JP3240546B2

JP3240546B2 - 電子写真感光体とその製造方法

Info

Publication number: JP3240546B2
Application number: JP14807594A
Authority: JP
Inventors: 晃大平; 淳二氏原
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1994-06-29
Filing date: 1994-06-29
Publication date: 2001-12-17
Anticipated expiration: 2016-12-17
Also published as: JPH0815873A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体に関
し、特に構成層の塗布要件に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子写真感光体としては、硫化カ
ドミウム、セレン等の無機光導電性物質を用いたものが
主流であった。

【０００３】しかし、近年電子写真感光体に用いられる
光導電性材料として、無機光導電性材料に代わり有機光
導電性材料が広く用いられるようになった。その理由
は、有機光導電性材料においては、合成物質、及び、合
成条件の組み合わせによって、多種多様な材料を得るこ
とが出来、材料の選択の幅が大きく、目的に応じた多様
な感光体を作りやすいと言うことがあろう。さらに又、
前記有機光導電性材料を用いた感光体においては、電荷
発生機能と、電荷輸送機能とを分けて別々な材料に分担
させて構成する機能分離型とすることにより、材料の選
択の幅が一層拡大し、帯電能、感度、及び、耐久性等の
電子写真感光体に必要な諸特性の改善を図りやすくなっ
たためである。

【０００４】従って、種々の有機光電導性物質を電子写
真感光体の感光層の材料として利用することが近年活発
に開発、研究されている。このような有機電子写真感光
体によれば、感光層を塗布により形成できるので製造コ
ストが安く、公害や環境汚染も防止でき、また種々の形
（シート状等）に容易に加工できる。

【０００５】円筒状基体の筒面外側面上に感光体用塗工
液を塗布し電子写真感光体を製造する塗布方法として
は、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロ
ール塗布法、および円形量規制型塗布法（スライドホッ
パー塗布法）などが知られている。

【０００６】前記スプレー塗布法では、スプレーガンに
より噴出された感光体用塗工液料が被塗布体の外面上に
到達する前に溶剤が蒸発するために、乾燥固化した粒子
が、表面に付着し、平滑性の良い塗布表面が得られずか
つ膜厚の制御も難しい。また、ブレード塗布法およびロ
ール塗布法は、塗膜液の粘性により均一な塗布が得られ
ない欠点がある。一方、浸漬塗布法は、上記の塗布表面
の平滑性、塗布膜の均一性については改良されるが、膜
厚の制御が塗布液の物性と塗布速度とに支配される。し
たがって、塗布液の調製が非常に重要となるが、この調
整は実際的に著しく困難であり、また塗布速度も遅く生
産性が悪い欠点がある。又、塗布液が大量に必要であ
り、重層時での他物質の混入、汚染がある。しかも安定
な化合物を用いないと塗布液の交換を煩雑に行う必要性
がでてくる。

【０００７】このような塗布法に対して特開昭58-18906
1号に代表されるいわゆるスライドホッパー方式の塗布
法は、前記の欠点がなく好適であるが、特有の問題点も
あり、実用上種々の問題点を生じていることも事実であ
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記円形量
規制型塗布法（スライドホッパー塗布法）の製造時にお
ける問題点を解決するためになされたものである。

【０００９】電子写真感光体の各層、例えば中間層、電
荷発生層（ＣＧＬ）、電荷輸送層（ＣＴＬ）、保護層あ
るいは単層型感光層をスライドホッパーにより塗布する
場合、各層のドライ膜厚、塗布液組成、塗布液物性に応
じて塗布条件、例えば塗布速度、送液量、被塗布物との
間隙ギャップ等が決定される。しかしスライドホッパー
による塗布に於いても、安定に塗布できる範囲が比較的
狭く、塗布中に塗布条件が変化した場合、（温度変化、
塗布液粘度、ドラム口径のバラツキ等による）タテスジ
等の塗布欠陥、ひどい場合にはビードが出来なくなり液
ぎれが発生し塗布不能におちいってしまう。又、塗布中
変動のみならず、使用塗布液に対しての塗布可能許容幅
を大きくすることが要望されている。

【００１０】本発明の第１の目的は塗布欠陥のない安定
した塗布を提供することであり第２の目的は塗布可能領
域を拡大することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明にあたって、塗布
液条件、スライド角度について種々検討した結果下記ａ
〜ｊ項のいずれかによって本発明の課題を解決すること
ができた。

【００１２】ａ．導電性基体と感光層との間に中間層を
有する電子写真感光体において、該中間層が23℃におい
て1.0〜50ミリパスカル・秒の粘度を有する中間層用塗
工液を用い、スライド部の傾斜角が水平に対して40〜70
°の範囲に設定された円形量規制型塗布機により前記基
体上に塗設して成り、該中間層のウェット膜厚（hw）に
対するドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）が5/1〜100/1で
あることを特徴とする電子写真感光体。

【００１３】ｂ．導電性基体と感光層との間に中間層を
有する電子写真感光体の製造方法において、該中間層が
23℃において1.0〜50ミリパスカル・秒の粘度を有する
中間層用塗工液を用い、スライド部の傾斜角が水平に対
して40〜70°の範囲に設定された円形量規制型塗布機に
より、前記基体上に塗布し、得られる前記中間層のウェ
ット膜厚（hw）に対するドライ膜厚（hd）の比（hw／h
d）が5/1〜100/1であることを特徴とする電子写真感光
体の製造方法。

