JP3263213B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP3263213B2 JP31345093A JP31345093A JP3263213B2 JP 3263213 B2 JP3263213 B2 JP 3263213B2 JP 31345093 A JP31345093 A JP 31345093A JP 31345093 A JP31345093 A JP 31345093A JP 3263213 B2 JP3263213 B2 JP 3263213B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はリング発振回路発振周波
数を制御する入力コントロール回路を構成する半導体集
積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】図3は従来のリング発振回路及びその入
力コントロール回路の構成を示すものである。この図に
おいて、リング発振回路38はCMOSインバータのリ
ング発振器で構成されており、CMOSインバータはP
MOSFET2個とNMOSFET2個とが直列に接続
され、リング発振回路38は、このCMOSインバータ
が奇数段接続されて構成される。ここでは、PMOSF
ET39,42及びNMOSFET45,48からなる
CMOSインバータと、PMOSFET40,43及び
NMOSFET46,49からなるCMOSインバータ
と、PMOSFET41,44及びNMOSFET4
7,50からなるCMOSインバータとを含む奇数段の
CMOSインバータによってリング発振回路38が構成
されている。
【0003】入力コントロール回路37は、PMOSF
ET31,32とNMOSFET34,35とから構成
されており、NMOSFET34のゲートに制御電圧V
inが印加されている。このNMOSFET34のドレイ
ンはPMOSFET31のドレインに接続されており、
このPMOSFET31のドレインは同ゲートと共通に
接続され、カレントミラー回路の電流入力部を構成して
いる。PMOSFET32はそのゲートがPMOSFE
T31のゲートと共通に接続されており、そのカレント
ミラー回路の電流出力部を構成している。このカレント
ミラー回路の電流出力部は前述したリング発振回路38
のPMOSトランジスタ39,40,…,41によって
も構成されている。PMOSFET32のドレインはN
MOSFET35のドレインと共通に接続されており、
このNMOSFET35のドレインは同ゲートと共通に
接続され、上記とは別のカレントミラー回路のカレント
ミラー回路の電流入力部を構成している。このカレント
ミラー回路は前述したリング発振器38のNMOSトラ
ンジスタ48〜50もその電流出力部を構成する。
【0004】このような構成において、入力コントロー
ル回路37に流れる電流に比例した電流IP ,IN がリ
ング発振回路38のCMOSインバータに流れ、発振周
波数が制御されることとなる。すなわち、その電流が大
きいほど発振周波数を高くすることができる。
【0005】しかしながら、上記従来の入力コントロー
ル回路にあっては、製造工程におけるMOSFETのチ
ャネル長のバラツキにより、個々の製品によって入力コ
ントロール回路に流れる電流が異なってしまい、リング
発振回路のCMOSインバータに流れる電流にも違いが
出てしまう。さらには、トランジスタのチャネル長が異
なると、CMOSインバータのゲート入力容量も変わっ
てしまう。チャネル長が短くなるとCMOSインバータ
の電流が大きくなり、リング発振回路の発振周波数を高
くする。さらに、CMOSインバータのゲート容量が減
少すると、充電が短時間となるためにこれもリング発振
回路の発振周波数を高くするように働く。
【0006】したがって、MOSFETのチャネル長の
バラツキは、CMOSインバータに流れる電流値を変化
させる効果とCMOSインバータの負荷容量とを変化さ
せる、という二重の効果を与え、個々の製品によってリ
ング発振回路の発振周波数がより異なってしまうという
問題がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
CMOSFETで構成した従来のリング発振回路にあっ
ては、製造工程のバラツキによりトランジスタのチャネ
ル長が異なると、リング発振回路のCMOSインバータ
に流れる電流と負荷容量とが変わるため、個々の製品に
より発振周波数が大きく異なるという問題があった。
【0008】そこで、本発明は、上記事情に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、MOSトランジ
スタのチャネル長やチャネル幅がばらついてもリング発
振回路の発振周波数のばらつきは小さくなるように動作
するリング発振回路の入力コントロール回路を構成する
