JP3232808B2 - 薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッドスライ
ダーの製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録装置に対する高記録密度
化の要求が急速に高まり、この傾向は将来的にさらに高
まっていくことは確実である。この要求に対し、磁気ヘ
ッドスライダーは０．１μｍ以下の非常に低い浮上高さ
や、記録媒体の周速によって変化することのない安定し
た浮上特性を有することが求められるようになり、その
要求を満足するには微細かつ複雑なエアーベアリング面
形状を高精度で形成する技術が不可欠となっている。

【０００３】従来の磁気ヘッドスライダーのエアーベア
リング面は砥石による研削を中心とした機械加工で作製
されており、加工機械の精度を高度に引き上げることに
より上記要求を満たそうという試みがなされているが、
従来の機械加工では目的の加工精度には達しておらず、
さらに曲線を含む複雑な形状の加工は実現不可能であっ
た。そこでフォトリソグラフィ技術を用いる方法、即ち
エアーベアリング面に対応するフォトマスクを作製し、
イオンビームエッチングなどのドライエッチングにより
加工する方法が提案されている。

【０００４】ドライエッチングは半導体プロセスや薄膜
磁気ヘッド素子形成プロセスで盛んに用いられ、その加
工精度は上記の加工精度を充分に満足する方法であるこ
とは確かであるが、半導体プロセスや薄膜磁気ヘッド素
子形成プロセスが３〜５インチ程度のウェハーの表面を
対象にするのに対し、薄膜磁気ヘッドスライダーは、薄
膜磁気ヘッド素子を形成したウェハーから機械加工によ
り切り出した薄膜磁気ヘッド素子を複数個有する短冊状
のブロック（以下スライダーという）の表面を対象にし
ているという相違があり、ここが最も大きな問題となっ
ている。

【０００５】すなわちドライエッチングなどを用いたフ
ォトリソグラフィ技術で微細かつ高精度に加工するため
には、良好なレジストパターンを形成することが重要と
なるが、スライダーバーのように小さな面積の部分には
均一にフォトレジスト膜を形成することは非常に難し
い。例えばウェハーにスピンコート法により液状フォト
レジストを塗布してレジスト被膜を形成すると、中心部
の厚みは均一であるが端部は中心部と比較して非常に厚
みが厚くなるため、端部には良好なレジストパターン形
状を形成することはできない。そこでウェハーの場合は
端部を除いて中心部だけを使用しているが、スライダー
バーでは全面が加工対象であるため端部を使用しないと
いう訳にはいかず、従って均一なレジスト被膜を全面に
形成しなければならない。

【０００６】また半導体プロセスや薄膜磁気ヘッド素子
形成プロセスではウェハーの中に数百から数千個のデバ
イスを形成することができ、ウェハーを大口径化するこ
とにより比較的簡単に生産性を向上できるのに対し、ス
ライダーバーの中の磁気ヘッド素子は多くても２０〜３
０個が限界で、スライダーバー１本毎の取扱いをしてい
ては生産性が著しく低く工業化できない。

【０００７】以上の理由より必然的にスライダーバーを
多数並べてプレートに接着し、ウェハーのような大面積
として取り扱う方が有利であることは明白である。しか
し、このとき次に述べる問題が生じる。図５および図６
は従来の薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法の説明図
である。図５はプレートにスライダーバーを接着した断
面の模式図を示し、図６は１本のスライダーバーのエア
ーベアリング形成面の上にフォトマスクを重ねて上方か
ら見た状態を示しており、これらの図を用いて上記問題
点を説明する。

