JP3216055B2 - Ｃｖｄ法によるリフレクターの表面処理方法 - Google Patents
Ｃｖｄ法によるリフレクターの表面処理方法Info
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- JP3216055B2 JP3216055B2 JP33679492A JP33679492A JP3216055B2 JP 3216055 B2 JP3216055 B2 JP 3216055B2 JP 33679492 A JP33679492 A JP 33679492A JP 33679492 A JP33679492 A JP 33679492A JP 3216055 B2 JP3216055 B2 JP 3216055B2
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、自動車用前照灯の樹
脂製リフレクターに利用されるリフレクターの表面処理
方法に関するものである。
脂製リフレクターに利用されるリフレクターの表面処理
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種リフレクターの表面処理方
法は、（１）リフレクター成形、（２）洗浄工程、
（３）アンダーコート塗装即ち、熱硬化型塗料或いは紫
外線硬化型塗料を用いたスプレー塗装又はディピング塗
装又はフローコーティング、（４）アルミ蒸着即ち、真
空蒸着又はスパッタリング又はイオンプレーティング、
（５）トップコート塗装即ち、熱硬化塗料或いは紫外線
硬化型塗料を用いたスプレー塗装又はディッピング塗装
又はフローコーティングの順序で処理を行っている。
法は、（１）リフレクター成形、（２）洗浄工程、
（３）アンダーコート塗装即ち、熱硬化型塗料或いは紫
外線硬化型塗料を用いたスプレー塗装又はディピング塗
装又はフローコーティング、（４）アルミ蒸着即ち、真
空蒸着又はスパッタリング又はイオンプレーティング、
（５）トップコート塗装即ち、熱硬化塗料或いは紫外線
硬化型塗料を用いたスプレー塗装又はディッピング塗装
又はフローコーティングの順序で処理を行っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来の技
術では、Ａ．成形品にアンダーコート塗装を施した場合
に、反射面に段差部や不連続部があると、アンダーコー
ト膜のタレや溜まりが生じ、その結果均一な膜形成がで
きないため、グレア光の原因になるという問題点があ
る。
術では、Ａ．成形品にアンダーコート塗装を施した場合
に、反射面に段差部や不連続部があると、アンダーコー
ト膜のタレや溜まりが生じ、その結果均一な膜形成がで
きないため、グレア光の原因になるという問題点があ
る。
【０００４】そこで、本発明は上記従来の技術の問題点
に鑑み案出されたもので、グレア光の発生を防止し、か
つアルミ蒸着を良好ならしめることが可能なリフレクタ
ーの表面処理方法の提供を目的としている。
に鑑み案出されたもので、グレア光の発生を防止し、か
つアルミ蒸着を良好ならしめることが可能なリフレクタ
ーの表面処理方法の提供を目的としている。
【０００５】 上記目的を達成するために、本発明はＣ
ＶＤ法によるリフレクターの表面処理方法において、リ
フレクターアンダーコート塗料に換えて、有機高分子膜
を主成分として含む原料ガスを熱エネルギー又は光エネ
ルギー又はプラズマによって分解しリフレクター基材上
での化学反応によりスチレン系又はシリコン系の有機高
分子膜を成膜し、しかる後に前記有機高分子膜上に真空
蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングにより
アルミ蒸着膜を行い、その後保護膜を成膜したことを特
徴とするＣＶＤ法によるりリフレクターの表面処理方法
を提供するものである。
ＶＤ法によるリフレクターの表面処理方法において、リ
フレクターアンダーコート塗料に換えて、有機高分子膜
を主成分として含む原料ガスを熱エネルギー又は光エネ
ルギー又はプラズマによって分解しリフレクター基材上
での化学反応によりスチレン系又はシリコン系の有機高
分子膜を成膜し、しかる後に前記有機高分子膜上に真空
蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングにより
アルミ蒸着膜を行い、その後保護膜を成膜したことを特
徴とするＣＶＤ法によるりリフレクターの表面処理方法
を提供するものである。
【０００６】
【作用】均一な有機高分子膜が形成されるため、グレア
光の低減が可能となる。
光の低減が可能となる。
【０００７】また、リフレクター基材上に有機高分子膜
を形成後、その上にアルミ蒸着及びアルミ蒸着の保護膜
を成膜しているため、アルミ蒸着の密着性は良好とな
る。
を形成後、その上にアルミ蒸着及びアルミ蒸着の保護膜
を成膜しているため、アルミ蒸着の密着性は良好とな
る。
【０００８】
【実施例】本発明は、リフレクター成形、洗浄工程後に
おいて、リフレクター基材上には、従来のアンダーコー
ト塗装の代わりに、有機高分子例えば、スチレン系やシ
リコン系等を蒸着して処理して、アンダーコート膜を成
膜している。
おいて、リフレクター基材上には、従来のアンダーコー
ト塗装の代わりに、有機高分子例えば、スチレン系やシ
リコン系等を蒸着して処理して、アンダーコート膜を成
膜している。
【０００９】また、前記高分子膜は、有機高分子を主成
分とし、それを含む原料ガスを熱エネルギー又は光エネ
ルギー又はプラズマ等により分解し、リフレクター基材
