JP3209277B2 - 成形された包装形態物の製造方法 - Google Patents

成形された包装形態物の製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属／プラスチックラミネートから常温成
形により成形される包装形態物の製造方法に関し、この
製造方法においては、上記ラミネートは、保持工具と少
なくとも１つの開口を有するダイスとの間に保持され、
スタンプが上記ダイス開口の中に駆動されて、上記ラミ
ネートを１又はそれ以上のへこみを有する成形された包
装形態物に成形する。本発明はまた、金属／プラスチッ
クラミネートを成形された包装形態物に常温成形する方
法を実行するための装置にも関する。
例えば、ブリスターパック（プッシュスルーパックと
しても知られている）用のベース部分の如き成形された
包装形態物あるいは他の形態の包装物を、深絞り成形
法、延伸成形法又は熱成形法によって製造することは周
知である。そのような成形包装物は、熱可塑性プラスチ
ックあるいはアルミニウム箔及びプラスチックフィルム
又は熱可塑性プラスチックの押出層の如き複合材料又は
ラミネートから製造することができる。
包装物が金属箔を含むラミネートから形成される場合
には、スタンプ、ダイス及び保持工具を備える成形工具
を用いてその製造を行うことができる。ラミネートは、
変形を受けている際に上記ダイスと保持工具との間で確
実に挟持され、上記スタンプはラミネートの方へ移動す
る。上記スタンプは、下降する際に上記ダイスの開口の
中に深く入り、これによりラミネートを変形させる。上
記プロセスにおいては、平坦なラミネートが、該ラミネ
ートの元々の平坦な平面に相当する肩部によって包囲さ
れた１又はそれ以上のへこみを有する成形部分に変換さ
れる。ダイ開口の領域にあるラミネートの部分だけが流
動され又は引き伸ばされて、成形部分を形成する。ラミ
ネート、特に金属箔を含むラミネートをクラック又は気
孔を生成することなく変形することができるようにする
ために、上記スタンプとダイス開口との間には適正な横
方向の距離を維持しなければならない。ラミネートが金
属箔を含む場合には、上記常温成形法によっては側壁の
高さが低いへこみだけが形成される。その結果、絞り比
が不十分（すなわち、大きな直径のへこみが浅い）であ
り、従って、内容物に比較して大きすぎる包装形態物が
得られる。
形状成形を行うためのより良いラミネートを得るため
の唯一の可能性は、保持力を減少させるか、あるいは、
深絞り成形法を採用することであろう。しかしながら、
エッジ領域又は肩部領域に折曲部が形成され、従って、
このタイプの技術は、例えば金属箔を含むラミネートか
らブリスターパックを形成するために使用することはで
きない。成形された包装形態物の上記エッジ領域、また
は必要であればその肩部領域は、通常、リッドを密封す
るために使用される。しかしながら、そのような領域に
折曲部が存在した場合には、上記エッジ領域及び肩部領
域を密封することができなくなる。
本発明の目的は、成形された包装形態物又は成形品を
常温成形によって金属箔を含むラミネートから製造し、
これにより、そのような成形された包装形態物が折曲部
を生成せずまたへこみが高い側壁を有するようにするこ
とを可能にするプロセスを提供することである。
上記目的は本発明によって達成され、本発明において
は、ダイス及び保持工具が向かい合うエッジ領域を有し
ており、上記ダイスは単数又は複数のダイス開口を包囲
する肩部領域を上記エッジ領域の中に有しており、上記
肩部領域の平面が上記ダイスのエッジ領域の平面よりも
0.1〜10mmだけ下方に位置しており、高摩擦成形面を有
する単数又は複数の第１のスタンプが、１又はそれ以上
の工程によって、金属／プラスチックラミネートをへこ
みの最終深さの100％まで予成形し、その後、低摩擦成
形面を有する単数又は複数の第２のスタンプが、上記予
成形された金属／プラスチックラミネートを１又はそれ
以上の工程によってへこみの最終深さの少なくとも100
％まで成形する。
本発明においては、種々のスタンプを順次効果的に用
い、一連の工程において予成形により最大深さまで加工
する。各々スタンプは、同じ距離だけ、あるいは、先行
するスタンプよりも大きな距離だけ、ダイス開口の中に
下降する。金属／プラスチックラミネートがバネ作用に
より復帰するので、少なくとも最後の成形工程は、所望
の変形深さを完全に越えなければならない。
本発明の有用な変形例においては、上記スタンプは、
単数又は複数の第１の工程において、へこみの最終深さ
の90％、特に有用なのは70％まで、また、効果的には50
％まで下方へ駆動され、単数又は複数の第２の工程にお
いて、へこみの最終深さの100〜115％、効果的には103
〜110％まで下方に駆動される。
通常、高摩擦成形面を有していて上記単数又は複数の
第１の工程で使用される単数又は複数のスタンプ又はス
タンピング工具は、円筒形、鈍角の円錐形、鈍角の角錐
形、又は樽状の形状を有している。上記単数又は複数の
第２の工程で使用されるスタンプは、円錐形、角錐形、
鈍角の円錐形、鈍角の角錐形、球の一部、又は、キャッ
プの形状を有している。第１の工程のスタンプは、特に
垂直又は急勾配の側壁を有しており、このスタンプの底
部の縁部又は周辺部は小さな半径を有している。第２の
工程の低摩擦成形面を有するスタンプは、垂直又は急勾
配ではない側壁、特に傾斜した側壁を有することがで
き、このスタンプの底部への遷移領域は丸い又は円形の
形状とすることができる。これにより、金属／プラスチ
ックラミネートは上記スタンプの側壁と底部との間の縁
部又は周辺部の上では殆ど滑ることがなく、これによ
り、他の領域の金属／プラスチックラミネートが最初に
変形し、次に、単数又は複数の第２の工程において変形
し、上記スタンプが小さな摩擦及び丸い形状を有してい
るので、上記スタンプの底部領域の金属／プラスチック
ラミネートも変形する。
第２の有用な変形例においては、上記ラミネートに接
触する高摩擦成形面を有するスタンプは、低摩擦形成面
を有する上記スタンプよりも大きな摩擦度を有してい
る。
本発明のプロセスは、例えば、ダイス及び保持工具、
並びに、ダイスの開口の中に順次下降して再度上昇する
２又はそれ以上のスタンプを用いて実行される。上記ス
タンプ又はスタンピング工具は、成形を行うそれぞれの