【０００８】図５（ａ）の状態、即ちスライダーバー１
をプレート２に接着剤３で接着した状態で、スライダー
バー１の間４にすき間がなく、しかもエアーベアリング
形成面５が凹凸のない平面であればウェハーと同様の取
扱いができ、エアーベアリング形成面５に塗布したフォ
トレジスト被膜６の厚みも均一となり良好なフォトレジ
ストパターンを形成することが可能となる。しかし図５
（ｂ）のごとくスライダーバー１の間にすき間７がある
とエアーベアリング形成面５に大きな凹凸を生じ、そこ
にフォトレジストを塗布すると図示するように端部が厚
く中心部が薄い不均一なフォトレジスト被膜６が形成さ
れ、良好なフォトレジストパターンが形成できないばか
りか、薄膜磁気ヘッド素子の端子部を有するスライダー
バー１の側面１ｂはフォトレジスト被膜６が非常に薄く
なり、ドライエッチングによりダメージを受けるために
端子部が損傷し、また外観不良の原因ともなる。さらに
スライダーバー１の厚みには公差があるため厚み分布を
有し、さらに接着剤３の厚みのばらつきも加わり、図５
（ｃ）のようにエアーベアリング形成面５は凹凸状態と
なり、図５（ｂ）と同様に良好なフォトレジストパター
ンを形成することができない。なおスライダーバー１お
よび接着剤３の厚みのばらつきをなくすことは技術的に
不可能ではないが、工程数の増加および歩留りの低下に
より著しい製造コストの上昇を招く。

【０００９】次に接着剤３はエアーベアリング形成面５
の加工工程ではスライダーバー１を強固に保持し、加工
工程後は簡単に剥離可能であり、さらに接着時に高温を
必要としない（薄膜磁気ヘッドの特性低下の原因とな
る）という特性を満足しなければならないが、この全て
の条件を満足する接着剤３は非常に少ない。また、スラ
イダーバー１の間４に毛細管現象により上昇したしみ出
し部９が発生すると、その部分はパターン不良となる。

【００１０】次に図６について説明する。スライダーバ
ー１の幅Ｈ_SBは薄膜磁気ヘッド素子形成プロセスで形成
される被膜の厚みＨ_B とウェハーの厚みＨ_A との和であ
り、一定の分布を有することは避けられない。この分布
を±ａとするとＨ_SBは Ｈ_SB＝（Ｈ_B ＋Ｈ_A ）±ａ で表される。

【００１１】一方フォトマスク１０の幅をＨ_FMとする
と、 Ｈ_SB＞Ｈ_FM となった場合露光されない部分１１ができパターン不良
となるためフォトマスクの幅は Ｈ_FM≧Ｈ_SB＝（Ｈ_B ＋Ｈ_A ）±ａ 即ちスライダーバー１の幅分布の最大幅以上に設計しな
ければならず、フォトマスク１０はスライダーバー１に
対し ΔＨ＝Ｈ_FM−Ｈ_SB だけ大きな幅となるよう設計しなければならない。その
結果スライダーバー１はΔＨ以上の間隔で並べなければ
二重に露光される部分ができるが、しかしながらΔＨ以
上の間隔で並べると図５（ｂ）に示す状態となり、良好
なフォトレジストパターンを形成することができなくな
る。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、幅お
よび厚みに寸法公差を有するスライダーバーであって
も、微細かつ複雑な形状のエアーベアリング面をドライ
プロセスにより高精度に形成することができ、しかも多
数のスライダーバーを同時に取り扱うことにより安価で
大量生産に適した薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法
を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
スライダーの製造方法は、薄膜磁気ヘッド素子を複数個
有する多数のブロック及びこれらのブロックと長さおよ
び厚みがほぼ同じである薄膜磁気ヘッド素子を有しない
ブロックとを交互に密接させて配列し、エアーベアリン
グ面を形成しようとするエアーベアリング形成面を水平
面に密着させてその高さを同じにした状態で、前記エア
ーベアリング形成面との対面にあたる裏面側の接着面と
プレートとを接着剤で接着し、前記エアーベアリング形
成面に液状フォトレジストを塗布してフォトリソグラフ
ィ手段によりエアーベアリング形状に対応するフォトレ
ジストパターンを形成した後、このフォトレジストパタ
ーンをマスクとしてドライエッチングにより前記エアー
ベアリング面を形成するようにしたものである。