表面での化学的反応により膜が成膜されている。
分とし、それを含む原料ガスを熱エネルギー又は光エネ
ルギー又はプラズマ等により分解し、リフレクター基材
表面での化学的反応により膜が成膜されている。
【００１０】この化学的反応の手法は、ＣＶＤ（Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｓｉｏｎ）を用
い、リフレクター基材表面に上記膜を成膜後は、真空蒸
着又はスパッタリング又はイオンプレーティングによる
アルミ蒸着を行い、その後、熱硬化塗料或いは紫外線硬
化型塗料を用いたスプレー塗装又はディッピング塗装又
はフローコーティングによるトップコート塗装が行われ
る。
ｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｓｉｏｎ）を用
い、リフレクター基材表面に上記膜を成膜後は、真空蒸
着又はスパッタリング又はイオンプレーティングによる
アルミ蒸着を行い、その後、熱硬化塗料或いは紫外線硬
化型塗料を用いたスプレー塗装又はディッピング塗装又
はフローコーティングによるトップコート塗装が行われ
る。
【００１１】
【発明の効果】本発明は上述の通り構成されているの
で、次に記載する効果を奏する。 Ａ．従来のアンダーコート塗装に比べ、高分子膜により
均一な膜が形成されるため、グレア光が低減できる。
で、次に記載する効果を奏する。 Ａ．従来のアンダーコート塗装に比べ、高分子膜により
均一な膜が形成されるため、グレア光が低減できる。
【００１２】Ｂ．アンダーコートを施さないで、リフレ
クター基材に直接アルミ蒸着をする方法もあるが、基材
とアルミの密着性が得られない。しかし、リフレクター
基材上に高分子膜を成膜しているため、アルミ蒸着の際
のアルミの密着性は良くなる。
クター基材に直接アルミ蒸着をする方法もあるが、基材
とアルミの密着性が得られない。しかし、リフレクター
基材上に高分子膜を成膜しているため、アルミ蒸着の際
のアルミの密着性は良くなる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｆ２１Ｖ 7/00 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 C23C 16/00 - 16/56 C08J 7/04 F21S 2/00 F21V 7/00
Claims (1)
- 【請求項１】 ＣＶＤ法によるリフレクターの表面処理
方法において、リフレクターアンダーコート塗料に換え
て、有機高分子膜を主成分として含む原料ガスを熱エネ
ルギー又は光エネルギー又はプラズマによって分解しリ
フレクター基材上での化学反応によりスチレン系又はシ
リコン系の有機高分子膜を成膜し、しかる後に前記有機
高分子膜上に真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレ
ーティングによりアルミ蒸着膜を行い、その後保護膜を
成膜したことを特徴とするＣＶＤ法によるりリフレクタ
ーの表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33679492A JP3216055B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | Ｃｖｄ法によるリフレクターの表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33679492A JP3216055B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | Ｃｖｄ法によるリフレクターの表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06158278A JPH06158278A (ja) | 1994-06-07 |
| JP3216055B2 true JP3216055B2 (ja) | 2001-10-09 |
Family
ID=18302750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33679492A Expired - Fee Related JP3216055B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | Ｃｖｄ法によるリフレクターの表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3216055B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1325692C (zh) * | 2003-12-22 | 2007-07-11 | 罗耀群 | 汽车反射镜镀铝膜镀保护膜工艺 |
| JP4859720B2 (ja) * | 2007-03-16 | 2012-01-25 | スタンレー電気株式会社 | プラズマ成膜装置 |
| JP6477221B2 (ja) * | 2015-05-12 | 2019-03-06 | 株式会社島津製作所 | 成膜方法 |
-
1992
- 1992-11-25 JP JP33679492A patent/JP3216055B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06158278A (ja) | 1994-06-07 |
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