JPH10147876A - 保護膜形成方法 - Google Patents
保護膜形成方法Info
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- JPH10147876A JPH10147876A JP8306503A JP30650396A JPH10147876A JP H10147876 A JPH10147876 A JP H10147876A JP 8306503 A JP8306503 A JP 8306503A JP 30650396 A JP30650396 A JP 30650396A JP H10147876 A JPH10147876 A JP H10147876A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 広範囲なアルミニウム蒸着膜の上に均一厚の
保護膜を形成できる保護膜形成方法の提供。 【解決手段】 合成樹脂製基材Ｗの表面に形成されたア
ルミニウム蒸着膜３２の上にシリコーン系保護膜３４を
形成する方法において、表面にアルミニウム蒸着膜３２
を形成した基材ＷをチャンバＣ内に収容し、基材Ｗと正
対し基材と略同等の面積を占めるように複数の高周波誘
導放電式プラズマ源４０をチャンバＣに並設し、前記プ
ラズマ源によってプラズマ状態にしたチャンバＣ内に蒸
気状シリコーン系オイルを導入して、アルミニウム蒸着
膜３２の上にプラズマ重合膜３４を形成するようにした
もので、プラズマ源４０を並設することで、保護膜形成
領域Ａが拡大され、この領域Ａ内に配置された基材（の
アルミニウム蒸着膜３２）の上に保護膜であるプラズマ
重合膜３４が均一な膜厚に形成される。
保護膜を形成できる保護膜形成方法の提供。 【解決手段】 合成樹脂製基材Ｗの表面に形成されたア
ルミニウム蒸着膜３２の上にシリコーン系保護膜３４を
形成する方法において、表面にアルミニウム蒸着膜３２
を形成した基材ＷをチャンバＣ内に収容し、基材Ｗと正
対し基材と略同等の面積を占めるように複数の高周波誘
導放電式プラズマ源４０をチャンバＣに並設し、前記プ
ラズマ源によってプラズマ状態にしたチャンバＣ内に蒸
気状シリコーン系オイルを導入して、アルミニウム蒸着
膜３２の上にプラズマ重合膜３４を形成するようにした
もので、プラズマ源４０を並設することで、保護膜形成
領域Ａが拡大され、この領域Ａ内に配置された基材（の
アルミニウム蒸着膜３２）の上に保護膜であるプラズマ
重合膜３４が均一な膜厚に形成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、合成樹脂製基材の
表面に形成されたアルミニウム蒸着膜の上にシリコーン
系保護被膜を形成する方法に関する。
表面に形成されたアルミニウム蒸着膜の上にシリコーン
系保護被膜を形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】自動車用ヘッドランプ等の自動車用灯具
に使用されるリフレクタは、最近では、軽量化および製
造の容易化という点から、図９，１０に示すように、合
成樹脂製のリフレクタ基材１の表面に、反射面を構成す
るアルミニウム蒸着膜３が形成され、さらに、アルミニ
ウム蒸着膜３の上には、耐候性を確保するためのシリコ
ーン系保護膜４が形成された構造となっている。なお、
符号２は、リフレクタ基材１の表面に形成されたアンダ
ーコート層で、基材１表面の平滑性を確保するととも
に、アルミニウム蒸着膜３の密着性を高めるためのもの
である。
に使用されるリフレクタは、最近では、軽量化および製
造の容易化という点から、図９，１０に示すように、合
成樹脂製のリフレクタ基材１の表面に、反射面を構成す
るアルミニウム蒸着膜３が形成され、さらに、アルミニ
ウム蒸着膜３の上には、耐候性を確保するためのシリコ
ーン系保護膜４が形成された構造となっている。なお、
符号２は、リフレクタ基材１の表面に形成されたアンダ
ーコート層で、基材１表面の平滑性を確保するととも
に、アルミニウム蒸着膜３の密着性を高めるためのもの
である。
【０００３】そして、リフレクタ基材１に反射面を形成
する従来の方法としては、まず、図１１（ａ），（ｂ）
に示されるように、所定形状に成形されたリフレクタ基
材１の内側に、スプレーガン５ａによりアンダーコート
塗装を行なう。次に、図１１（ｃ）に示されるように、
アンダーコート層２が硬化すると、図１１（ｄ）に示さ
れるように、蒸着チャンバ６内にリフレクタ基材１を入
れ、抵抗加熱式蒸着処理を行なって、リフレクタ基材１
の表面にアルミニウム蒸着膜３を形成する。そして、最
後に、図１１（ｅ）に示されるように、スプレーガン５
ｂによりトップコート塗装を行ない、図１１（ｆ）に示
されるように、トップコート層４を硬化させることで、
図９，１０に示すリフレクターが完成する。
する従来の方法としては、まず、図１１（ａ），（ｂ）
に示されるように、所定形状に成形されたリフレクタ基
材１の内側に、スプレーガン５ａによりアンダーコート
塗装を行なう。次に、図１１（ｃ）に示されるように、
アンダーコート層２が硬化すると、図１１（ｄ）に示さ
れるように、蒸着チャンバ６内にリフレクタ基材１を入
れ、抵抗加熱式蒸着処理を行なって、リフレクタ基材１
の表面にアルミニウム蒸着膜３を形成する。そして、最
後に、図１１（ｅ）に示されるように、スプレーガン５
ｂによりトップコート塗装を行ない、図１１（ｆ）に示
されるように、トップコート層４を硬化させることで、
図９，１０に示すリフレクターが完成する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、リフレクタの
反射面を形成する前記した従来の方法では、アルミニウ
ム蒸着膜３の上に形成する保護膜（トップコート層）４
