JP3230366B2 - 導電膜形成用組成物 - Google Patents
導電膜形成用組成物Info
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- JP3230366B2 JP3230366B2 JP03475294A JP3475294A JP3230366B2 JP 3230366 B2 JP3230366 B2 JP 3230366B2 JP 03475294 A JP03475294 A JP 03475294A JP 3475294 A JP3475294 A JP 3475294A JP 3230366 B2 JP3230366 B2 JP 3230366B2
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- meth
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- conductive film
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真記録、透明電
極、帯電防止、熱線反射、面発熱体等の分野で利用でき
る活性エネルギー線硬化可能な導電膜形成用組成物に関
する。
極、帯電防止、熱線反射、面発熱体等の分野で利用でき
る活性エネルギー線硬化可能な導電膜形成用組成物に関
する。
【０００２】
【従来の技術】酸化物半導体透明膜は、一般に可視光に
対して高い透過率を示し、低抵抗かつ膜強度が強いため
に、液晶ディスプレイなどの透明電極や太陽電池の窓材
料、熱線反射膜、帯電防止膜など多方面に利用されてい
る。このような酸化物半導体の代表例に、錫を含有する
酸化インジウム (以下、ＩＴＯともいう) がある。
対して高い透過率を示し、低抵抗かつ膜強度が強いため
に、液晶ディスプレイなどの透明電極や太陽電池の窓材
料、熱線反射膜、帯電防止膜など多方面に利用されてい
る。このような酸化物半導体の代表例に、錫を含有する
酸化インジウム (以下、ＩＴＯともいう) がある。
【０００３】従来の透明導電膜の成膜方法としては、絶
縁体上に金属または無機物 (特にＩＴＯまたは類似の半
導体性金属酸化物) を真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティングなどの気相法により堆積させる方法、
ＩＴＯ粉末をバインダー (結合剤) である樹脂溶液中に
分散させた分散液を塗料またはインクとして塗布または
印刷する塗工法等が知られている。
縁体上に金属または無機物 (特にＩＴＯまたは類似の半
導体性金属酸化物) を真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティングなどの気相法により堆積させる方法、
ＩＴＯ粉末をバインダー (結合剤) である樹脂溶液中に
分散させた分散液を塗料またはインクとして塗布または
印刷する塗工法等が知られている。
【０００４】蒸着やスパッタリングなどの気相法は、従
来より最も広く用いられている透明導電膜の形成方法で
あるが、形状が一様でない基板に対しては均一な皮膜形
成が困難である上、蒸着やスパッタリング時に生じる異
常放電によりターゲットの劣化が生じたり、基板への塗
着率が低い (ＩＴＯの有効利用効率が40〜55％) という
問題がある。また、成膜後にエッチング法により回路を
描く場合には、基板に付着したＩＴＯの大半が取り除か
れるという材料の無駄、さらには成膜装置の設備費が高
価であるという欠点もある。
来より最も広く用いられている透明導電膜の形成方法で
あるが、形状が一様でない基板に対しては均一な皮膜形
成が困難である上、蒸着やスパッタリング時に生じる異
常放電によりターゲットの劣化が生じたり、基板への塗
着率が低い (ＩＴＯの有効利用効率が40〜55％) という
問題がある。また、成膜後にエッチング法により回路を
描く場合には、基板に付着したＩＴＯの大半が取り除か
れるという材料の無駄、さらには成膜装置の設備費が高
価であるという欠点もある。
【０００５】一方、アクリル系樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリカーボネート樹脂等の透明性に優れた樹脂の溶
液中に導電性微粒子を分散させて塗料化し、これを基板
に塗布し、樹脂を硬化させて、透明導電膜を形成する塗
工法は、設備が簡単で生産性に優れ、大面積の膜も容易
に形成できる点では有利である。また、この方法はＩＴ
Ｏ粉末にも容易に適用できる。
脂、ポリカーボネート樹脂等の透明性に優れた樹脂の溶
液中に導電性微粒子を分散させて塗料化し、これを基板
に塗布し、樹脂を硬化させて、透明導電膜を形成する塗
工法は、設備が簡単で生産性に優れ、大面積の膜も容易
に形成できる点では有利である。また、この方法はＩＴ
Ｏ粉末にも容易に適用できる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この塗工法で
得た膜は、塗膜硬度が低く、耐擦過傷性に劣り、ヘーズ
が高くなる等の問題が残る。そのため、透明性、導電
性、耐擦過傷性等のすべての特性が実用目的に必要な水
準に達している透明導電膜をこの方法で得ることは困難
であった。
得た膜は、塗膜硬度が低く、耐擦過傷性に劣り、ヘーズ
が高くなる等の問題が残る。そのため、透明性、導電
性、耐擦過傷性等のすべての特性が実用目的に必要な水
準に達している透明導電膜をこの方法で得ることは困難
であった。
【０００７】本発明の目的は、ＩＴＯ粉末を用いた塗工
法により、耐擦過傷性、導電性、透明性等の特性が十分
に満足できる透明導電膜を形成することができる、透明
導電膜形成用組成物を提供することにある。
法により、耐擦過傷性、導電性、透明性等の特性が十分
に満足できる透明導電膜を形成することができる、透明
導電膜形成用組成物を提供することにある。
【０００８】本発明の別の目的は、塗布に適した流動性
を示し、紫外線、電子線などの活性エネルギー線の照射
により容易に硬化し、耐熱性の低い樹脂基板や多様な形
状の基板にも適用できる、上記の透明導電膜形成用組成
物を提供することである。
を示し、紫外線、電子線などの活性エネルギー線の照射
により容易に硬化し、耐熱性の低い樹脂基板や多様な形
状の基板にも適用できる、上記の透明導電膜形成用組成
物を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ＩＴＯ粉
末を各種のバインダーと組合わせて塗料化し、上記目的
を達成できる組成物について探究した結果、酸性燐酸基
を含有するアクリレートまたはメタクリレート化合物を
含有する活性エネルギー線硬化性バインダーが最適であ
ることを見出し、本発明に到達した。
末を各種のバインダーと組合わせて塗料化し、上記目的
を達成できる組成物について探究した結果、酸性燐酸基
を含有するアクリレートまたはメタクリレート化合物を
含有する活性エネルギー線硬化性バインダーが最適であ
ることを見出し、本発明に到達した。
【００１０】本発明の要旨は、酸性燐酸基含有アクリレ
ートまたはメタクリレート化合物を含む活性エネルギー
