JP3210646B2 - 制御混合及び濃度フィードバックと調節を伴う化学物質調製装置及び方法 - Google Patents

制御混合及び濃度フィードバックと調節を伴う化学物質調製装置及び方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】化学物質の多くの産業的な用
途は、高純度化学物質を必要としており、またその様な
高純度化学物質の貯蔵量を最小化することを必要として
いる。いくらかの化学物質は、一般に商業的に入手でき
る化学物質の混合物の形であることが望まれる。そのよ
うな化学物質の稀釈されたものが望まれ、例えば、半導
体産業では、脱イオン水で28〜30重量%に稀釈され
た水酸化アンモニウムを必要としている。そのような化
学混合物は、厳密な様式でアンモニアガスと脱イオン水
を混和することを必要とする。あるいは、水酸化アンモ
ニウムと、フッ化水素又は塩化水素の混合物が望まれ
る。
【0002】
【従来の技術】使用の簡便さと経済性を促進するため
に、操作者は、使用する場所又はその近くで化学物質を
調製し又は混和するようになってきており、これを現場
調製(on−site generation)と呼ぶ
ことがある。気体アンモニアと脱イオン水を混和して水
酸化アンモニウム水溶液を調製するとき、この方法をガ
スからの化学物質調製(gas to chemica
l generation)と呼ぶことがある。使用す
る場所又はその近くで化学物質の配合物を調製する試み
は従来技術でも行ってきたが、例えば混和が厳密でない
場合に、又は混和された化学物質を貯蔵容器に移動させ
る間に若しくは使用する前に長期間貯蔵している間に不
純物を取り込んでしまう場合に、純度の問題がまだなお
存在する。
【0003】米国特許第5,522,660号明細書
は、脱イオン水と化学物質とを混合する方法と装置を開
示しており、ここでは混和された化学物質の組成に関す
る性質を混合及び貯蔵タンクの下流で検知して、検出さ
れる値と所定値とのずれの範囲で追加の化学物質を加え
る。混和された化学物質を検知した後で混合及び貯蔵タ
ンクに再循環させることによってのみ、化学物質を脱イ
オン水と混合する。これは化学物質の混和に関しては不
便な様式であり、ここでは混和は初めに混合及び貯蔵タ
ンクの下流の処理管路で起こる。連続的な再循環は想定
されておらず、混和と貯蔵は1つの容器で行われる。
【0004】国際公開WO96/39651号パンフレ
ットは、半導体での使用のために現場で超高純度化学物
質を混合する方法及び装置を開示している。様々な化学
物質を混和タンクで混和して、そして最終製品貯蔵タン
クに送ることができる。混和タンクからの混和された化
学物質を最終製品貯蔵タンクに送る前に検知して、そし
て混和されたものをそのような検知に基づいて調整する
ことができる。処理管路は、混和タンクとセンサーの下
流の化学物質管路をつないでいるが、再循環は特に扱わ
れておらず、最終製品貯蔵タンクに送られる化学物質
を、再混和又は再純化のために再循環させることはでき
ない。
【0005】他の関連する従来技術は、米国特許第5,
148,945号、同5,242,468号、同5,3
30,072号、同5,370,269号、同5,49
6,778号、同5,426,944号、同5,53
9,998号、及び同5,644,921号明細書、並
びに国際公開WO96/39265号、同WO96/3
9237号、同WO96/39263号、同WO96/
39264号、同WO96/39266号、及び同WO
96/41687号パンフレット、並びにPeter
s、及びLauraの「Point of Use Generation: The
Ultimate Solutionfor Chemical Purity」、Semicondu
ctor International 、1994年1月、pp 62〜66、及び
「Products in Action; Gas-to-Chemical Generation S
ystem Reduces Process-Chemical Costs」、Microconta
mination、1994年6月、pp. 79-80 。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来技術は、様々なガ