をスプレー等の塗装により形成するため、次のような問
題があった。
反射面を形成する前記した従来の方法では、アルミニウ
ム蒸着膜３の上に形成する保護膜（トップコート層）４
をスプレー等の塗装により形成するため、次のような問
題があった。
【０００５】まず、塗装時に、空気中の塵埃が取込まれ
て保護膜（トップコート層）４に付着し、外観を損ね
る。さらに、リフレクタは平坦な形状ではなく、一般に
容器状であるため、塗装後、塗料が自重で垂れ、膜厚差
が生じたり、垂れ跡ができることで、外観を損ねる。
て保護膜（トップコート層）４に付着し、外観を損ね
る。さらに、リフレクタは平坦な形状ではなく、一般に
容器状であるため、塗装後、塗料が自重で垂れ、膜厚差
が生じたり、垂れ跡ができることで、外観を損ねる。
【０００６】また、塗装し易くするために有機溶剤を使
用しており、環境上、好ましくないことに加え、溶剤の
揮散および塗装膜の硬化に時間がかかる。
用しており、環境上、好ましくないことに加え、溶剤の
揮散および塗装膜の硬化に時間がかかる。
【０００７】また、塗装により形成した保護膜４の膜厚
が薄い（例えば、２ミクロン以下）と、塗料の表面張力
により膜が剥がれて、適正な反射面の形成ができないた
め、一定以上の厚さに塗装する必要があり、それだけ作
業時間がかかる。さらに、保護膜の膜厚が厚いため、そ
れだけ光の透過率が低く、光の損失も大きい。
が薄い（例えば、２ミクロン以下）と、塗料の表面張力
により膜が剥がれて、適正な反射面の形成ができないた
め、一定以上の厚さに塗装する必要があり、それだけ作
業時間がかかる。さらに、保護膜の膜厚が厚いため、そ
れだけ光の透過率が低く、光の損失も大きい。
【０００８】また、保護膜４は、スプレーガン５ｂに正
対する基材の前面１ａに形成されているものの、側縁端
面１ｂや側縁背面１ｃにまで回り込んでおらず、それだ
けアルミニウム蒸着膜３が酸化されたり、腐食されるお
それがあり、また剥離し易いという問題もあった。
対する基材の前面１ａに形成されているものの、側縁端
面１ｂや側縁背面１ｃにまで回り込んでおらず、それだ
けアルミニウム蒸着膜３が酸化されたり、腐食されるお
それがあり、また剥離し易いという問題もあった。
【０００９】また、アルミニウム蒸着膜３の形成はチャ
ンバ６内で行い、保護膜の形成工程は、チャンバ６から
取り出して行なうため、作業効率が悪いという問題もあ
った。
ンバ６内で行い、保護膜の形成工程は、チャンバ６から
取り出して行なうため、作業効率が悪いという問題もあ
った。
【００１０】本発明は、前記従来技術の問題点に鑑みて
なされたもので、その第１の目的は、広範囲なアルミニ
ウム蒸着膜の上に均一厚の保護膜を形成できる保護膜形
成方法を提供することであり、その第２の目的は、アル
ミニウム蒸着膜を形成したチャンバ内で引きつずき保護
膜を形成できる保護膜形成方法を提供することである。
なされたもので、その第１の目的は、広範囲なアルミニ
ウム蒸着膜の上に均一厚の保護膜を形成できる保護膜形
成方法を提供することであり、その第２の目的は、アル
ミニウム蒸着膜を形成したチャンバ内で引きつずき保護
膜を形成できる保護膜形成方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１に係る保護膜形成方法においては、合成樹
脂製基材の表面に形成されたアルミニウム蒸着膜の上に
シリコーン系保護膜を形成する方法において、表面にア
ルミニウム蒸着膜を形成した基材をチャンバ内に収容
し、基材と正対し基材と略同等の面積を占めるように複
数の高周波誘導放電式プラズマ源をチャンバに並設し、
前記プラズマ源によってプラズマ状態にしたチャンバ内
に蒸気状シリコーン系オイルを導入して、アルミニウム
蒸着膜の上にシリコーンプラズマ重合膜を形成するよう
にしたもので、プラズマ源に正対する保護膜形成領域内
に配置された基材（のアルミニウム蒸着膜）の上に、保
護膜であるシリコーンプラズマ重合膜が短時間の内に形
成される。また、並設された複数の高周波誘導放電式プ
ラズマ源は、チャンバ内におけるプラズマ状態の保護膜
形成領域を拡大するとともに、保護膜形成領域に導入さ
れた蒸気状シリコーン活性物質の密度分布を均一化し、
基材に形成される保護膜の膜厚を均一化するべく作用す
る。また、チャンバ内でシリコーン系保護膜を形成する
ので、従来の塗装による方法に比べ、空気中の塵埃が保
護膜に付着するおそれがない。また、従来の塗装方法の
ように、有機溶剤を一切使用しないので、環境問題が生
ずるおそれがなく、形成された保護膜を硬化させるため
に時間がかかることもない。請求項２においては、保護
膜であるシリコーンプラズマ重合膜の形成に使用するチ
ャンバ内において、合成樹脂製基材に表面を活性化する
ためのプラズマ処理を施した後、アルミスパッタリング
蒸着処理により、基材表面にアルミニウム蒸着膜を形成
し、さらに同チャンバ内において、請求項１記載の保護
膜形成方法によって、アルミニウム蒸着膜上に保護膜を
形成するようにしたもので、基材を収容したチャンバ
を、プラズマ処理工程，アルミニウム蒸着処理工程およ
び保護膜形成工程に順次移動させるようにすることで、
アルミニウム蒸着膜の形成から保護膜の形成までを、同
一チャンバ内において、連続して行なうことができる。
請求項３においては、請求項１記載の保護膜形成方法に
よって、基材表面のアルミニウム蒸着膜の上にシリコー
ン系保護膜が形成された自動車用灯具構成部材であっ
て、前記保護膜であるシリコーンプラズマ重合膜を、チ
ャンバ内の面状プラズマ源に対面する基材前面から基材
側縁端面を経て基材裏面周縁部に至る連続した領域に形
成するようにしたもので、高周波誘導放電式プラズマ源
により形成されたシリコーンプラズマ重合膜は、基材の
プラズマ源に正対する基材前面領域は勿論、基材前面か
