JP2001288570A - ライン式膜形成方法及び該方法で形成されたリフレクタ - Google Patents
ライン式膜形成方法及び該方法で形成されたリフレクタInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルミニウム蒸着膜形成工程とプラズマ重合
膜形成工程をライン化して一連の工程とすること、リフ
レクタ基材の背面に保護膜（シリコーン重合膜）が形成
されないように工夫すること。 【解決手段】 複数の合成樹脂製基材２を並べて収容し
たケース１を、ライン状に並設されたアルミニウム蒸着
室４内部、プラズマ重合膜形成室５内部を順次移動させ
ることによって、前記合成樹脂製基材２にアルミニウム
蒸着膜４０１（４０１ａ、４０１ｂ）とシリコーンプラ
ズマ重合膜（保護膜）５０１を形成し、これにより得ら
れたリフレクタ１０をディスチャージヘッドランプ７に
装備するようにする。
膜形成工程をライン化して一連の工程とすること、リフ
レクタ基材の背面に保護膜（シリコーン重合膜）が形成
されないように工夫すること。 【解決手段】 複数の合成樹脂製基材２を並べて収容し
たケース１を、ライン状に並設されたアルミニウム蒸着
室４内部、プラズマ重合膜形成室５内部を順次移動させ
ることによって、前記合成樹脂製基材２にアルミニウム
蒸着膜４０１（４０１ａ、４０１ｂ）とシリコーンプラ
ズマ重合膜（保護膜）５０１を形成し、これにより得ら
れたリフレクタ１０をディスチャージヘッドランプ７に
装備するようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、合成樹脂製の基材
に対して、アルミニウム蒸着膜とこのアルミニウム蒸着
膜を保護するための保護膜（シリコーンプラズマ重合
膜）を、ライン状に配置された工程により形成する方法
に関する。
に対して、アルミニウム蒸着膜とこのアルミニウム蒸着
膜を保護するための保護膜（シリコーンプラズマ重合
膜）を、ライン状に配置された工程により形成する方法
に関する。
【０００２】詳細には、自動車や二輪自動車等の車両用
灯具に使用される種々のリフレクタ（反射鏡）に使用さ
れる合成樹脂基材、とりわけディスチャージヘッドラン
プ（ＧＤＨＬ）の内部に配設されるリフレクタの合成樹
脂製基材を複数個単位で所定のケースに並べて収容し、
このケースをライン状に並設されたアルミニウム蒸着
室、プラズマ重合膜形成室を順次通過させることによ
り、アルミニウム蒸着膜とシリコーン系保護膜を形成す
る方法とこの方法により形成されたリフレクタに関す
る。
灯具に使用される種々のリフレクタ（反射鏡）に使用さ
れる合成樹脂基材、とりわけディスチャージヘッドラン
プ（ＧＤＨＬ）の内部に配設されるリフレクタの合成樹
脂製基材を複数個単位で所定のケースに並べて収容し、
このケースをライン状に並設されたアルミニウム蒸着
室、プラズマ重合膜形成室を順次通過させることによ
り、アルミニウム蒸着膜とシリコーン系保護膜を形成す
る方法とこの方法により形成されたリフレクタに関す
る。
【０００３】
【従来の技術】自動車や二輪自動車等に装備されるヘッ
ドランプ等の車両用灯具の灯室内には、一般に、光源バ
ルブ（電球）からの出射光を反射させて外部照射光に変
換するためのリフレクタ（反射鏡）が、光源バルブを内
包するように配設されている。
ドランプ等の車両用灯具の灯室内には、一般に、光源バ
ルブ（電球）からの出射光を反射させて外部照射光に変
換するためのリフレクタ（反射鏡）が、光源バルブを内
包するように配設されている。
【０００４】このリフレクタは、前面レンズ側に配向さ
れる開口部を備えた略カップ状（放物面形状）の形態を
備えており、ＢＭＣ（Ｂｕｌｋ Ｍｏｕｌｄｉｎｇ Ｃ
ｏｍｐｏｕｎｄ）材料を主材料として形成された合成樹
脂製基材の表層に、反射面として機能するアルミニウム
蒸着膜が形成されるとともに、更にその上層に、アルミ
ニウム蒸着膜の劣化を防止するための保護膜が形成され
る。
れる開口部を備えた略カップ状（放物面形状）の形態を
備えており、ＢＭＣ（Ｂｕｌｋ Ｍｏｕｌｄｉｎｇ Ｃ
ｏｍｐｏｕｎｄ）材料を主材料として形成された合成樹
脂製基材の表層に、反射面として機能するアルミニウム
蒸着膜が形成されるとともに、更にその上層に、アルミ
ニウム蒸着膜の劣化を防止するための保護膜が形成され
る。
【０００５】近年、有機溶剤の流出に伴う環境問題や原
材料コストの低減等の観点から、保護膜を塗装によって
形成する技術に代わって、高周波誘導式放電やグロー放
電等のプラズマ源を用いて、蒸気状シリコーン系オイル
をプラズマ状態にし、基材にシリコーン重合膜を形成す
る方法が普及し始めている。
材料コストの低減等の観点から、保護膜を塗装によって
形成する技術に代わって、高周波誘導式放電やグロー放
電等のプラズマ源を用いて、蒸気状シリコーン系オイル
をプラズマ状態にし、基材にシリコーン重合膜を形成す
る方法が普及し始めている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、合成樹
脂製基材に、アルミニウム蒸着膜とプラズマ重合膜を形
成する技術に関しては、以下のような技術的課題があっ
た。まず、円筒形状の大型チャンバーの中心軸に沿って
配置されたアルミニウム蒸着源に対向させるように複数
の基材を配列し、このアルミニウム蒸着源の周りを基材
が回転するように構成された、蒸着膜形成専用の「自公
転式蒸着装置（システム）」を使用した場合では、アル
ミニウム蒸着膜形成工程とプラズマ重合膜形成工程を全
く別工程で行わなければならない。このため、工程が多
