JP3224922B2 - N−〔3−アミノ−プロピル〕アミンの製造方法 - Google Patents

N−〔3−アミノ−プロピル〕アミンの製造方法

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は界面活性剤、柔軟剤、染
料、酸性ガス除去剤、ポリマー等の製造原料として有用
なN−〔3−アミノ−プロピル〕アミンの製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ジア
ミンの製造方法として、ニトリル基を有するアミン(以
下、アミノニトリルと言う)をラネーニッケル触媒を用
いて水素還元を行なう方法が知られている。しかし、ア
ミノニトリルからのジアミンの製造においては、副生成
物として、2級アミンや分解物が副生するという問題が
ある。
【0003】2級アミンの抑制方法としては、NaOH、ア
ンモニアといったアルカリの添加が有効である。例え
ば、アミノニトリルをエタノールのような不活性溶媒で
希釈し、NaOHのようなアルカリ金属水酸化物およびラネ
ーニッケル触媒を用いて水素還元を行なう方法(特開昭
61−137845号公報)が開示されている。また、3−〔N
−(2−ヒドロキシエチル)−アミノ〕−N−アルキル
プロピオニトリルをアンモニア/エタノール液に溶解
し、ラネーニッケル触媒の存在下、原料アミノニトリル
を水素還元し、N−(2−ヒドロキシエチル)−N−ア
ルキル−1,3 −プロパンジアミンを得る方法(J.Org.Ch
em., 26 巻, 第3409頁 (1960年) ;J.Am.Chem.Soc., 72
巻, 第1814頁 (1950年))が提案されている。
【0004】しかしながら、これらの方法ではアクリロ
ニトリルの脱離に起因すると考えられる分解生成物の生
成を抑制できないために、いずれも得られるジアミンの
収率は60%程度と低く、アミノニトリルよりジアミンを
工業規模で生産する方法として満足すべき方法ではなか
った。従って、本発明の課題は、ジアミンであるN−
〔3−アミノ−プロピル〕アミンを高収率にて製造する
方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討の結果、アミノニトリルを水素
還元してN−〔3−アミノ−プロピル〕アミンを得る際
に特定のアミンを共存させることにより、その目的を達
成しうることを見いだし、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、一般式(II)で表されるアミノニトリ
ルを、水素化触媒および一般式(III)で表されるアミン
の存在下で水素還元を行うことを特徴とする、一般式
(I)で表されるN−〔3−アミノ−プロピル〕アミン
の製造方法を提供するものである。
【0006】
【化2】
【0007】〔式中、R 及びR'は同一又は異なって、H
または炭素数1〜22のアルキル基もしくはヒドロキシア
ルキル基を示す。〕本発明において、使用される一般式
(II)で表されるアミノニトリル(以下アミノニトリル
(II)と略記する)は、前記一般式(III)で表されるア
ミン(以下アミン(III) と略記する)とアクリロニトリ
ルとをマイケル(Michael)付加させる、公知の方法によ
り得ることができる。
【0008】アミノニトリル(II)としては、一般式
(II)において前記のR, R' を満足するものならいずれ
でも良いが、R がH または炭素数1〜6のアルキル基も
しくはヒドロキシアルキル基、R'が炭素数2〜6のアル
キル基もしくはヒドロキシアルキル基であるものが好ま
しい。アミノニトリル(II)の具体例としては、例えば
3−〔N−(2−ヒドロキシエチル)−N−メチルアミ
ノ〕プロピオニトリル、3−〔N−エチル−N−(2−
ヒドロキシエチル)アミノ〕プロピオニトリル、3−
〔N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノ〕プロ
ピオニトリル、3−〔N−(3−ヒドロキシプロピル)
−N−メチルアミノ〕プロピオニトリル、3−〔N−
(6−ヒドロキシヘキシル)−N−メチルアミノ〕プロ
ピオニトリル、3−(N−エチル−N−メチルアミノ)