【００１４】ｃ．導電性基体上に電荷発生物質を含む電
荷発生層と電荷輸送物質を含む電荷輸送層とを積層して
なる感光層を有する電子写真感光体において、該電荷発
生層が23℃において1.0〜50ミリパスカル・秒の粘度を
有する電荷発生層用塗工液を用い、スライド部の傾斜角
が水平に対して40〜70°の範囲に設定された円形量規制
型塗布機により塗布して成り、前記電荷発生層のウェッ
ト膜厚（hw）に対するドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）
が5/1〜100/1であることを特徴とする電子写真感光体。

【００１５】ｄ．導電性基体上に電荷発生物質を含む電
荷発生層と電荷輸送物質を含む電荷輸送層とを積層して
なる感光層を有する電子写真感光体の製造方法におい
て、該電荷発生層が23℃において1.0〜50ミリパスカル
・秒の粘度を有する電荷発生層用塗工液を用い、スライ
ド部の傾斜角が水平に対して40〜70°の範囲に設定され
た円形量規制型塗布機により塗布し、得られる前記電荷
発生層のウェット膜厚（hw）に対するドライ膜厚（hd）
の比（hw／hd）が5/1〜100/1であることを特徴とする電
子写真感光体の製造方法。

【００１６】ｅ．導電性基体上に電荷発生物質を含む電
荷発生層と電荷輸送物質を含む電荷輸送層とを積層して
なる感光層を有する電子写真感光体において、該電荷輸
送層が23℃において50〜500ミリパスカル・秒の粘度を
有する電荷輸送層塗工液を用い、スライド部の傾斜角が
水平に対して40〜70°の範囲に設定された円形量規制型
塗布機により、塗設して成り、前記電荷輸送層のウェッ
ト膜厚（hw）に対するドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）
が3/1〜10/1であることを特徴とする電子写真感光体。

【００１７】ｆ．導電性基体上に電荷発生物質を含む電
荷発生層と電荷輸送物質を含む電荷輸送層とを積層して
なる感光層を有する電子写真感光体の製造方法におい
て、該電荷輸送層が23℃において50〜500ミリパスカル
・秒の粘度を有する電荷輸送層用塗工液を用い、スライ
ド部の傾斜角が水平に対して40〜70°の範囲に設定され
た円形量規制型塗布機により塗布し、得られる前記電荷
輸送層のウェット膜厚（hw）に対するドライ膜厚（hd）
の比（hw／hd）が3/1〜10/1であることを特徴とする電
子写真感光体の製造方法。

【００１８】ｇ．導電性基体上に電荷発生物質と電荷輸
送物質と有機バインダーとを含む単層型感光体を有する
電子写真感光体において、該感光層が23℃において50〜
500ミリパスカル・秒の粘度を有する感光層用塗工液を
用い、スライド部の傾斜角が水平に対して40〜70°の範
囲に設定された円形量規制型塗布機により、塗設して成
り、前記感光層のウェット膜厚（hw）に対するドライ膜
厚（hd）の比（hw／hd）が3/1〜10/1であることを特徴
とする電子写真感光体。

【００１９】ｈ．導電性基体上に電荷発生物質と電荷輸
送物質と有機バインダーとを含む単層型感光層を有する
電子写真感光体の製造方法において、該感光層が23℃に
おいて50〜500ミリパスカル・秒の粘度を有する感光層
用塗工液を用い、スライド部の傾斜角が水平に対して40
〜70°の範囲に設定された円形量規制型塗布機により塗
布し、得られる前記感光層のウェット膜厚（hw）に対す
るドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）が3/1〜10/1である
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。

【００２０】ｉ．感光層上に保護層を有する電子写真感
光体において、該保護層が23℃において５〜200ミリパ
スカル・秒の粘度を有する保護層用塗工液を用い、スラ
イド部の傾斜角が水平に対して40〜70°の範囲に設定さ
れた円形量規制型塗布機により前記感光層上に塗設して
成り、前記保護層のウェット膜厚（hw）に対するドライ
膜厚（hd）の比（hw／hd）が5/1〜100/1であることを特
徴とする電子写真感光体。

【００２１】ｊ．感光層上に保護層を有する電子写真感
光体の製造方法において、該保護層が23℃において５〜
200ミリパスカル・秒の粘度を有する保護用塗工液を用
い、スライド部の傾斜角が水平に対して40〜70°の範囲
に設定された円形量規制型塗布機により、該感光層上に
塗設し、得られる保護層のウェット膜厚（hw）に対する
ドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）が5/1〜100/1であるこ
とを特徴とする電子写真感光体の製造方法。

【００２２】以上の如く、スライド部の傾斜角を40〜70
°以内に設定することにより、hw／hdと粘度との間に上
記関係式を満たしていれば、画像欠陥がない安定な塗布
ができる。すなわち各層には各々の目的に応じるように
hdが設定されるが、塗布液物性の傾向も各層特有なもの
と考えられる。中間層塗布液は粘度が低く、電荷輸送層
塗布液は粘度が高い傾向にあり、電荷発生層塗布液は顔
料分散系であり、前者とは少し異なる挙動を示す。

【００２３】しかし、これら塗布液のhw／hdと粘度の関
係とスライド部の傾斜角とは密接な関係があり、この範
囲内では安定した塗布が可能となった。

【００２４】感光体の構成は種々の形態が知られてい
る。

【００２５】本発明においては感光体はそれらのいずれ
の形態を取り得る。すなわち通常は図１（ａ）〜（ｆ）
のような構成となる。図１（ａ）に示す層構成は、導電
性支持体１上にキャリア発生層２を形成し、これにキャ
リア輸送層３を積層して感光層４を形成したものであ
り、同図（ｂ）はこれらのキャリア発生層２とキャリア
輸送層３を逆にした感光層４′を形成したものである。
同図（ｃ）は（ａ）の層構成の感光層とを形成したもの
であり、同図（ｂ）はこれらのキャリア発生層２とキャ
リア輸送層３を逆にした感光層４′を形成したものであ
る。同図（ｃ）は（ａ）の層構成の感光層４と導電性支
持体１の間に中間層５を設け、同図（ｄ）は（ｂ）の層
構成の感光層４′と導電性支持体１との間に中間層５を
設けたものである。同図（ｅ）の層構成はキャリア発生
物質６とキャリア輸送物質７を含有する感光層４″を形
成したものであり、同図（ｆ）はこのような感光層４″
と導電性支持体１との間に中間層５を設けたものであ
る。図１（ａ）〜（ｆ）の構成において、最表層にはさ
らに保護層を設けることができる。