段階化し、工程間で基材の移送作業が必要となるため、
リードタイムが長くなり作業効率が悪くなる。また、自
公転式の装置は、回転機構をも備えているため、アルミ
ニウム蒸着設備としては、複雑である。
脂製基材に、アルミニウム蒸着膜とプラズマ重合膜を形
成する技術に関しては、以下のような技術的課題があっ
た。まず、円筒形状の大型チャンバーの中心軸に沿って
配置されたアルミニウム蒸着源に対向させるように複数
の基材を配列し、このアルミニウム蒸着源の周りを基材
が回転するように構成された、蒸着膜形成専用の「自公
転式蒸着装置（システム）」を使用した場合では、アル
ミニウム蒸着膜形成工程とプラズマ重合膜形成工程を全
く別工程で行わなければならない。このため、工程が多
段階化し、工程間で基材の移送作業が必要となるため、
リードタイムが長くなり作業効率が悪くなる。また、自
公転式の装置は、回転機構をも備えているため、アルミ
ニウム蒸着設備としては、複雑である。
【０００７】次に、一つの大型チャンバ内においてアル
ミニウム蒸着膜形成工程とプラズマ重合膜形成工程を行
う設備として、アンテナ式プラズマ重合方式（プラズマ
をチャンバ内の高周波発振アンテナで発生させ、導入さ
れたモノマーを重合する方式）を用いた蒸着設備があ
る。この設備を用いれば、アルミニウム蒸着膜形成工程
とプラズマ重合膜形成工程を一連の工程で行うことが可
能となる。
ミニウム蒸着膜形成工程とプラズマ重合膜形成工程を行
う設備として、アンテナ式プラズマ重合方式（プラズマ
をチャンバ内の高周波発振アンテナで発生させ、導入さ
れたモノマーを重合する方式）を用いた蒸着設備があ
る。この設備を用いれば、アルミニウム蒸着膜形成工程
とプラズマ重合膜形成工程を一連の工程で行うことが可
能となる。
【０００８】しかし、この設備は、所定の多数量の基材
をチャンバに配置し、蒸着膜及びプラズマ重合膜形成の
ための所定時間（約４０分程度）経過後、該チャンバか
ら配置されたすべての基材を取り出すバッチ生産方式で
あるため、基材の配置作業に要するリードタイムが長い
という欠点や当該ロットに何らかの不良が発生した場
合、一度に多数量の基材に不良が発生してしまうという
欠点がある。
をチャンバに配置し、蒸着膜及びプラズマ重合膜形成の
ための所定時間（約４０分程度）経過後、該チャンバか
ら配置されたすべての基材を取り出すバッチ生産方式で
あるため、基材の配置作業に要するリードタイムが長い
という欠点や当該ロットに何らかの不良が発生した場
合、一度に多数量の基材に不良が発生してしまうという
欠点がある。
【０００９】また、上記アンテナ方式によるプラズマ重
合膜の形成は、プラズマ密度が一般に低く、成膜速度が
遅いばかりか、膜質、膜分布が不均一になるという問題
がある。
合膜の形成は、プラズマ密度が一般に低く、成膜速度が
遅いばかりか、膜質、膜分布が不均一になるという問題
がある。
【００１０】更に、ディスチャージヘッドランプに使用
されるリフレクタの場合、リフレクタ裏面に形成される
ノイズシールド（電磁シールド）として、アルミニウム
蒸着膜を利用しているが、上述のアンテナ式プラズマ重
合方式の蒸着設備では、リフレクタ裏面のアルミニウム
蒸着膜上にもプラズマ重合膜（シリコーン重合膜）が形
成されてしまうことになるので、アース（接地）ができ
なくなってしまうという技術的課題がある。
されるリフレクタの場合、リフレクタ裏面に形成される
ノイズシールド（電磁シールド）として、アルミニウム
蒸着膜を利用しているが、上述のアンテナ式プラズマ重
合方式の蒸着設備では、リフレクタ裏面のアルミニウム
蒸着膜上にもプラズマ重合膜（シリコーン重合膜）が形
成されてしまうことになるので、アース（接地）ができ
なくなってしまうという技術的課題がある。
【００１１】そこで、本発明の目的は、アルミニウム蒸
着膜形成工程とプラズマ重合膜形成工程をライン化して
一連の工程とするとともに、ディスチャージヘッドラン
プに利用されるリフレクタの保護膜形成にも対応可能と
するために、リフレクタ基材の背面には、保護膜（シリ
コーン重合膜）が形成されないように工夫した膜形成技
術を提供することを目的とする。
着膜形成工程とプラズマ重合膜形成工程をライン化して
一連の工程とするとともに、ディスチャージヘッドラン
プに利用されるリフレクタの保護膜形成にも対応可能と
するために、リフレクタ基材の背面には、保護膜（シリ
コーン重合膜）が形成されないように工夫した膜形成技
術を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、以下の手段を採用する。まず、請求項１では、枠状
のケースに所定の治具を介して、複数の合成樹脂製基材
を所定間隔に並べて収容する。そして該ケースを、コン
ベア等の搬送手段で、ライン（１列）状に並設されたア
ルミニウム蒸着室内、プラズマ重合膜形成室内を順次移
動させることによって、前記合成樹脂製基材にアルミニ
ウム蒸着膜を形成し、続いて該アルミニウム蒸着膜の上
層に保護膜を形成するようにした。この手段では、合成
樹脂製基材を上方に開口する所定のケースに、上方から
設置するだけで良いので、基材セット工程に要する作業
を簡易化でき、リードタイムも短縮できる。また、従来
別工程であったアルミニウム蒸着工程とプラズマ重合膜
形成工程を一連の工程としたことによって、アルミニウ
ム蒸着工程からプラズマ重合膜形成工程への合成樹脂基
材の移送作業を省略し、リードタイムを短縮できる。更
に、アルミニウム蒸着室及びプラズマ重合膜形成室を横
方向に通過させる過程で、膜形成作業が完了するように
したので、蒸着膜形成装置に基材を回転させたりする複
雑機構を設ける必要もなくなる。なお、高真空条件下の
