JP3247193B2 - p−t−ブトキシスチレン系重合体の製造方法 - Google Patents
p−t−ブトキシスチレン系重合体の製造方法Info
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Description
用なp−ビニルフェノール系重合体の前駆重合体として
用いられるp−t−ブトキシスチレン系重合体を製造す
る方法に関する。
−ビニルフェノール系重合体が使用されているが、p−
ビニルフェノール単量体は不安定で取扱いにくく、該単
量体を重合するのは難しい。このため、p−ビニルフェ
ノールの水酸基を化学的に安定で脱離の容易なt−ブチ
ル基で保護したp−t−ブトキシスチレンを重合し、得
られたp−t−ブトキシスチレン系重合体からt−ブチ
ル基を脱離させることにより、p−ビニルフェノール系
重合体を得る方法が提案されている。
レン系重合体から重合度を変化させることなく保護基で
あるt−ブチル基が脱離しp−ビニルフェノール系重合
体を得ることができる。このように、p−t−ブトキシ
スチレン系重合体はp−ビニルフェノール系重合体の前
駆重合体として有用である。通常、レジスト材料として
p−ビニルフェノール系重合体が使用される場合は、重
量平均分子量が500〜50000の比較的低分子量の
ものが使用される。該重合体の分子量がこの範囲よりも
低いと十分な強度を有するレジスト膜が得られず、この
範囲よりも高いとレジストとしての十分な解像度が得ら
れなくなるからである。また、近年、レジストに描かれ
るパターンの微細化が進み、レジストに対し一層高い解
像度が求められている。これに対応するため分子量分布
の狭いp−ビニルフェノール系重合体が要望されてい
る。
分子量の重合体を製造する方法としては、(1)ハロゲ
ン化合物、メルカプタン化合物等の連鎖移動剤を存在さ
せて重合する方法、(2)低温分解性の重合開始剤を多
量に用いて塊状重合する方法(特公昭56−34163
号)、(3)150℃〜250℃で熱重合する方法、
(4)低分子量で分子量分布の非常に狭い重合体を製造
する方法としてリビングアニオン重合法等が知られてい
る。しかしながら、上記方法(1)は、生成する重合体
の末端に、ハロゲン、メルカプタン等が導入される。そ
のため、ハロゲン等が分解反応の原因となる可能性があ
るのでレジスト材として好ましくなく、さらに、臭気、
安全性の面でも問題である。
体を得ることができる。しかし、方法(2)は塊状重合
であるため、重合中除熱がスムーズにいかない。このた
め塊状重合反応物の反応温度の温度分布が広くなり、目
的とする分子量の重合体を再現性よく得られないという
問題がある。また、上記方法(3)は、150〜250
℃と高温で重合されるためエネルギー消費量が甚大であ
るという欠点がある。
分子量分布が狭く、かつ計算された分子量に近い重合体
を得ることができるが、原料中の水分を除くための精製
が必要であるため工程が煩雑となり、また、通常0℃以
下の低温で重合が行なわれるために、特殊な製造装置が
必要である。
は、従来の方法の問題点を解決し、重量平均分子量が比
較的低分子量である範囲で、分子量分布の狭いp−t−
ブトキシスチレン系重合体を温和な条件で確実かつ容易
に高収率で得る重合方法を提供することにある。
を解決するために鋭意検討した結果、p−t−ブトキシ
スチレン又はp−t−ブトキシスチレンを含む単量体混
合物を溶液重合する際に、10時間半減期温度が70〜
90℃の有機過酸化物開始剤を所定量仕込んで重合を開
始し、次いで、重合率が所定の範囲内にあるときに該開
始剤を反応液に追加することで、上記の目的を達成する
ことができることを見い出した。
ン又はp−t−ブトキシスチレンを含む単量体混合物を
80〜100℃で開始剤を用いて溶液重合することから
なるp−t−ブトキシスチレン系重合体の製造方法にお
いて、前記開始剤が10時間半減期温度が70〜90℃
の有機過酸化物からなり;該開始剤を単量体100重量
部あたり2.5〜10重量部用いて重合を開始し;そし
て、該開始剤を、重合率が40〜60%の範囲内で反応
混合物に追加添加を開始する;ことを特徴とするp−t
−ブトキシスチレン系重合体の製造方法が提供される。
が70〜90℃の有機過酸化物開始剤としては、例え
ば、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエー
ト、m−トルオイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオ
キサイド、t−ブチルパーオキシイソブチレート、1,
1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリ
メチルシクロヘキサン等が挙げられる。該開始剤の重合
開始時の仕込量は、単量体100重量部に対して2.5
〜10重量部の範囲であり、特に3〜7重量部の範囲で
あることが好ましい。該仕込量が2.5重量部未満であ
ると所望の低分子量の重合体を得ることができない。ま
た、10重量部を超えると必要以上の添加で開始剤の浪