半導体集積回路を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
によるリング発振回路の入力コントロール回路は、制御
電圧が印加される第1のNMOSトランジスタと、前記
第1のNMOSトランジスタのドレインにそのドレイン
が接続され、第1のカレントミラー回路の電流入力部を
成す第1のPMOSトランジスタと、前記第1のカレン
トミラー回路の電流出力部を成す第2のPMOSトラン
ジスタと、該第2のPMOSトランジスタのドレインに
そのドレインが接続され、第2のカレントミラー回路の
電流入力部を成す第2のNMOSトランジスタと、前記
リング発振回路と共に前記第2のカレントミラー回路の
電流出力部を成す第3のNMOSトランジスタと、前記
3のNMOSトランジスタのドレインにそのドレインが
接続され、前記リング発振回路を電流出力部とする第3
のカレントミラー回路の電流入力部を成す第3のPMO
Sトランジスタとを備え、前記第1のNMOSトランジ
スタ及び前記第2のPMOSトランジスタは、前記第
2、第3のNMOSトランジスタ及び前記第1、第3の
PMOSトランジスタにおけるチャネル長製造誤差では
その静特性が影響されない程度のチャネル長を有し、か
つ該チャネル長の大きさにより減少する電流を補償可能
な程度に大きなチャネル幅を有することを特徴とする。
【0010】本発明に係る別の入力コントロール回路
は、制御電圧が印加される第1のPMOSトランジスタ
と、前記第1のPMOSトランジスタのドレインにその
ドレインが接続され、第1のカレントミラー回路の電流
入力部を成す第1のNMOSトランジスタと、前記第1
のカレントミラー回路の電流出力部を成す第2のNMO
Sトランジスタと、該第2のNMOSトランジスタのド
レインにそのドレインが接続され、第2のカレントミラ
ー回路の電流入力部を成す第2のPMOSトランジスタ
と、前記リング発振回路と共に前記第2のカレントミラ
ー回路の電流出力部を成す第3のPMOSトランジスタ
と、前記3のPMOSトランジスタのドレインにそのド
レインが接続され、前記リング発振回路を電流出力部と
する第3のカレントミラー回路の電流入力部を成す第3
のNMOSトランジスタとを備え、前記第1のPMOS
トランジスタ及び前記第2のNMOSトランジスタは、
前記第2、第3のPMOSトランジスタ及び前記第1、
第3のNMOSトランジスタにおけるチャネル長製造誤
差ではその静特性が影響されない程度のチャネル長を有
し、かつ該チャネル長の大きさにより減少する電流を補
償可能な程度に大きなチャネル幅を有することを特徴と
している。
【0011】
【作用】このように構成された本発明のリング発振回路
の入力コントロール回路によれば、第1のNMOSトラ
ンジスタ及び第2のPMOSトランジスタのチャネル長
を、他のトランジスタの製造時のバラツキによって、そ
の静特性が影響されにくいものとして大きくし、かつそ
のチャネル長の大きさ故に減少する電流を補償可能な程
度にそれらのトランジスタのチャネル幅を大きくしてお
くようにしたことから、MOSトランジスタのチャネル
長やチャネル幅がばらついてもリング発振回路の発振周
波数のばらつきを小さくすることができる。
【0012】すなわち、MOSトランジスタのチャネル
長が短くなったときには第3のPMOSトランジスタの
ゲート電圧が上昇し、第2のNMOSトランジスタのゲ
ート電圧が下降する。よって、第3のPMOSトランジ
スタのゲート電圧をリング発振回路のコントロール用P
MOSトランジスタのゲートに接続し、第2のNMOS
トランジスタのゲート電圧をリング発振回路のコントロ
ール用NMOSトランジスタのゲートに接続すれば、リ
ング発振回路のCMOSインバータに流れる電流は減少
するので、リング発振回路の発振周波数が高くなるのを
抑制できる。また、逆にトランジスタのチャネル長が長
くなった場合には、リング発振回路の入力コントロール
回路の第3のPMOSFETのゲート電圧は下降し、第
2のNMOSFETのゲート電圧は上昇する。よって、
リング発振回路のCMOSインバータに流れる電流が増
大し、リング発振回路の発振周波数が下がることを防止
できる。
【0013】これにより、製造時にトランジスタのチャ
ネル長がばらついても、リング発振回路の発振周波数に
は、その影響を受けにくく、製品の歩留まりが向上す
る。
【0014】
【実施例】以下に本発明の実施例について図面を参照し
つつ説明する。図1は本発明の第1実施例に係るリング
発振回路及びその入力コントロール回路の構成を示すも
のである。リング発振回路8は上記従来の構成と同様の
もので、奇数段のCMOSインバータから構成されてい
る。ここでは、PMOSFET9,12及びNMOSF
ET15,18からなるCMOSインバータと、PMO
SFET10,13及びNMOSFET16,19から