表面に異なる摩擦度を有している。高摩擦成形面を有す
る第１のスタンプが予成形を行うために使用され、その
後この工具を引き抜き、低摩擦成形面を有する第２のス
タンプが同じダイスにおいて最終的な形状成形を行う。
同様に、２つの異なる摩擦度を有する、又は、徐々に小
さくなる摩擦度を有する成形面を備えた３又はそれ以上
のスタンプを用いることができる。
本プロセスは、上記スタンプを互いに同軸状に又は入
れ子式に内側に配列した状態で、効果的に実行すること
ができる。特に低摩擦成形面を有すると共に平面図にお
いてリング形状を有している第１のスタンプがダイスの
中に下降することによって、予成形を行うことができ
る。上記第１のスタンプを上記予成形する位置に残し、
上記第１のリング形状のスタンプの中で入れ子式に摺動
すると共に高摩擦成形面を有している円筒形の第２のス
タンプを下降させて、ラミネートの最終的な成形を行
う。上記スタンピング工具を、２又はそれ以上のリング
形状のスタンピング工具及び最内方の円筒形のスタンピ
ング工具から構成し、これら総てのスタンピング工具が
内側で互いに入れ子式に摺動するようにすることができ
る。成形を行う表面の摩擦度は、最外方のスタンピング
工具の高い摩擦度から最内方のスタンピング工具の低い
摩擦度まで徐々に減少させることができ、この減少は少
なくとも２つの段階で行うのが有用である。
本プロセスは、それぞれの保持工具を有する複数のダ
イス（特に、２つのダイス）を順次配列し、各々のダイ
スにスタンプを指定すなわち割り当てることにより、好
ましい状態で実行することもできる。これに応じて、２
つのダイス及びそれぞれに指定されたスタンプを順次配
列し、成形を行う第１のスタンプの表面は高い摩擦度を
示し、また、第２のスタンプは低い摩擦度を示すことが
できる。一定のリズムすなわち律動で作動させることに
より、ラミネートは第１の工程において第１のダイスで
予成形され、その後、第２の工程において第２のダイス
で最終的な形状に成形される。予成形を２又はそれ以上
の工程で実行すると共に、最終的な成形作業を２又はそ
れ以上の工程に分割して、使用されるプロセスの全工程
の数を３、４等とし、従って、上記摩擦度を２つの段階
で、あるいは、個々の工程の間に徐々に減少させること
ができる。
ラミネート材料の領域から成形されるへこみは、コッ
プ型、皿型、キャップ型、模型又は円筒形等とすること
ができる。上記へこみは、平面図で見ると、円形、楕円
形、あるいは、２、３、４又はそれ以上の角を有する多
角形とすることができる。上記へこみは、可能な限り直
線的な急勾配乃至直角な側壁と、可能な限りドーム形状
ではないベース部分とを有するのが好ましい。上記へこ
みはラミネート材料の通常は平坦な肩部領域によって包
囲される。
上記ダイスの好ましい形態においては、該ダイスの上
面は、このダイスのエッジ領域の表面よりも0.1〜2mm、
好ましくは0.15〜0.3mmだけ下方に位置している。
本発明の装置は、１又はそれ以上の開口を有するダイ
スを備えることができる。
本装置、従って、上記ダイスは１〜200個のダイス開
口を有するのが有用であり、８〜40個のダイス開口を有
するのが好ましい。金属／プラスチックラミネートの変
形は、ダイス開口に侵入することのできるスタンプによ
って行われる。上記ダイスが複数の開口を有する場合に
は、上記スタンプは、対応する数のスタンピング工具が
取り付けられたサポート又はサポートプレートあるいは
ホルダプレート等を備えることができる。上記スタンプ
又はスタンピング工具は、金属／プラスチックラミネー
トの形状成形を行う間に上記ダイス開口に侵入すること
ができるような寸法を有している。上記スタンプ又はス
タンピング工具の直径は、関連するダイス開口の直径よ
りも３〜35％小さいのが有用であり、１〜15％、特に、
５〜10％小さいのが好ましい。例えば、楕円形、卵型、
多角形、矩形、台形又は菱形等の形状の凸状の断面の如
き非円形状の断面の場合の上記スタンプ又はスタンピン
グ工具あるいはダイ開口の直径は、最も小さい直径を意
味している。
通常のように、ダイスの開口の壁部は、肩部領域の表
面に対して90゜の角度で伸長している。上記開口の壁部
及び上記肩部領域の表面が互いに形成する縁部は、例え
ば、0.1〜10mmの半径、有用には0.1〜1mmの半径を有す
る円形とすることができる。
別の好ましい変形例においては、上記保持工具及びダ
イスのエッジ領域は各々100mmの幅を有しており、その
ような幅は、２〜30mmであるのが有用であり、３〜20mm
であるのが好ましい。
上記ダイスは、エッジ領域と、このエッジ領域の中の
肩部領域とを有している。上記ダイス開口は、上記ダイ
ス開口を包囲するストラットすなわち支柱を形成する肩
部領域の中で、特に対称形に、あるいは、非対称形に配
置される。
上記ダイスの肩部領域は、ダイスのエッジ領域とダイ
ス開口との間、並びに、個々の開口の間に１〜50mmの距
離を有しており、この距離は５〜25mmであるのが好まし
い。
上記保持工具のエッジ領域、又は上記ダイスのエッジ
領域、あるいは上記ダイス及び保持工具のエッジ領域
は、その表面の一部又は全体にわたって粗面パターンを
有することができる。代表的な粗面パターンは、コルゲ
ート、ワッフルパターン、エンボスパターン、ハニカム
パターン、ノブ、櫛歯状パターン、粗面化された表面で
ある。上記粗面パターンの代わりに、あるいは該粗面パ
ターンに加えて、例えば、ゴム等の如き弾性材料から成
る周辺ストリップを用いることができる。保持工具及び
ダイスのエッジ領域は共に、作動位置において金属／プ
ラスチックラミネートの上に位置するのが有用であり、
必要であれば、上記粗面パターンの助けにより、上記ラ
ミネートをこのラミネートが延びることができないよう
に適所に保持する。上記ダイスの肩部領域は、向かい合
う保持工具の部分からある距離に位置し、この領域にお
いて、上記金属／プラスチックラミネートは上記保持工
具に接触せず、金属／プラスチックラミネートは、上記
スタンプが下降する度合いに応じて延伸又は流動するこ
とができる。
上記ダイスの肩部領域は、少なくともその表面に低い
摩擦度を有する層によって全体的に又は部分的に覆われ
ることができる。本明細書で用いる低い摩擦度又は低摩
擦とは、英国規格2782の方法311Aに従って測定した場合
の0.2〜2.1の値（無次元数）を意味する。低摩擦層は、