費であるばかりでなく、反応系をコントロールすること
が困難になる。
率が40〜60%の範囲内で反応混合物に開始剤の追加
添加を開始する。この追加添加を行わないと、重合率4
0〜60%付近で開始剤の活性が失われてくる。重合率
が40%未満の範囲で開始剤を追加すると反応系が不安
定になり、制御できなくなる。また、重合系が60%を
超えた段階で開始剤の追加を開始すると、生成する重合
体の分子量分布がブロードとなったり、さらには分子量
分布が二つ以上に分かれる場合が生じる。開始剤の追加
添加の終了は、通常、重合率が(添加開始時の重合率+
20%)〜80%に到達した段階で行われる。
好適な添加方法としては、例えば、開始剤を少量ずつ連
続的あるいは間欠的に一定時間にわたり添加する方法等
が挙げられる。追加の開始剤を一度に添加すると、急激
に反応が励起されてしまうために重合の制御が困難にな
ることがある。この場合は、重合体を再現性よく製造す
ることができないので注意を要する。追加される開始剤
の適量範囲は、仕込み時の単量体100重量部に対し
て、好ましくは2〜8重量部であり、より好ましくは3
〜7重量部である。追加される開始剤の量が少なすぎる
と、反応を継続して進行させることが難しく、高収率で
重合体が得られない。また、多すぎると、系中の単量体
を余すことなく重合させることができるが、過剰の開始
剤が得られる重合体中に残存することとなり好ましくな
い。
イミングを決定する重合率とは、p−t−ブトキシスチ
レン単独で重合する場合も、p−t−ブトキシスチレン
を他の単量体と共重合する場合も、その重合において仕
込まれたp−t−ブトキシスチレン全量に対する、重合
反応により消費されたp−t−ブトキシスチレンの割合
を意味する。
チレンを単独で使用することができる他、p−t−ブト
キシスチレンとp−t−ブトキシスチレンと共重合可能
な単量体を含有する単量体の混合物(好ましくは、p−
t−ブトキシスチレンを50重量%以上含有)も使用す
ることができる。かかるp−t−ブトキシスチレンと共
重合可能な単量体としては、スチレン、α−メチルスチ
レン、ビニルトルエン、臭素化スチレン等のスチレン系
化合物;メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、ア
クリル酸メチル等の不飽和モノカルボン酸エステル;イ
タコン酸ジメチル等の不飽和ジカルボン酸エステル;ア
クリロニトリル;酢酸ビニル等のビニルエステル;ブタ
ジエン、ブテン等の脂肪族不飽和炭化水素等を例示する
ことができる。
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン、
及び、テトラヒドロフラン、イソプロピルエーテル、
1,4−ジオキサン等のエーテルが挙げられる。特に、
アセトン及びテトラヒドロフランが好適である。上に例
示の溶媒は、開始剤から単量体への連鎖移動性が良好で
あるので、低分子量の重合体を得るために比較的少量の
溶媒でよく、高収量が得られる上でも有利である。溶媒
の使用量は、好ましくは、単量体100重量部に対して
100〜1000重量部であり、重合体の収量、溶媒除
去の手間等を考慮すると、200〜500重量部がより
好ましい。
重合と同様に行われる。以下、本発明の重合方法を具体
的に例示する。まず、単量体及び溶媒を重合器に仕込
み、その後、開始剤を仕込む。次に、重合器内を窒素置
換して、オートクレーブにセットする。その後、攪拌し
ながら、80〜100℃の反応温度で重合する。重合率
が40〜60%の範囲にある段階で重合開始剤を追加す
る。重合中、重合溶液を適宜サンプリングし臭素水溶液
で滴定することで残存モノマー量を定量する。得られる
臭素滴定値がほぼ一定になった時点で重合が完了したと
判断される。重合温度が80℃未満であると、使用され
る開始剤が活性化されないので、反応時間が長くなった
り、収率が低くなったり、低分子量の重合体が得られな
い等の不利を生じ、また、重合温度が100℃を超え、
所望の低分子量の重合体を得るには有利であるが、反応
の制御が困難となったり、溶媒の蒸気圧が高くなるため
安全上問題があるからである。
ール、エタノール等の溶剤による再沈殿法による。こう
して得られるp−t−ブトキシスチレン系重合体は、重
量平均分子量が比較的低分子量の範囲で、しかも通常M
w/Mnが2.0以下と分子量分布が狭い。そのため、
ブチル基の脱離により得られるp−ビニルフェノール系
重合体は、高解像度レジスト材料の原料として好適であ
る。
るが、本発明の範囲はこれらの実施例により限定されな
い。なお、以下の実施例において、重合率は、重合中の
反応混合物をサンプリングし、サンプル中に残存するp
−t−ブトキシスチレンを定量し、重合に消費される割
合を算出して求めた。
留、精製したp−t−ブトキシスチレン単量体(北興化
学(株)製)300g、溶媒としてアセトン600g、
有機過酸化物開始剤としてt−ブチルパーオキシ−2−
エチルヘキサノエート12gを入れ、窒素置換した後
に、オートクレーブにセットし、攪拌しながら90℃ま