アルミニウム蒸着室の前には、蒸着工程の準備段階とな
る低真空条件を形成するための予備真空室を設け、高真
空条件下のプラズマ重合膜形成室の後には、高真空条件
から低真空条件に戻すための予備真空室を設けるように
する。また、アルミニウム蒸着膜形成には、予め膜形成
対象基材の表面平滑性を確保しておく必要があるため、
合成樹脂基材には予めアンダーコート層を設ける前処理
を施すか、基材材料を工夫するかして、基材の表面平滑
性を確保しておく必要がある。本発明では、合成樹脂製
基材に予めアンダーコート層が形成される場合であって
も、このアンダーコート層に一切手を触れることなく、
合成樹脂基材の背面側（後頂部側）を把持して、ケース
に設置できるので作業が簡便である。なお、本発明は、
表面にアルミニウム蒸着膜の形成されている、例えば、
枠形状のリムや自動車用灯具構成部材の膜形成処理に広
く適用できる。
に、以下の手段を採用する。まず、請求項１では、枠状
のケースに所定の治具を介して、複数の合成樹脂製基材
を所定間隔に並べて収容する。そして該ケースを、コン
ベア等の搬送手段で、ライン（１列）状に並設されたア
ルミニウム蒸着室内、プラズマ重合膜形成室内を順次移
動させることによって、前記合成樹脂製基材にアルミニ
ウム蒸着膜を形成し、続いて該アルミニウム蒸着膜の上
層に保護膜を形成するようにした。この手段では、合成
樹脂製基材を上方に開口する所定のケースに、上方から
設置するだけで良いので、基材セット工程に要する作業
を簡易化でき、リードタイムも短縮できる。また、従来
別工程であったアルミニウム蒸着工程とプラズマ重合膜
形成工程を一連の工程としたことによって、アルミニウ
ム蒸着工程からプラズマ重合膜形成工程への合成樹脂基
材の移送作業を省略し、リードタイムを短縮できる。更
に、アルミニウム蒸着室及びプラズマ重合膜形成室を横
方向に通過させる過程で、膜形成作業が完了するように
したので、蒸着膜形成装置に基材を回転させたりする複
雑機構を設ける必要もなくなる。なお、高真空条件下の
アルミニウム蒸着室の前には、蒸着工程の準備段階とな
る低真空条件を形成するための予備真空室を設け、高真
空条件下のプラズマ重合膜形成室の後には、高真空条件
から低真空条件に戻すための予備真空室を設けるように
する。また、アルミニウム蒸着膜形成には、予め膜形成
対象基材の表面平滑性を確保しておく必要があるため、
合成樹脂基材には予めアンダーコート層を設ける前処理
を施すか、基材材料を工夫するかして、基材の表面平滑
性を確保しておく必要がある。本発明では、合成樹脂製
基材に予めアンダーコート層が形成される場合であって
も、このアンダーコート層に一切手を触れることなく、
合成樹脂基材の背面側（後頂部側）を把持して、ケース
に設置できるので作業が簡便である。なお、本発明は、
表面にアルミニウム蒸着膜の形成されている、例えば、
枠形状のリムや自動車用灯具構成部材の膜形成処理に広
く適用できる。
【００１３】次に、請求項２では、アルミニウム蒸着膜
及びプラズマ重合膜が形成された前記合成樹脂製基材を
前記ケースから取り出した後に、空ケースを前記アルミ
ニウム蒸着室側にコンベア等の手段で搬送送することに
よって、ケースを繰り返し使用するようにした。この手
段では、合成樹脂基材を収容するケースの移送に人手を
介する必要が無く、ケースを使用できるので便利であ
る。なお、ケースの形状及びサイズは、特に限定するも
のではないが、基材背面に対するアルミニウム蒸着膜の
形成、ケースに対する基材のセット作業時間を考慮する
と、合成樹脂基材を８又は１０個程度、所定間隔で配列
するのが望ましい。
及びプラズマ重合膜が形成された前記合成樹脂製基材を
前記ケースから取り出した後に、空ケースを前記アルミ
ニウム蒸着室側にコンベア等の手段で搬送送することに
よって、ケースを繰り返し使用するようにした。この手
段では、合成樹脂基材を収容するケースの移送に人手を
介する必要が無く、ケースを使用できるので便利であ
る。なお、ケースの形状及びサイズは、特に限定するも
のではないが、基材背面に対するアルミニウム蒸着膜の
形成、ケースに対する基材のセット作業時間を考慮する
と、合成樹脂基材を８又は１０個程度、所定間隔で配列
するのが望ましい。
【００１４】請求項３では、上記ライン式膜形成方法
を、車両用灯具に装備される略カップ形状のリフレクタ
基材に適用する。このリフレクタ基材には、バルブ出射
光を反射させる反射鏡として使用されるリフレクタの他
に、ランプボディとリフレクタ間やランプボディと投射
レンズ間の隙間を隠すために使用されるエクステンショ
ンリフレクタも含まれる。
を、車両用灯具に装備される略カップ形状のリフレクタ
基材に適用する。このリフレクタ基材には、バルブ出射
光を反射させる反射鏡として使用されるリフレクタの他
に、ランプボディとリフレクタ間やランプボディと投射
レンズ間の隙間を隠すために使用されるエクステンショ
ンリフレクタも含まれる。
【００１５】請求項４では、前記リフレクタ基材を、伏
せた状態（後頂部を上に向けた状態）で前記ケースに配
列し、アルミニウム蒸着室では、前記リフレクタ基材の
下方側からアルミニウムを吹き付けて（飛ばして）、前
記リフレクタ基材の表面と裏面の両方にアルミニウム蒸
着膜を形成し、続くプラズマ重合膜形成室では、前記リ
フレクタ基材の表面にのみプラズマ重合膜が形成できる
ように工夫した。具体的には、アルミニウム蒸着室とプ
ラズマ重合膜形成室には、それぞれ複数の蒸着源とプラ
ズマ源を下方領域に配設して、アルミニウムについて
は、基材背面へのまわり込み特性を利用してリフレクタ