例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリオキシメチ
レン（ポリアセタール:POM）、ポリエチレン、又は、ポ
リエチレンテレフタレートの如きプラスチックを含むか
これら材料から形成することができる。上記低摩擦層は
また、上に例示した２又はそれ以上のプラスチックの混
合した形態を含むことができ、あるいは、球形のガラス
の如き分割された形態の硬質物質と共に混合された形態
の２又はそれ以上のプラスチックを含むことができる。
プラスチックの代わりに他の物質を低摩擦層に用いるこ
とができる。これは、例えば、アルミニウム又はクロム
鋼の如き特に研磨された表面を有する金属を意味する。
セラミック層、あるいは、グラファイト、窒化ホウ素又
は二硫化モリブデンを含む層の如き他の低摩擦層を用い
ることもできる。ダイスの肩部の低摩擦層の厚さは重要
ではなく、その表面だけが重要である。個々の条件に応
じて、上記層は摩擦力に関して大きな要求を受け、従っ
て、ある程度の材料の損失を許容する厚さを優先的に与
える必要がある。この理由から、上述のプラスチックか
ら成る層の厚さは、例えば、0.5〜20mmとすることがで
きる。上記プラスチックから成る層は、プリフォームと
してダイスの下方の領域に挿入されるか、あるいは、ス
プレー法、ブラッシング法、ワイピング法あるいは他の
堆積法によって、堆積させることができる。上記プラス
チックは、例えば、電気メッキ法、電解蒸着法、メッキ
法、又は、真空中の蒸着法の如き化学的又は物理的な方
法を用いて、例えば、セラミック又は金属の如き他の物
質のマトリックスとして堆積させることができ、あるい
は、上記ダイスの少なくとも一部をその金属から形成す
ることができる。
通常のように、成形を行う表面と共に有している高摩
擦スタンプ及び低摩擦スタンプは、保持プレートの如き
保持装置と、多数のスタンピング工具とを備えている。
スタンピング工具の数はダイス開口の数に対応するのが
有用である。スタンピング工具は上記保持工具の開口及
上記ダイスの開口に侵入する。
高摩擦成形面を有するスタンプの場合には、該成形
面、すなわち、ラミネートに接触することになるスタン
プ又はスタンピング工具の表面の少なくとも一部は、高
い摩擦度を有する。この場合における高い摩擦度又は高
摩擦とは、英国規格2782の方法311Aによる例えば1.0〜
3.0の摩擦値（無次元数）を意味している。上記高摩擦
面は、鋼、あるいは、ポリアセタール（POM）、ポリエ
チレン、ゴム、硬質ゴム又はアクリル酸ポリマーを含む
弾性ゴムの如きプラスチックを含むかそのような材料か
ら形成することができる。粗面化技術の如き処理方法を
用いて、金属表面に高摩擦挙動を生じる性質を与えるこ
とができる。
低摩擦成形面を有するスタンプの場合には、少なくと
も成形面（すなわち、ラミネートに接触することになる
スタンプ又はスタンピング工具の表面）は、低い摩擦度
を有する。この場合における低い摩擦度又は低摩擦と
は、英国規格2782の方法311による例えば0.3又はそれ以
下から2.1の摩擦値（無次元数）を意味している。この
低摩擦面は、鋼、あるいは、ポリテトラフルオロエチレ
ン、ポリオキシメチレン（ポリアセタール:POM）、ポリ
エチレン、ポリエチレンテレフタレートの如きプラスチ
ックを含むかそのような材料から形成することができ
る。上記低摩擦層はまた、上に例示した２又はそれ以上
のプラスチックの混合した形態、あるいは、１又はそれ
以上の上記プラスチックの混合した形態を含むことがで
き、また、これに加えて、球形のガラスの如き硬質物質
の分割された形態を含むことができる。プラスチックの
代わりに他の物質を低摩擦層に使用することができる。
これは、例えば、アルミニウム又はクロム鋼の如き特に
研磨された表面を有する金属を意味する。セラミック
層、又は、グラファイト、窒化ホウ素又は二硫化モリブ
デンを含む層の如き他の低摩擦層を用いることができ
る。
本発明のプロセスを用いる際には、高摩擦スタンプ又
はスタンピング工具は、低摩擦スタンプの摩擦値よりも
高い摩擦値を有するのが効果的である。
使用することのできる金属／プラスチックラミネート
は、例えば、８〜15μｍ（20〜80μｍが好ましい）の厚
さを有する金属箔を含むラミネートである。上記金属箔
は、例えば、鋼、鉄又は銅とすることができ、アルミニ
ウムであるのが好ましい。また、上述の金属の一つを主
として含む合金から成る金属箔も含まれる。好ましいア
ルミニウム箔は、例えば、少なくとも98.0％、有用には
98.3％、効果的には98.5％、特に98.6％の純度のアルミ
ニウムとすることができ、100％を構成する残りの成分
はアルミニウムに伴う不純物とする。また、例えば、Al
FeSiのタイプ、あるいは、AlFeSiMnのタイプのアルミニ
ウム箔を用いることができる。
使用されるプラスチックは、例えば、フィルム又はラ
ミネートとして、これらフィルム及びラミネートを一軸
延伸又は二軸延伸させることができ、また、ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリ塩化ビニルのタイプの又は他
のタイプの熱可塑性プラスチックとすることもできる。
ポリオレフィンのタイプの代表的な熱可塑性プラスチ
ックは、MDPE、HDPEの如きポリエチレン、一軸延伸又は
二軸延伸されたポリプロピレン、キャストポリプロピレ
ンの如きポリプロピレン、及び、一軸延伸又は二軸延伸
されたポリプロピレン又はポリエステルシリーズのポリ
エチレンテレフタレートである。
層、フィルム、又は、金属／プラスチックラミネート
の形態のラミネートのいずれの形態であっても、熱可塑
性プラスチックの厚さは、例えば、12〜100μｍ（20〜6
0μｍであるのが好ましい）とすることができる。
上記金属箔及び熱可塑性プラスチックは、例えば、接
着剤接合、カレンダー加工、又は、接着剤による押出接
合によって、ラミネートに転換することができる。上記
層を接合するために、接着剤及び接合剤を必要に応じて
塗布することができ、プラズマ、コロナ又は火炎による
処理方法によって、接合すべき表面を変更することがで
きる。
金属／プラスチックラミネートの例は、第１の層（例
えば、上述の熱可塑性プラスチックから成るフィルム又
はフィルム／ラミネート）と、金属箔の形態の第２の層
と、該金属はの自由側面に設けられる第３の層（すなわ