スから化学物質及び化学物質から化学物質の現場用調製
装置及び混合装置を提案して、工業的な使用現場、例え
ば半導体製造工場で高純度化学物質を提供してきたが、
反復的又は連続的に純化又は濾過し、そして調製した化
学物質と並んで調製の後で使用を待つ貯蔵容器内の化学
物質の組成に関する性質を監視する適当な方法及び装置
を提供していなかった。本発明は、調製したばかりの混
和化学物質だけでなく使用を待っている貯蔵容器内の化
学物質にも反復的又は連続的な純化又は濾過と監視を行
って、生産された化学物質の純度及び組成に関する性質
を常に、使用量が少ない期間又は試用していない期間も
含めて維持するようにすることによって、従来技術の欠
点を克服する。本発明の性能は以下により詳細に示され
ている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、高純度化学物
質を混和して高純度化学混合物を調製する装置であっ
て、混和容器と化学混合物貯蔵容器との間の化学混合物
の循環、純化及び検知を伴い、 a)第1の高純度化学物質を受け取るための第1の入口
と、第2の高純度化学物質を受け取るための第2の入口
と、第1と第2の高純度化学物質の高純度化学混合物を
分配するための第1の出口とを持つ混和容器、 b)前記混和容器の第1の入口に接続している第1の高
純度化学物質の第1の供給源であって、この第1の供給
源から混和容器への第1の高純度化学物質の導入を制御
する第1の弁を持つ第1の供給源、 c)前記混和容器の第2の入口に接続している第2の高
純度化学物質の第2の供給源であって、この第2の供給
源から混和容器への第2の高純度化学物質の導入を制御
する第2の弁を持つ第2の供給源、 d)前記混和容器からの化学混合物を受け取るための第
3の入口と、使用場所にこの化学混合物を分配するため
の第2の出口と、この化学混合物を再循環させるための
第3の出口とを持つ化学混合物貯蔵容器、 e)前記混和容器の第1の出口及び前記化学混合物貯蔵
容器の第3の入口に接続した輸送管路、前記混和容器か
ら前記化学混合物貯蔵容器にこの輸送管路を通る化学混
合物の純化手段、及びこの輸送管路内の化学混合物の組
成の検知手段、 f)前記化学混合物貯蔵容器の第3の出口に接続し、且
つ前記混和容器と化学混合物の前記純化手段との間で前
記輸送管路に接続して前記化学混合物貯蔵容器から前記
輸送管路に化学混合物を再循環させて、化学混合物が前
記純化手段と検知手段を更に通過するようにする再循環
管路であって、この再循環管路を通る化学混合物を再循
環させるポンプ送出手段を持つ再循環管路、並びに g)前記検知手段に接続し且つ第1の弁と第2の弁に接
続して、検知される高純度化学混合物の組成の代理値を
検知する手段からの信号を、受けることができる手段を
含む自動制御手段であって、この検知された組成を所定
組成値の高純度化学混合物と比較して、検知された組成
が所定組成値に合わない場合は、第1の弁及び/又は第
2の弁への信号を発生させて、これら第1の弁及び/又
は第2の弁を通る第1の高純度化学物質及び/又は第2
の高純度化学物質の流量を調節し、検知される組成を所
定組成値に戻す自動制御装置、を含む高純度化学物質混
和装置である。
【0008】好ましくは、前記混和容器は2つの並列混
和容器であって、それぞれが化学物質の第1供給源及び
第2の供給源と、前記輸送管路とへの、弁を伴った接続
を持つ。
【0009】好ましくは、前記純化手段はフィルターで
ある。
【0010】好ましくは、前記ポンプ送出手段は膜ポン
プである。
【0011】好ましくは、前記混和容器は高圧不活性ガ
スの供給源を持ち、この混和容器からの高純度化学混合
物の分配を促進する。
【0012】好ましくは、前記混和容器は前記高純度化
学混合物を冷却する手段を持つ。
【0013】本発明は、また、高純度化学物質を混和し
て高純度化学混合物を調製する方法であり、高純度化学
物質の混和と、使用のための高純度化学物質の貯蔵の間
に循環、純化、及び検知を伴い、 a)第1の高純度化学物質の供給源と第2の高純度化学
物質の供給源を提供し、 b)混和領域において所定比率で第1の高純度化学物質
と第2の高純度化学物質を混和して、所定組成の高純度
化学混合物を得て、 c)高純度化学混合物を前記混和領域から後に使用する