【００１４】

【作用】上記構成によれば、スライダーバーとスペーシ
ングバーを密接させて同じ高さに並べて接着面をプレー
トに接着するか、あるいはスライダーバーを一定の間隔
を設け、同じ高さに並べて接着面をプレートに接着した
後エアーベアリング形成面にドライフィルムを密着し、
スライダーバーとドライフィルムで形成されるすき間を
樹脂で充填することにより、エアーベアリング形成面に
凹凸のないフォトレジスト被膜を形成することができ
る。

【００１５】

【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。

【００１６】（実施例１）図１は本発明の第１の実施例
における薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法の製造工
程図、図２（ａ）は本発明の第１の実施例における薄膜
磁気ヘッドスライダーの製造方法のスライダーバーおよ
びスペーシングバーをプレートに接着した状態の斜視
図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＫ部分の部分拡大斜視図
である。なお図１は図２（ｂ）のＡ−Ａ’断面図に相当
する。

【００１７】図２（ａ）〜（ｂ）において薄膜磁気ヘッ
ド素子を形成したウェハーから機械加工により短冊状の
スライダーバー１を切り出し、ラッピングした後、これ
らのスライダーバー１とほぼ等しい厚みを有するスペー
シングバー１２を図示するように多数並べて接着用のプ
レート２に接着する。以下その方法を図１を参照して説
明する。

【００１８】短冊状のスライダーバー１とスペーシング
バー１２を交互に密接させて配列し（図１（ａ））、エ
アーベアリング面を形成しようとする面（以下エアーベ
アリング形成面５という）を下向きにして水平面１３に
密着させてその高さを同じにする（図１（ｂ））。１ａ
は接着面である。スライダーバー１の材質はＡｌ₂ Ｏ
₃ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ ／ＴｉＣ、フェライトなど種々あり、ス
ペーシングバー１２の材質はスライダーバー１と同じ質
材とすることが望ましいが、材質が異なっても良い。こ
の状態で接着剤３によりエアーベアリング形成面５との
対面にあたる裏面側（以下接着面１ａという）とプレー
ト２とを接着する（図１（ｃ））。次に水平面１３を取
り除き、スライダーバー１とプレート２の上下を逆にす
れば（図１（ｄ））、スライダーバー１およびスペーシ
ングバー１２の厚み分布は接着剤３の厚み差に吸収さ
れ、エアーベアリング形成面５は大口径で凹凸のない平
面となる。従ってこれ以後の工程では半導体プロセスや
薄膜磁気ヘッド素子形成プロセスで取り扱うウェハーと
同様の取り扱いが可能となる。

【００１９】次に液状フォトレジストを塗布してフォト
レジスト被膜６を形成し（図１（ｅ））、フォトリソグ
ラフィ技術により目的とするエアーベアリング面に対応
するフォトレジストパターン１４を形成する（図１
（ｆ））。次に形成したフォトレジストパターン１４を
マスクとしてイオンビームミリングなどのドライエッチ
ングによりエアーベアリング面を形成し（図１
（ｇ））、残ったフォトレジスト残さをアセトン等の溶
剤で除去し、スライダーバー１およびスペーシングバー
１２をプレート２から剥離する（図１（ｈ））。

【００２０】上記工程中、スペーシングバー１２の幅を
ΔＨ以上にすることにより、スライダーバー１を一定間
隔で並べる場合の従来の問題点は解決する。

【００２１】次に接着剤３はエアーベアリング形成面５
の加工工程ではスペーシングバー１２を強固に保持し、
工程後は簡単に剥離が可能であり、さらに接着時に高温
を必要としない（磁気ヘッドの特性低下の原因となる）
という特性を満足するものであれば良いが、特に液状フ
ォトレジストまたはシリコーン樹脂が接着剤３として優
れている。この効果を図３（ａ）〜（ｄ）に示す本発明
の第１の実施例における薄膜磁気ヘッドスライダーの製
造方法の製造工程図により説明する。