ち、ポリエチレン又はポリプロピレン又はPVCの如きポ
リオレフィンから成る密封層）とを備えるような金属／
プラスチックラミネートである。
別の使用可能な金属／プラスチックラミネートは、第
１の層（例えば、上述の熱可塑性プラスチックから成る
フィルム又はフィルム／ラミネート）と、金属箔の形態
の第２の層と、第３の層（例えば、上述の熱可塑性プラ
スチックの一つから形成されるフィルム又はフィルム／
ラミネートあるいは押出層）とを備えることができる。
上記金属／プラスチックラミネートは、その外側の側
部の少なくとも一方又はその両方に設けられる密封可能
なフィルム又は密封可能なコーティングの形態の密封層
を備えることができる。この密封層はラミネートの最外
方の層に必要である。特に、上記密封層はラミネートの
一方の側部に設けることができ、上記密封層は内容物又
は成形包装物の肩部側の方を剥く必要があり、これによ
りリッディングホイル又は同様なものを適所に密封する
ことができる。
実際に使用される金属／プラスチックラミネートの代
表的な例は、 oPA 25/Al 45/PVC 60 oPA 25/Al 45/oPA 25 Al 120/PP 50 oPA 25/Al 60/PE 50 oPA 25/Al 60/PP 60 oPA 25/Al 45/PVC 100 oPA 25/Al 60/PVC 60 oPA 25/Al 45/PE（コーティング物） oPA 25/Al 45/cPA 25 oPA 25/Al 60/PVC 100、及び、 oPA 25/Al 60/oPA 25/EAA 50 である。このときoPAは延伸ポリアミドを表し、cPAはキ
ャストポリアミドを表し、PVCはポリ塩化ビニルを表
し、PEはポリエチレンを表し、PPはポリプロピレンを表
し、EAAはエチレンアクリル酸を表し、Alはアルミニウ
ムを表しており、数字はμｍ表示での層又は箔の厚さで
ある。
本発明はまた、本発明のプロセスを実行するための装
置にも関し、この装置においては、ダイス及び保持工具
が、向かい合うエッジ領域を有している。上記ダイス及
び保持工具は、ダイスのエッジと保持工具のエッジとの
間にラミネートが延びることができないように該ラミネ
ートを挟む。またスタンピング工具が、ダイスの肩部の
上のラミネートをダイスの肩部領域の中にあるダイスの
開口の中に引き込む。上記肩部領域の表面はダイスのエ
ッジ領域よりも0.01〜10mm下方に位置しており、上記ラ
ミネートは、上記肩部領域の表面で引っ張られる又は引
き伸ばされた際に、滑ったり流れたりする。
上記ダイスの肩部領域の表面が上記ダイスのエッジ領
域の表面よりも0.1〜2.0mm（好ましくは、0.15〜0.03m
m）下方に位置するように構成されている装置が、本プ
ロセスを実行するために有用である。
上記ダイスの肩部領域が0.3〜2.1の小さな摩擦値を示
す表面層で部分的に又は全体的に被覆されるように構成
された装置が、本発明のプロセスを実行するために好ま
しい。
また、高摩擦成形面を有する少なくとも１つのスタン
プと、低摩擦成形面を有する少なくとも１つのスタンピ
ング工具とを有する特徴を備えた装置が、本発明のプロ
セスを実行するために好ましい。
上記高摩擦成形面が鋼、ポリアセタール、ゴム、弾性
ゴム、又は、アクリル系弾性ゴムで形成されている装置
が、本発明のプロセスを実行するために好ましい。
更に、上記低摩擦成形面が鋼、ポリテトラフルオロエ
チレン、ポリオキシメチレン、ポリエチレン、又は、ポ
リエチレンテレフタレートで形成されている装置が、本
発明のプロセスを実行するために好ましい。
本発明は、本発明のプロセスによって製造される常温
成形により成形された包装にも関し、この成形された包
装は、以下の成分を含む金属／プラスチックラミネート
である。
oPA 25/Al 45/PVC 60、 oPA 25/Al 45/oPA 25、 Al 120/PP 50、 oPA 25/Al 60/PE 50、 oPA 25/Al 60/PP 60、 oPA 25/Al 45/PVC 100、 oPA 25/Al 60/PVC 60、 oPA 25/Al 45/PE（コーティング物）、 oPA 25/Al 45/cPA 25、 oPA 25/Al 60/PVC 100、又は、 oPA 25/Al 60/oPA 25/EAA 50 このとき、oPAは延伸ポリアミドを表し、cPAはキャスト
ポリアミドを表し、PVCはポリ塩化ビニルを表し、PEは
ポリエチレンを表し、PPはポリプロピレンを表し、EAA
はエチレンアクリル酸を表し、Alはアルミニウムを表
し、数字はμｍ表示の層又は箔の厚さである。
本発明のプロセスによって常温成形により成形された
包装形態物を、個々の物品をへこみの中に収容するため
の容器として使用することは、本発明の範囲内である。
そのような物品の例は、例えば、ブリスターパック又は
プッシュスルーパックの如き成形された包装形態物の各
々のへこみの中に設けられる１、２又は３個の錠剤、糖
剤、ピル、アンプル等である。
本発明の装置は、製剤、食品及び高級消耗品、工業製
品のためのブリスターパック、半剛性及び剛性の包装物
のベース部分及びリッド部分、閉止物等の如き、常温成
形により成形された包装形態物を金属／プラスチックラ
ミネートから製造するために用いることができる。
例えばPVCの如きプラスチックフィルムを熱成形して
ブリスターパックにすると、高い側壁を得ることが可能
である。現在まで、金属箔を含むラミネートから形成さ
れるブリスターパックの如き成形された包装形態物のへ
こみにそのような高い側壁を形成することは、可能では
なかった。これは、使用しなければならなかった包装形
態物は、その内容物に比較して大きすぎたということを
意味する。そこで、本発明を用いて、現在まで経験した
欠点（すなわち、熱成形されたプラスチックフィルムに
より得られるものに比較して壁の高さが低いというよう
な欠点）をもたない成形された包装形態物を製造するこ
とが可能である。本発明のプロセスを用いると、プラス
チックブリスターに比較して良好でない場合でも、包装
物のサイズに関して少なくとも比肩しうる成形された包
装形態物を製造することが可能である。従って、そのよ
うな包装物はより魅力的に見え、また環境の観点からよ
り良いイメージを有するように構成することができる。
例えば、２〜３の絞り比（すなわち、形成されたへこ
