JP3211311B2 - 新規スルホニウム塩化合物及び重合開始剤 - Google Patents
新規スルホニウム塩化合物及び重合開始剤Info
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- JP3211311B2 JP3211311B2 JP32684391A JP32684391A JP3211311B2 JP 3211311 B2 JP3211311 B2 JP 3211311B2 JP 32684391 A JP32684391 A JP 32684391A JP 32684391 A JP32684391 A JP 32684391A JP 3211311 B2 JP3211311 B2 JP 3211311B2
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- sulfonium salt
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なスルホニウム塩
化合物及びそれを含有するカチオン性重合開始剤に関す
るものである。該重合開始剤とカチオン重合性化合物を
含むカチオン重合性組成物は、熱又は光、電子線等の放
射線により短時間に硬化することができ、得られる硬化
物は優れた物性を有しているため、成型樹脂、注型樹
脂、塗料、接着剤、インキ等の材料として好適に用いら
れる。
化合物及びそれを含有するカチオン性重合開始剤に関す
るものである。該重合開始剤とカチオン重合性化合物を
含むカチオン重合性組成物は、熱又は光、電子線等の放
射線により短時間に硬化することができ、得られる硬化
物は優れた物性を有しているため、成型樹脂、注型樹
脂、塗料、接着剤、インキ等の材料として好適に用いら
れる。
【０００２】
【従来の技術】従来、エポキシ樹脂は硬化剤として、二
液系で広く利用されている活性なアミン含有化合物やカ
ルボン酸無水物がある。しかし、これらの硬化剤を用い
た二液系では、完全に各成分を混合する必要があり、硬
化時間も数時間要する。
液系で広く利用されている活性なアミン含有化合物やカ
ルボン酸無水物がある。しかし、これらの硬化剤を用い
た二液系では、完全に各成分を混合する必要があり、硬
化時間も数時間要する。
【０００３】一方、エポキシ樹脂を一液系として硬化す
るのには、フッ化ホウ素−モノエチルアミンがあるが、
このものは、１６０℃或いはそれ以上の温度でも完全に
硬化するのに１〜８時間要している。
るのには、フッ化ホウ素−モノエチルアミンがあるが、
このものは、１６０℃或いはそれ以上の温度でも完全に
硬化するのに１〜８時間要している。
【０００４】また、特開昭５０−１５１９７６及び同５
０−１５１９９７において、フェニルスルホニウム塩を
エポキシ用光硬化剤とすることが知られている。しか
し、これは光でエポキシ樹脂を硬化させるが、熱を加え
ただけでは、エポキシ樹脂を硬化させることはできな
い。
０−１５１９９７において、フェニルスルホニウム塩を
エポキシ用光硬化剤とすることが知られている。しか
し、これは光でエポキシ樹脂を硬化させるが、熱を加え
ただけでは、エポキシ樹脂を硬化させることはできな
い。
【０００５】一方、特開平２−１９６８１２及び同３−
１７１０１には、ベンジルスルホニウム塩を用い、熱又
は放射線によりカチオン重合性組成物を硬化することが
述べられている。しかしながら、これら開始剤の活性
は、熱及び放射線とも充分でない。
１７１０１には、ベンジルスルホニウム塩を用い、熱又
は放射線によりカチオン重合性組成物を硬化することが
述べられている。しかしながら、これら開始剤の活性
は、熱及び放射線とも充分でない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述した実
情からみてなされたもので、カチオン重合性化合物を熱
又は光、電子線等の放射線により、短時間に硬化させる
ことができる新規なカチオン性重合開始剤を提供し、更
に該開始剤及びカチオン重合性化合物を含むカチオン重
合性組成物の優れた物性を有する硬化物を提供すること
を目的とする。
情からみてなされたもので、カチオン重合性化合物を熱
又は光、電子線等の放射線により、短時間に硬化させる
ことができる新規なカチオン性重合開始剤を提供し、更
に該開始剤及びカチオン重合性化合物を含むカチオン重
合性組成物の優れた物性を有する硬化物を提供すること
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため、鋭意検討した結果、特定のスルホニウ
ム塩化合物からなるカチオン性重合開始剤を用いること
で、熱又は光、電子線等の放射線により短時間にて硬化
することができ、かつ、その硬化物に優れた性能を与え
る新規なカチオン性重合開始剤を見出して本発明を完成
するに至った。
を達成するため、鋭意検討した結果、特定のスルホニウ
ム塩化合物からなるカチオン性重合開始剤を用いること
で、熱又は光、電子線等の放射線により短時間にて硬化
することができ、かつ、その硬化物に優れた性能を与え
る新規なカチオン性重合開始剤を見出して本発明を完成
するに至った。
【０００８】本発明は、下記の一般式〔１〕
【０００９】
【化２】 〔式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基又はシアノ基を示
し、Ｒ2は置換されていてもよいフェニル基を示し、Ｒ
3 及びＲ4 は同一又は相異なる直鎖若しくは分岐のアル
キル基であり、Ｒ3 とＲ4 は一体となって結合してもよ