【００２６】電荷発生層２、電荷輸送層３あるいは保護
層の形成に用いられるバインダー樹脂は任意のものを用
いることができるが、疎水性で、電気絶縁性のフィルム
形成性高分子重合体を用いるのが好ましい。このような
高分子重合体としは、例えば次のものを挙げることがで
きる。

【００２７】ポリカーボネートポリエステルメタクリル酸アクリル樹脂ポリ塩化ビニルポリ塩化ビニリデンポリスチレンポリビニルアセテートスチレン-ブタジエン共重合体塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体シリコン樹脂シリコン-アルキッド樹脂フェノールホルムアルデヒド樹脂スチレン-アルキッド樹脂ポリ-N-ビニルカルバゾールポリアミドポリウレタンポリケトンエポキシ樹脂ポリビニルブチラールポリビニルホルマール本発明において、電荷発生層は電荷発生物質を適当な分
散媒に単独もしくは適当なバインダー樹脂と共に分散せ
しめた分散液を導電性支持体あるいは必要に応じて中間
層を設けた上に塗布して乾燥させる方法によって形成す
ることができる。

【００２８】本発明の感光体においては、電荷発生物質
として次の代表例で示されるような顔料が用いられる。

【００２９】（１）モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリ
アゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料等のアゾ顔料（２）ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミド等のペリレ
ン顔料（３）アントラキン誘導体、アントアントロン誘導体、
ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビ
オラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等多
環キノン顔料（４）インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイン
ジゴイド顔料（５）金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン等
のフタロシアニン顔料更に詳しくは電荷発生物質について述べると、本発明に
おいて好ましく用いられる電荷発生物質としては、特開
昭59-184353号記載の多環キノン顔料、更に好ましくは
ジブロムアンスアンスロン顔料が良い。

【００３０】あるいは、特開平2-20877号記載のビスア
ゾ顔料、更に好ましくは、同明細書記載の一般式〔II
I〕で表されるフルオレノン型ビスアゾ顔料が良い。

【００３１】あるいは、特公平3-26384号記載のハロゲ
ン置換型ペリレン系顔料、特開昭62-54267号記載の非対
称型ペリレン系顔料、特開昭54-126036号、同58-152247
号、同59-31957号、特開平2-251858号、同4-62560号、
同5-6014号記載のペリレン系顔料、更に好ましくは特願
平3-279764号記載のビスイミダゾピリドノペリレン系顔
料が良い。

【００３２】あるいは、特開昭61-239248号記載のα型
チタニルフタロシアニン、同62-67094号記載のβ型チタ
ニルフタロシアニン、同63-366号記載のＣ型チタニルフ
タロシアニン、特開平2-309362号記載のＩ型チタニルフ
タロシアニンがあり、更に好ましくは、特願昭62-17364
0号記載のＹ型チタニルフタロシアニンが良い。

【００３３】電荷発生層の形成に使用される溶媒あるい
は分散媒としては、n-ブチルアミン、ジエチルアミン、
エチレンジアミン、イソプロパノールアミン、トリエタ
ノールアミン、トリエチレンジアミン、N,N-ジメチルホ
ルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソプロピルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2-
ジクロロエタン、1,2-ジクロロプロパン、1,1,2-トリク
ロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン、トリクロロエチ
レン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、メタノール、エタノール、イソプロパナール、
酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルハキシド、メチ
ルセロソルブ等が挙げられるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。

【００３４】これらの溶媒は単独あるいは２種以上の混
合溶媒として用いることができる。

【００３５】又本発明において、電荷発生物質の分散に
はボールミル、アトライター、サンドグラインダー等が
用いられる。

【００３６】以上のようにして形成される電荷発生層に
おいて、電荷発生物質とバインダーとの重量比は好まし
くは100：０〜1000である。電荷発生物質の含有割合が
これよりも少ないと光感度が低く、残留電位の増加を招
き、又これよりも多いと暗減衰の増加及び受容電位が低
下する。

【００３７】又電荷発生層中に電荷輸送物質を含有する
場合には、電荷発生物質と電荷輸送物質との割合は重量
比で10：０〜10：1000であることが好ましく、特に好ま
しくは10：０〜10：100である。又、形成される電荷発
生層の膜厚は、好ましくは0.01〜10μmである。

【００３８】本発明において、導電性支持体と電荷発生
層との間に中間層を有してもよく、その際中間層の膜厚
は0.01〜15μm、好ましくは0.1〜７μmの範囲とされ
る。0.01μmを下まわると支持体から感光層への電荷の
注入が阻止され得ない。又支持体の凹凸を原因として感
光体にピンホールが発生し易くなる。15μmを上まわる
と感光層の残留電位が効果的に除去され得ない。

【００３９】更に中間層に用いられるバインダーとして
は、電気抵抗、耐環境性、他層との接着性あるいは他層
の溶媒に不溶であること等を考慮して選ばれる。

【００４０】中間層に用いられるバインダー樹脂、材料
としては酸化アルミニウム、酸化インジウム等の金属酸
化物、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、シリコン
樹脂、メラミン樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体
樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体
樹脂等の高分子物質を用いることができる。