みの高さに対する直径の比）を得ることができる。へこ
みの断面が円形ではない（すなわち、例えば、楕円形、
卵型、多角形、矩形、台形、菱形等の凸状の断面の如き
非円形状の断面）の場合には、そのようなへこみの直径
は最も小さい直径であると理解すべきである。
個々のへこみの最大直径は、例えば、１〜500mm（３
〜30mmであるのが好ましい）とすることができ、また、
へこみの高さは１〜100mm（３〜30mmであるのが好まし
い）とすることができる。
ベース部分のへこみの数は重要ではなく、例えば１
個、２個あるいはそれ以上の数にすることができる。薬
剤の用途においては６〜40個のへこみを有するパックが
普通である。
常温成形法とは、本明細書においては、例えば10〜35
℃（20〜30℃であるのが好ましい）の温度における成形
法を意味している。
ブリスターパックの如き成形された包装形態物に処理
されるラミネート、特に、ブリスターパックのベース部
分は、高い絞り比においても気孔を有することがなく、
成形操作に起因する不良品の割合は大幅に減少する。
図１〜図９は、本発明の例を詳細に説明している。
図１は、常温成形されるブリスターパックを製造する
ための従来技術の装置を断面図で示している。
図２及び図３は、本発明の装置の一連の２つのプロセ
ス工程を断面図で概略的に示している。
図４は、本発明の装置のダイスを平面図で示してい
る。
図５は、本発明の装置の保持工具を平面図で示してい
る。
図６は、本発明のプロセスの一工程を概略的に示して
いる。
図７及び図８は、本発明の装置の変形例の一連の２つ
のプロセス工程を概略的に示している。
図９は、スタンピング工具を断面図で示している。
図１には従来技術の装置が示されており、この装置
は、ダイス１と、保持工具５と、スタンプ６とを備えて
いる。この装置における上記スタンプは、サポート（図
示せず）と、このサポートに設けられる多数のスタンピ
ング工具６とを備えるという特徴を備えている。上記ス
タンピング工具の数はダイス１の開口の数に対応してい
る。上記スタンプ又はスタンピング工具６は保持工具の
開口７を貫通している。金属／プラスチックラミネート
20がダイス１と保持工具５との間に設けられている。保
持工具５は、力を加えることによって、ダイス１に圧接
され、その結果、金属／プラスチックラミネート20はダ
イス１と保持工具５との間の総ての接触領域において確
実に保持され、実質的に延伸することができないように
なっている。スタンピング工具６は力を受けて下降して
保持工具の開口７に入り、金属／プラスチックラミネー
ト20″に圧接する。また、スタンピング工具は、金属／
プラスチックラミネート20′を変形させながら、金属／
プラスチックラミネートの所望程度の変形が行われるま
で、ダイスのダイス開口８を通過する。
金属／プラスチックラミネートのエッジ領域及び肩部
領域13は共に保持工具５とダイス１との間に保持されて
いて、実質的に延伸することができないようになってお
り、上記ラミネートの変形はダイス開口８を覆っている
金属／プラスチックラミネート材料にだけ生ずる。
図２及び図３には本発明のプロセスが２つの段階で示
されている。断面で示されている装置は、ダイス１と、
保持工具５と、スタンプ（スタンピング工具）６とを示
されている。保持工具５は、エッジ領域12を備えてお
り、また、ダイス１もエッジ領域11を備えている。粗面
パターン９が、ダイスのエッジ領域11に設けられてい
る。肩部領域（すなわち、ダイスの領域11の中にあって
ダイス開口を包囲する肩部を形成しているダイス１の領
域）13全体は、ダイス１のエッジ領域11よりも下方にあ
る。
ダイス１の肩部領域13には層３が設けられており、こ
の層は図２及び図３に陰影を施した状態で示されてい
る。層３は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリオキシ
メチレン、ポリオレフィン、又は、ポリエチレンテレフ
タレート等の如き、低摩擦材料から成る層である。層３
はダイス１の肩部領域13全体にわたって伸長するのが効
果的である。肩部領域13の一部だけを覆う層３も、場合
によっては可能である。
ダイス１の肩部領域13を下げることは、フライス加
工、研磨加工、又はスパークエロージョン（spark eros
ion）等のチップ形成法によって行うことができる。ダ
イス１を２つの部品として形成し、これにより、エッジ
領域11及び肩部領域13を動して互いに関して調節し、所
望の高の差に近づいた時に、互いに適所に固定すること
ができるようにすることもできる。ダイス１はまた、低
い位置にある肩部領域13を既に有している鋳造品とする
こともできる。同様に、保持工具５は、ダイス１の方を
向いた平坦面を有するのではなく、エッジ領域12と、該
エッジ領域12よりも低い肩部領域とを有するようにする
こともできる。
金属／プラスチックラミネート20は、本発明の装置に
おいて成形加工される。金属／プラスチックラミネート
20は、供給ロール又はシートの形態のエンドレスストリ
ップの形態として、装置に導入することができる。異な
る程度の変形を受ける金属／プラスチックラミネートの
異なる部分が、符号20′、20″及び20で示されてい
る。金属／プラスチックラミネート20は、保持工具５と
ダイス１との間に挟まれた状態で位置決めされており、
特に、保持工具５のエッジ領域で覆われたダイス１の領
域11においては延伸することができない。スタンピング
工具は力を受けて保持工具の開口７の中に下降して、金
属／プラスチックラミネート20″に圧接する。スタンピ
ング工具６は、金属／プラスチックラミネートを変形さ
せながら、金属／プラスチックラミネートの所望程度の
変形が得られるまで、ダイスの開口８を通って下降す
る。総ての肩部領域13にある、すなわち、ダイス開口８
の間のエッジ領域及び肩部に沿って位置している金属／
プラスチックラミネート20は流動し、スタンプ６がダ
イス開口８の中に下降する程度に応じた延伸作用によっ
て変形することができる。また、肩部領域とスタンピン
グ工具６との間の金属／プラスチックラミネート20′は
延伸作用によって変形する。スタンピング工具６は大き
な摩擦を示す表面を有しており、円筒又は樽状の形状と
するのが効果的である。これは、スタンピング工具の基
部と側壁との間の周辺部又は縁部が小さな半径を有して
おり、スタンプの側壁が該スタンプの基部に対して急な