基材の表と裏の両面に蒸着膜を形成するようにし、一
方、シリコーンについては、拡散する領域を制限して、
リフレクタ基材の表面（下方に向けられた面）にのみシ
リコーン重合膜を形成するようにした。ここで、リフレ
クタ基材の裏面側に対しても、アルミニウム蒸着膜を確
実に形成するためには、リフレクタ基材を、開口部幅分
の間隔をおいて、ケースに配列するのが望ましい。な
お、前記「開口部」とは、リフレクタ基材の後頂部に形
成されるバルブ挿着孔ではなく、リフレクタが灯室内に
配設された時に、前面レンズ側に配向されることになる
開口部を意味する。
せた状態（後頂部を上に向けた状態）で前記ケースに配
列し、アルミニウム蒸着室では、前記リフレクタ基材の
下方側からアルミニウムを吹き付けて（飛ばして）、前
記リフレクタ基材の表面と裏面の両方にアルミニウム蒸
着膜を形成し、続くプラズマ重合膜形成室では、前記リ
フレクタ基材の表面にのみプラズマ重合膜が形成できる
ように工夫した。具体的には、アルミニウム蒸着室とプ
ラズマ重合膜形成室には、それぞれ複数の蒸着源とプラ
ズマ源を下方領域に配設して、アルミニウムについて
は、基材背面へのまわり込み特性を利用してリフレクタ
基材の表と裏の両面に蒸着膜を形成するようにし、一
方、シリコーンについては、拡散する領域を制限して、
リフレクタ基材の表面（下方に向けられた面）にのみシ
リコーン重合膜を形成するようにした。ここで、リフレ
クタ基材の裏面側に対しても、アルミニウム蒸着膜を確
実に形成するためには、リフレクタ基材を、開口部幅分
の間隔をおいて、ケースに配列するのが望ましい。な
お、前記「開口部」とは、リフレクタ基材の後頂部に形
成されるバルブ挿着孔ではなく、リフレクタが灯室内に
配設された時に、前面レンズ側に配向されることになる
開口部を意味する。
【００１６】上記請求項４記載のライン式膜形成方法に
よって形成されたディスチャージヘッドランプ用のリフ
レクタは、リフレクタ背面にまで廻り込んでアルミニウ
ム蒸着層が形成されているため、電磁シールド機能を確
保できるとともに、リフレクタ背面にアルミニウム蒸着
層が保護膜に覆われることなく露出しているため、該背
面部分からアースをとることができる。
よって形成されたディスチャージヘッドランプ用のリフ
レクタは、リフレクタ背面にまで廻り込んでアルミニウ
ム蒸着層が形成されているため、電磁シールド機能を確
保できるとともに、リフレクタ背面にアルミニウム蒸着
層が保護膜に覆われることなく露出しているため、該背
面部分からアースをとることができる。
【００１７】以上のように、本発明は、基材に対してア
ルミニウム蒸着膜とシリコーン重合膜を形成する工程の
作業性の改善、生産性向上に加え、とりわけ車両用灯具
に使用されるリフレクタの品質の改善又は向上に寄与す
るという技術的意義を有している。
ルミニウム蒸着膜とシリコーン重合膜を形成する工程の
作業性の改善、生産性向上に加え、とりわけ車両用灯具
に使用されるリフレクタの品質の改善又は向上に寄与す
るという技術的意義を有している。
【００１８】
【発明の実施の形態】次に、本発明の好適な実施形態に
ついて、添付図面を参照しながら説明する。まず、図１
は、本発明に係るライン式膜形成方法の工程を、車両用
灯具に装備されるリフレクタを構成する合成樹脂基材に
対して、アルミニウム蒸着膜とプラズマ重合膜を形成す
る場合を実施例として簡略に表した図である。
ついて、添付図面を参照しながら説明する。まず、図１
は、本発明に係るライン式膜形成方法の工程を、車両用
灯具に装備されるリフレクタを構成する合成樹脂基材に
対して、アルミニウム蒸着膜とプラズマ重合膜を形成す
る場合を実施例として簡略に表した図である。
【００１９】この図１に従いながら、本発明に係るライ
ン式膜形成方法の工程を説明すると、まず、図示しない
前処理工程において、基材表面の平滑性を確保するため
のアンダーコート層２０１（図３、図４参照）が形成さ
れたリフレクタ基材２が、膜形成作業の開始位置Ｉに移
送されてくる。
ン式膜形成方法の工程を説明すると、まず、図示しない
前処理工程において、基材表面の平滑性を確保するため
のアンダーコート層２０１（図３、図４参照）が形成さ
れたリフレクタ基材２が、膜形成作業の開始位置Ｉに移
送されてくる。
【００２０】作業者（１名）は、リフレクタ基材２の背
面側（後頂部側）を手で把持し、アンダーコート層２０
１に手を触れないようにする。そして、予め開始位置Ｉ
に待機している所定のケース１（後述）内に、リフレク
タ基材２を複数並べて、例えば、２列×４個＝８個ない
し２列×５個＝１０個程度並べて配置する。
面側（後頂部側）を手で把持し、アンダーコート層２０
１に手を触れないようにする。そして、予め開始位置Ｉ
に待機している所定のケース１（後述）内に、リフレク
タ基材２を複数並べて、例えば、２列×４個＝８個ない
し２列×５個＝１０個程度並べて配置する。
【００２１】図２は、リフレクタ基材２が伏せられた状
態で、枠形態のケース１の網状底面1ａに、一定間隔で
配置された様子を簡略に表している。なお、図２中の符
号２１は、リフレクタ基材２の後頂部に設けられたバル
ブ交換（挿着）用の孔を表している。
態で、枠形態のケース１の網状底面1ａに、一定間隔で
配置された様子を簡略に表している。なお、図２中の符
号２１は、リフレクタ基材２の後頂部に設けられたバル
ブ交換（挿着）用の孔を表している。
【００２２】リフレクタ基材２の配置数は、特に限定す
るものではないが、幅８００ｃｍ×長さ１２６０ｃｍの
ケース１を採用した場合では、自動車用ヘッドランプに
使用されるサイズのリフレクタ基材２を、２列×４個＝
８個ないし２列×５個＝１０個配置するのが望ましく、