ら基材側縁端面を経て基材裏面周縁部に至る領域にまで
回り込んで形成され、アルミニウム蒸着膜が保護膜によ
って覆われた形態となる。また、このシリコーンプラズ
マ重合膜は、塗装により形成された保護膜に比べて薄厚
で、光の透過率が高く、光の損失も小さい。請求項４に
おいては、請求項３記載の自動車用灯具構成部材におい
て、少なくとも１以上の孔が形成されたリフレクタまた
はエクステンションリフレクタによって自動車用灯具構
成部材を構成するようにしたもので、保護膜形成工程に
おいて、リフレクター基材の側縁端部やリフレクタ基材
に形成されている孔からプラズマ状態のシリコーンがリ
フレクタ基材の裏面側に回り込み、基材内側縁端面（孔
内周面）を経て基材裏面の孔周縁部に至る領域へのシリ
コーンプラズマ重合膜の形成を促進する。
に、請求項１に係る保護膜形成方法においては、合成樹
脂製基材の表面に形成されたアルミニウム蒸着膜の上に
シリコーン系保護膜を形成する方法において、表面にア
ルミニウム蒸着膜を形成した基材をチャンバ内に収容
し、基材と正対し基材と略同等の面積を占めるように複
数の高周波誘導放電式プラズマ源をチャンバに並設し、
前記プラズマ源によってプラズマ状態にしたチャンバ内
に蒸気状シリコーン系オイルを導入して、アルミニウム
蒸着膜の上にシリコーンプラズマ重合膜を形成するよう
にしたもので、プラズマ源に正対する保護膜形成領域内
に配置された基材（のアルミニウム蒸着膜）の上に、保
護膜であるシリコーンプラズマ重合膜が短時間の内に形
成される。また、並設された複数の高周波誘導放電式プ
ラズマ源は、チャンバ内におけるプラズマ状態の保護膜
形成領域を拡大するとともに、保護膜形成領域に導入さ
れた蒸気状シリコーン活性物質の密度分布を均一化し、
基材に形成される保護膜の膜厚を均一化するべく作用す
る。また、チャンバ内でシリコーン系保護膜を形成する
ので、従来の塗装による方法に比べ、空気中の塵埃が保
護膜に付着するおそれがない。また、従来の塗装方法の
ように、有機溶剤を一切使用しないので、環境問題が生
ずるおそれがなく、形成された保護膜を硬化させるため
に時間がかかることもない。請求項２においては、保護
膜であるシリコーンプラズマ重合膜の形成に使用するチ
ャンバ内において、合成樹脂製基材に表面を活性化する
ためのプラズマ処理を施した後、アルミスパッタリング
蒸着処理により、基材表面にアルミニウム蒸着膜を形成
し、さらに同チャンバ内において、請求項１記載の保護
膜形成方法によって、アルミニウム蒸着膜上に保護膜を
形成するようにしたもので、基材を収容したチャンバ
を、プラズマ処理工程，アルミニウム蒸着処理工程およ
び保護膜形成工程に順次移動させるようにすることで、
アルミニウム蒸着膜の形成から保護膜の形成までを、同
一チャンバ内において、連続して行なうことができる。
請求項３においては、請求項１記載の保護膜形成方法に
よって、基材表面のアルミニウム蒸着膜の上にシリコー
ン系保護膜が形成された自動車用灯具構成部材であっ
て、前記保護膜であるシリコーンプラズマ重合膜を、チ
ャンバ内の面状プラズマ源に対面する基材前面から基材
側縁端面を経て基材裏面周縁部に至る連続した領域に形
成するようにしたもので、高周波誘導放電式プラズマ源
により形成されたシリコーンプラズマ重合膜は、基材の
プラズマ源に正対する基材前面領域は勿論、基材前面か
ら基材側縁端面を経て基材裏面周縁部に至る領域にまで
回り込んで形成され、アルミニウム蒸着膜が保護膜によ
って覆われた形態となる。また、このシリコーンプラズ
マ重合膜は、塗装により形成された保護膜に比べて薄厚
で、光の透過率が高く、光の損失も小さい。請求項４に
おいては、請求項３記載の自動車用灯具構成部材におい
て、少なくとも１以上の孔が形成されたリフレクタまた
はエクステンションリフレクタによって自動車用灯具構
成部材を構成するようにしたもので、保護膜形成工程に
おいて、リフレクター基材の側縁端部やリフレクタ基材
に形成されている孔からプラズマ状態のシリコーンがリ
フレクタ基材の裏面側に回り込み、基材内側縁端面（孔
内周面）を経て基材裏面の孔周縁部に至る領域へのシリ
コーンプラズマ重合膜の形成を促進する。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を実施
例に基づいて説明する。
例に基づいて説明する。
【００１３】図１〜図８は、本発明方法の一実施例を示
すもので、図１は本発明方法を実施するための装置の全
体構成を示す水平断面図、図２は基材表面を活性化する
ためのプラズマ処理工程におけるチャンバの水平断面
図、図３はアルミニウム蒸着処理工程におけるチャンバ
の水平断面図、図４はプラズマ重合膜形成工程における
チャンバの水平断面図、図５はシリコーンプラズマ重合
膜形成工程におけるチャンバ内のプラズマ源とリフレク
タ基材の配置を示す図、図６は並設されたプラズマ源に
より形成されるシリコーンプラズマ重合膜の合成膜厚を
示す図（図５に示す線ＶＩ−ＶＩ位置における合成膜厚
を示す図）、図７は図１に示す装置により反射面の形成
されたリフレクタの水平断面図、図８は同リフレクタの
一部拡大断面図である。
すもので、図１は本発明方法を実施するための装置の全
体構成を示す水平断面図、図２は基材表面を活性化する
ためのプラズマ処理工程におけるチャンバの水平断面
図、図３はアルミニウム蒸着処理工程におけるチャンバ
の水平断面図、図４はプラズマ重合膜形成工程における
チャンバの水平断面図、図５はシリコーンプラズマ重合
膜形成工程におけるチャンバ内のプラズマ源とリフレク
タ基材の配置を示す図、図６は並設されたプラズマ源に
より形成されるシリコーンプラズマ重合膜の合成膜厚を
示す図（図５に示す線ＶＩ−ＶＩ位置における合成膜厚
を示す図）、図７は図１に示す装置により反射面の形成
されたリフレクタの水平断面図、図８は同リフレクタの