線硬化性バインダー成分と、このバインダー中に分散し
たＩＴＯ粉末とを必須成分とする、活性エネルギー線硬
化可能な導電膜形成用組成物である。
ートまたはメタクリレート化合物を含む活性エネルギー
線硬化性バインダー成分と、このバインダー中に分散し
たＩＴＯ粉末とを必須成分とする、活性エネルギー線硬
化可能な導電膜形成用組成物である。
【００１１】以下、アクリレート化合物とメタクリレー
ト化合物を総称して (メタ) アクリレートと記載し、ア
クリル酸とメタクリル酸とを総称して (メタ) アクリル
酸と記載する。本発明において、バインダーとは、ＩＴ
Ｏ粉末を結合して導電膜を形成する成分を意味する。
ト化合物を総称して (メタ) アクリレートと記載し、ア
クリル酸とメタクリル酸とを総称して (メタ) アクリル
酸と記載する。本発明において、バインダーとは、ＩＴ
Ｏ粉末を結合して導電膜を形成する成分を意味する。
【００１２】本発明の好適態様にあっては、このバイン
ダー成分の酸価が１〜300 mgKOH/ｇの範囲であり、ＩＴ
Ｏ粉末は (In+Sn)の合計量に対するSn含有量が１〜15モ
ル％、平均一次粒子径が0.2 μｍ以下のものであり、Ｉ
ＴＯ粉末／バインダー成分の重量比は60／40〜90／10の
範囲である。
ダー成分の酸価が１〜300 mgKOH/ｇの範囲であり、ＩＴ
Ｏ粉末は (In+Sn)の合計量に対するSn含有量が１〜15モ
ル％、平均一次粒子径が0.2 μｍ以下のものであり、Ｉ
ＴＯ粉末／バインダー成分の重量比は60／40〜90／10の
範囲である。
【００１３】本発明で用いるＩＴＯ粉末は市販品を利用
してもよく、或いは公知の方法 (例えば、錫とインジウ
ムの各塩化物が溶解した酸性溶液をアルカリで中和して
錫／インジウムの水酸化物を共沈させ、この共沈物を焼
成する) で製造することもできる。ＩＴＯ粉末は、(In+
Sn) に対するSnの含有量が１〜15モル％の範囲内のもの
が導電性が高いことから好ましい。Sn含有量がこの範囲
を外れると、ＩＴＯ粉末自体の抵抗が高くなるため、形
成された膜の導電性が低下する傾向にある。
してもよく、或いは公知の方法 (例えば、錫とインジウ
ムの各塩化物が溶解した酸性溶液をアルカリで中和して
錫／インジウムの水酸化物を共沈させ、この共沈物を焼
成する) で製造することもできる。ＩＴＯ粉末は、(In+
Sn) に対するSnの含有量が１〜15モル％の範囲内のもの
が導電性が高いことから好ましい。Sn含有量がこの範囲
を外れると、ＩＴＯ粉末自体の抵抗が高くなるため、形
成された膜の導電性が低下する傾向にある。
【００１４】また、ＩＴＯ粉末は平均一次粒子径0.2 μ
ｍ以下の超微粒子であることが好ましい。これは、ロー
ド・レイリーの光の散乱原理から、光の波長の１／２程
度の粒子径が最も光の散乱が大きく、それ以下では粒子
径の６乗に比例して散乱が小さくなり、粒子径が0.2 μ
ｍ以下では透明膜が得られるが、それ以上になると透明
性が低下するからである。しかし、透明性が重要でない
用途に対しては、0.2μｍより大粒径のＩＴＯ粉末も使
用できる。
ｍ以下の超微粒子であることが好ましい。これは、ロー
ド・レイリーの光の散乱原理から、光の波長の１／２程
度の粒子径が最も光の散乱が大きく、それ以下では粒子
径の６乗に比例して散乱が小さくなり、粒子径が0.2 μ
ｍ以下では透明膜が得られるが、それ以上になると透明
性が低下するからである。しかし、透明性が重要でない
用途に対しては、0.2μｍより大粒径のＩＴＯ粉末も使
用できる。
【００１５】本発明で用いる活性エネルギー線硬化性バ
インダー成分は、酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート
化合物と、必要により配合されるその他のラジカル重合
性モノマーおよび／またはオリゴマーとから構成され
る。
インダー成分は、酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート
化合物と、必要により配合されるその他のラジカル重合
性モノマーおよび／またはオリゴマーとから構成され
る。
【００１６】酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート化合
物としては、例えば、下記の一般式(I) および(II)で示
される化合物が例示される。
物としては、例えば、下記の一般式(I) および(II)で示
される化合物が例示される。
【００１７】
【化１】
【００１８】
【化２】
【００１９】(上記式中、Ｒ1 は水素またはメチル基、
Ｒ2 はアルキレンオキサイド基またはポリアルキレンオ
キサイド基、Ｒ3 は水素、フェニル基、アルキル基、ま
たはアルキルフェニル基を示す。）一般式（Ｉ） で示
される化合物の具体例には、モノ(2-(メタ) アクリロイ
ルオキシエチル) アシッドホスフェート、モノ (ω−
(メタ) アクリロイルポリオキシエチル) アシッドホス
フェート、モノ(2-(メタ) アクリロイルオキシエチル)
メチルアシッドホスフェート、モノ(2-(メタ) アクリロ
イルオキシエチル) フェニルアシッドホスフェート等が
ある。
Ｒ2 はアルキレンオキサイド基またはポリアルキレンオ
キサイド基、Ｒ3 は水素、フェニル基、アルキル基、ま
たはアルキルフェニル基を示す。）一般式（Ｉ） で示
される化合物の具体例には、モノ(2-(メタ) アクリロイ
ルオキシエチル) アシッドホスフェート、モノ (ω−
(メタ) アクリロイルポリオキシエチル) アシッドホス
フェート、モノ(2-(メタ) アクリロイルオキシエチル)
メチルアシッドホスフェート、モノ(2-(メタ) アクリロ
イルオキシエチル) フェニルアシッドホスフェート等が
ある。
【００２０】一般式(II)で示される化合物の具体例とし
ては、ジ(2-(メタ) アクリロイルオキシエチル) アシッ
ドホスフェート、ジ (ω− (メタ) アクリロイルポリオ
キシエチル) アシッドホスフェート等が挙げられる。
ては、ジ(2-(メタ) アクリロイルオキシエチル) アシッ
ドホスフェート、ジ (ω− (メタ) アクリロイルポリオ
キシエチル) アシッドホスフェート等が挙げられる。
【００２１】本発明において、酸性燐酸基含有 (メタ)
アクリレート化合物と一緒にバインダー成分を構成する
ことができるラジカル重合性モノマーは、ラジカル重合
性の不飽和基 (α，β−エチレン性不飽和基) を有して
いるモノマーであればよく、酸性燐酸基以外の酸性官能
基 (例、カルボキシル基、スルホニル基) を有するも
の、アミノ基等の塩基性官能基を有するもの、ＯＨ基な
どの中性官能基を有するもの、或いはこのような官能基
を有していないもの、のいずれでもよい。
アクリレート化合物と一緒にバインダー成分を構成する
ことができるラジカル重合性モノマーは、ラジカル重合
性の不飽和基 (α，β−エチレン性不飽和基) を有して
いるモノマーであればよく、酸性燐酸基以外の酸性官能
基 (例、カルボキシル基、スルホニル基) を有するも
の、アミノ基等の塩基性官能基を有するもの、ＯＨ基な
どの中性官能基を有するもの、或いはこのような官能基