リフレクタ基材２の間隔Ｌは、特にディスチャージヘッ
ドランプに用いられるリフレクタの場合には、リフレク
タ基材２の幅Ｗと同じ程度にするのが望ましいことが、
本願発明者の行った試験によって明らかになった。
るものではないが、幅８００ｃｍ×長さ１２６０ｃｍの
ケース１を採用した場合では、自動車用ヘッドランプに
使用されるサイズのリフレクタ基材２を、２列×４個＝
８個ないし２列×５個＝１０個配置するのが望ましく、
リフレクタ基材２の間隔Ｌは、特にディスチャージヘッ
ドランプに用いられるリフレクタの場合には、リフレク
タ基材２の幅Ｗと同じ程度にするのが望ましいことが、
本願発明者の行った試験によって明らかになった。
【００２３】これは、配列される各リフレクタ基材２の
間隔Ｌが狭すぎると、アルミニウム蒸着膜４０１が、下
記するアルミニウム蒸着室４において、リフレクタ基材
２の背面２３側にアルミニウムがまわり込み難くなっ
て、該背面２３に対するアルミニウム蒸着膜４０１ｂの
障害となってしまうからである。
間隔Ｌが狭すぎると、アルミニウム蒸着膜４０１が、下
記するアルミニウム蒸着室４において、リフレクタ基材
２の背面２３側にアルミニウムがまわり込み難くなっ
て、該背面２３に対するアルミニウム蒸着膜４０１ｂの
障害となってしまうからである。
【００２４】ここで、リフレクタ基材２が収容されたケ
ース１は、コンベア等により予備真空室３に移送される
（図１の矢印Ｐ1参照）。この予備真空室３は、続くア
ルミニウム蒸着室４の高真空条件を形成するための予備
工程として必要である。
ース１は、コンベア等により予備真空室３に移送される
（図１の矢印Ｐ1参照）。この予備真空室３は、続くア
ルミニウム蒸着室４の高真空条件を形成するための予備
工程として必要である。
【００２５】次に、ケース１は、上記予備真空室３から
アルミニウム蒸着室４へ移送される（図１の矢印Ｐ2参
照）。ここで、図３は、アルミニウム蒸着室４の内部構
成を、ケース１を収容した状態で、簡略に表した部分図
である。この図３に基づいて、アルミニウム蒸着室４の
内部構成とアルミニウム蒸着の原理を説明する。
アルミニウム蒸着室４へ移送される（図１の矢印Ｐ2参
照）。ここで、図３は、アルミニウム蒸着室４の内部構
成を、ケース１を収容した状態で、簡略に表した部分図
である。この図３に基づいて、アルミニウム蒸着室４の
内部構成とアルミニウム蒸着の原理を説明する。
【００２６】アルミニウム蒸着室４内には、真空ポンプ
４３と連結された真空チャンバＣが設けられており、該
真空チャンバＣの下方領域には、チャンバＣ内に移送さ
れてきて位置決めされたケース１内に収容された各リフ
レクタ基材２に正対するように、抵抗加熱式蒸着源であ
るアルミニウムターゲット（蒸着源）４１が、複数配置
されている。
４３と連結された真空チャンバＣが設けられており、該
真空チャンバＣの下方領域には、チャンバＣ内に移送さ
れてきて位置決めされたケース１内に収容された各リフ
レクタ基材２に正対するように、抵抗加熱式蒸着源であ
るアルミニウムターゲット（蒸着源）４１が、複数配置
されている。
【００２７】この真空チャンバＣに、不活性ガス（Ａｒ
ガス）が導入され、該チャンバＣ内に設置されたアルミ
ニウムターゲット４１が加熱されて、蒸発し、アルミニ
ウムが上方に向けて飛び出す。
ガス）が導入され、該チャンバＣ内に設置されたアルミ
ニウムターゲット４１が加熱されて、蒸発し、アルミニ
ウムが上方に向けて飛び出す。
【００２８】飛び出したアルミニウムは、リフレクタ基
材２の開口部２４から入り込んで表面２２に付着すると
ともに、該基材２の背面２３側に廻り込んで基材２に付
着する。なお、リフレクタ基材２のバルブ交換孔２１か
ら背面２３側に廻り込んで付着するアルミニウムも存在
する。
材２の開口部２４から入り込んで表面２２に付着すると
ともに、該基材２の背面２３側に廻り込んで基材２に付
着する。なお、リフレクタ基材２のバルブ交換孔２１か
ら背面２３側に廻り込んで付着するアルミニウムも存在
する。
【００２９】アルミニウムが基材２に付着する結果、図
３中符号Ｘで示した基材部分の拡大断面図である図４に
示すように、リフレクタ基材２の全面にアルミニウム蒸
着膜４０１ａ、４０１ｂが形成される。
３中符号Ｘで示した基材部分の拡大断面図である図４に
示すように、リフレクタ基材２の全面にアルミニウム蒸
着膜４０１ａ、４０１ｂが形成される。
【００３０】このように、アルミニウム蒸着膜４０１
ａ、４０１ｂをリフレクタ基材２の全面に形成すること
によって、アルミニウム蒸着膜４０１ａ、４０１ｂを、
ディスチャージランプから発生する電磁波を有効にシー
ルドすることができる。
ａ、４０１ｂをリフレクタ基材２の全面に形成すること
によって、アルミニウム蒸着膜４０１ａ、４０１ｂを、
ディスチャージランプから発生する電磁波を有効にシー
ルドすることができる。
【００３１】次に、上記アルミニウム蒸着室４において
アルミニウム蒸着膜４０１が形成されたリフレクタ基材
２を収容したケース１は、アルミニウム蒸着室４から隣
設するプラズマ重合膜形成室５に移送される（図１の矢
印Ｐ3参照）。
アルミニウム蒸着膜４０１が形成されたリフレクタ基材
２を収容したケース１は、アルミニウム蒸着室４から隣
設するプラズマ重合膜形成室５に移送される（図１の矢
印Ｐ3参照）。
【００３２】図５は、このプラズマ重合膜形成室５の内
部構成を、重合膜形成室５内にケース１を収容した状態
で簡略に表した部分図である。この図５に基づいて、プ
ラズマ重合膜形成室５の内部構成とプラズマ重合膜形成
の原理を説明する。
部構成を、重合膜形成室５内にケース１を収容した状態