ために貯蔵領域に移動させ、移動の間に高純度化学混合
物を、純化ステーションにおいて純化し、そしてセンサ
ーによって検知して高純度化学混合物の組成を決定し、 d)高純度化学混合物の少なくとも一部を前記貯蔵領域
から純化ステーションに再循環させて、この高純度化学
混合物の少なくとも一部を更に純化しそしてセンサーで
検知するようにし、そして e)高純度化学混合物の検知された組成を所定組成値と
比較し、そして第1と第2の高純度化学物質の混和を制
御して、検知される組成を所定組成値にほぼ等しくし、
前記貯蔵領域の高純度化学混合物を少なくとも1つの純
化及び組成に関する検知にかけて貯蔵領域における純度
と所定組成を維持するようにする、ことを含む高純度化
学物質混和方法である。
【0014】好ましくは、前記純化は濾過による。
【0015】好ましくは、前記第1の高純度化学物質
は、アンモニア、フッ化水素、三酸化硫黄、塩化水素、
二酸化窒素、酢酸、硝酸、リン酸、水酸化カリウム、水
酸化テトラメチルアンモニウム、フッ化アンモニウム、
過酸化水素、硫酸、水酸化アンモニウム、フッ化水素
酸、塩酸及びそれらの混合物からなる群より選択され
る。
【0016】好ましくは、前記第2の高純度化学物質は
高純度脱イオン水である。
【0017】好ましくは、前記高純度化学混合物は半導
体材料処理ステーションに供給する。
【0018】好ましくは、前記高純度化学混合物は連続
的に、貯蔵領域から純化ステーションとセンサーに送
り、そして貯蔵領域に戻して再循環させる。
【0019】好ましくは、前記高純度化学混合物はポン
プ送出によって再循環させる。
【0020】好ましくは、前記高純度化学混合物に高圧
不活性ガスを適用することによって、この高純度化学混
合物を混和領域から貯蔵領域に移動させる。
【0021】好ましくは、第1と第2の高純度化学物質
の混和の間、前記混和領域を高圧に保つ。
【0022】好ましくは、第1と第2の高純度化学物質
の混和の間、前記混和領域を冷却剤との熱交換によって
冷却する。
【0023】本発明の装置は、また、第1の供給源から
の第1の高純度気体化学物質と第2の供給源からの第2
の高純度液体化学物質を前記第1と第2の供給源に接続
した混和容器において、混和して高純度化学混合物を調
製する装置であって、冷却剤との熱交換によって前記混
和容器内の前記高純度化学混合物を冷却して、前記化学
物質の混和を促進することを特徴とする装置である。
【0024】本発明の方法は、また、第1の高純度気体
化学物質と第2の高純度液体化学物質を、混和領域にお
いて混和して高純度化学混合物を調製する方法であっ
て、冷却剤との熱交換によって前記混和領域の前記高純
度化学混合物を冷却して、前記化学物質の混和を促進す
ることを特徴とする方法である。
【0025】
【発明の実施の形態】本発明の装置と方法を使用する
と、超高純度の化学物質、例えば水酸化アンモニウム及
び/又は塩酸を高純度で大量に、工業的な最終使用者の
現場、例えば半導体製造設備で調製することができ、こ
れは、アンモニア又は塩化水素蒸気をそれぞれ液体アン
モニア又は塩化水素容器から引き出し、好ましくは加圧
状態に維持される混和容器内でこの蒸気を超高純度脱イ
オン水に溶解させることによる。気体化学物質と水の量
を質量流量計と弁によって厳密に制御して、水酸化アン
モニウム又は塩酸をそれぞれ30重量%又は37重量%
までの濃度で調製する手段を提供する。調製した化学物
質は混和容器から高純度化学混合物貯蔵容器に移送さ
せ、そこで、連続的にこの容器から純化装置又はフィル
ターとオンライン濃度センサーに通してこの容器に戻
す。オンラインセンサーは連続的に化学分析評価を行
い、そして自動制御装置にフィードバックを提供し、こ
の自動制御装置は、適当な弁の作動によってガス又は超
高純度水を厳密に制御して添加することで、濃度を次々
と調節することができる。これは、使用場所に仕様外の
製品を送る危険性をなくし、且つ発生した仕様外の化学
物質によってもたらされるバッチ廃棄物を最小化する。
説明される装置及び方法は、半連続的な様式で操作し、
水酸化アンモニウムで600ガロン/day(2.27
1m3 /day)、そして塩酸で300ガロン/day
(1.1355m3 /day)までの量を調製すること
ができる。