を有していないもの、のいずれでもよい。
【００２２】このようなラジカル重合性モノマーの具体
例としては、スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、
Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、アリルアル
コール、 (メタ) アクリル酸、イタコン酸等の (メタ)
アクリレート以外のラジカル重合性モノマー；メチル
(メタ) アクリレート、エチル (メタ) アクリレート、
イソプロピル (メタ) アクリレート、2-エチルヘキシル
(メタ) アクリレート、ブチル (メタ) アクリレート、
シクロヘキシル (メタ) アクリレート、テトラヒドロフ
ルフリル (メタ) アクリレート、Ｎ−ビニルピロリド
ン、2-ヒドロキシエチル (メタ) アクリレート、2-ヒド
ロキシプロピル (メタ) アクリレート、ポリエチレング
リコールモノ (メタ) アクリレート、メトキシポリエチ
レングリコールモノ (メタ) アクリレート、ポリプロピ
レングリコールモノ (メタ) アクリレート、ポリエチレ
ングリコールポリプロピレングリコールモノ (メタ) ア
クリレート、ポリエチレングリコールポリテトラメチレ
ングリコールモノ (メタ) アクリレート、グリシジル
(メタ) アクリレート等の単官能 (メタ) アクリレー
ト；エチレングリコールジ (メタ) アクリレート、ジエ
チレングリコールジ (メタ)アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ (メタ) アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ (メタ) アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ (メタ) アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ (メタ) アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ (メタ) アクリレート、アリル (メタ) アクリレー
ト、ビスフェノールＡジ (メタ) アクリレート、エチレ
ンオキサイド変性ビスフェノールＡジ (メタ) アクリレ
ート、ポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ
(メタ) アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフ
ェノールＳジ (メタ) アクリレート、ビスフェノールＳ
ジ (メタ) アクリレート、 1,4−ブタンジオールジ (メ
タ)アクリレート、 1,3−ブチレングリコールジ (メタ)
アクリレート等の二官能 (メタ) アクリレート；トリ
メチロールプロパントリ (メタ) アクリレート、グリセ
ロールトリ (メタ) アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリ (メタ) アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ (メタ) アクリレート、エチレン変性トリメチロー
ルプロパントリ (メタ) アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ) アクリレート等の三官能以上の
(メタ) アクリレートが挙げられる。
例としては、スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、
Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、アリルアル
コール、 (メタ) アクリル酸、イタコン酸等の (メタ)
アクリレート以外のラジカル重合性モノマー；メチル
(メタ) アクリレート、エチル (メタ) アクリレート、
イソプロピル (メタ) アクリレート、2-エチルヘキシル
(メタ) アクリレート、ブチル (メタ) アクリレート、
シクロヘキシル (メタ) アクリレート、テトラヒドロフ
ルフリル (メタ) アクリレート、Ｎ−ビニルピロリド
ン、2-ヒドロキシエチル (メタ) アクリレート、2-ヒド
ロキシプロピル (メタ) アクリレート、ポリエチレング
リコールモノ (メタ) アクリレート、メトキシポリエチ
レングリコールモノ (メタ) アクリレート、ポリプロピ
レングリコールモノ (メタ) アクリレート、ポリエチレ
ングリコールポリプロピレングリコールモノ (メタ) ア
クリレート、ポリエチレングリコールポリテトラメチレ
ングリコールモノ (メタ) アクリレート、グリシジル
(メタ) アクリレート等の単官能 (メタ) アクリレー
ト；エチレングリコールジ (メタ) アクリレート、ジエ
チレングリコールジ (メタ)アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ (メタ) アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ (メタ) アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ (メタ) アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ (メタ) アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ (メタ) アクリレート、アリル (メタ) アクリレー
ト、ビスフェノールＡジ (メタ) アクリレート、エチレ
ンオキサイド変性ビスフェノールＡジ (メタ) アクリレ
ート、ポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ
(メタ) アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフ
ェノールＳジ (メタ) アクリレート、ビスフェノールＳ
ジ (メタ) アクリレート、 1,4−ブタンジオールジ (メ
タ)アクリレート、 1,3−ブチレングリコールジ (メタ)
アクリレート等の二官能 (メタ) アクリレート；トリ
メチロールプロパントリ (メタ) アクリレート、グリセ
ロールトリ (メタ) アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリ (メタ) アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ (メタ) アクリレート、エチレン変性トリメチロー
ルプロパントリ (メタ) アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ) アクリレート等の三官能以上の
(メタ) アクリレートが挙げられる。
【００２３】ラジカル重合性オリゴマーの具体例として
は、ポリエステル (メタ) アクリレート、ポリウレタン