で簡略に表した部分図である。この図５に基づいて、プ
ラズマ重合膜形成室５の内部構成とプラズマ重合膜形成
の原理を説明する。
【００３３】まず、プラズマ重合膜形成室５は、いわゆ
る高周波誘導放電式のラジカル源を備えている。具体的
には、真空ポンプ５６が連結された真空チャンバＣ’が
設けられ、この真空チャンバＣ’の下方領域には、ケー
ス１に収容された各リフレクタ基材２に正対するよう
に、図示しないプラズマ室を内部に備えるプラズマセル
５１が設けられている。
る高周波誘導放電式のラジカル源を備えている。具体的
には、真空ポンプ５６が連結された真空チャンバＣ’が
設けられ、この真空チャンバＣ’の下方領域には、ケー
ス１に収容された各リフレクタ基材２に正対するよう
に、図示しないプラズマ室を内部に備えるプラズマセル
５１が設けられている。
【００３４】上記ラジカル源の構成を説明すると、内部
にプラズマ室を備えるプラズマセル５１の外周には、高
周波電源５５と接続する高周波コイル５２が巻回されて
おり、前記プラズマセル５１の底部背後には、高周波コ
イル５２の軸線と平行な磁場を形成する図示しない永久
磁石が設けられており、上記プラズマ室には、モノマー
タンク５３からシリコーンモノマーガス５４が導入され
る。
にプラズマ室を備えるプラズマセル５１の外周には、高
周波電源５５と接続する高周波コイル５２が巻回されて
おり、前記プラズマセル５１の底部背後には、高周波コ
イル５２の軸線と平行な磁場を形成する図示しない永久
磁石が設けられており、上記プラズマ室には、モノマー
タンク５３からシリコーンモノマーガス５４が導入され
る。
【００３５】高周波コイル５２からプラズマセル５１に
高周波が導入されると、プラズマ室で放電が起こり、チ
ャンバＣ’内部がプラズマ状態となる。このプラズマ状
態のチャンバＣ’内にシリコーンモノマーガス５４が導
入されると、リフレクタ基材２のアルミニウム蒸着層４
０１ａ上に、シリコーンが橋かけされた重合体の均一な
薄膜（５００〜６０００Å）であるプラズマ重合膜（保
護膜）５０１が形成される。
高周波が導入されると、プラズマ室で放電が起こり、チ
ャンバＣ’内部がプラズマ状態となる。このプラズマ状
態のチャンバＣ’内にシリコーンモノマーガス５４が導
入されると、リフレクタ基材２のアルミニウム蒸着層４
０１ａ上に、シリコーンが橋かけされた重合体の均一な
薄膜（５００〜６０００Å）であるプラズマ重合膜（保
護膜）５０１が形成される。
【００３６】上記構成のラジカル源（ラジカルガンとも
呼ばれる）では、プラズマ室にヘリコン波が発生するよ
うになり、このヘリコン波のエネルギーがランダウ減衰
により、プラズマ中の電子に効率良く伝わるので、プラ
ズマ室に生成されるプラズマの密度が高くなる。
呼ばれる）では、プラズマ室にヘリコン波が発生するよ
うになり、このヘリコン波のエネルギーがランダウ減衰
により、プラズマ中の電子に効率良く伝わるので、プラ
ズマ室に生成されるプラズマの密度が高くなる。
【００３７】また、シリコーンモノマーに方向性を持た
せてチャンバＣ’内部へ導入する構成によって、図５中
符号Ｙで示した基材部分の拡大断面図である図６に示す
ように、リフレクタ基材２の下方側に向けられた表面２
２側に形成されたアルミニウム蒸着層４０１ａの上層に
のみシリコーンプラズマ重合膜５０１を形成することが
できる。即ち、リフレクタ基材２の背面２３側には、シ
リコーン重合膜５０１は形成されない。
せてチャンバＣ’内部へ導入する構成によって、図５中
符号Ｙで示した基材部分の拡大断面図である図６に示す
ように、リフレクタ基材２の下方側に向けられた表面２
２側に形成されたアルミニウム蒸着層４０１ａの上層に
のみシリコーンプラズマ重合膜５０１を形成することが
できる。即ち、リフレクタ基材２の背面２３側には、シ
リコーン重合膜５０１は形成されない。
【００３８】従って、リフレクタ基材２の背面２３に
は、アルミニウム蒸着膜４０１ｂがそのまま露出してい
るので、該アルミニウム蒸着膜４０１ｂからアースＥを
取ることができるので（図５参照）、ディスチャージヘ
ッドランプ用のリフレクタ１０（後述）として、好適で
ある。
は、アルミニウム蒸着膜４０１ｂがそのまま露出してい
るので、該アルミニウム蒸着膜４０１ｂからアースＥを
取ることができるので（図５参照）、ディスチャージヘ
ッドランプ用のリフレクタ１０（後述）として、好適で
ある。
【００３９】次に、図１に戻って説明すると、プラズマ
重合膜形成室５でシリコーン重合膜５０１が形成された
リフレクタ基材２を収容したケース１は、プラズマ重合
膜形成室５に隣設された予備真空室６に移送される（図
１の矢印Ｐ4参照）。この予備真空室６は、プラズマ重
合膜形成室５における高真空条件を低真空条件に戻し、
外部の大気圧下にケース１を取り出すための予備工程と
して必要である。
重合膜形成室５でシリコーン重合膜５０１が形成された
リフレクタ基材２を収容したケース１は、プラズマ重合
膜形成室５に隣設された予備真空室６に移送される（図
１の矢印Ｐ4参照）。この予備真空室６は、プラズマ重
合膜形成室５における高真空条件を低真空条件に戻し、
外部の大気圧下にケース１を取り出すための予備工程と
して必要である。
【００４０】予備真空室６で所定時間処理された後、ケ
ース１は、一連の膜形成装置から外部に排出され（図１
の矢印Ｐ5参照）、控えている作業者（１名）が、ケー
ス１からリフレクタ基材２を全部取り出す。
ース１は、一連の膜形成装置から外部に排出され（図１
の矢印Ｐ5参照）、控えている作業者（１名）が、ケー
ス１からリフレクタ基材２を全部取り出す。