【0026】本発明の装置と方法を使用して、高純度化
学物質から化学混合物を調製することができ、これらの
化学混合物は、以下の表1に挙げる公称濃度の標準化学
混合物、及びそれらの混合物を含む。
【0027】 〔表1〕 化学物質の名称 化学式 水の中での濃度(重量%) フッ化水素酸 HF 49重量% 酢酸 HAC 98重量% 硝酸 HNO3 71重量% リン酸 H3 PO4 80重量% 水酸化カリウム KOH 30重量% 水酸化テトラメチルアンモニウム TMAH 25重量% 塩酸 HCl 37重量% HFとフッ化アンモニウムの混合物 (緩衝剤で処理した酸化物エッチング液) BOE − 水酸化アンモニウム NH4 OH 29重量% 硫酸 H2 SO4 96重量%
【0028】本発明の方法と装置によって提供すること
ができる好ましい化学混合物の1つは、脱イオン水と高
純度アンモニアガスから作られる水酸化アンモニウム水
溶液である。液体供給容器の蒸気相からアンモニアを引
き出すことにより除去される不純物は、周期表のI及び
II族の金属、並びにアンモニアと接触することによっ
て作られたこれら金属のアミノ化されたものを含む。ま
た、これらの金属の酸化物及び炭酸塩、並びに水素化
物、例えば水素化ベリリウム及び水素化マグネシウムも
含む。更に、III族元素及びそれらの酸化物、並びに
これらの元素の水素化物及びハロゲン化物のアンモニウ
ム付加物を含む。重質炭化水素とハロカーボン、例えば
ポンプオイルも含有される。本発明の装置と方法で使用
する純化又は濾過装置は、商業的に入手可能な精密濾過
及び限外濾過装置並びに膜を含む。フィルターの等級及
びタイプは、必要に応じて選択する。好ましいフィルタ
ーは、0.005μm以上の大きさの粒子を取り除くフ
ィルターであり、より好ましくは0.003μm以上の
粒度の粒子を取り除くフィルターである。
【0029】同様な様式で、加圧ガス、加圧液体、又は
加圧ガスと加圧液体の組み合わせの形の塩化水素を高純
度化学物質として使用して、高純度脱イオン水と混和す
ることができる。塩化水素から除去されることがある汚
染物質は、金属汚染物質、例えば鉄、ニッケル、クロ
ム、銅、アルミニウム、マンガン及び亜鉛、並びに湿分
及び二酸化炭素を含む。これらの不純物は一般に、塩化
水素よりも高い沸点を持ち、液体を保持する供給源から
塩化水素蒸気を引き出すときに、優先的に液体状体に濃
縮される。
【0030】本発明の明細書で使用する場合に高純度と
いう用語は、化学物質又は得られる化学混合物が好まし
くは1ppm未満、より好ましくは1ppb未満、最も
好ましくは10ppt未満の不純物、例えば金属を含む
ことを意味する。粒子に関しては、高純度は好ましく
は、0.5μm以上の粒子が1mL当たり25粒子以下
であることを意味し、より好ましくは、0.2μm以上
の粒子が1mL当たり10粒子以下であることを意味す
る。
【0031】以下に図を参照して本発明をより詳細に説
明する。使用場所又はガスからの化学物質調製装置10
は、2つの並列混和容器12と14を含み、それらは第
1の高純度化学物質18と第2の高純度化学物質16を
備えている。高純度化学物質18は、アンモニア若しく
は塩化水素、又は上記表1で示される混和された化学混
合物を調製するために使用する化学物質のうちの1つで
よい。第1の高純度化学物質18は、質量流量計22を
通って流れ、この質量流量計は、混和容器12と14に
分配される第1の高純度化学物質の流量を監視する。質
量流量計22からの第1の高純度化学物質の制御された
流れを、管路34を通して弁38及び42のいずれか又
は両方に送り、この弁38及び42は混和容器12及び
14の一方又は両方への第1の高純度化学物質の導入を
制御する。第1の高純度化学物質をそれぞれ、第1の高
純度化学物質を混和容器12及び14に供給する管路3
6及び40に通して、そのような混和容器に直接導入す
る。好ましくは、これらの管路のガスはガススパージャ
ーを通して、予め輸送された水に導入し、混合を促進し
且つ乱流を減少させる。冗長度と処理能力のために、2
つの混和容器を好ましくは使用する。
【0032】典型的に高純度水、特に高純度脱イオン水
である第2の高純度化学物質16も同時に、質量流量計
20によって監視し、この質量流量計20は管路24に
分配しそしてこの管路24は更に、分配容器12及び1