【００４１】溶媒あるいは分散媒としては、n-ブチルア
ミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパ
ノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジ
アミン、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキ
サノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホル
ム、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,2-ジクロ
ロプロパン、1,1,2-トリクロロエタン、1,1,1-トリクロ
ロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジ
メチルスルホキシド、メチルセロソルブ等が挙げられる
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００４２】これらの溶媒は単独あるいは２種以上の混
合溶媒として用いることができる。

【００４３】次に本発明に用いられる電荷輸送層につい
て説明する。

【００４４】本発明においては、電荷輸送層は、電荷輸
送物質と適当なバインダー樹脂とを、溶媒中に溶解、分
散せしめた溶液又は分散液を電荷発生層上に塗布して乾
燥させる方法によって形成することができる。

【００４５】本発明の感光体において、電荷輸送物質と
してピラゾリン系化合物、ヒドラゾン系化合物、スチル
ベン系化合物、トリフェニルアミン系化合物、ベンジン
系化合物、オキサゾール系化合物、インドール系化合
物、カルバゾール系化合物等が用いられる。

【００４６】更に詳しく電荷輸送物質について述べる
と、本発明において好ましく用いられる電荷輸送物質と
しては代表例には特願平5-240801号記載の一般式〔II〕
〜〔X〕で表される化合物がよい。具体的な化合物例は
上記特願平5-240801号の58頁〜64頁にわたり記載されて
いる。

【００４７】本発明に係る感光体に用いられる導電性支
持体１としては、合金を含めた金属板、金属ドラムまた
は導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物や
合金を含めたアルミニウム、パラジウム、金等の金属薄
層を塗布、蒸着あるいはラミネートして、導電性化され
た紙、プラスチックフィルム等が挙げられる。接着層あ
るいはバリヤ層などの中間層５としては、前記バインダ
ー樹脂として用いられる高分子重合体のほか、ポリビニ
ルアルコール、エチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ポリアミドなどの有機高分子物質または酸化
アルミニウムなどが用いられる。

【００４８】

【実施例】次に実施例により、本発明を説明するが、無
論これに限定されるものではない。

【００４９】実施例１（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、高さ355mmのアルミニウム支持体10本
を用いた。

【００５０】前記支持体上に表１の如く、スライド部の
傾斜角度を変えて、又、下記中間層組成物を表１の如を
粘度比（hw／hd）になるようポリマー濃度（体積濃度Ｖ
／Ｖ％以下略）を調整してスライドホッパー型円形量規
制塗布機（以下、スライドホッパーと略す）で、乾燥後
の膜厚が0.1〜５μmになるよう塗布し、塗布ドラムNo.
１−１〜１−10を得た。

【００５１】〔中間層組成物〕エルバマイド8061（デュポン社製）メタノール／n-ブタノール＝10/1（Vol比）比較例は１−６〜１−10である。

【００５２】実施例２（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、長さ355mmのアルミニウム支持体10本
を用いた。

【００５３】前記支持体上に表１の如く、スライド部の
傾斜角度を変えて、又、下記中間層組成物を表１の如き
粘度比（hw／hd）になるようポリマー濃度を調整してス
ライドホッパー乾燥後の膜厚が0.1〜５μmになるよう塗
布し、塗布ドラムNo.２−１〜２−10を得た。

【００５４】〔中間層組成物〕塩化ビニル-酢酸ビニル系共重合体（ＭＦ−10）積水化
学社製アセトン／シクロヘキサノン＝10/1（Vol比）比較例は２−６〜２−10である。

【００５５】実施例３（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、長さ355mmのアルミニウム支持体10本
を用いた。

【００５６】前記支持体上に表１の如く、スライド部の
傾斜角度を変えて、又、下記中間層組成物を表１の如き
粘度比（hw／hd）になるようポリマー濃度を調整してス
ライドホッパーで、乾燥後の膜厚が0.2μmになるよう塗
布し、塗布ドラムNo.３−１〜３−10を得た。

【００５７】〔中間層組成物〕エチレン-酢酸ビニル系共重合体エルバックス4260（デ
ュポン社製）トルエン／n-ブタノール＝5/1 比較例は３−６〜３−10である。

【００５８】実施例１−３の塗布状態の目視観察をした
結果を表１に示す。

【００５９】比較例１−６〜１−10，２−６〜２−10，
３−６〜３−10に於いては塗布速度、ドラム被塗布物と
の間隙ギャップを変化させてもタレスジ，タテスジが発
生し、良好な塗布領域はなかった。

【００６０】

【表１】

【００６１】実施例４（実施例及び比較例）実施例１の中間層膜厚が0.3μmで
ある塗布ドラムNo.１−１，１−２，１−５，１−６，
１−７及び１−10上に下記ＣＧＬ及びＣＴＬを積層し
た。

【００６２】〔電荷発生層塗布液〕フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１） 30ｇブチラール樹脂エスレックＢＸ−Ｌ（積水化学工業社製） 10ｇメチルエチルケトン 1800ml 上記液組成物をサンドミルを用いて20時間分散した。こ
の液を用いて前記中間層上に各々浸漬塗布し、0.5μm厚
のＣＧＬを形成した。

【００６３】〔電荷輸送層塗布液Ａ〕ＣＴＭ−１ 500ｇポリカーボネート（Ｚ−200三菱瓦斯化学社製） 560ｇからなる混合物を、1,2-ジクロロエタン2800mlに溶解し
たもの。

