有
機EL表示装置を示す一部断面斜視図である。有機EL
表示装置の1つの画素1は、透明絶縁基板2、陽極3、
ホール輸送層4、発光層5、電子輸送層6、p型有機半
導体層7、n型有機半導体層8、ベース電極9、陰極1
0から構成されている。その各部材2〜7はこの順番で
積層形成されており、p型有機半導体層7上にn型有機
半導体層8とベース電極9とが形成され、n型有機半導
体層8上に陰極10が形成されている。
【0017】透明絶縁基板2はガラスや合成樹脂などか
ら形成されている。陽極3はITO(Indium Tin Oxid
e)などの透明電極から形成されている。ホール輸送層
4はp型有機半導体から形成されている。電子輸送層6
はn型有機半導体から形成されている。発光層5は有機
化合物から成り、各層4〜6と陽極3および陰極10と
によって有機EL素子14が構成されている。
ら形成されている。陽極3はITO(Indium Tin Oxid
e)などの透明電極から形成されている。ホール輸送層
4はp型有機半導体から形成されている。電子輸送層6
はn型有機半導体から形成されている。発光層5は有機
化合物から成り、各層4〜6と陽極3および陰極10と
によって有機EL素子14が構成されている。
【0018】また、電子輸送層6とp型有機半導体層
7、p型有機半導体層7とn型有機半導体層8とは、そ
れぞれpn接合を形成している。つまり、各層6〜8に
よってnpnトランジスタ11が構成されており、電子
輸送層6はコレクタ領域、p型有機半導体層7はベース
領域、n型有機半導体層8はエミッタ領域、陰極10は
エミッタ電極、陽極3はコレクタ電極として機能する。
7、p型有機半導体層7とn型有機半導体層8とは、そ
れぞれpn接合を形成している。つまり、各層6〜8に
よってnpnトランジスタ11が構成されており、電子
輸送層6はコレクタ領域、p型有機半導体層7はベース
領域、n型有機半導体層8はエミッタ領域、陰極10は
エミッタ電極、陽極3はコレクタ電極として機能する。
【0019】そして、npnトランジスタ11にはエミ
ッタ接地回路によって直流バイアスがかけられている。
つまり、n型有機半導体層8は、陰極10を介して接地
されている。電子輸送層6は、陽極3からホール輸送層
4および発光層5を介して第1の直流電源12のプラス
側に接続されている。p型有機半導体層7は、ベース電
極9を介して第2の直流電源13のプラス側に接続さ
れ、その直流電源13の電源電圧にデータ信号(表示信
号)Sが重畳されている。
ッタ接地回路によって直流バイアスがかけられている。
つまり、n型有機半導体層8は、陰極10を介して接地
されている。電子輸送層6は、陽極3からホール輸送層
4および発光層5を介して第1の直流電源12のプラス
側に接続されている。p型有機半導体層7は、ベース電
極9を介して第2の直流電源13のプラス側に接続さ
れ、その直流電源13の電源電圧にデータ信号(表示信
号)Sが重畳されている。
【0020】図2に、有機EL表示装置の画素1による
エミッタ接地回路の構成を模式的に示す。このように構
成された画素1がマトリックス状に配置されることによ
り、有機EL表示装置の表示パネルが形成されている。
本実施形態においては、以下の作用及び効果を得ること
ができる。
エミッタ接地回路の構成を模式的に示す。このように構
成された画素1がマトリックス状に配置されることによ
り、有機EL表示装置の表示パネルが形成されている。
本実施形態においては、以下の作用及び効果を得ること
ができる。
【0021】(1)有機EL素子14においては、陽極
3から注入されたホールと、陰極10から注入された電
子とが発光層5の内部で再結合し、発光層5を形成する
有機分子を励起して励起子が生じる。この励起子が放射
失活する過程で発光層5から光が放たれ、この光が透明
な陽極3から透明絶縁基板2を介して外部へ放出され
る。ここで、ホール輸送層4は、陽極3からホールを注