く、ＸはＳｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＰＦ6 又はＢＦ4 を示
す〕で表されるスルホニウム塩化合物及び該スルホニウ
ム塩化合物を少なくとも一種含有してなることを特徴と
するカチオン性重合開始剤である。
し、Ｒ2は置換されていてもよいフェニル基を示し、Ｒ
3 及びＲ4 は同一又は相異なる直鎖若しくは分岐のアル
キル基であり、Ｒ3 とＲ4 は一体となって結合してもよ
く、ＸはＳｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＰＦ6 又はＢＦ4 を示
す〕で表されるスルホニウム塩化合物及び該スルホニウ
ム塩化合物を少なくとも一種含有してなることを特徴と
するカチオン性重合開始剤である。
【００１０】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
スルホニウム塩化合物は、一般式〔１〕
スルホニウム塩化合物は、一般式〔１〕
【００１１】
【化３】 で表されるが、式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基又は
シアノ基であり、アルキル基としてメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル等の低級アルキル基が好
ましい。Ｒ2 は置換されていてもよいフェニル基であ
り、その置換基としてはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン原
子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
等のアルキル基及びメトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基等である。
Ｒ3 及びＲ4 は同一又は相異なる直鎖若しくは分岐状の
アルキル基であり、アルキル基としてメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル等の低級アルキル基が
好んで用いられる。なお、Ｒ3 とＲ4 は一体となって結
合していてもよい。ＸはＳｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＰＦ6 又
はＢＦ4 であり、この内、ＳｂＦ6 が好んで用いられ
る。
シアノ基であり、アルキル基としてメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル等の低級アルキル基が好
ましい。Ｒ2 は置換されていてもよいフェニル基であ
り、その置換基としてはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン原
子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
等のアルキル基及びメトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基等である。
Ｒ3 及びＲ4 は同一又は相異なる直鎖若しくは分岐状の
アルキル基であり、アルキル基としてメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル等の低級アルキル基が
好んで用いられる。なお、Ｒ3 とＲ4 は一体となって結
合していてもよい。ＸはＳｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＰＦ6 又
はＢＦ4 であり、この内、ＳｂＦ6 が好んで用いられ
る。
【００１２】本発明のスルホニウム塩化合物は、例え
ば、次の方法で得ることができる。シンナミルブロマイ
ド等の３−置換−１−ハロゲン化−２−ブテンとそれぞ
れ対応するスルフィド化合物を等モルづつ、必要に応じ
てメチルアルコール、アセトン、アセトニトリル等の溶
媒存在下にて室温〜８０℃で数時間〜３０日間反応さ
せ、次いで、得られた固形物を水若しくは水−メチルエ
チルケトン等の水−有機溶媒系に溶解せしめ、六フッ化
アンチモン酸ナトリウムを加えて激しく攪拌し、析出し
た液状又は固形状の生成物を分離した後、乾燥して得ら
れる。
ば、次の方法で得ることができる。シンナミルブロマイ
ド等の３−置換−１−ハロゲン化−２−ブテンとそれぞ
れ対応するスルフィド化合物を等モルづつ、必要に応じ
てメチルアルコール、アセトン、アセトニトリル等の溶
媒存在下にて室温〜８０℃で数時間〜３０日間反応さ
せ、次いで、得られた固形物を水若しくは水−メチルエ
チルケトン等の水−有機溶媒系に溶解せしめ、六フッ化
アンチモン酸ナトリウムを加えて激しく攪拌し、析出し
た液状又は固形状の生成物を分離した後、乾燥して得ら
れる。
【００１３】本発明の代表的なスルホニウム塩化合物と
して、次の化学式〔２〕から〔８〕で表されるものが例
示される。式中、ＸはＳｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＰＦ6 又は
ＢＦ4 である。
して、次の化学式〔２〕から〔８〕で表されるものが例
示される。式中、ＸはＳｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＰＦ6 又は
ＢＦ4 である。
【化４】
【００１４】
【化５】
【００１５】
【化６】
【００１６】
【化７】
【００１７】
【化８】
【００１８】
【化９】
【００１９】
【化１０】