【００６４】この液を用いて、前記ＣＧＬ上に各々浸漬
塗布を行った後、100℃で60分乾燥し、平均膜厚21μmの
ＣＴＬを形成した。

【００６５】このようにして中間層、ＣＧＬ，ＣＴＬか
らなる積層感光体試料４−１〜４−６を得た。

【００６６】比較例は４−４〜４−６である。

【００６７】実施例５（実施例及び比較例）実施例２の中間層膜厚が0.3μmで
ある塗布ドラムNo.２−１，２−２，２−５，２−６，
２−７及び２−10上に下記ＣＧＬ及びＣＴＬを積層し
た。

【００６８】〔電荷発生層塗布液〕臭素化アンスアンスロン（ＣＧＭ−２） 20ｇポリカーボネート（パンライトＬ−1250帝人化成社製） 10ｇ 1,2-ジクロロエタン 1800ml 上記組成物をサンドミルを用いて20時間分散した。この
液を用いて前記中間層上に浸漬塗布し、0.5μm厚のＣＧ
Ｌを形成した。

【００６９】〔電荷輸送層塗布液Ａ〕ＣＴＭ−３ 500ｇポリカーボネート（Ｚ−200三菱瓦斯化学社製） 560ｇからなる混合物を、1,2-ジクロロエタン2800mlに溶解し
たもの。

【００７０】この液を用いて、前記ＣＧＬ上に各々浸漬
塗布を行った後、100℃で60分乾燥し、平均膜厚21μmの
ＣＴＬを形成した。

【００７１】このようにして中間層、ＣＧＬ，ＣＴＬか
らなる積層感光体試料５−１〜５−６を得た。

【００７２】比較例は５−４〜５−６である。

【００７３】実施例６（実施例及び比較例）実施例３の中間層膜厚が0.3μmで
ある塗布ドラムNo.３−１，３−２，３−５，３−６，
３−７及び３−10上に下記ＣＧＬ及びＣＴＬを積層し
た。

【００７４】〔電荷発生層塗布液〕 τ型無金属フタロシアニン顔料 20ｇシリコーン樹脂ＫＲ−5240（信越化学社製） 20ｇメチルエチルケトン 1800ml 上記組成物をサンドミルを用いて20時間分散した。この
液を用いて前記中間層上に各々浸漬塗布し、0.5μm厚の
ＣＧＬを形成した。

【００７５】〔電荷輸送層塗布液Ａ〕ＣＴＭ−２ 500ｇポリカーボネート（Ｚ−200三菱瓦斯化学社製） 560ｇからなる混合物を、1,2-ジクロロエタン2800mlに溶解し
たもの。

【００７６】この液を用いて、前記ＣＧＬ上に浸漬塗布
を行った後、100℃で60分乾燥し、平均膜厚21μmのＣＴ
Ｌを形成した。

【００７７】このようにして中間層、ＣＧＬ，ＣＴＬか
らなる積層感光体試料６−１〜６−６を得た。

【００７８】比較例は６−４〜６−６である。

【００７９】

【表２】

【００８０】

【化１】

【００８１】

【化２】

【００８２】

【化３】

【００８３】〈電子写真感光体の評価〉以上のようにし
て得た電子写真感光体をコニカ(株)社製複写機Ｕ−ＢＩ
Ｘ4045を用いて以下に述べる特性評価を行った。その結
果を表２に示した。

【００８４】［画像評価］５万枚コピー後の画像サンプ
ルを見て、画像ムラ，中間調画像での白スジや黒スジそ
して濃淡ムラなどの塗布欠陥による画像欠陥がでていな
いか調べた。

【００８５】又、画像ムラは反射濃度計で測定した。

【００８６】最高濃度Dmaxは、その濃度バラツキが、10
点測定して、そのバラツキ幅により、下記の如く評価し
た。

【００８７】 Dmax 0.01〜0.05 ○（実用レベルで良好） 0.06〜0.15 △（実用レベルでやや不可） 0.16〜 ×（不可）黒スジは黒い部分のDmaxを測定 0.06以上を不可×とした。

【００８８】以上の如く、1.0〜50ミリパスカル・秒の
粘度を有する中間層塗布液を用い、スライド角40〜70°
の塗布機を用い、hw／hd 5/1〜100/1の範囲であればタ
テスジ、ダレスジや液ギレがなく黒スジ、画像ムラのな
い感光体が得られる。

【００８９】実施例７（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、長さ355mmのアルミニウム支持体10本
を用い、この上に表３の如くスライド部の傾斜角度を変
えて、又、下記ＣＧＬ組成物を表３の如くの粘度、hw／
hdになるよう調整してスライドホッパーで、乾燥後の膜
厚が0.1〜6.0μmになるように塗布し、塗布ドラムNo.７
−１〜７−10を得た。

【００９０】比較例は７−６〜７−10である。

【００９１】〔電荷発生層塗布液〕ＣＧＭ−１（ＣＧＭ−２の２％を添加）ＣＧＭ−２ブチラール樹脂エスレックＢＸ−Ｌ（積水化学工業社
製）メチルエチルケトン（ＣＧＭ−１＋ＣＧＭ−２）：エスレックＢＸ−Ｌ＝2.
5：１のメチルエチルケトン溶液をサンドミルを用いて2
0時間分散した。

【００９２】実施例８（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、長さ355mmのアルミニウム支持体10本
を用い、この上に表３の如く、スライド部の傾斜角度を
変えて、又、下記ＣＧＬ組成部を表３の如くの粘度、hw
／hdになるよう調整してスライドホッパーで、乾燥後の
膜厚が0.1〜6.0μmになるように塗布し、塗布ドラムNo.
８−１〜８−10を得た。

【００９３】比較例は８−６〜８−10である。

【００９４】〔電荷発生層塗布液〕Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）シリコーン樹脂ＫＲ−5240（信越化学社製） t-酢酸ブチルＣＧＭ−３：ＫＲ−5240＝２：１のt-酢酸ブチル溶液を
サンドミルを用いて20時間分散した。