角度を形成するか、あるいは、垂直になることを意味し
ている。変形操作は、へこみの最終深さの例えば100％
になるまで実行される。
本発明のプロセスの第２の段階すなわち工程が図３に
示されている。装置に関しては、ダスト１、保持工具
５、開口７、８、粗面パターン９、エッジ領域11、及
び、肩部領域13について、実質的な違いはない。この第
２のプロセス工程においては、他のスタンピング工具６
がダイス開口８の中に下降し、これにより、ラミネート
の所望程度の変形が達成されるまで、金属／プラスチッ
クラミネート20を更に変形させる。金属／プラスチック
ラミネート20は流動し、総ての肩部領域13において、
すなわち、エッジ領域、及び、開口８の間の肩部に沿う
領域において、スタンピング工具６がダイス開口８の中
に下降する量に応じた程度まで、更に引き伸ばされる。
肩部領域とスタンピング工具本体６との間の金属／プラ
スチックラミネート20′も、更に引き伸ばし成形され
る。この第２のプロセス工程に関しては、鈍角の円錐形
の断面を有する本体６を有するスタンピング工具が用い
られる。成形操作を行うスタンピング工具本体６の表面
は小さな摩擦を有している。その結果、成形操作を行う
スタンピング工具の表面の領域にある金属／プラスチッ
クラミネート20″も流動することができる。この成形操
作は、例えば、少なくともへこみの最終深さが得られる
まで、すなわち、所要深さの100％になるまで、実行さ
れる。
図４は、ダイス１の平面図であって、エッジ領域11
と、肩部領域13とを示している。エッジ領域11は、粗面
パターン９を有することができる。肩部領域13は、エッ
ジ領域11よりも0.01〜10mmだけ下方に位置している。効
果的な変形例においては、肩部領域13は、上述の低摩擦
堆積物又は層３で部分的に、あるいは、完全に覆われて
いる。ダイス開口８は、例として、肩部領域13に規則的
に配列された状態で示されている。通常のように穴が設
けられている。すなわち、丸い断面を有する開口すなわ
ちへこみ、あるいは、楕円形の断面を有する開口が設け
られている。多角形（例えば、矩形、方形又は六角形）
の断面を有する開口を問題なく形成することもできる。
保持工具５が図５に平面図で示されている。ダイスの
方を向いていて、製造作業の間にラミネートに着座する
保持工具５の表面14は、平坦にすることができる。製造
工程においては、ラミネートは、保持工具５のエッジ領
域12及びダイス１のエッジ領域11との接触領域にわたっ
て確実に挟持されており、これにより、ラミネートは、
そのような領域においては伸びたり流動したりすること
ができないようになっている。平坦な表面の代わりに、
保持工具５は、エッジ領域12と、該エッジ領域の中の下
方領域とを有することができ、あるいは、保持工具５
は、エッジ領域すなわちリングだけから実質的に構成す
ることができる。
粗面パターンを、保持工具５のエッジ領域12の一部又
は全部の表面にわたって設けることができる。保持工具
５のエッジ領域は有効に位置決めされ、ダイス１のエッ
ジ領域11とほぼ同じ寸法を有する。
保持工具５は複数の開口７又はへこみ（この場合に
は、複数の開口）を有している。開口７はスタンプすな
わちスタンピング工具によって貫通され、これに対応し
て、上記穴は、ダイス１の開口８と同様な態様で配列さ
れこれら開口と少なくともほぼ同じ寸法を有している。
図４の線Ａ−Ａ、及び、図５の線Ｂ−Ｂは、図２及び
図３に示されるダイス１及び保持工具５を通る切断線で
ある。
本発明のプロセスが簡略化された状態で且つ概略的に
図６に示されている。金属／プラスチックラミネート20
がロール23から繰り出されて、本体６′を有する第１の
スタンプに供給され、その後、本体６″を有する第２の
スタンプに供給される。これにより、へこみが二段階で
金属／プラスチックラミネート20に加圧形成される。そ
の結果、成形された包装形態物が生じ、その後この包装
形態物に内容物22が与えられる。その後、リッディング
ホイル21をロール24から連続的に繰り出して、成形され
た包装物に例えば密封される。次に、包装用エンドレス
ストリップを所望のパックサイズに切断することができ
る。
図７及び図８に示されるのは二段階で生ずる本発明の
プロセスの別の変形例であり、断面図で示されている装
置は、ダイス１と、保持工具５と、スタンプ６とを示し
ている。これら構成要素の詳細及びその符号は、図２及
び図３に示される通りである。層３がダイス１の肩部領
域13に設けられている。図７及び図８においては、上記
層３は陰影を施して示されており、この層は図２及び図
３に示す低摩擦材料である。図７は本プロセスの第１の
工程を示している。金属／プラスチックラミネート20
は、装置を構成し例えば２つの部品から成るスタンプ６
によって形状成形されている。平面図においてリングの
形状を有していると共に高摩擦成形面を有している中空
円筒形のスタンプ25が下降して、金属／プラスチックラ
ミネート20を予成形する。図８に示すように、金属／プ
ラスチックラミネート20の最終的な形状成形操作は第２
の工程で起こる。円筒形のスタンプ26がスタンプ25の中
に入れ子式に滑り込む。このスタンプ25は、図７におい
ては、下方の終点位置に達していてそこに留まってい
る。スタンプ26はスタンプ25から入れ子式に滑り出し、
スタンプ25を越えて下降する。その結果、スタンプ26
は、その低摩擦成形面で、金属／プラスチックラミネー
ト20を所望形成深さの100％まであるいはこれを越えて
変形させる。
図９は、異なる摩擦係数を有する材料27、28、29から
構成された単一部品のスタンプ６を示している。従っ
て、スタンプ６の形状成形面は形状成形面31よりも大き
な摩擦係数を有しており、一方、形状成形面32は成形面
31よりも小さな摩擦係数を有している。
上述の例においては比較的小さなダイスを示した。本
発明のダイスを横方向及び／又は長手方向のストラット
すなわち支柱で再分割された肩部領域を備えるように設
計することもできる。金属／プラスチックラミネート
は、そのようなストラットの領域において、確実に適所
に保持され且つ挟持される。これにより、例えば、一つ
のダイス、及び、スタンプの一回のストロークで、複数
の成形包装物を製造することができる。成形操作の後
に、同時に成形された複数のパックを、例えば、ストラ