なるCMOSインバータと、PMOSFET11,14
及びNMOSFET17,20からなるCMOSインバ
ータとを含む奇数段のCMOSインバータによってリン
グ発振回路8は構成されている。
【0015】入力コントロール回路7は、第1、第2、
第3のPMOSFET1,2,3と、第1、第2、第3
のNMOSFET4,5,6とから構成されている。こ
こでは、制御電圧Vinは第1のNMOSFET4のゲー
トに印加されており、この第1のNMOSFET4のド
レインと第1のPMOSFET1のドレインとは共通に
接続されている。この第1のPMOSFET1のゲー
ト、ドレインはダイオード接続され、第1のカレントミ
ラー回路の電流入力部を構成している。第2のPMOS
FET2のゲートは第1のPMOSFET1のゲートと
共通に接続されて当該第1のカレントミラー回路の電流
出力部を構成している。この第2のPMOSFET2の
ドレインと第2のNMOSFET5のドレインとは共通
に接続されており、この第2のNMOSFET5は第2
のカレントミラー回路の電流入力部を構成している。こ
の第2のNMOSFET5のゲートと第3のNMOSF
ET6のゲートとは共通に接続されており、この第3の
NMOSFET6は上記リング発振回路8のNMOSF
ET18,19,…,20と共に第2のカレントミラー
回路の電流出力部を構成している。この第3のNMOS
FET6のドレインと第3のPMOSFET3のドレイ
ンとは共通に接続されており、この第3のPMOSFE
T3は第3のカレントミラー回路の電流入力部を構成し
ている。この第3のカレントミラー回路の電流出力部は
上記リング発振回路8のPMOSFET9,10,…,
11によって構成されている。
【0016】さて、第1のNMOSFET4と第2のP
MOSFET2のチャネル長は製造時のバラツキを受け
にくいように十分長いチャネル長で設計する。このよう
にチャネル長を長くした分、トランジスタに流せる電流
が減少するので、第1のNMOSFET4と第2のPM
OSFET2とのチャネル幅は上記電流減少分を補える
だけチャネル幅を長くしておく。
【0017】上述したように構成されたリング発振回路
の入力コントロール回路7の動作は以下の通りである。
【0018】第1のNMOSFET4に流れる電流I1
は、 I1 =KN1(WN1/(LN1+ΔL))(Vin−Vth)2 … (1) で表される。
【0019】ここで、KN1はΔLに依存しない定数、Δ
Lは製造時のチャネル長のばらつきの大きさ、Vinは第
1のNMOSFET4のゲート入力電圧、Vthはトラン
ジスタのスレッショルド電圧、LN1,WN1はそれぞれト
ランジスタのチャネル幅、チャネル長を示している。
【0020】このとき、第1のPMOSFET1には電
流I1 が流れるようにゲートバイアスされるので、第1
のPMOSFET1のゲート電圧VP1は VP1=VDD−(I1 (LP1+ΔL)/KP1・WP1)−Vth … (2) となる。したがって、第2のPMOSFET2に流れる
電流は、 I2 =(KP2・WP2/(LP2+ΔL))(VDD−VP1−Vth)2 =(KP2・WP2/(LP2+ΔL))((LP1+ΔL)/KP1・WP1)I1 … (3) となる。
【0021】同様に、第3のNMOSFET6に流れる
電流は、 I3 =(KN3・WN3/(LN3+ΔL))((LN2+ΔL)/KN2・WN2)I2 … (4) で表される。
【0022】図1の第1実施例における構成ではリング
発振回路のCMOSインバータに流れる電流IP ,IN
はそれぞれI3 ,I2 に比例するので、 IP =αP ・I3 IN =αN ・I2 … (5) で表される。
【0023】ここで、リング発振回路の発振周波数fは
次の式で与えられる。
【0024】 f=1/(N(Tup+Tdown) … (6) ただし、NはCMOSインバータリングの段数、Tupは
CMOSインバータの出力立上がり時における遅延時
間、TdownはCMOSインバータの出力立下がり時の遅
延時間である。
【0025】 Tup=β・Cl /IP Tdown=β・Cl /IN Cl =γ・(LIV+ΔL) … (7) β,γはチャネル長に依存しない定数、LIVはCMOS
インバータのチャネル長である。
【0026】したがって、 f=1/(N・β・γ・(LIV+ΔL)((1/IP )+(1/IN )) … (8) で表される。
【0027】一般に高い周波数信号が要求される場合に
は、LIVはできるだけ短いチャネル長で設計しなければ
ならない。また、図3の従来例では電流IP ,IN がチ
ャネル長に反比例してばらつきの影響を受ける。したが
って、従来例では発振周波数fが(8)式よりチャネル
長の2乗に反比例してばらつくこととなる。
【0028】本発明のリング発振回路の入力コントロー
ル回路は、第1のNMOSFET4と第2のPMOSF