【００９５】実施例９（実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、長さ355mmのアルミニウム支持体10本
を用い、この上に表３の如く、スライド部の傾斜角度を
変えて、又、下記ＣＧＬ組成物を表３の如くの粘度、hw
／hdになるよう調整してスライドホッパーで、乾燥後の
膜厚が0.1〜6.0μmになるように塗布し、塗布ドラムNo.
９−１〜９−10を得た。

【００９６】比較例は９−６〜９−10である。

【００９７】〔電荷発生層塗布液〕ＣＧＭ−４ブチラール樹脂エスレックＢＸ−Ｌ（積水化学工業社
製）メチルエチルケトンＣＧＭ−４：エスレックＢＸ−Ｌ＝２：１のメチルエチ
ルケトン溶液をサンドミルを用いて20時間分散した。

【００９８】塗布膜の目視観察について表３に示した。

【００９９】

【表３】

【０１００】実施例10 （実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、長さ355mmのアルミニウム支持体６本
を用い、この上に下記の中間層塗布液を浸漬塗布により
乾燥後の膜厚が0.2μmになるように浸漬塗布で塗布して
中間層に形成した。

【０１０１】〔中間層塗布液〕ラッカマイド5003（大日本インキ化学工業社製） 2ｇメタノール 1000ml 次いで、上記中間層上に各々塗布ドラムNo.７−１，７
−２，７−５，７−６，７−７及び７−10と同じＣＧＬ
液とスライド角度を有するスライドホッパーにより乾燥
後の膜厚が0.5μmになるように各々塗布して電荷発生層
を形成した。

【０１０２】次いで下記の電荷輸送層塗布液を浸漬塗布
により乾燥後の膜厚が20μmになるように塗布し、電荷
輸送層を形成した。

【０１０３】〔電荷輸送層塗布液〕ＣＴＭ−１ 500ｇポリカーボネート（Ｚ−200三菱瓦斯化学社製） 560ｇからなる混合物を、1,2-ジクロロエタン2800mlに溶解し
たもの。

【０１０４】このようにして中間層、ＣＧＬ，ＣＴＬか
らなる積層感光体試料10−１〜10−６を得た。

【０１０５】比較例は10−４〜10−６である。

【０１０６】実施例11 （実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、長さ355mmのアルミニウム支持体６本
を用い、この上に下記の中間層塗布液を浸漬塗布により
乾燥後の膜厚が0.2μmになるように浸漬塗布で塗布して
中間層を形成した。

【０１０７】〔中間層塗布液〕ポリアミドＣＭ−8000（東レ社製） 2ｇメタノール 1000ml 次いで、上記中間層上に各々塗布ドラムNo.８−１，８
−２，８−５，８−６，８−７及び８−10と同じＣＧＬ
液とスライド角度を有するスライドホッパーにより乾燥
後の膜厚が0.5μmになるように各々塗布して電荷発生層
を形成した。

【０１０８】次いで下記の電荷輸送層塗布液を浸漬塗布
により乾燥後の膜厚が20μmになるように塗布し、電荷
輸送層を形成した。

【０１０９】〔電荷輸送層塗布液〕ＣＴＭ−１ 500ｇポリカーボネート（Ｚ−200三菱瓦斯化学社製） 560ｇからなる混合物を、1,2-ジクロロエタン2800mlに溶解し
たもの。

【０１１０】このようにして中間層、ＣＧＬ，ＣＴＬか
らなる積層感光体試料11−１〜11−６を得た。

【０１１１】比較例は11−４〜11−６である。

【０１１２】実施例12 （実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、長さ355mmのアルミニウム支持体６本
を用い、この上に下記の中間層塗布液を浸漬塗布により
乾燥後の膜厚が0.2μmになるように浸漬塗布で塗布して
中間層を形成した。

【０１１３】〔中間層塗布液〕ポリアミドＣＭ−8000（東レ社製） 2ｇメタノール 1000ml 次いで、上記中間層上に各々塗布ドラムNo.９−１，９
−２，９−５，９−６，９−７及び９−10と同じＣＧＬ
液とスライド角度を有するスライドホッパーにより乾燥
後の膜厚が0.5μmになるように各々塗布して電荷発生層
を形成した。

【０１１４】次いで下記の電荷輸送層塗布液を浸漬塗布
により乾燥後の膜厚が20μmになるように塗布し、電荷
輸送層を形成した。

【０１１５】〔電荷輸送層塗布液〕ＣＴＭ−３ 500ｇポリカーボネート（Ｚ−300三菱瓦斯化学社製） 560ｇからなる混合物を、1,2-ジクロロエタン2800mlに溶解し
たもの。

【０１１６】このようにして中間層、ＣＧＬ，ＣＴＬか
らなる積層感光体試料12−１〜12−６を得た。

【０１１７】比較例は12−４〜12−６である。

【０１１８】実施例10〜12について実施例４−６と同様
にして実写テストを行った。結果を表４に示す。

【０１１９】

【表４】

【０１２０】以上の如く、1.0〜50ミリパスカル・秒の
粘度を有するＣＧＬ層塗布液を用い、スライド角40〜70
°の塗布機を用い、hw／hd 5/1〜100/1の範囲であれ
ば、タテスジやダレスジ、液ギレがなく、黒スジ、画像
ムラのない感光体が得られることがわかる。

【０１２１】（実施例13及び比較例）導電性支持体とし
ては鏡面加工を施した直径80mm、長さ355mmのアルミニ
ウム支持体10本を用い、この上に表５の如く、スライド
部の傾斜角度を変えて、又、下記ＣＴＬ組成物を表５の
如くの粘度、hw／hdになるよう調整してスライドホッパ
ーで、乾燥後の膜厚が15〜30μmになるように塗布し、
塗布ドラムNo.13−１〜13−10を得た。