4に導入するための弁28及び30によって制御される
管路26及び32に分配する。供給源から混和容器への
高純度化学物質の流れは、800L/minまででよ
い。
【0033】第1と第2の高純度化学物質は、混和操作
の間に互いの化学相互作用のパラメータに依存して逐次
又は連続的に導入することができる。好ましくは、混和
処理の間、混和容器12と14を加圧条件に維持して、
混和容器における2つの化学物質の厳密な添加の較正に
互いに影響を与えることがある乱流混合及び泡の形成を
避けるようにする。混和の間の圧力は、好ましくは約2
0〜25psig(約144.795〜179.27k
Pa)である。高純度化学物質のうちの1つが気体の場
合、混和容器を高圧条件に維持することは、この気体を
第2の液体高純度化学物質と混合するときに、気体蒸気
の損失を防ぐことによってより効率的な混和処理をもた
らす。
【0034】いくつかの例、例えば水へのアンモニアの
添加では熱が放出され、できるかぎり素早く且つ効率的
に化学物質の混和を行いそして溶解した高純度気体化学
物質を水に溶解させておくために、この熱を取り除くこ
とを必要とする。適当な冷却剤104、例えば高純度脱
イオン冷却水又は再循環ハロフルオロカーボン冷却剤を
管路106及び110並びに制御弁108及び112を
通して混和容器12及び14と間接熱交換をさせ、混和
処理の間に発生する全ての望ましくない熱を取り除く。
熱交換は、好ましくは図に示されるような混和容器の内
側に配置された閉鎖系の冷却コイルで間接的に行う。熱
除去負荷を提供した後の暖められた冷却剤は、弁114
及び115そして管路118を通して、適当なステーシ
ョン120に廃棄し、又は追加の熱交換負荷のために再
冷却して再循環させる。冷却剤は混和容器を好ましくは
約60〜80゜F(15.56〜26.67℃)に維持
する。これは、単位時間当たりの処理能力も増加させ
る。
【0035】圧力が高すぎる場合、又は混和工程間の混
和容器12及び14のパージを行う場合に、混和容器1
2及び14のそれぞれを、弁102及び100を持つ管
路によって排気することは適当であり、この弁102及
び100は、管路98そして工業的に知られる適当な排
気装置又はスクラビング装置96での排気を制御する。
【0036】高純度化学混合物を混和容器12及び/又
は14で混和した後で、高圧不活性ガス、例えば高圧高
純度窒素88を、管路90そして制御弁92及び94に
互いに無関係に通して混和容器12及び/又は14に導
入し、高純度化学混合物を管路44及び46にそれぞれ
押し出す又は移動させる。これらの管路は弁48及び5
0によってそれぞれ制御されている。高純度化学混合物
の制御された調製のために望ましい場合、上述のよう
に、これらの混和容器は、逐次又は同時の様式のいずれ
かで操作することができる。混和容器12及び14から
の高純度化学混合物を管路52に導入し、この管路52
は、管路44及び46の一方又は他方又は両方が高純度
化学混合物を下流の装置に分配することを可能にする制
御弁54を持つ。
【0037】管路52の高純度化学混合物をその後、高
純度化学混合物の純化手段、例えばフィルター又は膜又
は同様な粒子純化装置56に通す。好ましくは、手段5
6は、ひだ付きのテフロンフィルター要素である。更
に、純化された高純度化学混合物をその後、化学混合物
の組成検知手段58に通す。ここでこの手段58は、導
電率センサー、屈折率センサー、又は高純度化学混合物
の物性を検知してそのような検知に対応する信号を提供
する他の直接的若しくは間接的な装置でよい。好ましく
は検知手段58は超音波計であって、これは高純度化学
混合物を通る超音波信号を発生させてそれを検知する。
【0038】高純度化学混合物製品のために下流で需要
がある場合、高純度化学混合物を管路60と制御弁64
を通して下流の最終用途68、例えば半導体製造施設又
は他の工業的な用途に分配することができる。この場
合、弁72も開いている。検知手段58が、製品が許容
できないものであり調節できないとした場合、弁72を
閉じて高純度化学混合物を環境的に許容できる適当なス
クラビング装置又は排出管路66に排出することができ
る。弁74を通して試料ポート70を通る高純度化学混
合物の試料を取って、検知手段58による試験以外の追