【００２０】本発明の前記スルホニウム塩化合物は、カ
チオン性重合開始剤として有用であり、カチオン重合性
化合物と配合して使用される。ここで用いられるカチオ
ン重合性化合物として、次のような化合物が挙げられ
る。 （ａ）エポキシ基を有する化合物として、１，１，３−
テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイ
ド、４−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、（３，４
−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、ジ（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）アジペート、フェニルグリシジルエ
ーテル、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ｏ−，ｍ−，ｐ−ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、多価アルコールのポリグリシジル
エーテル等のエポキシ化合物がある。
チオン性重合開始剤として有用であり、カチオン重合性
化合物と配合して使用される。ここで用いられるカチオ
ン重合性化合物として、次のような化合物が挙げられ
る。 （ａ）エポキシ基を有する化合物として、１，１，３−
テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイ
ド、４−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、（３，４
−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、ジ（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）アジペート、フェニルグリシジルエ
ーテル、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ｏ−，ｍ−，ｐ−ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、多価アルコールのポリグリシジル
エーテル等のエポキシ化合物がある。
【００２１】（ｂ）ビニル化合物として、スチレン、α
−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン等のスチ
レン類；ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニル
エーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類；
アリルビニルエーテル、１−オクタヒドロナフチルビニ
ルエーテル等のアルケニルビニルエーテル類；エチニル
ビニルエーテル、１−メチル−２−プロペニルビニルエ
ーテル等のアルキニルビニルエーテル類；フェニルビニ
ルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニルエーテル等の
アリールビニルエーテル類；ブタンジオールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル等のアルキルジビ
ニルエーテル類；１，４−ベンゼンジメタノールジビニ
ルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフェニルジエタノールアミ
ンジビニルエーテル、ｍ−フェニレンビス（エチレング
リコール）ジビニルエーテル等のアラルキルジビニルエ
ーテル類；ハイドロキノンジビニルエーテル、レゾルシ
ノールジビニルエーテル等のアリールジビニルエーテル
類；Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン等
のカチオン重合性窒素含有化合物等がある。
−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン等のスチ
レン類；ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニル
エーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類；
アリルビニルエーテル、１−オクタヒドロナフチルビニ
ルエーテル等のアルケニルビニルエーテル類；エチニル
ビニルエーテル、１−メチル−２−プロペニルビニルエ
ーテル等のアルキニルビニルエーテル類；フェニルビニ
ルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニルエーテル等の
アリールビニルエーテル類；ブタンジオールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル等のアルキルジビ
ニルエーテル類；１，４−ベンゼンジメタノールジビニ
ルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフェニルジエタノールアミ
ンジビニルエーテル、ｍ−フェニレンビス（エチレング
リコール）ジビニルエーテル等のアラルキルジビニルエ
ーテル類；ハイドロキノンジビニルエーテル、レゾルシ
ノールジビニルエーテル等のアリールジビニルエーテル
類；Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン等