【０１２２】比較例は13−６〜13−10である。

【０１２３】〔電荷輸送層塗布液〕ＣＴＭ−１ポリカーボネート（Ｚ−200三菱瓦斯化学社製） 1,2-ジクロロエタン但し、ＣＴＭ−１：ポリカーボネート＝75：100の割合
である。

【０１２４】

【表５】

【０１２５】実施例14 （実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、長さ355mmのアルミニウム支持体10本
を用い、この上に下記の中間層塗布液を浸漬塗布により
乾燥後の膜厚が0.2μmになるように浸漬塗布で塗布して
中間層を形成した。

【０１２６】〔中間層塗布液〕ダイアミドＸ−1874Ｍ（ダイセル化学社製） 2ｇメタノール 1000ml 次いで、上記中間層上に下記の電荷発生層塗布液をサン
ドミルを用いて20時間分散した。この液を用いて前記中
間層上に浸漬塗布し、0.5μm厚のＣＧＬを形成した。

【０１２７】〔電荷発生層塗布液〕ＣＧＭ−１ 30ｇブチラール樹脂エスレックＢＸ−Ｌ（積水化学工業社製） 10ｇメチルエチルケトン 1800ml 次いで、塗布ドラムNo.13−１，13−２，13−５，13−
６，13−７及び13−10と同じＣＴＬ液とスライド角を有
するスライドホッパーにより乾燥後の膜厚が20μmにな
るように塗布し、電荷輸送層を形成した。

【０１２８】このようにして中間層、ＣＧＬ，ＣＴＬか
らなる積層感光体試料14−１〜14−６を得た。

【０１２９】比較例は14−４〜14−６である。

【０１３０】実施例４−６と同様にして実写テストを行
った。

【０１３１】表６に示す如く、本発明のものは、濃度ム
ラ、画像ムラ、カブリ等が見られず良好であった。

【０１３２】

【表６】

【０１３３】ＣＴＬ液が粘度50〜500mmパスカル・秒で
あり、スライド角40〜70°の塗布機を用いhw／hdが3/1
〜10/1である如くして塗布を行えば、タテスジ、タレス
ジ、液ギレの発生がなく、又、黒スジ、画像ムラのない
感光体が得られることがわかる。

【０１３４】実施例15 （実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径80mm、長さ355mmのアルミニウム支持体を用
い、この上に表７の如くスライド部の傾斜角度を変え
て、又、下記感光層組成物を表７の如くhw／hd，hd，粘
度等を変えて、スライドホッパーにて塗布し、塗布ドラ
ムNo.15−１〜15−10を得た。

【０１３５】比較例は15−６〜15−10である。

【０１３６】〔単層感光層組成物〕ＣＧＭ−４ポリカーボネート（Ｚ−200三菱瓦斯化学社製）ＣＴＭ−４ 1,2-ジクロロエタン但し、ＣＧＭ−４：Ｚ−200：ＣＴＭ−４＝10：20：15 上記組成物をサンドグラインダー１：２ 20時間の分散
を行って単層用塗工液を得たもの。

【０１３７】実施例16 （実施例及び比較例）塗布ドラムの目視観察等結果を表
７に又、実施例14と同様にして実写を行った。結果を表
８に示した。比較例は16−４〜16−６である。尚この場
合はテスト機はプラス帯電型に改造した。

【０１３８】単層型感光体塗布液においても50〜500ミ
リパスカル・秒の粘度を有し、スライド部角度40〜70°
の塗布機を用いhw／hdが3/1〜10/1であると、塗布性、
画像上の欠陥共になく良好な結果を示すことがわかる。

【０１３９】

【表７】

【０１４０】

【表８】

【０１４１】実施例17 （実施例及び比較例）導電性支持体としは鏡面加工を施
した直径80mm長さ355mmのアルミニウム支持体を用い、
この上に表９の如く、スライド部の傾斜角度を変えて、
又、下記保護層組成物を表９の如くの粘度、hw／hd，hd
になるよう調整してスライドホッパーにて塗布し、塗布
ドラムNo.17−１〜17−10を得た。

【０１４２】比較例は17−６〜17−10である。

【０１４３】〔保護層組成物〕ポリカーボネート（Ｚ−200三菱瓦斯化学社製）シリコーン系微粒子（トスパール103） 1,2-ジクロロエタン但し、Ｚ−200：トスパール103＝100：１表９に結果を示したように、粒子含有系の塗工液であっ
てもスライド部の傾斜角度の適正範囲は40〜70°にあ
り、hw／hd＝5/1〜100/1かつ粘度が５〜200ミリパスカ
ル・秒の時塗布性がよいことがわかる。

【０１４４】

【表９】

【０１４５】

【発明の効果】本発明により円形量規制型塗布機による
塗布において、塗布欠陥のない安定した塗布を提供する
ことが出来、塗布可能領域を拡大することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の感光体の層構成図。

【図２】本発明実施に用いたＹ型フタロシアニンの吸収
スペクトル図。

【符号の説明】

１導電性支持体２キャリア発生層３キャリア輸送層４，４′，４″ 感光層５中間層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平５−289370（ＪＰ，Ａ) 特開平４−311783（ＪＰ，Ａ) 特開平１−158452（ＪＰ，Ａ) 特開平２−311848（ＪＰ，Ａ) 特開平４−180068（ＪＰ，Ａ) 特開平３−118867（ＪＰ，Ａ) 特開平４−346354（ＪＰ，Ａ) 特開平４−104257（ＪＰ，Ａ) 特開平４−352159（ＪＰ，Ａ) 特開平３−87749（ＪＰ，Ａ) 特開平３−157662（ＪＰ，Ａ) 特開平２−124576（ＪＰ，Ａ) 特開平１−124859（ＪＰ，Ａ) 特開昭59−64847（ＪＰ，Ａ) 特開平３−15852（ＪＰ，Ａ) 特開平２−311849（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/00