加の更なる試験も行う。
【0039】典型的に、高純度化学混合物はフィルター
56及びセンサー58を通して繰り返し洗練し又は循環
させる。ここでは、弁62を解放して高純度化学混合物
を化学混合物貯蔵容器76に輸送して、高純度化学混合
物をポンプ80によって再循環管路78に通し、この再
循環管路78では、高純度化学混合物を次々と比較的大
きいサージ容器又は緩衝容器を含む脈動緩衝装置82に
送り、そして高純度化学混合物を制御弁84に通して更
に管路86に再循環させて、更に純化又は濾過しそして
検知手段58で適当な化学組成と濃度を検知するように
する。一時的な貯蔵又は比較的長期間の貯蔵のいずれか
が再循環によって促進される。ポンプ80は好ましく
は、テフロン膜を持つ膜ポンプである。再循環管路にお
ける循環は好ましくは、約4.5L/minの速度に維
持する。
【0040】検知手段58は、検知手段58を通る高純
度化学混合物の検知に比例する信号を提供し、この信号
は導線122を通して自動制御手段124に伝えられ
る。この自動制御手段は、コンピュータ、パーソナルコ
ンピュータ、プログラム可能な論理制御装置、又は同様
な自動マイクロプロセッサーデバイスを含むことがで
き、これらは、適当なオペレーターの入力によって、手
動で又は自動的に設定することができる高純度化学混合
物の所定組成値の設定を含む。自動制御手段は、高純度
化学混合物の検知される値と所定値を比較し、そして導
線126、127、及び128、129を通して、第1
の高純度化学物質及び第2の高純度化学物質の導入のた
めの信号を送り、この信号は電気式で又は空気式で又は
電気式と空気式の組み合わせで弁28、30、38及び
42を操作する。所定組成値又は設定点は、化学混合物
を±0.5重量%内に維持することができる。
【0041】好ましくは、装置10の全ての湿った表面
はテフロン材料又は同様な非反応性の物質であり、腐
食、粒子の形成及び同様な潜在的な汚染を避けるように
する。
【0042】この態様において、本発明の調製装置又は
ガスからの化学物質調製装置によって調製される高純度
化学物質製品は、そのようにして調製される高純度化学
混合物の品質を損なう危険性なしに、最終使用者による
即時の要求を超える品質で調製することができる。これ
は、化学混合物貯蔵容器76での一時的な貯蔵を行うこ
とによって達成され、この貯蔵容器76は調製された高
純度化学混合物を連続的に、純化手段56と検知手段5
8に通して高純度化学混合物の適当な物理的及び化学的
パラメータの維持を確実にする。これは、設備が、高純
度化学混合物の完全な混和を連続的に維持することを確
実にして、一時的な貯蔵又は保持の間に解離又は沈降し
ないようにし、また、存在することがある粒子、又は処
理管路を通る移動の間若しくは化学混合物貯蔵容器76
での保持の間に発生した粒子を連続的に濾過するように
する。本発明の装置と方法により調製された高純度化学
混合物の使用現場でのこの動的保持能力は、同種の再循
環、一時的な貯蔵及び調製された高純度化学混合物の反
復的な純化と監視を提供しない使用場所で示唆される従
来技術の装置、及びガスからの化学物質調製装置を超え
る利点を提供する。
【0043】従来技術は、ガスから化学物質及び化学物
質から化学物質を調製する現場用の様々な調製装置及び
混合装置を提案して、産業的な使用現場、例えば半導体
製造設備で高純度化学物質を提供してきたが、従来技術
は、調製した化学物質と並んで、調製の後で貯蔵されて
使用を待っている化学物質を、反復的に又は連続的に、
純化し又は濾過し且つ化学物質の組成に関する性質を監
視する適当な方法と装置を提供し損なっていた。本発明
は、調製したばかりの混和化学物質だけでなく、貯蔵さ
れて使用を待っている化学物質も、反復的に又は連続的
に純化又は濾過し且つ監視して、調製された化学物質の
純度と組成に関する性質を常に、従来技術と違って使用
量が少ない又は使用していない期間も含めて、維持する
ようにして、従来技術の欠点を克服する。また本発明
は、従来技術と違って、存在する高純度化学混合物を連
続的に洗練又は純化し且つ監視しながら、高純度化学混
合物を混和することも可能にする。
【0044】本発明をいくつかの好ましい態様に関して
示したが、本発明の範囲は特許請求の範囲で確認すべき