のカチオン重合性窒素含有化合物等がある。
【００２２】（Ｃ）ビシクロオルソエステル化合物とし
て、１−フェニル−４−エチル−２，６，７−トリオキ
サビシクロ〔２，２，２〕オクタン，１−エチル−４−
ヒドロキシメチル−２，６，７−トリオキサビシクロ
〔２，２，２〕オクタン等 （ｄ）スピロオルソカーボネート化合物として、１，
５，７，１１−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカ
ン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１１−テトラオ
キサスピロ〔５，５〕ウンデカン等や１，４，６−トリ
オキサスピロ〔４，４〕ノナン，２−メチル−１，４，
６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン，１，４，６−
トリオキサスピロ〔４，５〕デカン等のスピロオルソエ
ステル化合物等がある。これらは単独若しくは２種以上
を併用して用いても差し支えない。 （ａ）〜（ｄ）の内で、殊に（ａ）のエポキシ基を有す
る化合物が好んで使用される。
て、１−フェニル−４−エチル−２，６，７−トリオキ
サビシクロ〔２，２，２〕オクタン，１−エチル−４−
ヒドロキシメチル−２，６，７−トリオキサビシクロ
〔２，２，２〕オクタン等 （ｄ）スピロオルソカーボネート化合物として、１，
５，７，１１−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカ
ン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１１−テトラオ
キサスピロ〔５，５〕ウンデカン等や１，４，６−トリ
オキサスピロ〔４，４〕ノナン，２−メチル−１，４，
６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン，１，４，６−
トリオキサスピロ〔４，５〕デカン等のスピロオルソエ
ステル化合物等がある。これらは単独若しくは２種以上
を併用して用いても差し支えない。 （ａ）〜（ｄ）の内で、殊に（ａ）のエポキシ基を有す
る化合物が好んで使用される。
【００２３】本発明において、前記カチオン重合性化合
物と前記カチオン性重合開始剤との配合割合は、カチオ
ン重合性化合物１００重量部に対し、カチオン性重合開
始剤０．０１〜２０重量部、好ましくは０．１〜１０重
量部の割合で配合し、熱又は光、電子線等の放射線によ
り容易に硬化することができる。熱による硬化の場合、
硬化温度は、１０〜２００℃、好ましくは、５０〜１８
０℃の範囲である。放射線による硬化の場合、好ましく
は光及び電子線が用いられる。光硬化の場合、波長４０
０ｎｍ以下の紫外線が最も効率が良く、それゆえ、光源
としては低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯等が用いら
れる。なお、熱と放射線を併用して硬化させることも可
能である。
物と前記カチオン性重合開始剤との配合割合は、カチオ
ン重合性化合物１００重量部に対し、カチオン性重合開
始剤０．０１〜２０重量部、好ましくは０．１〜１０重
量部の割合で配合し、熱又は光、電子線等の放射線によ
り容易に硬化することができる。熱による硬化の場合、
硬化温度は、１０〜２００℃、好ましくは、５０〜１８
０℃の範囲である。放射線による硬化の場合、好ましく
は光及び電子線が用いられる。光硬化の場合、波長４０
０ｎｍ以下の紫外線が最も効率が良く、それゆえ、光源
としては低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯等が用いら
れる。なお、熱と放射線を併用して硬化させることも可
能である。
【００２４】本発明のカチオン性重合開始剤は、一般に
単独で使用されるが、他のカチオン性重合開始剤と併用
して用いることもできる。
単独で使用されるが、他のカチオン性重合開始剤と併用
して用いることもできる。
【００２５】また、前記（ａ）のエポキシ基を有する化
合物を用いる場合は、エポキシ樹脂の硬化剤として通常
用いられている、フェノール系硬化剤、酸無水物類硬化
剤等の硬化剤、更に（ｂ）のビニル化合物を用いる場合
は、ビニル化合物の硬化剤である有機過酸化物等を性能
が損なわれない範囲内で併用して用いてもよい。前記の
カチオン重合性化合物に本発明の開始剤を配合して使用
する際に、必要に応じて反応性希釈剤、硬化促進剤、溶
剤、顔料、染料、カップリング剤、無機充填剤、炭素繊
維、ガラス繊維、界面活性剤等を添加して使用される。
合物を用いる場合は、エポキシ樹脂の硬化剤として通常
用いられている、フェノール系硬化剤、酸無水物類硬化
剤等の硬化剤、更に（ｂ）のビニル化合物を用いる場合
は、ビニル化合物の硬化剤である有機過酸化物等を性能
が損なわれない範囲内で併用して用いてもよい。前記の
カチオン重合性化合物に本発明の開始剤を配合して使用
する際に、必要に応じて反応性希釈剤、硬化促進剤、溶
剤、顔料、染料、カップリング剤、無機充填剤、炭素繊
維、ガラス繊維、界面活性剤等を添加して使用される。
【００２６】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例により、更に
具体的に説明する。ただし、これらの実施例に何等限定
されるものではない。
具体的に説明する。ただし、これらの実施例に何等限定
されるものではない。
【００２７】実施例１ ＜シンナミルジメチルスルホニウムヘキサフロロアンチ