入させ易くする機能と、陰極10から注入された電子を
ブロックする機能とを有する。また、電子輸送層6は、
陰極10から電子を注入させ易くする機能を有する。
3から注入されたホールと、陰極10から注入された電
子とが発光層5の内部で再結合し、発光層5を形成する
有機分子を励起して励起子が生じる。この励起子が放射
失活する過程で発光層5から光が放たれ、この光が透明
な陽極3から透明絶縁基板2を介して外部へ放出され
る。ここで、ホール輸送層4は、陽極3からホールを注
入させ易くする機能と、陰極10から注入された電子を
ブロックする機能とを有する。また、電子輸送層6は、
陰極10から電子を注入させ易くする機能を有する。
【0022】(2)npnトランジスタ11は、有機E
L素子14を駆動するための画素駆動素子(アクティブ
エレメント)として機能する。即ち、ベース電極9に入
力されたデータ信号Sの小さな電流は、npnトランジ
スタ11によるエミッタ接地回路によって増幅され、大
きな電流に変えられて有機EL素子14へ供給される。
そのため、データ信号Sの小さな電流によって、有機E
L素子14を容易に大電流駆動することが可能になる。
L素子14を駆動するための画素駆動素子(アクティブ
エレメント)として機能する。即ち、ベース電極9に入
力されたデータ信号Sの小さな電流は、npnトランジ
スタ11によるエミッタ接地回路によって増幅され、大
きな電流に変えられて有機EL素子14へ供給される。
そのため、データ信号Sの小さな電流によって、有機E
L素子14を容易に大電流駆動することが可能になる。
【0023】そして、npnトランジスタ11がオフ状
態になると、有機EL素子14に入力されたデータ信号
Sは電荷の状態で補助容量に蓄えられ、次にnpnトラ
ンジスタ11がオン状態になるまで引き続き有機EL素
子14の駆動が行われる。そのため、走査線数が増大し
て1つの画素に割り当てられる駆動時間が少なくなって
も、有機EL素子14の駆動が影響を受けることはな
く、コントラストが低下することもない。
態になると、有機EL素子14に入力されたデータ信号
Sは電荷の状態で補助容量に蓄えられ、次にnpnトラ
ンジスタ11がオン状態になるまで引き続き有機EL素
子14の駆動が行われる。そのため、走査線数が増大し
て1つの画素に割り当てられる駆動時間が少なくなって
も、有機EL素子14の駆動が影響を受けることはな
く、コントラストが低下することもない。
【0024】従って、高画質なアクティブマトリックス
方式の有機EL表示装置を実現することができる。 (3)有機EL素子14とnpnトランジスタ11は積
層形成され、有機EL素子14の電子輸送層6はnpn
トランジスタ11のコレクタ領域として機能する。つま
り、有機EL素子14の電子輸送層6とnpnトランジ
スタ11のコレクタ領域とが同一層によって形成されて
いる。
方式の有機EL表示装置を実現することができる。 (3)有機EL素子14とnpnトランジスタ11は積
層形成され、有機EL素子14の電子輸送層6はnpn
トランジスタ11のコレクタ領域として機能する。つま
り、有機EL素子14の電子輸送層6とnpnトランジ
スタ11のコレクタ領域とが同一層によって形成されて
いる。
【0025】そのため、npnトランジスタ11のコレ
クタ領域の平面寸法を画素1の平面寸法と同じにしてコ
レクタ電流を増大させることが可能になり、有機EL素
子14を容易に大電流駆動することができる。また、n
pnトランジスタ11のコレクタ領域と有機EL素子1
4とを接続する配線が不要であるため、構成が単純にな
る上に、配線抵抗に伴う有機EL素子14の駆動電流に
ロスが生じることがなく低消費電力化を図ることができ
る。
クタ領域の平面寸法を画素1の平面寸法と同じにしてコ
レクタ電流を増大させることが可能になり、有機EL素
子14を容易に大電流駆動することができる。また、n
pnトランジスタ11のコレクタ領域と有機EL素子1