で昇温し、重合を開始した。重合を開始してから2.5
時間後(重合率約50%)に、2時間にわたり該開始剤
15gを微量定量注入ポンプを使用して連続的に追加し
た。開始剤の追加を終了した時点で重合率は、77%で
あった。さらに30分間重合を継続し、重合開始から5
時間後に反応を終了した。重合終了後の反応液を多量の
メタノール中に徐々に投入し、重合体を沈殿させた。
た後、再度メタノール中に投入して重合体を再沈殿させ
た。次に、分離した重合体をメタノールで数回洗浄し、
真空乾燥機で乾燥し、p−t−ブトキシスチレン重合体
の精製物を得た。収量は275gであった。上記の方法
で得られたp−t−ブトキシスチレン重合体について、
高速GPC(東ソー(株)製、HLC−8020型)に
より、重量平均分子量及び数平均分子量を測定し、重量
平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn比)を求めた。
重量平均分子量は6200、Mw/Mn比は1.60で
あった。
5gとした以外は、実施例1と同様に重合、精製及び測
定を行なった。重量平均分子量は2900、Mw/Mn
比は1.58であった。収量は268gであった。
で2gずつ間欠的に投入した(計16g、重合率50
%,55%,59%,62%,66%,69%,72
%,75%の段階で計8回に分けて添加した。)以外は
実施例1と同様にして重合、精製及び測定を行なった。
重量平均分子量は6400、Mw/Mn比は1.64、
収量は260gであった。
にテトラヒドロフランを使用した以外は実施例1と同様
にして重合、精製及び測定を行なった。重量平均分子量
は7700、Mw/Mn比は1.58、収量は270g
であった。
間を4時間とした以外は実施例1と同様にして重合、精
製及び測定を行なった。重量平均分子量は14800、
Mw/Mn比は2.35、収量は168gであった。
(重合率27%)後に、開始剤を追加し始めた以外は実
施例1と同様にして重合を進めたが、開始剤の追加によ
り温度制御が困難となり、重合を中止した。
ジイソプロピルパーオキシジカーボネート(10時間半
減期温度40.5℃)を用いた以外は実施例1と同様に
して重合、精製及び測定を行なった。重量平均分子量に
3つのピーク(17500,8300,4200)が現
れ、収量は145gであった。
条件によらなくても温和な条件で分子量分布が狭く、か
つ、重量平均分子量が比較的低分子量である範囲のp−
t−ブトキシスチレン系重合体を高収率で容易に得るこ
とができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 p−t−ブトキシスチレン又はp−t−
ブトキシスチレンを含む単量体混合物を80〜100℃
で開始剤を用いて溶液重合することからなるp−t−ブ
トキシスチレン系重合体の製造方法において、 前記開始剤が10時間半減期温度が70〜90℃の有機
過酸化物からなり;該開始剤を単量体100重量部あた
り2.5〜10重量部用いて重合を開始し;そして、 該開始剤を、重合率が40〜60%の範囲内で反応混合
物に追加添加を開始する;ことを特徴とするp−t−ブ
トキシスチレン系重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP09531393A JP3247193B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | p−t−ブトキシスチレン系重合体の製造方法 |
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JPH06287205A JPH06287205A (ja) | 1994-10-11 |
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JP09531393A Expired - Fee Related JP3247193B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | p−t−ブトキシスチレン系重合体の製造方法 |
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US5861231A (en) * | 1996-06-11 | 1999-01-19 | Shipley Company, L.L.C. | Copolymers and photoresist compositions comprising copolymer resin binder component |
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1993
- 1993-03-30 JP JP09531393A patent/JP3247193B2/ja not_active Expired - Fee Related
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