(メタ) アクリレート、エポキシ (メタ) アクリレー
ト、ポリエーテル (メタ) アクリレート、オリゴ (メ
タ) アクリレート、アルキド (メタ) アクリレート、ポ
リオール (メタ) アクリレート、シリコーン (メタ) ア
クリレートなどの (メタ) アクリロイル基を少なくとも
１個有するプレポリマーが挙げられる。特に好ましいラ
ジカル重合性オリゴマーは、ポリエステル、エポキシ、
ポリウレタンの各 (メタ) アクリレートである。
は、ポリエステル (メタ) アクリレート、ポリウレタン
(メタ) アクリレート、エポキシ (メタ) アクリレー
ト、ポリエーテル (メタ) アクリレート、オリゴ (メ
タ) アクリレート、アルキド (メタ) アクリレート、ポ
リオール (メタ) アクリレート、シリコーン (メタ) ア
クリレートなどの (メタ) アクリロイル基を少なくとも
１個有するプレポリマーが挙げられる。特に好ましいラ
ジカル重合性オリゴマーは、ポリエステル、エポキシ、
ポリウレタンの各 (メタ) アクリレートである。
【００２４】本発明の組成物の活性エネルギー線硬化性
バインダー成分は、透明性、導電性に優れた硬化膜を形
成するため、前述した酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレ
ート化合物を、バインダー全重量に基づいて２重量％以
上の量で含有することが好ましい。バインダー成分は、
酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート化合物のみからな
ることもできるが、硬化後の耐水性などの特性を考慮す
ると、この化合物の量はバインダー全重量の50重量％以
下とすることが適当である。バインダー成分の残部は上
記のようなラジカル重合性モノマーまたはオリゴマーを
１種もしくは２種以上からなる。
バインダー成分は、透明性、導電性に優れた硬化膜を形
成するため、前述した酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレ
ート化合物を、バインダー全重量に基づいて２重量％以
上の量で含有することが好ましい。バインダー成分は、
酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート化合物のみからな
ることもできるが、硬化後の耐水性などの特性を考慮す
ると、この化合物の量はバインダー全重量の50重量％以
下とすることが適当である。バインダー成分の残部は上
記のようなラジカル重合性モノマーまたはオリゴマーを
１種もしくは２種以上からなる。
【００２５】活性エネルギー線硬化性バインダー成分の
酸価は、１〜300 mgKOH/ｇ、特に５〜200 mgKOH/ｇの範
囲内が好ましい。この酸価は、バインダー成分全体とし
ての酸価である。即ち、バインダー成分が酸性燐酸基含
有 (メタ) アクリレート以外に、酸性官能基を有するラ
ジカル重合性モノマーまたはオリゴマー [例、 (メタ)
アクリル酸モノマー] を含有する場合には、全ての酸性
モノマーを合計した酸価を意味する。この酸価が１mgKO
H/g より小さくなると、ＩＴＯ粉末の分散が不十分とな
り易く、透明性のある膜が得られにくくなる傾向にあ
る。一方、酸価が300 mgKOH/g を超えると、硬化後の耐
水性等の特性が低下する傾向にある。
酸価は、１〜300 mgKOH/ｇ、特に５〜200 mgKOH/ｇの範
囲内が好ましい。この酸価は、バインダー成分全体とし
ての酸価である。即ち、バインダー成分が酸性燐酸基含
有 (メタ) アクリレート以外に、酸性官能基を有するラ
ジカル重合性モノマーまたはオリゴマー [例、 (メタ)
アクリル酸モノマー] を含有する場合には、全ての酸性
モノマーを合計した酸価を意味する。この酸価が１mgKO
H/g より小さくなると、ＩＴＯ粉末の分散が不十分とな
り易く、透明性のある膜が得られにくくなる傾向にあ
る。一方、酸価が300 mgKOH/g を超えると、硬化後の耐
水性等の特性が低下する傾向にある。
【００２６】本発明の導電膜形成用組成物におけるＩＴ
Ｏ粉末と活性エネルギー線硬化性バインダー成分との重
量比は、60／40〜90／10の範囲内、特に65／35〜86／14
の範囲内が好ましい。ＩＴＯ粉末の量が上記重量比で60
／40より少ないと、得られた膜の透明性は十分であって
も、導電性が悪くなる傾向がある。逆に、ＩＴＯ粉末が
上記重量比で90／10より多いと、粉末の分散性が悪くな
り、得られた導電膜の透明性、基板への密着性および塗
膜硬度が低くなり、膜性能が低下する傾向にある。
Ｏ粉末と活性エネルギー線硬化性バインダー成分との重
量比は、60／40〜90／10の範囲内、特に65／35〜86／14
の範囲内が好ましい。ＩＴＯ粉末の量が上記重量比で60
／40より少ないと、得られた膜の透明性は十分であって
も、導電性が悪くなる傾向がある。逆に、ＩＴＯ粉末が
上記重量比で90／10より多いと、粉末の分散性が悪くな
り、得られた導電膜の透明性、基板への密着性および塗
膜硬度が低くなり、膜性能が低下する傾向にある。
【００２７】本発明の導電膜形成用組成物を活性エネル
ギー線硬化型とするために、組成物中に重合開始剤 (光
増感剤) を添加することが望ましい。それにより、少量
の活性エネルギー線の照射で組成物を硬化させることが
できる。但し、本発明の組成物は熱硬化させることもで
きるので、熱硬化型として使用する場合には、光増感剤
に変えて適当なラジカル重合開始剤 (例、アゾビスイソ
ブチロニトリル) を配合してもよい。
ギー線硬化型とするために、組成物中に重合開始剤 (光
増感剤) を添加することが望ましい。それにより、少量
の活性エネルギー線の照射で組成物を硬化させることが
できる。但し、本発明の組成物は熱硬化させることもで
きるので、熱硬化型として使用する場合には、光増感剤
に変えて適当なラジカル重合開始剤 (例、アゾビスイソ
ブチロニトリル) を配合してもよい。
【００２８】活性エネルギー線硬化型とするために用い
る重合重合開始剤としては、例えば、1-ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、ベンジル
ジメチルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、p-クロロベンゾフェノン、4-ベンゾ
イル-4- メチルジフェニルサルファイド、2-ベンジル-2
- ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタノン
-1、2-メチル-1-[4- (メチルチオ) フェニル]-2-モルホ
リノプロパノン-1が例示される。重合開始剤は１種もし
くは２種以上を使用することができる。重合開始剤の配
合量は、バインダー成分100 重量部に対して 0.1〜20重
量部、好ましくは 1.0〜15.0重量部の範囲である。
る重合重合開始剤としては、例えば、1-ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、ベンジル
ジメチルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、p-クロロベンゾフェノン、4-ベンゾ
イル-4- メチルジフェニルサルファイド、2-ベンジル-2
- ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタノン
-1、2-メチル-1-[4- (メチルチオ) フェニル]-2-モルホ
リノプロパノン-1が例示される。重合開始剤は１種もし
くは２種以上を使用することができる。重合開始剤の配
合量は、バインダー成分100 重量部に対して 0.1〜20重
量部、好ましくは 1.0〜15.0重量部の範囲である。
【００２９】さらに、本発明の導電膜形成用組成物に
は、その目的を損なわない範囲で、上記以外の慣用の各
種添加剤を配合してもよい。このような添加剤の例とし
ては、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、レベリング
剤等が挙げられる。
は、その目的を損なわない範囲で、上記以外の慣用の各
種添加剤を配合してもよい。このような添加剤の例とし
ては、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、レベリング
剤等が挙げられる。
【００３０】本発明の活性エネルギー線硬化型導電膜形
成用組成物は、上記バインダーに必要に応じて有機溶媒
を加えて希釈したバインダー溶液中に、ＩＴＯ粉末を分
散させることにより製造することが出来る。ＩＴＯ粉末
の分散は、常法により、ペイントシェーカー、ボールミ
ル、サンドミル、セントリミル、三本ロール等によって
行うことができる。
成用組成物は、上記バインダーに必要に応じて有機溶媒
を加えて希釈したバインダー溶液中に、ＩＴＯ粉末を分
散させることにより製造することが出来る。ＩＴＯ粉末
の分散は、常法により、ペイントシェーカー、ボールミ
ル、サンドミル、セントリミル、三本ロール等によって
行うことができる。
【００３１】有機溶媒としては、上記バインダー成分と
の相溶性が良好なものが好ましく、例えば、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、アセ
チルアセトンなどのケトン類、エタノール、1-ブタノー
ル、2-プロパノールなどのアルコール類、セロソルブ
類、酢酸エステル類、エーテル類、芳香族炭化水素類な
どを単独で、或いは２種以上の混合溶媒として使用する
ことができる。有機溶媒の使用量は、ＩＴＯ粉末を分散
させて最終的に得られる組成物の粘性が、塗布または印
刷に適したものとなるように調整する。本発明の組成物
の粘度は２〜5000cps (Ｅ型粘度計) の範囲内が好まし
い。
の相溶性が良好なものが好ましく、例えば、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、アセ
チルアセトンなどのケトン類、エタノール、1-ブタノー
ル、2-プロパノールなどのアルコール類、セロソルブ
類、酢酸エステル類、エーテル類、芳香族炭化水素類な
どを単独で、或いは２種以上の混合溶媒として使用する
ことができる。有機溶媒の使用量は、ＩＴＯ粉末を分散
させて最終的に得られる組成物の粘性が、塗布または印
刷に適したものとなるように調整する。本発明の組成物
の粘度は２〜5000cps (Ｅ型粘度計) の範囲内が好まし
い。
【００３２】本発明の活性エネルギー線硬化可能な導電
膜形成用組成物を塗布して透明導電膜を形成する基板と
しては、電気・電子機器をはじめとして様々な分野にお
いて広く用いられる各種の合成樹脂、ガラス、セラミッ
クス等が可能であり、これらはシート状、フィルム状、
板状等その形状を問わない。合成樹脂の具体例として
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂およびフェノール樹
脂等が挙げられるが、これらに制限されるものではな
い。
膜形成用組成物を塗布して透明導電膜を形成する基板と
しては、電気・電子機器をはじめとして様々な分野にお
いて広く用いられる各種の合成樹脂、ガラス、セラミッ
クス等が可能であり、これらはシート状、フィルム状、
板状等その形状を問わない。合成樹脂の具体例として
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂およびフェノール樹
脂等が挙げられるが、これらに制限されるものではな
い。
【００３３】本発明の導電膜形成用組成物の基板への塗
布または印刷は常法により、例えば、ロールコート、ス
ピンコート、スクリーン印刷などの手法で行うことがで
きる。その後、溶媒を使用した場合には、必要により加
熱して溶媒を蒸発させ、塗膜を乾燥させる。次いで、活
性エネルギー線 (紫外線または電子線) を照射する。活
性エネルギー線源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、
メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマレー
ザー、色素レーザーなどの紫外線源、ならびに電子線加
速装置が使用できる。活性エネルギー線の照射量は、紫
外線の場合で50〜3000 mJ/cm2 、電子線では 0.2〜1000
μC/cm2 の範囲内が適当である。この活性エネルギー線
の照射により、上記バインダー成分が重合し、ＩＴＯ粉
末が樹脂で結合された透明導電膜が形成される。この透
明導電膜の膜厚は、一般に 0.5〜5.0 μｍの範囲内が好
ましい。
布または印刷は常法により、例えば、ロールコート、ス
ピンコート、スクリーン印刷などの手法で行うことがで
きる。その後、溶媒を使用した場合には、必要により加
熱して溶媒を蒸発させ、塗膜を乾燥させる。次いで、活
性エネルギー線 (紫外線または電子線) を照射する。活
性エネルギー線源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、
メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマレー
ザー、色素レーザーなどの紫外線源、ならびに電子線加
速装置が使用できる。活性エネルギー線の照射量は、紫
外線の場合で50〜3000 mJ/cm2 、電子線では 0.2〜1000
μC/cm2 の範囲内が適当である。この活性エネルギー線
の照射により、上記バインダー成分が重合し、ＩＴＯ粉
末が樹脂で結合された透明導電膜が形成される。この透
明導電膜の膜厚は、一般に 0.5〜5.0 μｍの範囲内が好
ましい。
【００３４】基板上に本発明の組成物から形成された透
明導電膜は、電子写真記録の埃防止膜として、或いは透
明電極、帯電防止膜、熱線反射膜、面発熱体、タッチパ
ネル等として利用可能である。
明導電膜は、電子写真記録の埃防止膜として、或いは透
明電極、帯電防止膜、熱線反射膜、面発熱体、タッチパ
ネル等として利用可能である。
【００３５】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。なお、実施例中、部は特に指定しない限り重量部で