4とを接続する配線が不要であるため、構成が単純にな
る上に、配線抵抗に伴う有機EL素子14の駆動電流に
ロスが生じることがなく低消費電力化を図ることができ
る。
【0026】(4)npnトランジスタ11は有機半導
体層6〜8から構成されている。そのため、npnトラ
ンジスタ11を有機EL素子14と同一プロセスで連続
的に製造することが可能になり、製造コストを低減する
ことができる。ちなみに、有機半導体については、社団
法人日本電子工業振興協会編「有機機能デバイスに関す
る調査研究報告書II」(平成2年3月,90−基−
8),「(同)III 」(平成3年3月,91−基−8)
に詳述されている。
体層6〜8から構成されている。そのため、npnトラ
ンジスタ11を有機EL素子14と同一プロセスで連続
的に製造することが可能になり、製造コストを低減する
ことができる。ちなみに、有機半導体については、社団
法人日本電子工業振興協会編「有機機能デバイスに関す
る調査研究報告書II」(平成2年3月,90−基−
8),「(同)III 」(平成3年3月,91−基−8)
に詳述されている。
【0027】図3に、補助容量を設けた表示装置の他の
実施形態を示す。同図に示す如く、ガラスや合成樹脂か
らなる透明絶縁基板2上全面にITO膜などの透明な材
料によって陽極3を形成する。その陽極3上のホール輸
送層4はp型の有機半導体から形成されている。そのホ
ール輸送層4の上に有機化合物からなる発光層5を表示
装置の画素に応じて島状に形成する。その島状の発光層
と発光層との間はSiNからなる層間絶縁膜15が形成
されている。更に発光層5及び層間絶縁膜15上にn型
有機半導体からなる電子輸送層6を形成する。その上
に、p型有機半導体層7を形成する。
実施形態を示す。同図に示す如く、ガラスや合成樹脂か
らなる透明絶縁基板2上全面にITO膜などの透明な材
料によって陽極3を形成する。その陽極3上のホール輸
送層4はp型の有機半導体から形成されている。そのホ
ール輸送層4の上に有機化合物からなる発光層5を表示
装置の画素に応じて島状に形成する。その島状の発光層
と発光層との間はSiNからなる層間絶縁膜15が形成
されている。更に発光層5及び層間絶縁膜15上にn型
有機半導体からなる電子輸送層6を形成する。その上
に、p型有機半導体層7を形成する。
【0028】そして、p型有機半導体層7上の一部にn
型有機半導体層8からなるエミッタ領域とそのエミッタ
領域の上に陰極10を形成すると共に、前記p型有機半
導体層7上の他の一部にはバイポーラトランジスタのベ
ース電極9を形成する。こうして、陽極3と、層間絶縁
膜15と、電子輸送層6とでMIMコンデンサとなり、
補助容量が形成される。
型有機半導体層8からなるエミッタ領域とそのエミッタ
領域の上に陰極10を形成すると共に、前記p型有機半
導体層7上の他の一部にはバイポーラトランジスタのベ
ース電極9を形成する。こうして、陽極3と、層間絶縁
膜15と、電子輸送層6とでMIMコンデンサとなり、
補助容量が形成される。
【0029】また、電子輸送層6とp型有機半導体層
7、p型有機半導体層7とn型有機半導体層8とは、そ
れぞれpn接合を形成している。つまり、各層6〜8に
よってnpnトランジスタ11が構成されており、電子
輸送層6はコレクタ領域、p型有機半導体層7はベース
領域、n型有機半導体層8はエミッタ領域、陰極10は
エミッタ電極、陽極3はコレクタ電極として機能する。
7、p型有機半導体層7とn型有機半導体層8とは、そ
れぞれpn接合を形成している。つまり、各層6〜8に
よってnpnトランジスタ11が構成されており、電子
輸送層6はコレクタ領域、p型有機半導体層7はベース
領域、n型有機半導体層8はエミッタ領域、陰極10は
エミッタ電極、陽極3はコレクタ電極として機能する。
【0030】ここで、図4に本実施形態におけるアクテ
ィブトリクス方式の有機EL表示装置のブロック構成図