【００４１】ここで、空になったケース１’は、アルミ
ニウム蒸着室４、プラズマ重合膜形成室５を迂回するル
ートで、コンベア等により搬送されて開始位置Ｉに戻さ
れ、上記同様に、再びリフレクタ基材２を収容して、膜
形成工程（４、５）に移る。
ニウム蒸着室４、プラズマ重合膜形成室５を迂回するル
ートで、コンベア等により搬送されて開始位置Ｉに戻さ
れ、上記同様に、再びリフレクタ基材２を収容して、膜
形成工程（４、５）に移る。
【００４２】ここで、上記した本発明に係るライン式膜
形成方法で得られたリフレクタ１０を自動車のディスチ
ャージヘッドランプ７に適用する時の実施形態につい
て、図７に基づいて説明する。図７は、ディスチャージ
ヘッドランプ７の一実施形態の全体構成を簡易に示した
図である。
形成方法で得られたリフレクタ１０を自動車のディスチ
ャージヘッドランプ７に適用する時の実施形態につい
て、図７に基づいて説明する。図７は、ディスチャージ
ヘッドランプ７の一実施形態の全体構成を簡易に示した
図である。
【００４３】本発明に係るライン式膜形成方法によって
得られた、放物面形状をなすリフレクタ１０は、合成樹
脂製のランプボディ９に内包されるように、灯室１２に
配設されている。このリフレクタ１０の断面構造は、図
６に示す構成と全く同様であり、リフレクタ１０の表面
１０１側には、保護膜であるシリコーンプラズマ重合膜
５０１が形成されており、裏面１０２側には、アルミニ
ウム蒸着膜４０１ｂが、そのまま露出している。
得られた、放物面形状をなすリフレクタ１０は、合成樹
脂製のランプボディ９に内包されるように、灯室１２に
配設されている。このリフレクタ１０の断面構造は、図
６に示す構成と全く同様であり、リフレクタ１０の表面
１０１側には、保護膜であるシリコーンプラズマ重合膜
５０１が形成されており、裏面１０２側には、アルミニ
ウム蒸着膜４０１ｂが、そのまま露出している。
【００４４】このアルミニウム蒸着膜４０１ｂ（及び４
０１ａ）は、リフレクタ１０に内包されるように配置さ
れた放電ランプ１３から放出される電磁波をシールドす
る機能を発揮しており、この背面１０２側のアルミニウ
ム蒸着膜４０１ｂを利用してアースＥを取っている。
０１ａ）は、リフレクタ１０に内包されるように配置さ
れた放電ランプ１３から放出される電磁波をシールドす
る機能を発揮しており、この背面１０２側のアルミニウ
ム蒸着膜４０１ｂを利用してアースＥを取っている。
【００４５】具体的には、アルミニウム蒸着膜４０１ｂ
に接続させたアース線２０を、下方に配置されている
（バラスト回路が内蔵されている）バラスト１５の端面
に設けられたアース端子２１に接続している。
に接続させたアース線２０を、下方に配置されている
（バラスト回路が内蔵されている）バラスト１５の端面
に設けられたアース端子２１に接続している。
【００４６】なお、図７に示す符号８は、ランプボディ
９に係着等されている前面レンズ、符号１１は、リフレ
クタ１０とランプボディ９の間の隙間を隠すためのエク
ステンションリフレクタ、符号１４は、放電ランプ１３
を隠すためのシェード、符号１６は、ランプボディ９の
後頂部に取付けられるバックカバー、符号１７、１８は
配線コード、符号１９は、放電ランプ１３を支持するリ
ードサポートである。
９に係着等されている前面レンズ、符号１１は、リフレ
クタ１０とランプボディ９の間の隙間を隠すためのエク
ステンションリフレクタ、符号１４は、放電ランプ１３
を隠すためのシェード、符号１６は、ランプボディ９の
後頂部に取付けられるバックカバー、符号１７、１８は
配線コード、符号１９は、放電ランプ１３を支持するリ
ードサポートである。
【００４７】
【発明の効果】本発明に係るライン式膜形成方法により
奏される効果は次の通りである。合成樹脂製基材をの基
材セット工程に要する作業を簡易化でき、リードタイム
も短縮できるので、生産性を向上させることができる。
また、従来別工程であったアルミニウム蒸着工程とプラ
ズマ重合膜形成工程が一連の工程となるので、アルミニ
ウム蒸着工程からプラズマ重合膜形成工程への合成樹脂
基材の移送作業が不要となるので、作業性を改善でき
る。
奏される効果は次の通りである。合成樹脂製基材をの基
材セット工程に要する作業を簡易化でき、リードタイム
も短縮できるので、生産性を向上させることができる。
また、従来別工程であったアルミニウム蒸着工程とプラ
ズマ重合膜形成工程が一連の工程となるので、アルミニ
ウム蒸着工程からプラズマ重合膜形成工程への合成樹脂
基材の移送作業が不要となるので、作業性を改善でき
る。
【００４８】アルミニウム蒸着室及びプラズマ重合膜形
成室を横方向に通過させる過程で、膜形成作業を行う構
成であるので、蒸着膜形成装置に基材を回転させたりす
る複雑機構を設ける必要もなくなるので、装置のメンテ
ナンスや取り扱いが容易であり、装置のコストダウンも
達成できる。
成室を横方向に通過させる過程で、膜形成作業を行う構
成であるので、蒸着膜形成装置に基材を回転させたりす
る複雑機構を設ける必要もなくなるので、装置のメンテ
ナンスや取り扱いが容易であり、装置のコストダウンも
達成できる。
【００４９】合成樹脂製基材を収容するケースは、アル
ミニウム蒸着室側に搬送することによって、ケースを繰
り返し使用できるので、作業効率がよい。
ミニウム蒸着室側に搬送することによって、ケースを繰
り返し使用できるので、作業効率がよい。
【００５０】アルミニウム蒸着室とプラズマ重合膜形成
室には、それぞれ複数の蒸着源とプラズマ源を下方領域
に配設して、アルミニウムについては、基材背面へのま
わり込み特性をを利用してリフレクタ基材の表と裏の両