ットに沿う分割線で分離することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平９−39087（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−202720（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−138812（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−147825（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−229224（ＪＰ，Ａ) 特公 平５−81333（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B29C 51/14 B29C 51/08 B29C 53/04

Claims (18)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】金属／プラスチックラミネート（20）を保
    持工具（５）を少なくとも１つの開口（８）を有するダ
    イス（１）との間に保持し、変形を生じさせる低摩擦面
    を有するスタンピング工具（６）を１又はそれ以上の工
    程で前記ダイス開口（８）の中に駆動して、前記ラミネ
    ートを１又はそれ以上のへこみを有する成形された包装
    形態物に形成することにより、金属／プラスチックラミ
    ネートから、少なくとも１つのへこみを有している包装
    形態物を製造するための、常温成形により成形された包
    装形態物の製造方法であって、 前記ダイス（１）及び保持工具（５）は向かい合うエッ
    ジ領域（11、12）を有しており、前記ダイス（１）は単
    数又は複数のダイス開口（８）を包囲する肩部領域（1
    3）を前記エッジ領域（11）の内側に有しており、前記
    肩部領域（13）の表面は前記ダイス（１）のエッジ領域
    （11）の表面よりも0.01〜10mmだけ下方に位置してお
    り、高摩擦成形面を有する単数又は複数の第１のスタン
    プ（６）が前記へこみの最終深さの100％まで前記金属
    ／プラスチックラミネートを１又はそれ以上の工程で予
    成形し、その後、低摩擦成形面を有する第２のスタンプ
    が前記へこみの最終深さの少なくとも100％まで前記予
    成形された金属／プラスチックラミネートを１又はそれ
    以上の工程で成形することを特徴とする、製造方法。
  2. 【請求項２】請求項１に記載の常温成形により成形され
    た包装形態物の製造方法において、前記単数又は複数の
    スタンプ（６）は、単数又は複数の第１の工程におい
    て、前記へこみの最終深さの90％まで、有用であるのは
    70％まで、また効果的には50％まで下方へ駆動され、そ
    の後、第２の工程において、単数又は複数の第２のスタ
    ンプが、前記へこみの最終深さの100〜115％、効果的に
    は103〜110％まで下方へ駆動されることを特徴とする、
    製造方法。
  3. 【請求項３】請求項１に記載の常温成形により成形され
    た包装形態物の製造方法において、前記ラミネート（2
    0）に接触している高摩擦成形面を有する前記スタンプ
    （６）は、低摩擦成形面を有する前記スタンプ（６）よ
    りも大きな摩擦を生ずることを特徴とする、製造方法。
  4. 【請求項４】請求項１に記載の常温成形により成形され
    た包装形態物の製造方法において、前記ラミネート（2
    0）はダイス（１）及び保持工具（５）によって保持さ
    れて、２又はそれ以上のスタンプ（６）によって形状成
    形され、これらスタンプは互いに入れ子式に内側で摺動
    し、ダイス（１）の開口（８）の中に順次下降すること
    を特徴とする、製造方法。
  5. 【請求項５】請求項１に記載の常温成形により成形され
    た包装形態物の製造方法において、特に高摩擦成形面を
    有するリング形状の第１のスタンプ（25）が下降し、前
    記ダイス（１）の中の金属／プラスチックラミネート
    （20）を予成形してそこに留まり、その後、リング形状
    の第１のスタンプ（25）の内側で入れ子式に摺動すると
    共に低摩擦成形面を有している円筒形の第２のスタンプ
    （26）が下降して、前記金属／プラスチックラミネート
    （20）の最終的な成形を行うことを特徴とする、製造方
    法。
  6. 【請求項６】請求項１に記載の常温成形により成形され
    た包装形態物の製造方法において、前記ラミネート（2
    0）はダイス（１）及び保持工具（５）によって保持さ
    れ、ダイス（１）の開口（８）の中に順次下降し再度上
    昇する２又はそれ以上のスタンプ（６）が前記ラミネー
    ト（20）を形状成形することを特徴とする、製造方法。
  7. 【請求項７】請求項６に記載の常温成形により成形され
    た包装形態物の製造方法において、前記スタンプ（６）
    又はスタンピング工具（６）はそれぞれの成形面に異な
    る摩擦度を示し、高い摩擦度を有する第１のスタンプ
    （６）を用いてその後引き抜き、その後、低い摩擦度を
    有する第２のスタンプ（６）を用いるか、２つの異なる
    摩擦度又は徐々に減少する摩擦度を有する成形面を備え
    た３又はそれ以上のスタンプ（６）を用いることを特徴
    とする、製造方法。
  8. 【請求項８】請求項１に記載の常温成形により成形され
    た包装形態物の製造方法において、指定された保持工具
    （５）を有する複数のダイス（１）が順次配列され、各
    々のダイス（１）はそれぞれ指定されたスタンプ（６）
    を有しており、前記ラミネート（20）は律動的にダイス
    （１）からダイス（１）へ押され、前記ラミネート（2
    0）は少なくとも１つのダイス（１）において予成形さ
    れ、該予成形されたラミネート（20）は次のダイス
    （１）へ前進され、最後のダイス（１）において最終的
    な形状が与えられることを特徴とする、製造方法。
  9. 【請求項９】請求項８に記載の常温成形により成形され