を示し、図5にベース配線Bnとエミッタ配線Enとの
直交部分に設けられている画素の等価回路を示す。図4
に示す如く、表示パネル50には、各ベース配線B1…
Bn,Bn+1…Bmと各エミッタ線E1…En,En+1…Em
とが配置されている。各ベース配線B1〜Bmと各エミ
ッタ配線E1〜Emとはそれぞれ互いに直交し、その直
交部分に画素1が設けられている。つまり、マトリック
ス状に配置された各画素1によって表示パネル50が形
成されている。
ィブトリクス方式の有機EL表示装置のブロック構成図
を示し、図5にベース配線Bnとエミッタ配線Enとの
直交部分に設けられている画素の等価回路を示す。図4
に示す如く、表示パネル50には、各ベース配線B1…
Bn,Bn+1…Bmと各エミッタ線E1…En,En+1…Em
とが配置されている。各ベース配線B1〜Bmと各エミ
ッタ配線E1〜Emとはそれぞれ互いに直交し、その直
交部分に画素1が設けられている。つまり、マトリック
ス状に配置された各画素1によって表示パネル50が形
成されている。
【0031】そして、各ベース配線B1〜Bmは、ベー
ス側ドライバ51に接続され、ベース信号が印加される
ようになっている。また、各エミッタ配線E1〜Em
は、エミッタ側ドライバ(データドライバ)52に接続
され、データ信号(ビデオ信号)が印加されるようにな
っている。これらのドライバ51、52によって周辺駆
動回路部53が構成される。
ス側ドライバ51に接続され、ベース信号が印加される
ようになっている。また、各エミッタ配線E1〜Em
は、エミッタ側ドライバ(データドライバ)52に接続
され、データ信号(ビデオ信号)が印加されるようにな
っている。これらのドライバ51、52によって周辺駆
動回路部53が構成される。
【0032】図5に示す如く、各ベース配線B1〜Bm
は、バイポーラトランジスタ54のベース電極Bによっ
て形成されている。また、各エミッタ配線E1〜Em
は、バイポーラトランジスタ54のエミッタ電極Eによ
って形成されている。有機EL素子55の陰極、及びそ
の有機EL素子55と並列に設けられた補助容量56の
一方の電極には、定電圧Vcomが印加されている。そし
て有機EL素子の陽極と補助容量の他端とはバイポーラ
トランジスタ54のコレクタ電極Cに接続されている。
そして前述の通り、バイポーラトランジスタ54のエミ
ッタ電極Eはエミッタ側ドライバ52に、またベース電
極Bはベース側ドライバ51に接続されている。こうし
て、表示装置の画素1が構成される。
は、バイポーラトランジスタ54のベース電極Bによっ
て形成されている。また、各エミッタ配線E1〜Em
は、バイポーラトランジスタ54のエミッタ電極Eによ
って形成されている。有機EL素子55の陰極、及びそ
の有機EL素子55と並列に設けられた補助容量56の
一方の電極には、定電圧Vcomが印加されている。そし
て有機EL素子の陽極と補助容量の他端とはバイポーラ
トランジスタ54のコレクタ電極Cに接続されている。
そして前述の通り、バイポーラトランジスタ54のエミ
ッタ電極Eはエミッタ側ドライバ52に、またベース電
極Bはベース側ドライバ51に接続されている。こうし
て、表示装置の画素1が構成される。
【0033】図6に、有機EL素子を用いた表示装置の
平面図を示す。同図に示す如く、エミッタ側ドライバ5
0に接続されたエミッタ配線Enには、前述の図1の電
子輸送層6上の一部に形成された陰極(エミッタ電極)
10が接続されている。また、ベース側ドライバ51に
接続されたベース配線Bnには、電子輸送層6上の他の
一部に形成されたベース電極14が接続されている。
平面図を示す。同図に示す如く、エミッタ側ドライバ5
0に接続されたエミッタ配線Enには、前述の図1の電
子輸送層6上の一部に形成された陰極(エミッタ電極)
10が接続されている。また、ベース側ドライバ51に
接続されたベース配線Bnには、電子輸送層6上の他の