一部拡大断面図である。
【００１４】これらの図において、符号１０は、合成樹
脂製のリフレクタ基材Ｗにプラズマ処理を施し、次に、
プラズマ処理した基材Ｗの前面にアルミニウム蒸着処理
を施し、さらに、アルミニウム蒸着処理面にシリコーン
系保護膜を形成するという一連の処理を行なうリフレク
タの反射面形成装置である。なお、リフレクタ基材Ｗ
は、放物面形状に形成され、その中央部には、バルブ挿
着孔Ｈが形成されている。
脂製のリフレクタ基材Ｗにプラズマ処理を施し、次に、
プラズマ処理した基材Ｗの前面にアルミニウム蒸着処理
を施し、さらに、アルミニウム蒸着処理面にシリコーン
系保護膜を形成するという一連の処理を行なうリフレク
タの反射面形成装置である。なお、リフレクタ基材Ｗ
は、放物面形状に形成され、その中央部には、バルブ挿
着孔Ｈが形成されている。
【００１５】同装置１０は、装置外壁を構成する固定ケ
ーシング１２内に、半径方向外方に開口する容器状の基
材収容ケース２２を周方向等分４ヵ所に備えた回動ユニ
ット２０が設けられた構造で、回動ユニット２０が９０
度の角度で間欠水平回動し、周方向等分４ヵ所のＰ1 〜
Ｐ4 位置において、各収容ケース２２が固定ケーシング
構成壁１３と協働して、それぞれ密閉されたチャンバＣ
を構成するようになっている。符号１１は、回動ユニッ
ト２０の回動中心である。
ーシング１２内に、半径方向外方に開口する容器状の基
材収容ケース２２を周方向等分４ヵ所に備えた回動ユニ
ット２０が設けられた構造で、回動ユニット２０が９０
度の角度で間欠水平回動し、周方向等分４ヵ所のＰ1 〜
Ｐ4 位置において、各収容ケース２２が固定ケーシング
構成壁１３と協働して、それぞれ密閉されたチャンバＣ
を構成するようになっている。符号１１は、回動ユニッ
ト２０の回動中心である。
【００１６】符号Ｐ1 位置のチャンバＣは、基材取付取
外し用のチャンバで、固定ケーシング１２側に設けられ
ているスライド式ドア１４を開けて、反射面を形成しよ
うとするリフレクタ基材Ｗを収容ケース２２内に収容し
たり、一連の処理が施されて反射面が形成されたリフレ
クタ基材Ｗをケース２２から取り出すためのチャンバで
ある（図１参照）。なお、リフレクタ基材Ｗの収容ケー
ス２２内への固定は、治具１５を使って行い、基材Ｗの
前面開口部がケース２２の開口側に向くように配置す
る。
外し用のチャンバで、固定ケーシング１２側に設けられ
ているスライド式ドア１４を開けて、反射面を形成しよ
うとするリフレクタ基材Ｗを収容ケース２２内に収容し
たり、一連の処理が施されて反射面が形成されたリフレ
クタ基材Ｗをケース２２から取り出すためのチャンバで
ある（図１参照）。なお、リフレクタ基材Ｗの収容ケー
ス２２内への固定は、治具１５を使って行い、基材Ｗの
前面開口部がケース２２の開口側に向くように配置す
る。
【００１７】符号Ｐ2 位置のチャンバＣは、プラズマ処
理用のチャンバで、固定ケーシング１２側には、収容ケ
ース２２内の基材Ｗに正対するように電極１６が設けら
れており、真空状態下のチャンバＣ内に不活性ガスを導
入し、電極１６に通電し、チャンバＣ内をプラズマ状態
にして、基材Ｗの表面を物理的，化学的に活性化するた
めのチャンバである（図１，２参照）。
理用のチャンバで、固定ケーシング１２側には、収容ケ
ース２２内の基材Ｗに正対するように電極１６が設けら
れており、真空状態下のチャンバＣ内に不活性ガスを導
入し、電極１６に通電し、チャンバＣ内をプラズマ状態
にして、基材Ｗの表面を物理的，化学的に活性化するた
めのチャンバである（図１，２参照）。
【００１８】このプラズマ処理用のチャンバＣ内でプラ
ズマ処理された基材Ｗの表面（電極１６に正対した面）
には、図８符号３０に示すように、ＯＨ基やＣＯ基等の
酸素系官能基が付与された活性化層が形成されて、次工
程において形成されるアルミニウム蒸着膜の密着性が高
められている。なお、このプラズマ処理に要す時間は短
く、例えば、基材がポリプロピレンの場合は、１５〜２
０秒、基材がＡＢＳの場合は、５〜１０秒、基材がポリ
カーボネイトの場合は、５〜１５秒、基材がＢＭＣの場
合は、５〜１５秒である。
ズマ処理された基材Ｗの表面（電極１６に正対した面）
には、図８符号３０に示すように、ＯＨ基やＣＯ基等の
酸素系官能基が付与された活性化層が形成されて、次工
程において形成されるアルミニウム蒸着膜の密着性が高
められている。なお、このプラズマ処理に要す時間は短
く、例えば、基材がポリプロピレンの場合は、１５〜２
０秒、基材がＡＢＳの場合は、５〜１０秒、基材がポリ
カーボネイトの場合は、５〜１５秒、基材がＢＭＣの場
合は、５〜１５秒である。
【００１９】符号Ｐ3 位置のチャンバＣは、アルミスパ
ッタリング蒸着処理用のチャンバで、固定ケーシング１
２側には、図３に示すように、収容ケース２２内の基材
Ｗに正対するようにアルミニウムターゲット１８が設け
られており、真空状態下のチャンバＣ内に不活性ガス
（Ａｒガス）が導入され、チャンバ内においてターゲッ
ト１８を担持する電極１９に通電されることで、チャン
バＣ内には、誘導放電によりプラズマが生成される。プ
ラズマ中のイオンはターゲット１８をスパッタし、ター
ゲット１８から飛び出したスパッタ粒子であるアルミニ
ウム粒子が基材Ｗの表面に付着し、図７符号３２に示す
ように、ターゲット１８と正対する基材の前面全体にア
ルミニウム蒸着膜が形成される。
ッタリング蒸着処理用のチャンバで、固定ケーシング１
２側には、図３に示すように、収容ケース２２内の基材
Ｗに正対するようにアルミニウムターゲット１８が設け
られており、真空状態下のチャンバＣ内に不活性ガス
（Ａｒガス）が導入され、チャンバ内においてターゲッ
ト１８を担持する電極１９に通電されることで、チャン
バＣ内には、誘導放電によりプラズマが生成される。プ