ある。実施例で使用したＩＴＯ粉末は、いずれもInに対
するSn含有量が５モル％、平均一次粒子径0.05μｍの粉
末であった。また、実施例で使用した有機溶媒は、いず
れもｎ−ブタノール／キシレンの重量比４／６から成る
混合有機溶媒であった。
る。なお、実施例中、部は特に指定しない限り重量部で
ある。実施例で使用したＩＴＯ粉末は、いずれもInに対
するSn含有量が５モル％、平均一次粒子径0.05μｍの粉
末であった。また、実施例で使用した有機溶媒は、いず
れもｎ−ブタノール／キシレンの重量比４／６から成る
混合有機溶媒であった。
【００３６】(実施例１)酸性燐酸基含有メタクリレート
化合物としてモノ (2-メタクリロイルポリエチレンオキ
サイド) アシッドホスフェート (ユニケミカル (株)
製、ホスマーPE、ポリエチレンオキサイド４〜５ mol)
を使用した。
化合物としてモノ (2-メタクリロイルポリエチレンオキ
サイド) アシッドホスフェート (ユニケミカル (株)
製、ホスマーPE、ポリエチレンオキサイド４〜５ mol)
を使用した。
【００３７】この酸性燐酸基含有メタクリレート化合物
1.4部、ジエチレングリコールジメタクリレート13.6
部、トリメチロールプロパントリアクリレート５部、お
よびポリエステルアクリレート10部からなるバインダー
成分を、ＩＴＯ粉末70部、混合有機溶媒 150部、および
ガラスビーズ 250部と共に容器に加え、ペイントシェー
カーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時間練
合した。練合後、光開始剤として2-ベンジル-2- ジメチ
ルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタノン-1を３部
加えて、完全に溶解させた後、ガラスビーズを取り除
き、粘稠な液状物を得た。その後、アプリケーターを用
いて粘稠液状物をガラス板上に塗布し、有機溶媒を蒸発
させた後、高圧水銀灯にて500 mJ/cm2の紫外線を照射
し、厚み２μｍの透明硬化被膜を作製した。
1.4部、ジエチレングリコールジメタクリレート13.6
部、トリメチロールプロパントリアクリレート５部、お
よびポリエステルアクリレート10部からなるバインダー
成分を、ＩＴＯ粉末70部、混合有機溶媒 150部、および
ガラスビーズ 250部と共に容器に加え、ペイントシェー
カーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時間練
合した。練合後、光開始剤として2-ベンジル-2- ジメチ
ルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタノン-1を３部
加えて、完全に溶解させた後、ガラスビーズを取り除
き、粘稠な液状物を得た。その後、アプリケーターを用
いて粘稠液状物をガラス板上に塗布し、有機溶媒を蒸発
させた後、高圧水銀灯にて500 mJ/cm2の紫外線を照射
し、厚み２μｍの透明硬化被膜を作製した。
【００３８】(実施例２)実施例１で使用したのと同じ酸
性燐酸基含有メタクリレート化合物 7.5部、ジエチレン
グリコールジメタクリレート 7.5部、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート５部、およびポリエステルアク
リレート10部からなるバインダー成分を、ＩＴＯ粉末70
部、混合有機溶媒150 部およびガラスビーズ250 部と共
に容器に加え、ペイントシェーカーで粒ゲージにより分
散状態を確認しながら５時間練合した。練合後、実施例
１と同様にして、光開始剤を加え、ガラス板上への塗布
および硬化を行い、厚み２μｍの透明硬化被膜を作製し
た。
性燐酸基含有メタクリレート化合物 7.5部、ジエチレン
グリコールジメタクリレート 7.5部、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート５部、およびポリエステルアク
リレート10部からなるバインダー成分を、ＩＴＯ粉末70
部、混合有機溶媒150 部およびガラスビーズ250 部と共
に容器に加え、ペイントシェーカーで粒ゲージにより分
散状態を確認しながら５時間練合した。練合後、実施例
１と同様にして、光開始剤を加え、ガラス板上への塗布
および硬化を行い、厚み２μｍの透明硬化被膜を作製し
た。
【００３９】(実施例３)実施例１で使用したのと同じ酸
性燐酸基含有メタクリレート化合物14.0部、ジエチレン
グリコールジメタクリレート 1.0部、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート５部、およびポリエステルアク
リレート10部からなるバインダー成分を、ＩＴＯ粉末70
部、混合有機溶媒150 部およびガラスビーズ250 部と共
に容器に加え、ペイントシェーカーで粒ゲージにより分
散状態を確認しながら５時間練合した。練合後、実施例
１と同様にして、光開始剤を加え、ガラス板への塗布お
よび硬化を行い、厚み２μｍの透明硬化被膜を作製し
た。
性燐酸基含有メタクリレート化合物14.0部、ジエチレン
グリコールジメタクリレート 1.0部、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート５部、およびポリエステルアク
リレート10部からなるバインダー成分を、ＩＴＯ粉末70
部、混合有機溶媒150 部およびガラスビーズ250 部と共
に容器に加え、ペイントシェーカーで粒ゲージにより分
散状態を確認しながら５時間練合した。練合後、実施例
１と同様にして、光開始剤を加え、ガラス板への塗布お
よび硬化を行い、厚み２μｍの透明硬化被膜を作製し
た。
【００４０】(実施例４)実施例１で使用したのと同じ酸
性燐酸基含有メタクリレート化合物 1.4部、アクリル酸
2.5部、ジエチレングリコールジメタクリレート11.1
部、トリメチロールプロパントリアクリレート５部およ
びポリエステルアクリレート10部からなるバインダー成
分を、ＩＴＯ粉末70部、混合有機溶媒150 部、およびガ
ラスビーズ250 部と共に容器に加え、ペイントシェーカ
ーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時間練合
した。練合後、実施例１と同様にして光開始剤を加え、
ガラス板への塗布および硬化を行い、厚み２μｍの透明
硬化被膜を作製した。
性燐酸基含有メタクリレート化合物 1.4部、アクリル酸
2.5部、ジエチレングリコールジメタクリレート11.1
部、トリメチロールプロパントリアクリレート５部およ
びポリエステルアクリレート10部からなるバインダー成
分を、ＩＴＯ粉末70部、混合有機溶媒150 部、およびガ
ラスビーズ250 部と共に容器に加え、ペイントシェーカ
ーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時間練合
した。練合後、実施例１と同様にして光開始剤を加え、
ガラス板への塗布および硬化を行い、厚み２μｍの透明
硬化被膜を作製した。
【００４１】(実施例５)酸性燐酸基含有メタクリレート