である。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の装置と本発明の方法の好まし
い態様の概略図である。
【符号の説明】
12、14…混和容器 20、22…質量流量計 56…純化手段 58…検知手段 76…貯蔵容器 80…ポンプ 82…緩衝装置 124…自動制御装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード リントン サムサル アメリカ合衆国,アリゾナ 85248,チ ャンドラー,ウエスト ウィンチェスタ ー 1852 (72)発明者 ブルース ハーマン グリーナワルド アメリカ合衆国,ペンシルバニア 18078,シュネックスビル,バックマン ドライブ 4469 (56)参考文献 特開 平8−252442(JP,A) 特開 平7−204481(JP,A) 特開 昭61−118127(JP,A) 実開 昭58−146527(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01F 15/04,15/06

Claims (16)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高純度化学物質を混和して高純度化学混
    合物を調製する装置であって、混和容器と化学混合物貯
    蔵容器との間前記化学混合物の循環、純化及び検知を
    行い、 a)第1の高純度化学物質を受け取るための第1の入口
    と、第2の高純度化学物質を受け取るための第2の入口
    と、前記第1と第2の高純度化学物質の高純度化学混合
    物を分配するための第1の出口とを持つ混和容器、 b)前記混和容器の前記第1の入口に接続している前記
    第1の高純度化学物質の第1の供給源であって、この第
    1の供給源から前記混和容器への前記第1の高純度化学
    物質の導入を制御する第1の弁を持つ第1の供給源、 c)前記混和容器の前記第2の入口に接続している前記
    第2の高純度化学物質の第2の供給源であって、この第
    2の供給源から前記混和容器への前記第2の高純度化学
    物質の導入を制御する第2の弁を持つ第2の供給源、 d)前記混和容器からの前記化学混合物を受け取るため
    の第3の入口と、前記化学混合物を再循環させるための
    第2の出口とを持つ化学混合物貯蔵容器、 e)前記混和容器の前記第1の出口と前記化学混合物貯
    蔵容器の前記第3の入口に接続した輸送管路、前記混和
    容器から前記化学混合物貯蔵容器にこの輸送管路を通っ
    て移動する前記化学混合物の純化手段、及びこの輸送管
    中の前記化学混合物の組成の検知手段、 f)前記化学混合物貯蔵容器の前記第2の出口に接続
    し、且つ前記混和容器と前記化学混合物の純化手段との
    間で前記輸送管路に接続して、前記化学混合物貯蔵容器
    から前記輸送管路に前記化学混合物を再循環させて、前
    記化学混合物が前記純化手段と前記検知手段を更に通過
    するようにする再循環管路であって、この再循環管路を
    通る前記化学混合物を再循環させるポンプ送出手段を持
    つ再循環管路、並びに g)前記検知手段に接続し且つ前記第1の弁と第2の弁
    に接続し、検知される前記高純度化学混合物の組成の代
    理値を検知する前記手段からの信号を受けることができ
    る手段を含む自動制御手段であって、検知された組成を
    前記高純度化学混合物の所定組成値と比較して、前記検
    知された組成が前記所定組成値に合わない場合は、前記
    第1の弁及び/又は第2の弁への信号を発生させて、こ
    れら第1の弁及び/又は第2の弁を通る前記第1の高純
    度化学物質及び/又は第2の高純度化学物質の流量を調
    節し、前記検知される組成を所定組成値に戻す自動制御
    手段、 を具備している、高純度化学物質混和装置。
  2. 【請求項2】 前記混和容器が2つの並列混和容器であ
    って、それぞれの容器が前記化学物質の前記第1及び第
    2の供給源並びに前記輸送管路への弁を伴った接続を持
    請求項1に記載の装置。
  3. 【請求項3】 前記純化手段がフィルターである請求