ラズマ中のイオンはターゲット１８をスパッタし、ター
ゲット１８から飛び出したスパッタ粒子であるアルミニ
ウム粒子が基材Ｗの表面に付着し、図７符号３２に示す
ように、ターゲット１８と正対する基材の前面全体にア
ルミニウム蒸着膜が形成される。
【００２０】なお、アルミニウム蒸着膜３２の膜厚は、
厚い程、光の透過率が減少し、光の反射率が高くなる
が、自動車用ヘッドランプに使用されるリフレクタで
は、光の反射率が８５％以上であることが望まれ、アル
ミニウム蒸着膜３２の膜厚は１００ｎｍ以上必要であ
る。
厚い程、光の透過率が減少し、光の反射率が高くなる
が、自動車用ヘッドランプに使用されるリフレクタで
は、光の反射率が８５％以上であることが望まれ、アル
ミニウム蒸着膜３２の膜厚は１００ｎｍ以上必要であ
る。
【００２１】符号Ｐ4 位置のチャンバＣは、保護膜形成
用のチャンバで、固定ケーシング１２側には、収容ケー
ス２２内の基材Ｗに正対するように高周波誘導放電式プ
ラズマ源４０が設けられており、蒸気状シリコーン系オ
イルがプラズマ状態のチャンバＣ内に導入されること
で、図７，図８符号３４に示されるように、基材Ｗのア
ルミニウム蒸着膜３２上に保護膜であるシリコーンプラ
ズマ重合膜が形成される。
用のチャンバで、固定ケーシング１２側には、収容ケー
ス２２内の基材Ｗに正対するように高周波誘導放電式プ
ラズマ源４０が設けられており、蒸気状シリコーン系オ
イルがプラズマ状態のチャンバＣ内に導入されること
で、図７，図８符号３４に示されるように、基材Ｗのア
ルミニウム蒸着膜３２上に保護膜であるシリコーンプラ
ズマ重合膜が形成される。
【００２２】即ち、固定ケーシング１２側には、収容ケ
ース２２内の基材Ｗに正対するようにプラズマ室４１が
設けられ、高周波コイル４２が巻回されたプラズマ室４
１には、シリコーンモノマーガスが導入されるようにな
っている。そして、高周波コイル４２からプラズマ室４
１に高周波が導入されると、プラズマ室４１で放電が起
こり、チャンバＣ内がプラズマ状態となり、このプラズ
マ状態のチャンバＣ内にシリコーンモノマーガスが導入
され、基材Ｗのアルミニウム蒸着膜３２上にシリコーン
プラズマ重合膜３４が形成される。符号４４は、ガス導
入用のパイプである。
ース２２内の基材Ｗに正対するようにプラズマ室４１が
設けられ、高周波コイル４２が巻回されたプラズマ室４
１には、シリコーンモノマーガスが導入されるようにな
っている。そして、高周波コイル４２からプラズマ室４
１に高周波が導入されると、プラズマ室４１で放電が起
こり、チャンバＣ内がプラズマ状態となり、このプラズ
マ状態のチャンバＣ内にシリコーンモノマーガスが導入
され、基材Ｗのアルミニウム蒸着膜３２上にシリコーン
プラズマ重合膜３４が形成される。符号４４は、ガス導
入用のパイプである。
【００２３】プラズマ源４０は、図４，５に示されるよ
うに、左右に２列、上下に３列、合計６個並設されるこ
とで、チャンバＣ内において、各プラズマ源４０による
膜厚２０ｎｍ以上のシリコーンプラズマ重合膜形成領域
Ａ1 が符号Ａで示す領域（図５斜線で示す）まで拡大さ
れるとともに、この拡大されたプラズマ重合膜形成領域
Ａに供給されるシリコーンラジカルの密度分布が均一化
されて、基材Ｗの表面に形成されるシリコーンプラズマ
重合膜３４の膜厚が均一となるように構成されている。
うに、左右に２列、上下に３列、合計６個並設されるこ
とで、チャンバＣ内において、各プラズマ源４０による
膜厚２０ｎｍ以上のシリコーンプラズマ重合膜形成領域
Ａ1 が符号Ａで示す領域（図５斜線で示す）まで拡大さ
れるとともに、この拡大されたプラズマ重合膜形成領域
Ａに供給されるシリコーンラジカルの密度分布が均一化
されて、基材Ｗの表面に形成されるシリコーンプラズマ
重合膜３４の膜厚が均一となるように構成されている。
【００２４】即ち、図５，６における符号Ａ1 は、各プ
ラズマ源４０それぞれによって２０ｎｍ以上の膜厚のシ
リコーンプラズマ重合膜を形成できる領域を示し、符号
Ａは、並設された６個のプラズマ源によって２０ｎｍ以
上の膜厚のシリコーンプラズマ重合膜を形成できる領域
を示しており、この領域Ａ内において、２つのワークＷ
がそれぞれプラズマ源４０に正対するように配置されて
いる。
ラズマ源４０それぞれによって２０ｎｍ以上の膜厚のシ
リコーンプラズマ重合膜を形成できる領域を示し、符号
Ａは、並設された６個のプラズマ源によって２０ｎｍ以
上の膜厚のシリコーンプラズマ重合膜を形成できる領域
を示しており、この領域Ａ内において、２つのワークＷ
がそれぞれプラズマ源４０に正対するように配置されて
いる。
【００２５】図４に示す斜線部は、チャンバＣ内におけ
るシリコーンモノマーガスの導入領域を示しており、シ
リコーンは、基材Ｗの側縁端部およびバルブ挿着孔Ｈか
ら基材裏面側にも回り込む。このため、図７に示される
ように、シリコーンプラズマ重合膜３４は、プラズマ源
４０に正対する基材前面Ｗ1 は勿論、基材の内外側縁端
面Ｗ2 ，Ｗ3 から基材裏面の内外周縁部Ｗ4 ，Ｗ5 に至
る連続した領域に形成されて、アルミニウム蒸着膜３２
が保護膜３４で確実に覆われて、それだけ耐候性（耐酸
化性，耐腐食性）および耐久性に優れた反射面構造とな
っている。
るシリコーンモノマーガスの導入領域を示しており、シ
リコーンは、基材Ｗの側縁端部およびバルブ挿着孔Ｈか
ら基材裏面側にも回り込む。このため、図７に示される
ように、シリコーンプラズマ重合膜３４は、プラズマ源
４０に正対する基材前面Ｗ1 は勿論、基材の内外側縁端
面Ｗ2 ，Ｗ3 から基材裏面の内外周縁部Ｗ4 ，Ｗ5 に至
る連続した領域に形成されて、アルミニウム蒸着膜３２
が保護膜３４で確実に覆われて、それだけ耐候性（耐酸
化性，耐腐食性）および耐久性に優れた反射面構造とな
っている。
【００２６】そして、リフレクタとして適切な保護膜３