モネートの合成＞シンナミルブロマイド 9.85 ｇとジメ
チルスルフィド 6.21 ｇを混合し、室温で２日間反応さ
せた。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減
圧乾燥し、前駆体のシンナミルジメチルスルホニウムブ
ロマイドを得た。収率：７４％ 次いで、シンナミルジメチルスルホニウムブロマイド
2.59 ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチモ
ン酸ナトリウム 3.10 ｇを加えてよく攪拌し、冷却し
た。水溶液部分をデカンテーションし、エーテルで洗浄
後、再びエーテルをデカンテーションし、冷却した。固
化した化合物を濾別し４０℃で減圧乾燥した。収率 ：
９０％、 得られた本発明のシンナミルジメチルスルホ
ニウムヘキサフロロアンチモネートは下記構造式
モネートの合成＞シンナミルブロマイド 9.85 ｇとジメ
チルスルフィド 6.21 ｇを混合し、室温で２日間反応さ
せた。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減
圧乾燥し、前駆体のシンナミルジメチルスルホニウムブ
ロマイドを得た。収率：７４％ 次いで、シンナミルジメチルスルホニウムブロマイド
2.59 ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチモ
ン酸ナトリウム 3.10 ｇを加えてよく攪拌し、冷却し
た。水溶液部分をデカンテーションし、エーテルで洗浄
後、再びエーテルをデカンテーションし、冷却した。固
化した化合物を濾別し４０℃で減圧乾燥した。収率 ：
９０％、 得られた本発明のシンナミルジメチルスルホ
ニウムヘキサフロロアンチモネートは下記構造式
〔９〕
で示される。
で示される。
【００２８】
【化１１】
【００２９】このもののスペクトルデータは下記のとお
りであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：1648、1429、1248、979 、75
8 、660 、 1 Ｈ−ＮＭＲ（アセトニトリル−ｄ3 ）：δ2.75（ｓ，
６Ｈ）、4.04（ｄ，２Ｈ）、6.23（ｑ，１Ｈ）、6.93
（ｄ，１Ｈ）、7.35〜7.44（ｍ，３Ｈ）、7.50〜7.55
（ｍ，２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（アセトニトリル−ｄ3 ）：24.1、45.8、
114.5 、128.2 、129.9 、130.3 、136.2 、143.0
りであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：1648、1429、1248、979 、75
8 、660 、 1 Ｈ−ＮＭＲ（アセトニトリル−ｄ3 ）：δ2.75（ｓ，
６Ｈ）、4.04（ｄ，２Ｈ）、6.23（ｑ，１Ｈ）、6.93
（ｄ，１Ｈ）、7.35〜7.44（ｍ，３Ｈ）、7.50〜7.55
（ｍ，２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（アセトニトリル−ｄ3 ）：24.1、45.8、
114.5 、128.2 、129.9 、130.3 、136.2 、143.0
【００３０】実施例２ ＜シンナミルテトラメチレンスルホニウムヘキサフロロ
アンチモネートの合成＞シンナミルブロマイド 9.85 ｇ
とテトラヒドロチオフェン 8.82 ｇを混合し、室温で２
０日間反応させた。得られた固形物をエーテルで洗浄
し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のシンナミルテトラメ
チレンスルホニウムブロマイドを得た。収率：８７％ 次いで、シンナミルテトラメチレンスルホニウムブロマ
イド 2.85 ｇを蒸留水１５ｇとメタノール３ｇの混合溶
媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム 3.10
ｇを加え、よく攪拌して冷却した。固化した化合物を濾
別し４０℃で減圧乾燥した。 収率：９８％、 得られ
た本発明のシンナミルテトラメチレンスルホニウムヘキ
サフロロアンチモネートは下記構造式〔１０〕で示され
る。
アンチモネートの合成＞シンナミルブロマイド 9.85 ｇ
とテトラヒドロチオフェン 8.82 ｇを混合し、室温で２
０日間反応させた。得られた固形物をエーテルで洗浄
し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のシンナミルテトラメ
チレンスルホニウムブロマイドを得た。収率：８７％ 次いで、シンナミルテトラメチレンスルホニウムブロマ
イド 2.85 ｇを蒸留水１５ｇとメタノール３ｇの混合溶
媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム 3.10
ｇを加え、よく攪拌して冷却した。固化した化合物を濾
別し４０℃で減圧乾燥した。 収率：９８％、 得られ
た本発明のシンナミルテトラメチレンスルホニウムヘキ
サフロロアンチモネートは下記構造式〔１０〕で示され
る。
【００３１】
【化１２】
【００３２】このもののスペクトルデータは下記のとお
りであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）： 1650 、1493、1240、974 、
757 、657 1 Ｈ−ＮＭＲ（アセトニトリル−ｄ3 ）：δ 2.16 〜2.