プロピオニトリル、3−(N, N−ジエチルアミノ)プ
ロピオニトリル、3−(N−プロピル−N−メチルアミ
ノ)プロピオニトリル、3−(N−ヘキシル−N−メチ
ルアミノ)プロピオニトリル、またはこれらの混合物が
挙げられる。
【0009】水素化触媒としてはニッケル、ラネーニッ
ケル、ラネーコバルト、白金黒、酸化白金、パラジウ
ム、パラジウム黒など一般に用いられる水素化触媒のい
ずれを用いてもよいが、ラネーニッケルを用いるのが好
ましい。なおこれらを各種担体に担持させたものを用い
てもよい。
【0010】本発明において、アミノニトリル(II)の
水素還元は、アミン(III) の存在下で、水素化触媒を用
いて行なう。アミン(III) の添加は、アミノニトリル
(II)を調製する際にアミン(III) をアクリロニトリル
よりも過剰に供給することによっても達成されるが、水
素還元を行なう際にアミノニトリル(II)に添加しても
よい。アミン(III) の添加量が多い場合には分解抑制効
果が大きいが、反応後の分離精製の負荷が増大するた
め、アミン(III) の添加量はアミノニトリル(II)に対
して0.5〜10重量%が好ましく、1〜5重量%が更に好
ましい。アミン(III)は反応中に消費されないので、回
収使用が可能である。
【0011】本発明において用いられるアミン(III) と
しては、メチルエタノールアミン、エチルエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、メチルプロパノールアミ
ン、メチルヘキサノールアミン、メチルエチルアミン、
ジエチルアミン、メチルプロピルアミン、メチルヘキシ
ルアミン等が挙げられる。
【0012】本発明において使用される水素化触媒の量
は、アミノニトリル(II)に対し1〜10重量%が好まし
い。また、2級化抑制のため、KOH 、NaOH等のアルカリ
金属水酸化物、あるいはアンモニアを添加することが好
ましい。アルカリ金属水酸化物あるいはアンモニアの添
加量はアミノニトリル(II)に対し 0.1〜20重量%が好
ましい。
【0013】本発明において、水素還元の温度は40〜90
℃が好ましく、更に好ましくは50〜75℃であり、水素圧
は5〜100 kg/cm2G (ゲージ)が好ましく、10〜30kg/
cm2G(ゲージ)が更に好ましい。水素還元を行なう時間
は、およそ2〜15時間程度である。水素還元を行なった
後、通常の方法で蒸留を行なうことにより、高純度の一
般式(I)で表されるN−〔3−アミノ−プロピル〕ア
ミンが得られる。
【0014】本発明において、アミン(III) を添加する
ことにより分解反応が抑制される理由としてははっきり
しないが、アミノニトリル(II)からのアクリロニトリ
ルの脱離を平衡状態をずらすことにより抑制しているも
のと考えられる。
【0015】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
【0016】実施例1N−(2−ヒドロキシエチル)−N−メチル−1,3 −プ
ロパンジアミンの製造 1リットルオートクレーブに3−〔N−(2−ヒドロキ
シエチル)−N−メチルアミノ〕プロピオニトリル 300
g、メチルエタノールアミン30g、および50%含水ラネ
ーニッケル30gを入れ、密閉した。水素で系内を30kg/
cm2Gまで加圧し、60℃で3時間の水素還元反応を行なっ
た。反応後、濾過により触媒を除去し、減圧下で蒸留を
行ない目的物 267gを得た。収率89%。
【0017】比較例1N−(2−ヒドロキシエチル)−N−メチル−1,3 −プ
ロパンジアミンの製造 1リットルオートクレーブに3−〔N−(2−ヒドロキ
シエチル)−N−メチルアミノ〕プロピオニトリル 300
gおよび50%含水ラネーニッケル30gのみを入れ、密閉
した。水素で系内を30kg/cm2Gまで加圧し、60℃で 3.5
時間の水素還元反応を行なった。反応後、濾過により触
媒を除去し、減圧下で蒸留を行ない目的物 207gを得
た。収率69%。
【0018】実施例2N−(2−ヒドロキシエチル)−N−メチル−1,3 −プ
ロパンジアミンの製造 1リットルオートクレーブに3−〔N−(2−ヒドロキ
シエチル)−N−メチルアミノ〕プロピオニトリル 300