ET2だけをチャネル長のばらつき幅ΔLよりも十分に
大きくし、(LN1>>ΔL,LP2>>ΔL)他のトランジス
タ全てLIVとすると、I2 ,I3 は(1)、(3)、
(4)式により、次式のように表される。
【0029】 I2 =A(LIV+ΔL) … (9) (A=WP2・KN1・WN1/LP2・WP1・LN1(Vin−Vth)2 ) … (10) I3 =I2 ただし、KN1=KN2=KN3,KP1=KP2=KP3(ゆえに
NMOSFET,PMOSFETで固有の定数)、WN2
=WN3、WP1=WP3である。
【0030】LN1,LP1>LIVであるため、電流値が減
少する。その分を補うため、WN1>WN2(=WN3),W
P1=WP3である。
【0031】LN1,LP2>LIVであるため、電流値が減
少する。
【0032】その分を補うためにWN1>WN2(=WN
3)、WP2>WP1(=WP3)とする必要がある。
【0033】したがって、(9)、(10)式を(5)
式に代入して、 IP =αP ・A(LIV+ΔL) IN =αN ・A(LIV+ΔL) … (11) となり、IP ,IN はチャネルのばらつきに比例するよ
うになる。これを(8)式に代入して、発振周波数f
は、 f=A/N・β・γ((1/αP )+(1/αN )) … (12) と表され、ΔLには依存しなくなる。
【0034】以上述べたように、本実施例によれば、ト
ランジスタのチャネル長が個々の製品において、ばらつ
いていたとしてもリング発振回路の発振周波数のばらつ
きは小さく、個々の製品における歩留まりが著しく向上
する。
【0035】本発明に係るリング発振回路の入力コント
ロール回路の第2実施例を図2に示す。
【0036】入力コントロール回路27は第1、第2、
第3のPMOSFET21,22,23と第1、第2、
第3のNMOSFET24,25,26とから構成され
る。第1のPMOSFET21及び第2のNMOSFE
T22のチャネル長はLP1,LN2>>ΔL(>LP1,LP
3,LN1,LN3)とされ、チャネル幅は電流特性を合わ
せるために、WP1,WP2>WP1,WP3,WN1,WN3とさ
れている。
【0037】この入力コントロール回路27内の電流I
2 ,I3 は、第1実施例の解析と同様な手順で次のよう
に表すことができる。
【0038】 I2 =B(LIV+ΔL) … (13) I3 =B(LIV+ΔL) … (14) Bはチャネル長には依存しない定数である。
【0039】したがって、電流はLIV+ΔLに比例して
ばらつきの影響を受けるので、(8)式よりリング発振
回路の発振周波数はΔLには依存しなくなる。
【0040】本発明に係るリング発振回路の入力コント
ロール回路の第3実施例を図3に示す。入力コントロー
ル回路47は、第1、第2、第3のPMOSFET4
1,42,43と、第1、第2のNMOSFET25,
26と、オペアンプ40と、抵抗41とから構成され
る。第2のPMOSFET42のチャネル長LP2>>Δ
L(LP2>LP1,LP3,LN2,LN3)とさ
れ、チャネル幅は電流特性を合わせるためにWP2>W
P1,WP3,WN3とされいる。
【0041】この入力コントロール回路47内の電流I
1 は、 I1 =Vin/R … (15) で表わされる。したがって。I1 ,I3 は第1ま解析と
同様な手順で次のように表わすことができる。
【0042】 I2 =C(LIV+ΔL) … (16) I3 =C(LIV+ΔL) … (17) Cはチャネル長には依存しない定数である。したがっ
て、電流はLIV+ΔLに比例するので、(8)式より、
リング発振回路の発振周波数はΔLに依存しなくなる。
【0043】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、第
1のNMOSトランジスタ及び第2のPMOSトランジ
スタのチャネル長を、他のトランジスタの製造時のバラ
ツキによって、その静特性が影響されにくいものとして
大きくし、かつそのチャネル長の大きさ故に減少する電
流を補償可能な程度にそれらのトランジスタのチャネル
幅を大きくしておくようにしたことから、MOSトラン
ジスタのチャネル長やチャネル幅がばらついてもリング
発振回路の発振周波数のばらつきを小さくすることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るリング発振回路用入力コントロー
ル回路の第1実施例の構成を示す回路図。
【図2】本発明に係るリング発振回路用入力コントロー
ル回路の第2実施例の構成を示す回路図。
【図3】本発明に係るリング発振回路用入力コントロー
ル回路の第3実施例の構成を示す回路図。
【図4】従来技術に係るリング発振回路用入力コントロ
ール回路の一例の構成を示す回路図。
【符号の説明】
1,21,41 入力コントロール回路における第1の