【００２２】図３（ａ）〜（ｄ）は図２（ｂ）における
Ａ−Ａ’断面図に相当する。液状フォトレジストは本来
接着剤でないが、図３（ａ）のように接着した後ベーク
することで強固な接着力が得られる。なお、ベーク温度
は１２０℃以下、６０分程度で充分であり、薄膜磁気ヘ
ッドの特性を劣化させることはない。また液状フォトレ
ジストを用いる最大の特徴は、図３（ｂ）に示すように
しみ出し部１５が発生してもパターニングのために液状
フォトレジストを用いフォトレジスト被膜６を塗布した
図３（ｃ）に示す状態でしみ出し部１５が再溶解して新
たなるフォトレジスト被膜１６となり、図３（ｄ）のご
とく欠陥とならないことである。ただし、液状フォトレ
ジストにはポジ型、ネガ型があるが、接着剤としてのフ
ォトレジストとパターニングのためのフォトレジストは
同型であることが望ましい。さらに液状フォトレジスト
は溶剤等で簡単に溶解するため工程後のスライダーバー
１の剥離も極めて容易である。

【００２３】次にシリコーン樹脂であるが、この場合は
しみ出し部１５が発生した場合には液状フォトレジスト
のように再溶解することはなく、欠陥となるためトルエ
ン等の溶剤で除去する必要があり、この点においては工
程数の増加となる。しかししみ出し部１５の除去自体は
容易であり、また接着温度も常温で可能であり、さらに
液状フォトレジストと同様工程後のスライダーバー１の
剥離も極めて容易である。シリコーン樹脂はどれでも接
着剤となり得るが、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓ
ｉ）、有機質メチル基、フェニル基などからなるシリコ
ーンワニスは、耐熱性、耐水性、難燃性に優れ、トルエ
ンやキシレン等の溶剤に対する溶解性に非常に優れるた
め特に好ましい。また粘性も自由に調整できるが、１０
０ｃｐ（２５℃）以下の低粘性の方が取り扱いが容易で
ある。

【００２４】次に具体的な数値を示しながら本実施例を
より詳細に説明する。薄膜磁気ヘッド素子を形成した
４．５インチ角のＡｌ₂ Ｏ₃ ／ＴｉＣウェハーから砥石
を用いた研削加工およびラッピングにより幅２．００ｍ
ｍ±０．０２ｍｍ、長さ５０．００±０．０５ｍｍ、厚
み０．４５±０．０１ｍｍの寸法公差を有する短冊状の
スライダーバー１を作製し、また薄膜磁気ヘッド素子を
形成していない４．５インチ角のＡｌ₂ Ｏ₃ ウェハーか
ら砥石を用いた研削加工により幅０．５０ｍｍ±０．０
５ｍｍ、長さ５０．００±０．１０ｍｍ、厚み０．４５
±０．０２ｍｍの寸法公差を有する短冊状のスペーシン
グバー１２を作製した。次にスライダーバー１とスペー
シングバー１２とを交互に配列して密着させ、エアーベ
アリング形成面５を下向きにして水平なガラス面に密着
させて前後左右方向から０．５ｋｇ／ｃｍ² の軽微な圧
力で加圧し機械的に固定した。この状態で接着剤３によ
りエアーベアリング加工面の対面である接着面１ａと
４．５インチ角のＡｌ₂ Ｏ₃ ／ＴｉＣウェハーを接着し
た。接着剤３には例えばヘキスト社製液状フォトレジス
トＡＺ４９０３を用い、これをスピンコート法によりプ
レート２に塗布し１５μｍの被膜を形成して接着し、９
０℃、６０分のベークによりフォトレジストを固化し
た。その結果エアーベアリング形成面５の段差を０．０
０２ｍｍ以下とすることができた。

【００２５】次に液状フォトレジストを滴下し、スピン
コート法によりコーティングした後９０℃、２時間ベー
クして膜厚２５μｍのフォトレジスト被膜６を形成し
た。スピンコート法によるフォトレジスト被膜６の形成
では、基板に凹凸があれば膜厚分布が著しく大きくなり
良好なフォトレジストパターンを得ることができない
が、本実施例では膜厚分布を０．５μｍ以下とすること
ができた。