    た包装形態物の製造方法において、指定された保持工具
    （５）を有する２つのダイス（１）が順次配列され、各
    々のダイス（１）はそれぞれ指定されたスタンプ（６）
    を有しており、前記ラミネート（20）はダイス（１）か
    らダイス（１）へ律動的に押され、前記ラミネート（2
    0）は第１のダイス（１）において予成形された、該予
    成形されたラミネート（20）は第２のダイス（１）は前
    進され、該第２のダイス（１）において最終的な形状が
    与えられることを特徴とする、製造方法。
  10. 【請求項１０】請求項８に記載の常温成形により成形さ
    れた包装形態物の製造方法において、複数のダイス
    （１）が順次配列される場合には、第１のスタンプ
    （６）の成形面が高い摩擦度を有し、また、最後のスタ
    ンプ（６）が低い摩擦度を有するように、関連するスタ
    ンプ（６）が構成されており、複数のダイス（１）が順
    次配列される場合には、第１のグループのスタンプ
    （６）が示す摩擦度が高く、また、第２のスタンプ
    （６）が示す摩擦度が低くなるように、あるいは、スタ
    ンプ（６）からスタンプ（６）へ摩擦度が徐々に減少す
    るように、関連するスタンプ（６）が構成されているこ
    とを特徴とする、製造方法。
  11. 【請求項１１】請求項８に記載の常温成形により成形さ
    れた包装形態物の製造方法において、２つのダイス
    （１）が順次配列される場合には、第１のスタンプ
    （６）の成形面が高い摩擦度を示し、また、第２のスタ
    ンプ（６）の成形面が低い摩擦度を示すように、関連す
    るスタンプ（６）が構成されていることを特徴とする、
    製造方法。
  12. 【請求項１２】請求項１に記載の常温成形により成形さ
    れた包装形態物の製造方法において、金属／プラスチッ
    クラミネート（20）を形成し、該ラミネート（20）は、 oPA 25/Al 45/PVC 60、 oPA 25/Al 45/oPA 25、 Al 120/PP 50、 oPA 25/Al 60/PE 50、 oPA 25/Al 60/PP 60、 oPA 25/Al 45/PVC 100、 oPA 25/Al 60/PVC 60、 oPA 25/Al 45/PE（コーティング物）、 oPA 25/Al 45/cPA 25、 PA 25/Al 60/PVC 100、又は、 oPA 25/Al 60/oPA 25/EAA 50 を成分として含む金属／プラスチックラミネート（20）
    から形成されることを特徴とし、このとき、oPAは延伸
    ポリアミドを表し、cPAはキャストポリアミドを表し、P
    VCはポリ塩化ビニルを表し、PEはポリエチレンを表し、
    PPはポリプロピレンを表し、EAAはエチレンアクリル酸
    を表し、Alはアルミニウムを表し、数字はμｍ表示の層
    又は箔の厚さを表している、製造方法。
  13. 【請求項１３】金属／プラスチックラミネート（20）を
    保持工具（５）と少なくとも１つの開口（８）を有する
    ダイス（１）との間に保持し、変形を生じさせる低摩擦
    面を有するスタンプ（６）を１又はそれ以上の工程で前
    記ダイス開口（８）の中に駆動して、前記ラミネートを
    １又はそれ以上のへこみを有する成形された包装形態物
    に成形する、少なくとも１つのへこみを有する常温成形
    により成形された包装形態物を金属／プラスチックラミ
    ネート（20）から製造するための装置であって、前記ダ
    イス（１）及び保持工具（５）は向かい合うエッジ領域
    （11、12）を有しており、前記ダイス及び保持工具は、
    前記ダイス（１）のエッジ領域（11）と前記保持工具
    （５）のエッジ領域（12）との間に前記ラミネート（2
    0）を該ラミネートが延びることができないように挟持
    し、高摩擦成形面を有する単数又は複数の第１のスタン
    プ（６）が前記金属／プラスチックラミネートを１又は
    それ以上の工程で前記へこみの最終深さの100％まで予
    成形し、前記ダイス（１）の肩部領域（13）の上のラミ
    ネート（20）を前記ダイス（１）の肩部領域（11）の中
    に位置する前記ダイス開口（８）の中に引き込み、前記
    肩部領域（13）の表面（３）が前記ダイス（１）の前記
    エッジ領域（11）よりも0.01〜10mmだけ下方に位置して
    おり、前記ラミネート（20）は前記肩部領域（13）の前
    記表面（３）の上で絞り加工又は延伸加工を受ける際に
    摺動又は流動するように構成されたことを特徴とする、
    装置。
  14. 【請求項１４】請求項13に記載の装置において、前記ダ
    イス（１）の前記肩部領域（13）の表面（３）は、前記
    ダイス（１）の前記エッジ領域（11）の表面よりも、１
    〜2.0mm、効果的には0.15〜0.3mmだけ下方に位置するこ
    とを特徴とする、装置。
  15. 【請求項１５】請求項13に記載の装置において、前記ダ
    イス（１）の前記肩部領域（11）は、0.3〜2.1の摩擦値
    を示すのが好ましい低摩擦表面層（３）で全体的に又は
    部分的に覆われていることを特徴とする、装置。
  16. 【請求項１６】請求項13に記載の装置において、高い摩
    擦度を示す前記スタンプ（６）の成形面は、鋼、ポリア
    セタール（POM）、ポリエチレン、ゴム、硬質ゴム、弾
    性ゴム又はアクリル酸ポリマーを含むかそのような材料
    から形成されることを特徴とする、装置。
  17. 【請求項１７】請求項13に記載の装置において、低い摩
    擦度を示す前記スタンプ（６）の成形面は、ポリテトラ
    フルオロエチレン、ポリオキシメチレン、ポリエチレン
    又はポリエチレンテレフタレートを含むかそのような材
    料から形成されることを特徴とする、装置。
  18. 【請求項１８】請求項１に記載の常温成形により成形さ
    れた包装形態物の、個々のへこみの中に物品を収容する
    容器への使用。
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