一部に形成されたベース電極14が接続されている。
【0034】本実施形態においては、第1実施形態の作
用および効果に加えて、以下の作用および効果を得るこ
とができる。 [1]画素1において、ベース配線Bnを正電圧にして
バイポーラトランジスタ54のベース電極Bに正電圧を
印加すると、バイポーラトランジスタ54がオン状態に
なる。すると、エミッタ配線Enに印加されたデータ信
号で、有機EL素子55の静電容量が充電され、画素1
にデータ信号が書き込まれる。そのデータ信号によって
有機EL素子55の駆動が行われる。
用および効果に加えて、以下の作用および効果を得るこ
とができる。 [1]画素1において、ベース配線Bnを正電圧にして
バイポーラトランジスタ54のベース電極Bに正電圧を
印加すると、バイポーラトランジスタ54がオン状態に
なる。すると、エミッタ配線Enに印加されたデータ信
号で、有機EL素子55の静電容量が充電され、画素1
にデータ信号が書き込まれる。そのデータ信号によって
有機EL素子55の駆動が行われる。
【0035】反対に、ベース配線を負電圧にしてバイポ
ーラトランジスタ54のベース電極Bに負電圧を印加す
ると、バイポーラトランジスタ54がオフ状態になり、
その時点でエミッタ配線Enに印加されていたデータ信
号は電荷の状態で補助容量56の静電容量によって保持
される。このように、画素1へ書き込みたいデータ信号
を各エミッタ配線E1〜Emに与えて、各ベース配線B
1〜Bmの電圧を制御することができる。そして、次
に、バイポーラトランジスタ54がオン状態になるま
で、引き続き有機EL素子55の駆動が行われる。
ーラトランジスタ54のベース電極Bに負電圧を印加す
ると、バイポーラトランジスタ54がオフ状態になり、
その時点でエミッタ配線Enに印加されていたデータ信
号は電荷の状態で補助容量56の静電容量によって保持
される。このように、画素1へ書き込みたいデータ信号
を各エミッタ配線E1〜Emに与えて、各ベース配線B
1〜Bmの電圧を制御することができる。そして、次
に、バイポーラトランジスタ54がオン状態になるま
で、引き続き有機EL素子55の駆動が行われる。
【0036】[2]上記[1]より、ベース配線数(走
査線数)が増大して1つの画素に割り当てられる駆動時
間が小さくなっても、有機EL素子の駆動が、陽極3及
び陰極10間に蓄えられる電荷にて発光が途切れるなど
の影響を受けることはなく、表示パネル50に表示され
る画像のコントラストが低下することもない。従って、
アクティブマトリクス方式の有機EL表示装置によれ
ば、単純マトリクス方式の有機EL表示装置に比べてよ
り高画質の表示が可能になる。
査線数)が増大して1つの画素に割り当てられる駆動時
間が小さくなっても、有機EL素子の駆動が、陽極3及
び陰極10間に蓄えられる電荷にて発光が途切れるなど
の影響を受けることはなく、表示パネル50に表示され
る画像のコントラストが低下することもない。従って、
アクティブマトリクス方式の有機EL表示装置によれ
ば、単純マトリクス方式の有機EL表示装置に比べてよ
り高画質の表示が可能になる。
【0037】尚、上記各実施形態は以下のように変更し
てもよく、その場合でも同様の作用および効果を得るこ
とができる。 (1)npnトランジスタ11をpnpトランジスタに
置き代える。この場合には、有機EL素子14とpnp
トランジスタを積層形成し、有機EL素子14のホール
輸送層4をpnpトランジスタのコレクタ領域として機
能させる。つまり、有機EL素子14のホール輸送層4
とpnpトランジスタのコレクタ領域とを同一層によっ
て形成する。
てもよく、その場合でも同様の作用および効果を得るこ
とができる。 (1)npnトランジスタ11をpnpトランジスタに
置き代える。この場合には、有機EL素子14とpnp
トランジスタを積層形成し、有機EL素子14のホール