面に蒸着膜を形成するようにし、一方、シリコーンにつ
いては、拡散する領域を制限して、リフレクタ基材の表
面（下方に向けられた面）にのみシリコーン重合膜を形
成するようにしたので、これにより得られるリフレクタ
は、リフレクタ背面にアルミニウム蒸着層が形成されて
いるため、電磁シールド機能を確保できるとともに、リ
フレクタ背面にアルミニウム蒸着層が保護膜に覆われる
ことなく露出しているため、該背面部分からアースをと
ることができるので、自動車のディスチャージヘッドラ
ンプ用に好適なリフレクタを提供できる。
室には、それぞれ複数の蒸着源とプラズマ源を下方領域
に配設して、アルミニウムについては、基材背面へのま
わり込み特性をを利用してリフレクタ基材の表と裏の両
面に蒸着膜を形成するようにし、一方、シリコーンにつ
いては、拡散する領域を制限して、リフレクタ基材の表
面（下方に向けられた面）にのみシリコーン重合膜を形
成するようにしたので、これにより得られるリフレクタ
は、リフレクタ背面にアルミニウム蒸着層が形成されて
いるため、電磁シールド機能を確保できるとともに、リ
フレクタ背面にアルミニウム蒸着層が保護膜に覆われる
ことなく露出しているため、該背面部分からアースをと
ることができるので、自動車のディスチャージヘッドラ
ンプ用に好適なリフレクタを提供できる。
【図１】本発明に係るライン式膜形成方法の工程を、リ
フレクタ基材にアルミニウム蒸着膜とプラズマ重合膜を
形成する場合を実施例として簡略に表した図
フレクタ基材にアルミニウム蒸着膜とプラズマ重合膜を
形成する場合を実施例として簡略に表した図
【図２】リフレクタ基材がケース１の底面に一定間隔で
配置された様子を簡易に表す図
配置された様子を簡易に表す図
【図３】アルミニウム蒸着室の内部構成を簡略に表した
部分図
部分図
【図４】図３中符号Ｘで示した基材部分の拡大断面図
【図５】プラズマ重合膜形成室の内部構成を簡略に表し
た部分図
た部分図
【図６】図５中符号Ｙで示した基材部分の拡大断面図
【図７】ディスチャージヘッドランプ７の一実施形態の
全体構成を簡易に示した図
全体構成を簡易に示した図
１ ケース （１’ 空ケース） ２ 合成樹脂基材（リフレクタ基材） ４ アルミニウム蒸着室 ５ プラズマ重合膜形成室 １０ （ディスチャージランプ用の）リフレクタ ２２ リフレクタ基材の表（おもて）面 ２３ リフレクタ基材の裏面 ４０１（４０１ａ、４０１ｂ） アルミニウム蒸着膜 ５０１ シリコーンプラズマ重合膜（保護膜）
Claims (5)
- 【請求項１】 複数の合成樹脂製基材を並べて収容した
ケースを、ライン状に並設されたアルミニウム蒸着室
内、プラズマ重合膜形成室内を順次移動させることによ
って、前記合成樹脂製基材にアルミニウム蒸着膜と保護
膜を形成することを特徴とするライン式膜形成方法。 - 【請求項２】 アルミニウム蒸着膜及びプラズマ重合膜
が形成された前記合成樹脂製基材を前記ケースから取り
出し、 空ケースを前記アルミニウム蒸着室側に搬送して、繰り
返し使用することを特徴とする請求項１記載のライン式
膜形成方法。 - 【請求項３】 前記合成樹脂製基材は、車両用灯具に装
備される略カップ形状のリフレクタ基材であることを特
徴とする請求項１又は２記載のライン式膜形成方法。 - 【請求項４】 請求項３記載のリフレクタ基材を、伏せ
た状態で前記ケースに配列し、 前記アルミニウム蒸着室では、前記リフレクタ基材の下
方側からアルミニウムを吹き付けて前記リフレクタ基材
の表面と裏面の両方にアルミニウム蒸着膜を形成し、 前記プラズマ重合膜形成室では、前記リフレクタ基材の
表面にのみプラズマ重合膜を形成することを特徴とする
ライン式膜形成方法。 - 【請求項５】 請求項４記載のライン式膜形成方法によ
って形成されたことを特徴とするディスチャージヘッド
ランプ用のリフレクタ。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000098858A JP3836657B2 (ja) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | ライン式膜形成方法 |
| CNB011118857A CN1211498C (zh) | 2000-03-31 | 2001-03-23 | 线型薄膜成形法及由此形成的反射器 |
| GB0107518A GB2360775B (en) | 2000-03-31 | 2001-03-26 | A line-type filmforming method for a discharge headlamp reflector |
| DE10115287A DE10115287B4 (de) | 2000-03-31 | 2001-03-28 | Serielles Verfahren zur Herstellung von Schichten und damit hergestellter Reflektor |
| US09/820,866 US6458428B2 (en) | 2000-03-31 | 2001-03-30 | Line-type film-forming method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000098858A JP3836657B2 (ja) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | ライン式膜形成方法 |
Publications (2)
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