【００２６】次に、エアーベアリング形成面５の幅を
２．０５ｍｍとしたフォトマスクにより露光し、現像し
てフォトレジストパターンを得た。ここでフォトマスク
の幅はスライダーバー１の幅が２．００ｍｍ±０．０２
ｍｍであるため、その最大幅２．０２ｍｍよりも０．０
３ｍｍ広い幅とした。このフォトレジストパターンをマ
スクとしてイオンビームミリングによりエッチングし８
μｍ深さの加工を施した。

【００２７】次にアセトン中に浸漬することにより、残
ったフォトレジストを除去し、スライダーバー１をプレ
ート２から剥がした後、磁気ヘッド素子単品に切断する
ことにより薄膜磁気ヘッドスライダーを作製した。

【００２８】（実施例２）次に、本発明の第２の実施例
における薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法を説明す
る。図４は本発明の第２の実施例における薄膜磁気ヘッ
ドスライダーの製造方法の製造工程図である。薄膜磁気
ヘッド素子を形成したウェハーから機械加工により短冊
状のスライダーバー１を切り出しラッピングする（図４
（ａ））。次にΔＨ以上の間隔でスライダーバー１を配
置しエアーベアリング形成面５を下向きにして水平面１
７に密着させることでエアーベアリング形成面５の高さ
を同じにする（図４（ｂ））。一定の間隔でスライダー
バー１を並べるには、水平面１７に所定の間隔でスライ
ダーバー１と等しい大きさの座ぐり穴１７ａを設けてお
き、この座ぐり穴１７ａにスライダーバー１を落とし込
むことにより可能である。この状態で接着面１ａと事前
に接着剤３を塗布したプレート２を接着する（図４
（ｃ））。接着剤３はエアーベアリング形成面５の加工
工程ではスライダーバー１を強固に保持し、工程後は簡
単に剥離可能であり、さらに接着時に高温を必要としな
いという特性を満足すれば良いが、上述と同様の理由に
より、特に液状フォトレジストまたはシリコーン樹脂が
優れている。

【００２９】次に水平面１７を取り除き、スライダーバ
ー１とプレート２の上下を逆にすれば図４（ｄ）に示す
状態となり、スライダーバー１の厚み分布は接着剤３の
厚み差に吸収されエアーベアリング形成面５は水平とな
るものの、すき間７の形成により、図５（ｂ）と同様の
状態となり、このままではウェハーと同様に取り扱うこ
とはできない。そこで、図４（ｅ）に示すようにドライ
フィルムフォトレジスト１８をラミネーター等によりエ
アーベアリング形成面５に密着させることにより、エア
ーベアリング形成面５はスライダーバー１間にすき間７
がなくなって凹凸のない平面が得られ、さらにこのまま
フォトリソグラフィ技術によるフォトレジストパターン
の形成が可能となる。

【００３０】しかし、パターニングの形状によってはス
ライダーバー１とドライフィルムフォトレジスト１８で
形成されるすき間７がむき出しになる部分ができ、この
ままドライエッチングを行うとスライダーバー１の側面
１ｂがエッチングされるため、薄膜磁気ヘッド素子の端
子部が損傷を受けると共に外観を損なう。そこですき間
７を液状フォトレジストまたは樹脂２０で充填すること
により上記問題は解決する。すき間７を充填する液状フ
ォトレジストまたは樹脂２０は工程後簡単に除去できる
ものであれば良い。また、液状フォトレジストを用いた
場合には９０℃、６０分程度のベークを行う。以上の方
法により得られた図４（ｅ）のものは、図１（ｅ）のも
ののごとくウェハーと同様の取り扱いが可能である。

【００３１】次にフォトリソグラフィ技術により目的と
するエアーベアリング形成面５に対応するフォトレジス
トパターン１９を形成し（図４（ｆ））、フォトレジス
トパターン１９をマスクとしてイオンビームミリングな
どのドライエッチングによりエアーベアリング面を形成
した後（図４（ｇ））、残ったドライフィルムフォトレ
ジスト１８およびすき間７に充填した液状フォトレジス
トまたは樹脂２０を除去し、スライダーバー１をプレー
ト２から剥離する（図４（ｈ））。