PMOSFET 2,22,42 入力コントロール回路における第2の
PMOSFET 3,23,43 入力コントロール回路における第3の
PMOSFET 4,24 入力コントロール回路における第1のNMO
SFET 5,25,45 入力コントロール回路における第2の
NMOSFET 6,26,46 入力コントロール回路における第3の
NMOSFET 7,27,47 リング発振回路の入力コントロール回
路 8,28 リング発振回路 9,10,11 電流制御用PMOSFET 12,13,14 CMOSインバータ動作用のPMO
SFET 15,16,17 CMOSインバータ動作用のNMO
SFET 18,19,20 電流制御用NMOSFET 40 オペアンプ 44 抵抗 Vin 入力コントロール回路の入力電圧 VDD 電源電圧 VP リング発振回路のPチャネル側制御用電圧 VN リング発振回路のNチャネル側制御用電圧 I1 ,I2 ,I3 電流 LP1 第1のPMOSFETのチャネル長 WP1 第1のPMOSFETのチャネル幅 LP2 第2のPMOSFETのチャネル長 WP2 第2のPMOSFETのチャネル幅 LP2 第3のPMOSFETのチャネル長 WP2 第3のPMOSFETのチャネル幅 LN1 第1のNMOSFETのチャネル長 WN1 第1のNMOSFETのチャネル幅 LN2 第2のNMOSFETのチャネル長 WN2 第2のNMOSFETのチャネル幅 LN3 第3のNMOSFETのチャネル長 WN3 第3のNMOSFETのチャネル幅 LIV リング発振回路のCMOSインバータのチャネル

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】入力制御電圧によってリング発振回路の発
    振周波数を制御する入力コントロール回路を成す半導体
    集積回路であって、 前記制御電圧が印加される第1のNMOSトランジスタ
    と、 前記第1のNMOSトランジスタのドレインにそのドレ
    インが接続され、第1のカレントミラー回路の電流入力
    部を成す第1のPMOSトランジスタと、 前記第1のカレントミラー回路の電流出力部を成す第2
    のPMOSトランジスタと、 該第2のPMOSトランジスタのドレインにそのドレイ
    ンが接続され、第2のカレントミラー回路の電流入力部
    を成す第2のNMOSトランジスタと、 前記リング発振回路と共に前記第2のカレントミラー回
    路の電流出力部を成す第3のNMOSトランジスタと、 前記3のNMOSトランジスタのドレインにそのドレイ
    ンが接続され、前記リング発振回路を電流出力部とする
    第3のカレントミラー回路の電流入力部を成す第3のP
    MOSトランジスタとを備え、 前記第1のNMOSトランジスタ及び前記第2のPMO
    Sトランジスタは、 前記第2、第3のNMOSトランジスタ及び前記第1、
    第3のPMOSトランジスタにおけるチャネル長製造誤
    差ではその静特性が影響されない程度のチャネル長を有
    し、かつ該チャネル長の大きさにより減少する電流を補
    償可能な程度に大きなチャネル幅を有することを特徴と
    する半導体集積回路。
  2. 【請求項2】入力制御電圧によってリング発振回路の発
    振周波数を制御する入力コントロール回路を成す半導体
    集積回路であって、 前記制御電圧が印加される第1のPMOSトランジスタ
    と、 前記第1のPMOSトランジスタのドレインにそのドレ
    インが接続され、第1のカレントミラー回路の電流入力
    部を成す第1のNMOSトランジスタと、 前記第1のカレントミラー回路の電流出力部を成す第2
    のNMOSトランジスタと、 該第2のNMOSトランジスタのドレインにそのドレイ
    ンが接続され、第2のカレントミラー回路の電流入力部
    を成す第2のPMOSトランジスタと、 前記リング発振回路と共に前記第2のカレントミラー回
    路の電流出力部を成す第3のPMOSトランジスタと、 前記3のPMOSトランジスタのドレインにそのドレイ
    ンが接続され、前記リング発振回路を電流出力部とする
    第3のカレントミラー回路の電流入力部を成す第3のN
    MOSトランジスタとを備え、 前記第1のPMOSトランジスタ及び前記第2のNMO
    Sトランジスタは、 前記第2、第3のPMOSトランジスタ及び前記第1、
    第3のNMOSトランジスタにおけるチャネル長製造誤
    差ではその静特性が影響されない程度のチャネル長を有
    し、かつ該チャネル長の大きさにより減少する電流を補
    償可能な程度に大きなチャネル幅を有することを特徴と
    する半導体集積回路。
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