４としては、アルミニウム蒸着膜の酸化や腐食を防止す
るためには、膜厚が２０ｎｍ以上であることが望まし
く、また、光の損失を少なくし光の透過率を９５％以上
とするには、膜厚が４００ｎｍ以下であることが望まし
い。
４としては、アルミニウム蒸着膜の酸化や腐食を防止す
るためには、膜厚が２０ｎｍ以上であることが望まし
く、また、光の損失を少なくし光の透過率を９５％以上
とするには、膜厚が４００ｎｍ以下であることが望まし
い。
【００２７】なお、保護膜を形成する方式としては、チ
ャンバ内に電極を対設し、電極間に基材を配置し、グロ
ー放電により基材表面にプラズマ重合膜を形成する電極
間グロー放電方式も可能である。しかし、電極間グロー
放電方式では、保護膜の形成に時間がかかりすぎると
か、特に、電極の面積より大きな面積をもつ基材に対し
ては膜厚を均一にできないとか、基材が直接プラズマ状
態下にさらされるため、基材が劣化し易い等の問題があ
る。しかるに、本実施例に示す高周波誘導放電式プラズ
マ源方式では、１０〜２０秒という短時間の内に均一な
膜厚の保護膜を形成できることから、電極間グロー放電
方式に比べて優れているといえる。
ャンバ内に電極を対設し、電極間に基材を配置し、グロ
ー放電により基材表面にプラズマ重合膜を形成する電極
間グロー放電方式も可能である。しかし、電極間グロー
放電方式では、保護膜の形成に時間がかかりすぎると
か、特に、電極の面積より大きな面積をもつ基材に対し
ては膜厚を均一にできないとか、基材が直接プラズマ状
態下にさらされるため、基材が劣化し易い等の問題があ
る。しかるに、本実施例に示す高周波誘導放電式プラズ
マ源方式では、１０〜２０秒という短時間の内に均一な
膜厚の保護膜を形成できることから、電極間グロー放電
方式に比べて優れているといえる。
【００２８】このように、Ｐ1 位置で収容ケース２２に
収容された基材Ｗは、回動ユニット２０を９０度の角度
で間欠回動すると、Ｐ2 位置においてプラズマ処理さ
れ、Ｐ3 位置においてアルミニウム蒸着膜３２が形成さ
れ、Ｐ4 位置においてシリコーンプラズマ重合膜３４が
形成され、そしてＰ1 位置に戻ると、反射面の形成され
た基材Ｗを取り出すことができる。なお、各位置Ｐ1 〜
Ｐ4 において必要な最大時間は、プラズマ重合処理が１
５秒であることから、真空排気時間等を含め基材Ｗを２
５秒で処理することとなる。また、Ｐ1 〜Ｐ4 位置にお
ける各チャンバＣでは、それぞれの処理が同時に行なわ
れるので、短時間の内に大量の基材を処理できることに
なる。
収容された基材Ｗは、回動ユニット２０を９０度の角度
で間欠回動すると、Ｐ2 位置においてプラズマ処理さ
れ、Ｐ3 位置においてアルミニウム蒸着膜３２が形成さ
れ、Ｐ4 位置においてシリコーンプラズマ重合膜３４が
形成され、そしてＰ1 位置に戻ると、反射面の形成され
た基材Ｗを取り出すことができる。なお、各位置Ｐ1 〜
Ｐ4 において必要な最大時間は、プラズマ重合処理が１
５秒であることから、真空排気時間等を含め基材Ｗを２
５秒で処理することとなる。また、Ｐ1 〜Ｐ4 位置にお
ける各チャンバＣでは、それぞれの処理が同時に行なわ
れるので、短時間の内に大量の基材を処理できることに
なる。
【００２９】なお、前記した実施例では、リフレクタの
反射面を形成する方法について説明したが、本発明は、
ランプボディとリフレクタ間やランプボディと投射レン
ズ間の隙間を隠すために使用されるエクステンションリ
フレクタについても同様に適用できる。なお、エクステ
ンションリフレクターの場合には、リフレクターにおけ
るバルブ挿着孔の代わりに、リフレクターや投射レンズ
に対応する孔が設けられている。
反射面を形成する方法について説明したが、本発明は、
ランプボディとリフレクタ間やランプボディと投射レン
ズ間の隙間を隠すために使用されるエクステンションリ
フレクタについても同様に適用できる。なお、エクステ
ンションリフレクターの場合には、リフレクターにおけ
るバルブ挿着孔の代わりに、リフレクターや投射レンズ
に対応する孔が設けられている。
【００３０】さらに、本発明方法は、リフレクタやエク
ステンションリフレクタの反射面の形成に限られるもの
ではなく、表面にアルミニウム蒸着膜の形成されてい
る、例えば枠形状のリムその他の自動車用灯具構成部材
の表面処理にも適用できる。
ステンションリフレクタの反射面の形成に限られるもの
ではなく、表面にアルミニウム蒸着膜の形成されてい
る、例えば枠形状のリムその他の自動車用灯具構成部材
の表面処理にも適用できる。
【００３１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に係る保護膜形成方法によれば、チャンバ内で高周波
誘導放電式プラズマ源方式によりシリコーン系保護膜を
形成するので、従来の塗装方法に比べ、空気中の塵埃が
付着するおそれがなく、外観良好な反射面を形成でき
る。また、従来の塗装方法のように、有機溶剤を一切使
用しないので、環境問題が生ずるおそれがなく、しかも
短時間で保護膜を形成できるので、大量処理に適してい
る。また、高周波誘導放電式プラズマ源方式により、シ
リコーン系保護膜の膜厚を２００〜４００ｎｍと非常に
薄く形成することで、光の高透過率が得られ、光の損失
を極めて少なくできるので、高効率の反射面を形成でき
る。また、複数の高周波誘導放電式プラズマ源を並設す
ることで、単一のプラズマ源では形成困難な大きな基材
表面のアルミニウム蒸着膜の上に均一な膜厚のシリコー
ン系保護膜を形成することができる。また、請求項２に
よれば、単一のチャンバ内において、アルミニウム蒸着
膜の形成から保護膜の形成までを連続して行なうことが
できるので、反射面の形成工程が簡潔となる上に、大量
処理が可能となる。また、請求項３によれば、基材表面