【００３２】次に具体的な数値を示しながら第２実施例
をより詳細に説明する。薄膜磁気ヘッド素子を形成した
３インチφのＡｌ₂ Ｏ₃ ／ＴｉＣウェハーから砥石を用
いた研削加工およびラッピングにより幅２．５０ｍｍ±
０．０２ｍｍ、長さ２５．００±０．０５ｍｍ、厚み
０．４５±０．０１ｍｍの寸法公差を有する短冊状のス
ライダーバー１を作製した。０．３０ｍｍの間隔でスラ
イダーバー１を配置しエアーベアリング形成面５を下向
きにして表面を水平に仕上げたＡｌ₂ Ｏ₃ 面に密着させ
た。このＡｌ₂ Ｏ₃ 面にはエアーベアリング形成面５と
同じ形状でかつ５０μｍのクリアランスを見込んだ幅
２．５７ｍｍ、長さ２５．０７ｍｍ、深さ０．０２ｍｍ
の座ぐり穴１７ａをスライダーバー１の間隔と等しい
０．０３ｍｍ間隔で設け、この座ぐり穴１７ａにスライ
ダーバー１を落とし込むことによりよって正確に０．３
０ｍｍの間隔でスライダーバー１を並べた。この状態で
接着剤３により接着面１ａと４．５インチ角のＡｌ₂ Ｏ
₃ ／ＴｉＣウェハーを接着した。接着剤３には例えば信
越化学社製シリコーンワニスＫＲ２５１を用い、これを
スピンコート法によりプレート２に塗布し１０μｍの被
膜を形成して接着し、５０℃、６０分間のベークにより
接着剤の固化を促進した。以上によりエアーベアリング
形成面５の段差を０．００２ｍｍ以下とすることができ
た。

【００３３】次に例えば東京応化工業社製ドライフィル
ムフォトレジストＡＰ９５０（厚さ５０μｍ）を温度１
１０℃、圧力１．５ｋｇ／ｃｍ² 、速度０．８ｍ／分の
条件でラミネーターによりエアーベアリング形成面５に
密着し、スライダーバー１とドライフィルムフォトレジ
スト１８で形成される空間にヘキスト社製液状フォトレ
ジストＡＺ４４００を注入し８０℃、３０分ベークして
空間を充填した。

【００３４】次に、エアーベアリング形成面５の幅を
２．５５ｍｍとしたフォトマスクにより露光し、現像し
てフォトレジストパターン１９を得た。ここでフォトマ
スクの幅はスライダーバー１の幅が２．５０ｍｍ±０．
０２ｍｍであるため、その最大幅２．５２ｍｍよりも
０．０３ｍｍ広い幅とした。このフォトレジストパター
ン１９をマスクとしてイオンビームミリングによりエッ
チングし１２μｍ深さの加工を施した。

【００３５】次に残ったドライフィルムフォトレジスト
１８をＫＯＨで剥離し、空間に充填したフォトレジスト
をアセトンで除去し、さらにトルエン中に浸漬してスラ
イダーバー１をプレート２から剥がした後磁気ヘッド素
子単品に切断することにより薄膜磁気ヘッドスライダー
を作製した。

【００３６】

【発明の効果】以上のように本発明は、スライダーバー
とスペーシングバーを密着させて同じ高さに並べて接着
面をプレートに接着するか、あるいはスライダーバーを
一定間隔を設け、同じ高さに並べて接着面をプレートに
接着した後エアーベアリング形成面にドライフィルムフ
ォトレジストを密着し、スライダーバーとドライフィル
ムフォトレジストで形成される空間を樹脂で充填するこ
とより、エアーベアリング形成面に凹凸のないフォトレ
ジスト被膜を形成することができるため、スライダーバ
ーをウェハーと同様の状態で多数一度に取り扱うことで
生産性が非常に向上し、しかもスライダーバーの厚みお
よび幅は厳しく制御されずある程度の分布を有していて
も微細かつ高精度に任意の形状のエアーベアリング面を
形成することが可能であり、さらに工程の簡素化および
歩留りの向上も期待できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例における薄膜磁気ヘッド
スライダーの製造方法の製造工程図