輸送層4をpnpトランジスタのコレクタ領域として機
能させる。つまり、有機EL素子14のホール輸送層4
とpnpトランジスタのコレクタ領域とを同一層によっ
て形成する。
【0038】(2)有機EL素子14の発光色を変える
には、発光層5を形成する有機化合物の材質を変えれば
よく、緑色発光の場合はBebq2 (10−ベンゾ
〔h〕キノリノール−ベリリウム錯体)、青色発光の場
合はOXD(オキサジアゾール)またはAZM(アゾメ
チン−亜鉛錯体)、青緑色発光の場合はPYR(ピラゾ
リン)、黄色発光の場合はZnq2 (8−キノリノール
−亜鉛錯体)、赤色発光の場合はZnPr(ポリフィリ
ン−亜鉛錯体)を用いればよい。このようにすれば、有
機EL表示装置にカラー表示を行わせることができる。
には、発光層5を形成する有機化合物の材質を変えれば
よく、緑色発光の場合はBebq2 (10−ベンゾ
〔h〕キノリノール−ベリリウム錯体)、青色発光の場
合はOXD(オキサジアゾール)またはAZM(アゾメ
チン−亜鉛錯体)、青緑色発光の場合はPYR(ピラゾ
リン)、黄色発光の場合はZnq2 (8−キノリノール
−亜鉛錯体)、赤色発光の場合はZnPr(ポリフィリ
ン−亜鉛錯体)を用いればよい。このようにすれば、有
機EL表示装置にカラー表示を行わせることができる。
【0039】(3)有機EL素子14からホール輸送層
4を省き、陽極3及び陰極10を除く有機化合物層を発
光層5と電位輸送層6の2層構造にする。 (4)有機EL素子14から電子輸送層6を省き、陽極
3及び陰極10を除く有機化合物層をホール輸送層4と
発光層5の2層構造にする。 (5)有機EL素子14において、ホール輸送層4を第
1のホール輸送層と第2のホール輸送層との2層構造に
する。このようにすれば、発光効率の極めて高い有機エ
レクトロルミネッセンス素子14を得ることが可能にな
り、有機EL表示装置の輝度をさらに向上させることが
できる。
4を省き、陽極3及び陰極10を除く有機化合物層を発
光層5と電位輸送層6の2層構造にする。 (4)有機EL素子14から電子輸送層6を省き、陽極
3及び陰極10を除く有機化合物層をホール輸送層4と
発光層5の2層構造にする。 (5)有機EL素子14において、ホール輸送層4を第
1のホール輸送層と第2のホール輸送層との2層構造に
する。このようにすれば、発光効率の極めて高い有機エ
レクトロルミネッセンス素子14を得ることが可能にな
り、有機EL表示装置の輝度をさらに向上させることが
できる。
【0040】(6)前述の実施形態においては、補助容
量を設けた有機EL表示装置を示したが、図7に示す如
く、補助容量を設けなくても良い。設けなければ、有機
EL素子の形成の工数の低減が図れるのでコストの削減
ができるとともに形成が容易に行える。しかし、充分な
電荷の保持を行うためには、補助容量を設ける方が好ま
しい。
量を設けた有機EL表示装置を示したが、図7に示す如
く、補助容量を設けなくても良い。設けなければ、有機
EL素子の形成の工数の低減が図れるのでコストの削減
ができるとともに形成が容易に行える。しかし、充分な
電荷の保持を行うためには、補助容量を設ける方が好ま
しい。
【0041】以上、各実施形態について説明したが、各
実施形態から把握できる請求項以外の技術的思想につい
て、以下にそれらの効果と共に記載する。(イ)請求項
1〜4のいずれか1項に記載の表示装置において、前記
有機エレクトロルミネッセンス素子は第1ホール輸送層
と第2ホール輸送層との2層構造から成るホール輸送層
を備える有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた表
示装置。
実施形態から把握できる請求項以外の技術的思想につい
て、以下にそれらの効果と共に記載する。(イ)請求項
1〜4のいずれか1項に記載の表示装置において、前記
有機エレクトロルミネッセンス素子は第1ホール輸送層
と第2ホール輸送層との2層構造から成るホール輸送層