化合物として、ジ (2-メタクリロイルエチレンオキサイ
ド) アシッドホスフェート (大八化学工業 (株) 製、MR
-200) を使用した。
化合物として、ジ (2-メタクリロイルエチレンオキサイ
ド) アシッドホスフェート (大八化学工業 (株) 製、MR
-200) を使用した。
【００４２】この酸性燐酸基含有メタクリレート化合物
12.6部、ジエチレングリコールジメタクリレート 2.4
部、トリメチロールプロパントリアクリレート５部、お
よびポリエステルアクリレート10部からなるバインダー
成分を、ＩＴＯ粉末70部、混合有機溶媒 150部およびガ
ラスビーズ250 部と共に容器に加え、ペイントシェーカ
ーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時間練合
した。練合後、実施例１と同様にして光開始剤を加え、
ガラス板への塗布および硬化を行い、厚み２μｍの透明
硬化被膜を作製した。
12.6部、ジエチレングリコールジメタクリレート 2.4
部、トリメチロールプロパントリアクリレート５部、お
よびポリエステルアクリレート10部からなるバインダー
成分を、ＩＴＯ粉末70部、混合有機溶媒 150部およびガ
ラスビーズ250 部と共に容器に加え、ペイントシェーカ
ーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時間練合
した。練合後、実施例１と同様にして光開始剤を加え、
ガラス板への塗布および硬化を行い、厚み２μｍの透明
硬化被膜を作製した。
【００４３】(実施例６)実施例１で使用したのと同じ酸
性燐酸基含有メタクリレート化合物 7.5部、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート 2.0部、およびポリエス
テルアクリレート 5.5部からなるバインダー成分を、Ｉ
ＴＯ粉末85部、混合有機溶媒150 部およびガラスビーズ
250部と共に容器に加え、ペイントシェーカーで粒ゲー
ジにより分散状態を確認しながら５時間練合した。練合
後、実施例１で用いたのと同じ光開始剤 1.5部を加えて
完全に溶解させた後、ガラスビーズを取り除き粘稠性の
液状物を得た。その後、実施例１と同様にガラス板への
塗布および硬化を行い、厚み２μｍの透明硬化被膜を作
製した。
性燐酸基含有メタクリレート化合物 7.5部、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート 2.0部、およびポリエス
テルアクリレート 5.5部からなるバインダー成分を、Ｉ
ＴＯ粉末85部、混合有機溶媒150 部およびガラスビーズ
250部と共に容器に加え、ペイントシェーカーで粒ゲー
ジにより分散状態を確認しながら５時間練合した。練合
後、実施例１で用いたのと同じ光開始剤 1.5部を加えて
完全に溶解させた後、ガラスビーズを取り除き粘稠性の
液状物を得た。その後、実施例１と同様にガラス板への
塗布および硬化を行い、厚み２μｍの透明硬化被膜を作
製した。
【００４４】(実施例７)実施例１で用いたのと同じ酸性
燐酸基含有メタクリレート化合物 7.5部およびポリウレ
タンアクリレートオリゴマー 7.5部からなるバインダー
成分を、ＩＴＯ粉末85部、混合有機溶媒 150部およびガ
ラスビーズ250 部と共に容器に加え、ペイントシェーカ
ーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時間練合
した。練合後、実施例１と同様にして光開始剤を加え、
ガラス板への塗布および硬化を行い、厚み２μｍの透明
硬化被膜を作製した。
燐酸基含有メタクリレート化合物 7.5部およびポリウレ
タンアクリレートオリゴマー 7.5部からなるバインダー
成分を、ＩＴＯ粉末85部、混合有機溶媒 150部およびガ
ラスビーズ250 部と共に容器に加え、ペイントシェーカ
ーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時間練合
した。練合後、実施例１と同様にして光開始剤を加え、
ガラス板への塗布および硬化を行い、厚み２μｍの透明
硬化被膜を作製した。
【００４５】(比較例１)アクリル酸 3.0部、ジエチレン
グリコールジメタクリレート12.0部、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート５部およびポリエステルアクリ
レート10.0部からなるバインダー成分を、ＩＴＯ粉末70
部、混合有機溶媒150 部およびガラスビーズ250 部と共
に容器に加え、ペイントシェーカーで粒ゲージにより分
散状態を確認しながら５時間練合した。練合後、実施例
１と同様にして光開始剤を加え、ガラス板上に塗布およ
び硬化を行い、厚み２μｍの透明硬化被膜を作製した。
グリコールジメタクリレート12.0部、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート５部およびポリエステルアクリ
レート10.0部からなるバインダー成分を、ＩＴＯ粉末70
部、混合有機溶媒150 部およびガラスビーズ250 部と共
に容器に加え、ペイントシェーカーで粒ゲージにより分
散状態を確認しながら５時間練合した。練合後、実施例
１と同様にして光開始剤を加え、ガラス板上に塗布およ
び硬化を行い、厚み２μｍの透明硬化被膜を作製した。
【００４６】(比較例２)2-ヒドロキシエチルメタクリレ
ート10部、ジエチレングリコールジメタクリレート 5.0
部、トリメチロールプロパントリアクリレート５部、お
よびポリエステルアクリレート10.0部からなるバインダ
ー成分を、ＩＴＯ粉末70部、混合有機溶媒 150部および
ガラスビーズ250 部と共に容器に加え、ペイントシェー
カーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時間練
合した。練合後は、実施例１と同様にして光開始剤を加
え、ガラス板への塗布および硬化を行い、厚み２μｍの
透明硬化被膜を作製した。
ート10部、ジエチレングリコールジメタクリレート 5.0
部、トリメチロールプロパントリアクリレート５部、お
よびポリエステルアクリレート10.0部からなるバインダ
ー成分を、ＩＴＯ粉末70部、混合有機溶媒 150部および
ガラスビーズ250 部と共に容器に加え、ペイントシェー
カーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時間練
合した。練合後は、実施例１と同様にして光開始剤を加
え、ガラス板への塗布および硬化を行い、厚み２μｍの
透明硬化被膜を作製した。
【００４７】(比較例３)本比較例は、酸性燐酸基ではな
く、中性の燐酸エステル基を含有するメタクリレート化
合物であるジフェニル・2-メタクリロイルエチレンオキ
サイドホスフェート (大八化学工業 (株) 製、MR-260)
を使用した例である。
く、中性の燐酸エステル基を含有するメタクリレート化
合物であるジフェニル・2-メタクリロイルエチレンオキ
サイドホスフェート (大八化学工業 (株) 製、MR-260)