【図２】（ａ）は本発明の第１の実施例における薄膜磁
気ヘッドスライダーの製造方法のスライダーバーおよび
スペーシングバーをプレートに接着した状態の斜視図 （ｂ）は図２（ａ）のＫ部分の部分拡大斜視図

【図３】（ａ）は本発明の第１の実施例における薄膜磁
気ヘッドスライダーの製造方法の製造工程図 （ｂ）は本発明の第１の実施例における薄膜磁気ヘッド
スライダーの製造方法の製造工程図 （ｃ）は本発明の第１の実施例における薄膜磁気ヘッド
スライダーの製造方法の製造工程図 （ｄ）は本発明の第１の実施例における薄膜磁気ヘッド
スライダーの製造方法の製造工程図

【図４】本発明の第２の実施例における薄膜磁気ヘッド
スライダーの製造方法の製造工程図

【図５】（ａ）は従来の薄膜磁気ヘッドスライダーの製
造方法の製造工程図 （ｂ）は従来の薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法の
製造工程図 （ｃ）は従来の薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法の
製造工程図

【図６】従来の薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法の
説明図

【符号の説明】

１ スライダーバー １ａ 接着面 ２ プレート ３ 接着剤 ５ エアーベアリング形成面 ６ フォトレジスト被膜 ７ すき間 １２ スペーシングバー １３，１７ 水平面 １４ フォトレジストパターン

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】薄膜磁気ヘッド素子を複数個有する多数の
   ブロック及びこれらのブロックと長さおよび厚みがほぼ
   同じである薄膜磁気ヘッド素子を有しないブロックとを
   交互に密接させて配列し、エアーベアリング面を形成し
   ようとするエアーベアリング形成面を水平面に密着させ
   てその高さを同じにした状態で、前記エアーベアリング
   形成面との対面にあたる裏面側の接着面とプレートとを
   接着剤で接着し、前記エアーベアリング形成面に液状フ
   ォトレジストを塗布してフォトリソグラフィ手段により
   エアーベアリング形状に対応するフォトレジストパター
   ンを形成した後、このフォトレジストパターンをマスク
   としてドライエッチングにより前記エアーベアリング面
   を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドスライダー
   の製造方法。
2. 【請求項２】前記薄膜磁気ヘッド素子を複数個有する多
   数のブロック及びこれらのブロックと長さおよび厚みが
   ほぼ同じである薄膜磁気ヘッド素子を有しないブロック
   を液状フォトレジストまたはシリコーン樹脂を接着剤と
   して前記プレートに接着することを特徴とする請求項１
   記載の薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法。
3. 【請求項３】薄膜磁気ヘッド素子を複数個有する多数の
   ブロックを一定の間隔を設けて配列し、エアーベアリン
   グ形成面を水平面に密着させてその高さを同じにした状
   態で接着面とプレートとを接着剤により接着し、前記エ
   アーベアリング形成面にドライフィルムフォトレジスト
   を密着し、前記ブロックとドライフィルムフォトレジス
   トで形成されるすき間を液状フォトレジストまたは樹脂
   で充填し、フォトリソグラフィ手段により前記エアーベ
   アリング面に対応するフォトレジストパターンを形成
   し、このフォトレジストパターンをマスクとしてドライ
   エッチングにより前記エアーベアリング面を形成するこ
   とを特徴とする薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法。
4. 【請求項４】薄膜磁気ヘッド素子を複数個有する多数の
   前記ブロックを液状フォトレジストまたはシリコーン樹
   脂を接着剤として前記プレートに接着することを特徴と
   する請求項３記載の薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方
   法。