    項1又は2に記載の装置。
  4. 【請求項4】 前記ポンプ送出手段が膜ポンプである
    請求項1〜3のうちのいずれか1項に記載の装置。
  5. 【請求項5】 前記混和容器が、高圧不活性ガスの供給
    源を有して、この混和容器からの前記高純度化学混合物
    の分配を促進する請求項1〜4のうちのいずれか1項
    に記載の装置。
  6. 【請求項6】 前記混和容器が、この混和容器の前記
    高純度化学混合物を冷却する手段を持つ請求項1〜5
    のうちのいずれか1項に記載の装置。
  7. 【請求項7】 高純度化学物質を混和して高純度化学混
    合物を調製する方法であって、前記高純度化学物質の混
    と使用のための前記高純度化学混合物の貯蔵の間に循
    環、純化、及び検知を伴い、 a)第1の高純度化学物質の供給源と第2の高純度化学
    物質の供給源を提供し、 b)混和領域において所定比率で前記第1の高純度化学
    物質と前記第2の高純度化学物質を混和して、所定組成
    の高純度化学混合物を得て、 c)前記高純度化学混合物を前記混和領域から、後に使
    用するために貯蔵領域に移動させ、移動の間に前記高純
    度化学混合物を、純化ステーションにおいて純化し、そ
    してセンサーによって検知して前記高純度化学混合物の
    組成を決定し、 d)前記高純度化学混合物の少なくとも一部を前記貯蔵
    領域から前記純化ステーションに再循環させて、この高
    純度化学混合物の少なくとも一部を更に純化しそして前
    記センサーで検知するようにし、そして e)前記高純度化学混合物の検知された組成を前記所定
    組成値と比較し、そして前記第1と第2の高純度化学物
    質の混和を制御して、前記検知される組成を前記所定組
    成値にほぼ等しくなるようにし、これによって前記貯蔵
    領域の前記高純度化学混合物を少なくとも1回の純化及
    び組成に関する検知にかけて前記貯蔵領域における純
    度と前記所定組成を維持するようにする、 ことを含む高純度化学物質混和方法。
  8. 【請求項8】 前記純化が濾過である請求項7に記載
    の方法。
  9. 【請求項9】 前記第1の高純度化学物質が、アンモニ
    ア、フッ化水素、三酸化硫黄、塩化水素、二酸化窒素、
    酢酸、硝酸、リン酸、水酸化カリウム、水酸化テトラメ
    チルアンモニウム、フッ化アンモニウム、過酸化水素、
    硫酸、水酸化アンモニウム、フッ化水素酸、塩酸及びそ
    れらの混合物からなる群より選択される請求項7又は
    8に記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記第2の高純度化学物質が高純度脱
    イオン水である請求項7〜9のうちのいずれか1項に
    記載の方法。
  11. 【請求項11】 前記高純度化学混合物を、半導体材料
    処理ステーションに供給する請求項7〜10のうちの
    いずれか1項に記載の方法。
  12. 【請求項12】 前記高純度化学混合物を連続的に、前
    記貯蔵領域から前記純化ステーションと前記センサーに
    送り、そして前記貯蔵領域に戻して再循環させる請求
    項7〜11のうちのいずれか1項に記載の方法。
  13. 【請求項13】 前記高純度化学混合物を、ポンプ送出
    によって再循環させる請求項7〜12のうちのいずれ
    か1項に記載の方法。
  14. 【請求項14】 前記高純度化学混合物に高圧不活性ガ
    スを適用することによって、この高純度化学混合物を前
    記混和領域から前記貯蔵領域に移動させる請求項7〜
    13のうちのいずれか1項に記載の方法。
  15. 【請求項15】 前記第1と第2の高純度化学物質の混
    和の間、前記混和領域を高圧に保つ請求項7〜14の
    うちのいずれか1項に記載の方法。
  16. 【請求項16】 前記第1と第2の高純度化学物質の混
    和の間、前記混和領域を冷却剤との熱交換によって冷却
    する請求項7〜15のうちのいずれか1項に記載の方
    法。
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