を備える有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた表
示装置。
【0042】このようにすれば、発光効率の極めて高い
有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることが可能に
なり、表示装置の輝度をさらに向上させることができ
る。
有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることが可能に
なり、表示装置の輝度をさらに向上させることができ
る。
【0043】(ロ)請求項4において、前記バイポーラ
トランジスタはエミッタ接地回路を構成する表示装置。
このようにすれば、バイポーラトランジスタによる電流
増幅作用を大きくすることが可能になり、有機エレクト
ロルミネッセンス素子を大電流駆動することができる。
トランジスタはエミッタ接地回路を構成する表示装置。
このようにすれば、バイポーラトランジスタによる電流
増幅作用を大きくすることが可能になり、有機エレクト
ロルミネッセンス素子を大電流駆動することができる。
【0044】
【発明の効果】請求項1〜4のいずれか1項に記載の発
明によれば、高画質で製造コストが低いアクティブマト
リックス方式の有機エレクトロルミネッセンス素子を用
いた表示装置を提供することができる。請求項1〜3の
いずれか1項に記載の発明によれば、有機エレクトロル
ミネッセンス素子と有機半導体から成るバイポーラトラ
ンジスタとが積層形成されているため、有機エレクトロ
ルミネッセンス素子とバイポーラトランジスタとを同一
プロセスで連続的に製造することが可能になる。そのた
め、製造コストを低減することができる。また、バイポ
ーラトランジスタは大電流駆動が可能であるため、有機
エレクトロルミネッセンス素子を大電流駆動して高画質
な表示装置を得ることができる。
明によれば、高画質で製造コストが低いアクティブマト
リックス方式の有機エレクトロルミネッセンス素子を用
いた表示装置を提供することができる。請求項1〜3の
いずれか1項に記載の発明によれば、有機エレクトロル
ミネッセンス素子と有機半導体から成るバイポーラトラ
ンジスタとが積層形成されているため、有機エレクトロ
ルミネッセンス素子とバイポーラトランジスタとを同一
プロセスで連続的に製造することが可能になる。そのた
め、製造コストを低減することができる。また、バイポ
ーラトランジスタは大電流駆動が可能であるため、有機
エレクトロルミネッセンス素子を大電流駆動して高画質
な表示装置を得ることができる。
【0045】請求項1に記載の発明によれば、発光効率
の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることが
可能になり、表示装置の輝度を向上させることができ
る。請求項2または請求項3に記載の発明によれば、バ
イポーラトランジスタのコレクタ領域の平面寸法を有機
エレクトロルミネッセンス素子の平面寸法と同じにして
コレクタ電流を増大させることが可能になる。そのた
め、有機エレクトロルミネッセンス素子を容易に大電流
駆動することができる。また、バイポーラトランジスタ
のコレクタ領域と有機エレクトロルミネッセンス素子と
を接続する配線が不要であるため、構成が単純になる上
に、配線抵抗に伴う有機エレクトロルミネッセンス素子
の駆動電流にロスが生じることがなく低消費電力化を図
ることができる。
の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることが
可能になり、表示装置の輝度を向上させることができ
る。請求項2または請求項3に記載の発明によれば、バ
イポーラトランジスタのコレクタ領域の平面寸法を有機
エレクトロルミネッセンス素子の平面寸法と同じにして
コレクタ電流を増大させることが可能になる。そのた