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性基体と感光層との間に中間層を有
する電子写真感光体において、該中間層が23℃において
1.0〜50ミリパスカル・秒の粘度を有する中間層用塗工
液を用い、スライド部の傾斜角が水平に対して40〜70°
の範囲に設定された円形量規制型塗布機により前記基体
上に塗設して成り、前記中間層のウェット膜厚（hw）に
対するドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）が5/1〜100/1で
あることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】導電性基体と感光層との間に中間層を有
する電子写真感光体の製造方法において、該中間層が23
℃において1.0〜50ミリパスカル・秒の粘度を有する中
間層用塗工液を用い、スライド部の傾斜角が水平に対し
て40〜70°の範囲に設定された円形量規制型塗布機によ
り、前記基体上に塗布し、得られる前記中間層のウェッ
ト膜厚（hw）に対するドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）
が5/1〜100/1であることを特徴とする電子写真感光体の
製造方法。
【請求項３】導電性基体上に電荷発生物質を含む電荷
発生層と電荷輸送物質を含む電荷輸送層とを積層してな
る感光層を有する電子写真感光体において、該電荷発生
層が23℃において1.0〜50ミリパスカル・秒の粘度を有
する電荷発生層用塗工液を用い、スライド部の傾斜角が
水平に対して40〜70°の範囲に設定された円形量規制型
塗布機により、塗布して成り、前記電荷発生層のウェッ
ト膜厚（hw）に対するドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）
が5/1〜100/1であることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項４】導電性基体上に電荷発生物質を含む電荷
発生層と電荷輸送物質を含む電荷輸送層とを積層してな
る感光層を有する電子写真感光体の製造方法において、
該電荷発生層が23℃において1.0〜50ミリパスカル・秒
の粘度を有する電荷発生層用塗工液を用い、スライド部
の傾斜角が水平に対して40〜70°の範囲に設定された円
形量規制型塗布機により塗布し、得られる前記電荷発生
層のウェット膜厚（hw）に対するドライ膜厚（hd）の比
（hw／hd）が5/1〜100/1であることを特徴とする電子写
真感光体の製造方法。
【請求項５】導電性基体上に電荷発生物質を含む電荷
発生層と電荷輸送物質を含む電荷輸送層とを積層してな
る感光層を有する電子写真感光体において、該電荷輸送
層が23℃において50〜500ミリパスカル・秒の粘度を有
する電荷輸送層用塗工液を用い、スライド部の傾斜角が
水平に対して40〜70°の範囲に設定された円形量規制型
塗布機により、塗設して成り、前記電荷輸送層のウェッ
ト膜厚（hw）に対するドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）
が3/1〜10/1であることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項６】導電性基体上に電荷発生物質を含む電荷
発生層と電荷輸送物質を含む電荷輸送層とを積層してな
る感光層を有する電子写真感光体の製造方法において、
該電荷輸送層が23℃において50〜500ミリパスカル・秒
の粘度を有する電荷輸送層用塗工液を用い、スライド部
の傾斜角が水平に対して40〜70°の範囲に設定された円
形量規制型塗布機により塗布し、得られる前記電荷輸送
層のウェット膜厚（hw）に対するドライ膜厚（hd）の比
（hw／hd）が3/1〜10/1であることを特徴とする電子写
真感光体の製造方法。
【請求項７】導電性基体上に電荷発生物質と電荷輸送
物質と有機バインダーとを含む単層型感光層を有する電
子写真感光体において、該感光層が23℃において50〜50
0ミリパスカル・秒の粘度を有する感光層用塗工液を用
い、スライド部の傾斜角が水平に対して40〜70°の範囲
に設定された円形量規制型塗布機により、塗設して成
り、前記感光層のウェット膜厚（hw）に対するドライ膜
厚（hd）の比（hw／hd）が3/1〜10/1であることを特徴
とする電子写真感光体。
【請求項８】導電性基体上に電荷発生物質と電荷輸送
物質と有機バインダーとを含む単層型感光層を有する電
子写真感光体の製造方法において、該感光層が23℃にお
いて50〜500ミリパスカル・秒の粘度を有する感光層用
塗工液を用い、スライド部の傾斜角が水平に対して40〜
70°の範囲に設定された円形量規制型塗布機により塗布
し、得られる前記感光層のウェット膜厚（hw）に対する
ドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）が3/1〜10/1であるこ
とを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項９】感光層上に保護層を有する電子写真感光
体において、該保護層が23℃において５〜200ミリパス
カル・秒の粘度を有する保護層用塗工液を用い、スライ
ド部の傾斜角が水平に対して40〜70°の範囲に設定され
た円形量規制型塗布機により前記感光層上に塗設して成
り、前記保護層のウェット膜厚（hw）に対するドライ膜
厚（hd）の比（hw／hd）が5/1〜100/1であることを特徴
とする電子写真感光体。
【請求項１０】感光層上に保護層を有する電子写真感
光体の製造方法において、該保護層が23℃において５〜
200ミリパスカル・秒の粘度を有する保護用塗工液を用
い、スライド部の傾斜角が水平に対して40〜70°の範囲
に設定された円形量規制型塗布機により、該感光層上に
塗設し、得られる保護層のウェット膜厚（hw）に対する
ドライ膜厚（hd）の比（hw／hd）が5/1〜100/1であるこ
とを特徴とする電子写真感光体の製造方法。