のアルミニウム蒸着膜の上に形成された保護膜であるプ
ラズマ重合膜は、基材前面から基材側縁端面を経て基材
裏面周縁部に至る連続した領域に形成されているため、
アルミニウム蒸着膜が確実に保護されて、反射面の耐候
性（耐酸化性，耐腐食性）および耐久性が長期にわたっ
て保証される。また、請求項４によれば、リフレクタま
たはエクステンションリフレクタといった孔のある基材
では、シリコーンプラズマ重合膜が孔の裏面側周縁部に
まで形成されるので、アルミニウム蒸着膜の保護がさら
に確実となって、長期にわたって高反射効率を維持でき
るリフレクタ（エクステンションリフレクタ）が提供さ
れる。
１に係る保護膜形成方法によれば、チャンバ内で高周波
誘導放電式プラズマ源方式によりシリコーン系保護膜を
形成するので、従来の塗装方法に比べ、空気中の塵埃が
付着するおそれがなく、外観良好な反射面を形成でき
る。また、従来の塗装方法のように、有機溶剤を一切使
用しないので、環境問題が生ずるおそれがなく、しかも
短時間で保護膜を形成できるので、大量処理に適してい
る。また、高周波誘導放電式プラズマ源方式により、シ
リコーン系保護膜の膜厚を２００〜４００ｎｍと非常に
薄く形成することで、光の高透過率が得られ、光の損失
を極めて少なくできるので、高効率の反射面を形成でき
る。また、複数の高周波誘導放電式プラズマ源を並設す
ることで、単一のプラズマ源では形成困難な大きな基材
表面のアルミニウム蒸着膜の上に均一な膜厚のシリコー
ン系保護膜を形成することができる。また、請求項２に
よれば、単一のチャンバ内において、アルミニウム蒸着
膜の形成から保護膜の形成までを連続して行なうことが
できるので、反射面の形成工程が簡潔となる上に、大量
処理が可能となる。また、請求項３によれば、基材表面
のアルミニウム蒸着膜の上に形成された保護膜であるプ
ラズマ重合膜は、基材前面から基材側縁端面を経て基材
裏面周縁部に至る連続した領域に形成されているため、
アルミニウム蒸着膜が確実に保護されて、反射面の耐候
性（耐酸化性，耐腐食性）および耐久性が長期にわたっ
て保証される。また、請求項４によれば、リフレクタま
たはエクステンションリフレクタといった孔のある基材
では、シリコーンプラズマ重合膜が孔の裏面側周縁部に
まで形成されるので、アルミニウム蒸着膜の保護がさら
に確実となって、長期にわたって高反射効率を維持でき
るリフレクタ（エクステンションリフレクタ）が提供さ
れる。
【図１】本発明方法を実施するための装置の全体構成を
示す水平断面図
示す水平断面図
【図２】基材表面を活性化するためのプラズマ処理工程
におけるチャンバの水平断面図
におけるチャンバの水平断面図
【図３】アルミニウム蒸着処理工程におけるチャンバの
水平断面図
水平断面図
【図４】プラズマ重合膜形成工程におけるチャンバの水
平断面図
平断面図
【図５】プラズマ重合膜形成工程におけるチャンバ内の
プラズマ源とリフレクタ基材の配置を示す図
プラズマ源とリフレクタ基材の配置を示す図
【図６】並設されたプラズマ源により形成されるプラズ
マ重合膜の合成膜厚を示す図
マ重合膜の合成膜厚を示す図
【図７】図１に示す装置における反射面の形成されたリ
フレクタの水平断面図
フレクタの水平断面図
【図８】同リフレクタの一部拡大断面図
【図９】従来のリフレクタの断面図
【図１０】リフレクタの一部拡大断面図
【図１１】リフレクタの反射面を形成する工程説明図
１２ チャンバの一部を構成する固定ケーシング １３ 固定ケーシング構成壁 ２０ 回動ユニット ２２ チャンバの一部を構成する基材収容ケース ３０ 活性化層 ３２ アルミニウム蒸着膜 ３４ シリコーン系保護膜であるシリコーンプラズマ
重合膜 ４０ 高周波誘導放電式プラズマ源 ４１ プラズマ室 ４２ 高周波コイル ４４ シリコーンモノマーガス導入パイプ Ｗ 自動車用灯具構成部材である合成樹脂製リフレク
タ基材 Ｗ1 基材前面 Ｗ2 ，Ｗ3 基材側縁端面 Ｗ4 ，Ｗ5 基材裏面周縁部 Ｈ バルブ挿着孔 Ａ1 各プラズマ源におけるシリコーンプラズマ重合膜
形成領域 Ａ プラズマ源全体におけるシリコーンプラズマ重合
膜形成領域 Ｃ チャンバ Ｐ1 基材取付取外し用チャンバ位置 Ｐ2 プラズマ処理用チャンバ位置 Ｐ3 アルミスパッタリング蒸着処理用チャンバ位置 Ｐ4 保護膜形成用チャンバ位置
重合膜 ４０ 高周波誘導放電式プラズマ源 ４１ プラズマ室 ４２ 高周波コイル ４４ シリコーンモノマーガス導入パイプ Ｗ 自動車用灯具構成部材である合成樹脂製リフレク
タ基材 Ｗ1 基材前面 Ｗ2 ，Ｗ3 基材側縁端面 Ｗ4 ，Ｗ5 基材裏面周縁部 Ｈ バルブ挿着孔 Ａ1 各プラズマ源におけるシリコーンプラズマ重合膜
形成領域 Ａ プラズマ源全体におけるシリコーンプラズマ重合
膜形成領域 Ｃ チャンバ Ｐ1 基材取付取外し用チャンバ位置 Ｐ2 プラズマ処理用チャンバ位置 Ｐ3 アルミスパッタリング蒸着処理用チャンバ位置 Ｐ4 保護膜形成用チャンバ位置
Claims (4)
- 【請求項１】 合成樹脂製基材の表面に形成されたアル
ミニウム蒸着膜の上に、シリコーン系保護膜を形成する
方法において、表面にアルミニウム蒸着膜を形成した基
材をチャンバ内に収容し、基材と正対し基材と略同等の
面積を占めるように、複数の高周波誘導放電式プラズマ
源を並設し、前記プラズマ源によってプラズマ状態にし
たチャンバ内に蒸気状シリコーン系オイルを導入して、
アルミニウム蒸着膜の上にシリコーンプラズマ重合膜を
形成することを特徴とする保護膜形成方法。 - 【請求項２】 前記チャンバ内における合成樹脂製基材
は、同チャンバ内において、表面を活性化するためのプ
ラズマ処理がされた後、アルミスパッタリング蒸着処理
により、表面にアルミニウム蒸着膜が形成されたことを