め、有機エレクトロルミネッセンス素子を容易に大電流
駆動することができる。また、バイポーラトランジスタ
のコレクタ領域と有機エレクトロルミネッセンス素子と
を接続する配線が不要であるため、構成が単純になる上
に、配線抵抗に伴う有機エレクトロルミネッセンス素子
の駆動電流にロスが生じることがなく低消費電力化を図
ることができる。
【0046】請求項2に記載の発明によれば、バイポー
ラトランジスタとしてnpnトランジスタを得ることが
できる。請求項3に記載の発明によれば、バイポーラト
ランジスタとしてpnpトランジスタを得ることができ
る。請求項1〜3のいずれか1項に記載の発明によれ
ば、データ信号の保持が充分にできる表示装置が得られ
る。
ラトランジスタとしてnpnトランジスタを得ることが
できる。請求項3に記載の発明によれば、バイポーラト
ランジスタとしてpnpトランジスタを得ることができ
る。請求項1〜3のいずれか1項に記載の発明によれ
ば、データ信号の保持が充分にできる表示装置が得られ
る。
【0047】請求項4に記載の発明によれば、データ信
号の小さな電流によって、有機エレクトロルミネッセン
ス素子を大電流駆動することが可能になる。
号の小さな電流によって、有機エレクトロルミネッセン
ス素子を大電流駆動することが可能になる。
【図1】一実施形態の一部断面斜視図である。
【図2】一実施形態の回路構成を示す模式図である。
【図3】他の実施形態の一部断面を示す模式図である。
【図4】他の実施形態の回路構成を示す模式図である。
【図5】他の実施形態の回路構成を示す模式図である。
【図6】他の実施形態の平面を示す模式図である。
【図7】他の実施形態の一部断面を示す模式図である。
2…透明絶縁基板 3…陽極 4…ホール輸送層 5…発光層 6…電子輸送層 7…p型有機半導体層 8…n型有機半導体層 10…陰極 11…npnトランジスタ 14…有機EL素子 55…有機EL素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05B 33/08
Claims (4)
- 【請求項1】 画素駆動素子としてのバイポーラトラン
ジスタの有機半導体から成るコレクタ領域と、有機エレ
クトロルミネッセンス素子を構成する有機化合物層の少
なくとも一部とを共通にし、当該バイポーラトランジス
タと有機エレクトロルミネッセンス素子とを積層形成
し、前記有機エレクトロルミネッセンス素子は発光層
と、少なくともホール輸送層または電子輸送層のうちい
ずれか一方とを備え、前記バイポーラトランジスタのコ
レクタ電極と、電子輸送層またはホール輸送層との間に
補助容量を設けることを特徴とする表示装置。 - 【請求項2】 画素駆動素子としてのバイポーラトラン
ジスタの有機半導体から成るn型のコレクタ領域と、有
機エレクトロルミネッセンス素子を構成するn型の電子
輸送層とが同一層によって形成され、当該バイポーラト
ランジスタと有機エレクトロルミネッセンス素子とを積
層形成し、前記バイポーラトランジスタのコレクタ電極
と、前記電子輸送層との間に補助容量を設けることを特
徴とする表示装置。 - 【請求項3】 画素駆動素子としてのバイポーラトラン
ジスタの有機半導体から成るp型のコレクタ領域と、有
機エレクトロルミネッセンス素子を構成するp型のホー
ル輸送層とが同一層によって形成され、当該バイポーラ
トランジスタと有機エレクトロルミネッセンス素子とを
積層形成し、前記バイポーラトランジスタのコレクタ電
極と、前記ホール輸送層との間に補助容量を設けること
を特徴とするアクティブマトリックス方式の表示装置。 - 【請求項4】 請求項1〜3のうちいずれか1項に記載
の表示装置において、前記バイポーラトランジスタは、
データ信号を電流増幅して前記有機エレクトロルミネッ
センス素子へ供給する表示装置。
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