35（ｍ，４Ｈ）、3.31〜3.54（ｍ，４Ｈ）、3.97（ｄ，
２Ｈ）、6.23（ｑ，１Ｈ）、6.93（ｄ，１Ｈ）、7.34〜
7.44（ｍ，３Ｈ）、7.47〜7.59（ｍ，２Ｈ）、 13 Ｃ−ＮＭＲ（アセトニトリル−ｄ3 ）： 29.6 、4
3.2、45.6、116.2 、128.1 、129.9 、130.3 、136.3
、142.1
りであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）： 1650 、1493、1240、974 、
757 、657 1 Ｈ−ＮＭＲ（アセトニトリル−ｄ3 ）：δ 2.16 〜2.
35（ｍ，４Ｈ）、3.31〜3.54（ｍ，４Ｈ）、3.97（ｄ，
２Ｈ）、6.23（ｑ，１Ｈ）、6.93（ｄ，１Ｈ）、7.34〜
7.44（ｍ，３Ｈ）、7.47〜7.59（ｍ，２Ｈ）、 13 Ｃ−ＮＭＲ（アセトニトリル−ｄ3 ）： 29.6 、4
3.2、45.6、116.2 、128.1 、129.9 、130.3 、136.3
、142.1
【００３３】実施例３、４ ＜ＤＳＣ測定＞実施例１、２で合成した化合物（重合開
始剤）をプロピレンカーボネートに溶解させ、これらを
ＥＲＬ−４２２１（ＵＣＣ社製脂環型エポキシ）、ＵＶ
Ｒ−６４１０（ＵＣＣ社製グリシジル型エポキシ）の各
エポキシ化合物100部に対し、純分として２．５部にな
るように添加して配合組成物Ａ、Ｂを調製した。この配
合組成物についてＤＳＣ測定を行い、発熱開始温度とＤ
ＳＣ曲線のトップピーク温度を求めた。なお、ＤＳＣの
測定条件は次のとおりである。 ＤＳＣ測定機器 ： ＤＳＣ２２０Ｃ（セイコー電子工
業社製） 雰囲気 ： 窒素ガス気流中 ３０ｍｌ／分 昇温速度 ： １０℃／分 サンプル量 ： 0.3 〜0.8 ｍｇ
始剤）をプロピレンカーボネートに溶解させ、これらを
ＥＲＬ−４２２１（ＵＣＣ社製脂環型エポキシ）、ＵＶ
Ｒ−６４１０（ＵＣＣ社製グリシジル型エポキシ）の各
エポキシ化合物100部に対し、純分として２．５部にな
るように添加して配合組成物Ａ、Ｂを調製した。この配
合組成物についてＤＳＣ測定を行い、発熱開始温度とＤ
ＳＣ曲線のトップピーク温度を求めた。なお、ＤＳＣの
測定条件は次のとおりである。 ＤＳＣ測定機器 ： ＤＳＣ２２０Ｃ（セイコー電子工
業社製） 雰囲気 ： 窒素ガス気流中 ３０ｍｌ／分 昇温速度 ： １０℃／分 サンプル量 ： 0.3 〜0.8 ｍｇ
【００３４】比較例１ 実施例１、２で得た本発明の化合物である重合開始剤の
代わりに、比較用開始剤としてベンジルジメチルスルホ
ニウムヘキサフロロアンチモネート（Ｒ−１）を用いた
以外は、実施例２、３と全く同様にしてＤＳＣ測定を行
った。以上、実施例３、４、比較例１のＤＳＣ測定の結
果を表１に示した。
代わりに、比較用開始剤としてベンジルジメチルスルホ
ニウムヘキサフロロアンチモネート（Ｒ−１）を用いた
以外は、実施例２、３と全く同様にしてＤＳＣ測定を行
った。以上、実施例３、４、比較例１のＤＳＣ測定の結
果を表１に示した。
【００３５】
【表１】
【００３６】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明は新規なス
ルホニウム塩化合物を提供し、該化合物はカチオン重合
性化合物の重合開始剤として有効である。これらのスル
ホニウム塩化合物を含有する重合組成物は、熱及び光、
電子線等の放射線により、短時間に硬化することができ
る。
ルホニウム塩化合物を提供し、該化合物はカチオン重合
性化合物の重合開始剤として有効である。これらのスル
ホニウム塩化合物を含有する重合組成物は、熱及び光、
電子線等の放射線により、短時間に硬化することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−37004（ＪＰ，Ａ) Ｎｏｕｖｅａｕ Ｊｏｕｒｎａｌ ｄ ｅ Ｃｈｉｍｉｅ，第７巻，第５号, 299−304頁，1983年 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08F 4/00 - 4/82 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式［１］ 【化１】 [式中、Ｒ 1 は水素原子、アルキル基又はシアノ基を示
し、Ｒ 2 は置換されていてもよいフェニル基を示し、Ｒ 3