を使用した例である。
【００４８】上記の燐酸エステル基含有メタクリレート
化合物 7.5部、ジエチレングリコールジメタクリレート
7.5部、トリメチロールプロパントリアクリレート５
部、およびポリエステルアクリレート10部からなるバイ
ンダー成分を、ＩＴＯ粉末70部、混合有機溶媒150 部お
よびガラスビーズ250 部と共に容器に加え、ペイントシ
ェーカーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時
間練合した。練合後、実施例１と同様にして光開始剤を
加え、ガラス板への塗布および硬化を行い、厚み２μｍ
の透明硬化被膜を作製した。
化合物 7.5部、ジエチレングリコールジメタクリレート
7.5部、トリメチロールプロパントリアクリレート５
部、およびポリエステルアクリレート10部からなるバイ
ンダー成分を、ＩＴＯ粉末70部、混合有機溶媒150 部お
よびガラスビーズ250 部と共に容器に加え、ペイントシ
ェーカーで粒ゲージにより分散状態を確認しながら５時
間練合した。練合後、実施例１と同様にして光開始剤を
加え、ガラス板への塗布および硬化を行い、厚み２μｍ
の透明硬化被膜を作製した。
【００４９】前記の各実施例および比較例で得た透明被
膜について、その全光線透過率を日本分光 (株) 製のUB
EST 55型分光光度計で、ヘーズをスガ試験機 (株) 製の
SMカラーコンピューターで、表面抵抗値を三菱油化
(株) 製のローレスタAP MCP-T400 表面抵抗測定器で、
そして塗膜の表面硬度をJISC3003に従い鉛筆硬度で、そ
れぞれ測定した。表１に試験結果をまとめて示す。
膜について、その全光線透過率を日本分光 (株) 製のUB
EST 55型分光光度計で、ヘーズをスガ試験機 (株) 製の
SMカラーコンピューターで、表面抵抗値を三菱油化
(株) 製のローレスタAP MCP-T400 表面抵抗測定器で、
そして塗膜の表面硬度をJISC3003に従い鉛筆硬度で、そ
れぞれ測定した。表１に試験結果をまとめて示す。
【００５０】
【表１】
【００５１】
【発明の効果】実施例１〜７に示すように、本発明に従
って、酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート化合物を含
んでいる導電膜形成用組成物を塗布してを活性エネルギ
ー線で硬化させた場合には、表面抵抗値が 103〜106 Ω
／□、光透過率が85％以上、ヘーズ２％以下、塗膜硬度
が５Ｈ〜９Ｈの範囲内という、透明性、導電性、耐擦過
傷性 (被膜硬度) のいずれにも優れた透明導電膜が得ら
れた。
って、酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート化合物を含
んでいる導電膜形成用組成物を塗布してを活性エネルギ
ー線で硬化させた場合には、表面抵抗値が 103〜106 Ω
／□、光透過率が85％以上、ヘーズ２％以下、塗膜硬度
が５Ｈ〜９Ｈの範囲内という、透明性、導電性、耐擦過
傷性 (被膜硬度) のいずれにも優れた透明導電膜が得ら
れた。
【００５２】これに対し、比較例１〜３に示すように、
バインダー成分が酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート
化合物を含んでいないと、導電性と透明性がいずれも大
きく低下し、また被膜硬度も低かった。即ち、本発明の
効果は、酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート化合物を
含有する活性エネルギー線硬化性バインダー成分を使用
した場合に特有のものである。
バインダー成分が酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート
化合物を含んでいないと、導電性と透明性がいずれも大
きく低下し、また被膜硬度も低かった。即ち、本発明の
効果は、酸性燐酸基含有 (メタ) アクリレート化合物を
含有する活性エネルギー線硬化性バインダー成分を使用
した場合に特有のものである。
【００５３】本発明の導電膜形成用組成物は、塗料また
はインクとして基板に塗布または印刷した後、活性エネ
ルギー線の照射により基板上に透明導電膜を形成するこ
とができる。従って、比較的耐熱性の低い樹脂基板や多
様な形状の基板に適用でき、透明導電膜を連続的に大量
生産でき、また大面積化も容易である。得られた透明導
電膜は、成膜条件を調整することにより、表面抵抗値は
103〜106 Ω／□、光透過率は85％以上、ヘーズ２％以
下、膜の表面硬度は鉛筆硬度で５Ｈ〜９Ｈの範囲内に設
定でき、透明性、導電性、耐擦過傷性 (被膜硬度) のい
ずれも良好である。従って、本発明の透明導電膜形成用
組成物は、液晶などの透明電極や、太陽電池の窓材料、
赤外線反射膜、帯電防止膜、タッチパネル、面発熱体、
電子写真記録など広範囲な分野に利用可能であり、各分
野において優れた性能を示すことができる。
はインクとして基板に塗布または印刷した後、活性エネ
ルギー線の照射により基板上に透明導電膜を形成するこ
とができる。従って、比較的耐熱性の低い樹脂基板や多
様な形状の基板に適用でき、透明導電膜を連続的に大量
生産でき、また大面積化も容易である。得られた透明導
電膜は、成膜条件を調整することにより、表面抵抗値は
103〜106 Ω／□、光透過率は85％以上、ヘーズ２％以
下、膜の表面硬度は鉛筆硬度で５Ｈ〜９Ｈの範囲内に設
定でき、透明性、導電性、耐擦過傷性 (被膜硬度) のい
ずれも良好である。従って、本発明の透明導電膜形成用
組成物は、液晶などの透明電極や、太陽電池の窓材料、
赤外線反射膜、帯電防止膜、タッチパネル、面発熱体、
電子写真記録など広範囲な分野に利用可能であり、各分
野において優れた性能を示すことができる。
フロントページの続き (72)発明者 西原 明 埼玉県大宮市北袋町１丁目297番地 三 菱マテリアル株式会社 中央研究所内 (72)発明者 石原 真興 栃木県宇都宮市富士見が丘２−９−16 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C09D 5/24
Claims (4)
- 【請求項１】 酸性燐酸基含有アクリレートまたはメタ
クリレート化合物を含む活性エネルギー線硬化性バイン
ダー成分と、このバインダー中に分散した錫を含有する
酸化インジウム粉末とを必須成分とする、活性エネルギ
ー線硬化可能な導電膜形成用組成物。 - 【請求項２】 前記バインダー成分の酸価が１〜300 mg
KOH/ｇの範囲である請求項１記載の導電膜形成用組成
物。 - 【請求項３】 前記錫を含有する酸化インジウム粉末
が、Inに対するSn含有量が１〜15モル％、平均一次粒子
径が0.2 μｍ以下のものである請求項１または２記載の
導電膜形成用組成物。 - 【請求項４】 錫を含有する酸化インジウム粉末／バイ
ンダー成分の重量比が60／40〜90／10の範囲である請求
項１ないし３のいずれかに記載の導電膜形成用組成物。
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