g、メチルエタノールアミン15g、および50%含水ラネ
ーニッケル30gを入れ、密閉した。液を攪拌しながらア
ンモニア30gを圧入した後、水素で系内を20kg/cm2Gま
で加圧し、60℃で水素還元反応を行なった。水素還元は
4時間で終了した。反応後、濾過により触媒を除去し、
減圧下で蒸留を行ない目的物 289gを得た。収率92%。
【0019】実施例3N−(6−ヒドロキシヘキシル)−N−メチル−1,3 −
プロパンジアミンの製造 1リットルオートクレーブに、 2.8%のメチルヘキサノ
ールアミンを含む3−〔N−(6−ヒドロキシヘキシ
ル)−N−メチルアミノ〕プロピオニトリル 300g、お
よび50%含水ラネーニッケル30gを入れ、密閉した。液
を攪拌しながらアンモニア30gを圧入した後、水素で系
内を30kg/cm2Gまで加圧し、75℃で5時間の水素還元を
行なった。反応後、濾過により触媒を除去し、減圧下で
蒸留を行ない目的物 271gを得た。収率90%。
【0020】比較例2N−(2−ヒドロキシエチル)−N−メチル−1,3 −プ
ロパンジアミンの製造 1リットルオートクレーブに3−〔N−(2−ヒドロキ
シエチル)−N−メチルアミノ〕プロピオニトリル 300
gおよび50%含水ラネーニッケル30gを入れ、メチルエ
タノールアミンを添加せずに実施例2と同じ条件で4時
間の水素還元を行なった。反応後、濾過により触媒を除
去し、減圧下で蒸留を行ない目的物 258gを得た。収率
78%。
【0021】実施例1〜3及び比較例1〜2の反応条件
及び反応結果をまとめて表1に示す。
【0022】
【表1】
【0023】注) *:原料は実施例1、2及び比較例1、2は3−〔N−
(2−ヒドロキシエチル)−N−メチルアミノ〕プロピ
オニトリル、実施例3のみ3−〔N−(6−ヒドロキシ
ヘキシル)−N−メチルアミノ〕プロピオニトリルであ
る。
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、界面活性剤、柔軟剤等
の製造用原料として有用なN−〔3−アミノ−プロピ
ル〕アミンを80%以上の高収率で得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (56)参考文献 特開 昭61−137845(JP,A) 特開 平5−246959(JP,A) 仏国特許出願公開2248265(FR,A 1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 211/09 C07C 209/48 C07C 213/02 C07C 215/14 C07B 61/00 300

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(II)で表されるアミノニトリル
    を、水素化触媒および、一般式(II)で表されるアミノ
    ニトリルに対し0.5〜10重量%の一般式(III)で表され
    るアミンの存在下で水素還元を行うことを特徴とする、
    一般式(I)で表されるN−〔3−アミノ−プロピル〕
    アミンの製造方法。 【化1】 〔式中、R 及びR'は同一又は異なって、H または炭素数
    1〜22のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基を示
    す。〕
  2. 【請求項2】 一般式(I)〜(III) において、R がH
    または炭素数1〜6のアルキル基もしくはヒドロキシア
    ルキル基であり、R'が炭素数2〜6のアルキル基もしく
    はヒドロキシアルキル基である請求項1記載の製造方
    法。
  3. 【請求項3】 水素還元を、水素化触媒、一般式(III)
    で表されるアミン、およびアルカリ金属水酸化物あるい
    はアンモニアの存在下で行なうことを特徴とする請求項
    1記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 水素化触媒がラネーニッケルである請求
    項1〜3のいずれか一項に記載の製造方法。
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