及びＲ 4 は同一又は相異なる直鎖若しくは分岐のアルキ
ル基であり、Ｒ 3 とＲ 4 は一体となって結合してもよく、
ＸはＳｂＦ 6 、ＡｓＦ 6 、ＰＦ 6 又はＢＦ 4 を示す]で表さ
れるスルホニウム塩化合物を少なくとも１種含有してな
ることを特徴とするカチオン性重合開始剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32684391A JP3211311B2 (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | 新規スルホニウム塩化合物及び重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32684391A JP3211311B2 (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | 新規スルホニウム塩化合物及び重合開始剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05140210A JPH05140210A (ja) | 1993-06-08 |
| JP3211311B2 true JP3211311B2 (ja) | 2001-09-25 |
Family
ID=18192337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32684391A Expired - Fee Related JP3211311B2 (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | 新規スルホニウム塩化合物及び重合開始剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3211311B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007112854A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Adeka Corp | 熱感受性カチオン重合開始剤および熱重合性組成物 |
| TWI498350B (zh) | 2009-10-01 | 2015-09-01 | Hitachi Chemical Co Ltd | 有機電子用材料、有機電子元件、有機電激發光元件、及使用其之顯示元件、照明裝置、顯示裝置 |
| KR20140108701A (ko) | 2010-04-22 | 2014-09-12 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 유기 일렉트로닉스 재료, 중합 개시제 및 열중합 개시제, 잉크 조성물, 유기 박막 및 그 제조 방법, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 조명 장치, 표시 소자, 및 표시 장치 |
| KR101259446B1 (ko) * | 2010-09-29 | 2013-05-02 | 요코하마 고무 가부시키가이샤 | 양이온 중합 개시제 및 열경화성 에폭시 수지 조성물 |
| JP5561199B2 (ja) * | 2011-02-17 | 2014-07-30 | 日立化成株式会社 | 接着剤組成物、回路接続材料、接続体及びその製造方法、並びに半導体装置 |
| CN105027677B (zh) | 2013-03-08 | 2018-05-25 | 日立化成株式会社 | 含有离子性化合物的处理液、有机电子元件和有机电子元件的制造方法 |
-
1991
- 1991-11-15 JP JP32684391A patent/JP3211311B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｎｏｕｖｅａｕ Ｊｏｕｒｎａｌ ｄｅ Ｃｈｉｍｉｅ，第７巻，第５号，２９９−３０４頁，１９８３年 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05140210A (ja) | 1993-06-08 |
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