特徴とする請求項１記載の保護膜形成方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の保護膜形成方法によっ
て、基材表面のアルミニウム蒸着膜の上にシリコーン系
保護膜が形成された自動車用灯具構成部材であって、前
記保護膜は、チャンバ内の面状プラズマ源に対面する基
材前面から基材側縁端面を経て基材裏面周縁部に至る連
続した領域に形成されたことを特徴とする自動車用灯具
構成部材。 - 【請求項４】 前記自動車用灯具構成部材は、少なくと
も１以上の孔が形成されたリフレクタまたはエクステン
ションリフレクタであることを特徴とする請求項３記載
の自動車用灯具構成部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30650396A JP3836549B2 (ja) | 1996-11-18 | 1996-11-18 | 保護膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30650396A JP3836549B2 (ja) | 1996-11-18 | 1996-11-18 | 保護膜形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10147876A true JPH10147876A (ja) | 1998-06-02 |
| JP3836549B2 JP3836549B2 (ja) | 2006-10-25 |
Family
ID=17957816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30650396A Expired - Fee Related JP3836549B2 (ja) | 1996-11-18 | 1996-11-18 | 保護膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3836549B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2798315A1 (fr) * | 1999-09-10 | 2001-03-16 | Koito Mfg Co Ltd | Procede pour former un film de revetement et lampe de vehicule contenant ce film |
| GB2360775A (en) * | 2000-03-31 | 2001-10-03 | Koito Mfg Co Ltd | A line-type film forming method for a discharge headlamp reflector |
| US7086766B2 (en) | 2002-09-30 | 2006-08-08 | Koito Manufacturing Co., Ltd. | Resin member and vehicle lighting apparatus |
| JP2013045718A (ja) * | 2011-08-25 | 2013-03-04 | Ichikoh Ind Ltd | 車両用灯具 |
-
1996
- 1996-11-18 JP JP30650396A patent/JP3836549B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2798315A1 (fr) * | 1999-09-10 | 2001-03-16 | Koito Mfg Co Ltd | Procede pour former un film de revetement et lampe de vehicule contenant ce film |
| GB2356827A (en) * | 1999-09-10 | 2001-06-06 | Koito Mfg Co Ltd | Vehicle lamp coating film |
| GB2356827B (en) * | 1999-09-10 | 2001-11-28 | Koito Mfg Co Ltd | Vehicle lamp coating film |
| GB2360775A (en) * | 2000-03-31 | 2001-10-03 | Koito Mfg Co Ltd | A line-type film forming method for a discharge headlamp reflector |
| GB2360775B (en) * | 2000-03-31 | 2002-05-08 | Koito Mfg Co Ltd | A line-type filmforming method for a discharge headlamp reflector |
| US6458428B2 (en) | 2000-03-31 | 2002-10-01 | Koito Maunfacturing Co., Ltd. | Line-type film-forming method |
| US7086766B2 (en) | 2002-09-30 | 2006-08-08 | Koito Manufacturing Co., Ltd. | Resin member and vehicle lighting apparatus |
| JP2013045718A (ja) * | 2011-08-25 | 2013-03-04 | Ichikoh Ind Ltd | 車両用灯具 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3836549B2 (ja) | 2006-10-25 |
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