JP3208423B2 - フルオロシラン類の製造方法 - Google Patents
フルオロシラン類の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 18
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- ASZZHBXPMOVHCU-UHFFFAOYSA-N 3,9-diazaspiro[5.5]undecane-2,4-dione Chemical compound C1C(=O)NC(=O)CC11CCNCC1 ASZZHBXPMOVHCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 25
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 23
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 17
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 17
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- GTPDFCLBTFKHNH-UHFFFAOYSA-N chloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si]C1=CC=CC=C1 GTPDFCLBTFKHNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- -1 NH 4 F or NH 4 HF 2 Chemical compound 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 8
- YCITZMJNBYYMJO-UHFFFAOYSA-N chloro(diphenyl)silicon Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 YCITZMJNBYYMJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 description 8
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 8
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N chloro(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UBGXLEFOIVWVRP-UHFFFAOYSA-N fluoro(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(F)C1=CC=CC=C1 UBGXLEFOIVWVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PWSZPEBVDGOKQL-UHFFFAOYSA-N F[SiH2]C1=CC=CC=C1 Chemical compound F[SiH2]C1=CC=CC=C1 PWSZPEBVDGOKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- YMXGMEIYEGUXGT-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichlorosilolane Chemical compound Cl[Si]1(Cl)CCCC1 YMXGMEIYEGUXGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FLEDPJUSJXHKQT-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluorosilolane Chemical compound F[Si]1(F)CCCC1 FLEDPJUSJXHKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- WTTXLOLKUGXKAO-UHFFFAOYSA-N chloro-[chloro(dimethyl)silyl]-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](C)(Cl)C1=CC=CC=C1 WTTXLOLKUGXKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YQULWRCMYAXEAV-UHFFFAOYSA-N chloro-[chloro(diphenyl)silyl]oxy-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)O[Si](Cl)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YQULWRCMYAXEAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DBKNGKYVNBJWHL-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-octylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](C)(C)Cl DBKNGKYVNBJWHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=CC=CC=C1 KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- BUFRPMIIXBOSDW-UHFFFAOYSA-N fluoro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SiH](F)C1=CC=CC=C1 BUFRPMIIXBOSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BWGFMSYDCBXYRQ-UHFFFAOYSA-N fluoro-dimethyl-octylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](C)(C)F BWGFMSYDCBXYRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OCKMVMKNCKNCMZ-UHFFFAOYSA-N fluoro-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(F)C1=CC=CC=C1 OCKMVMKNCKNCMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical compound [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001515 alkali metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CC DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- DEJXWMSNOJXBLI-UHFFFAOYSA-N fluoro-[fluoro(diphenyl)silyl]oxy-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(F)O[Si](F)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DEJXWMSNOJXBLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016509 CuF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- ABHNFDUSOVXXOA-UHFFFAOYSA-N benzyl-chloro-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CC1=CC=CC=C1 ABHNFDUSOVXXOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFAZXBAPWCPIER-UHFFFAOYSA-N chloro-[chloro(dimethyl)silyl]-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](C)(C)Cl SFAZXBAPWCPIER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVDZQLEAUDZLO-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-naphthalen-1-ylsilane Chemical compound C1=CC=C2C([Si](C)(Cl)C)=CC=CC2=C1 RZVDZQLEAUDZLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001354 dialkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- IESPKCNRKMAVIB-UHFFFAOYSA-N dichloro(dicyclohexyl)silane Chemical compound C1CCCCC1[Si](Cl)(Cl)C1CCCCC1 IESPKCNRKMAVIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUSBLLCPBKKDKQ-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(2,4,6-trimethylphenyl)silane Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1[Si](Cl)(Cl)C1=C(C)C=C(C)C=C1C RUSBLLCPBKKDKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDTCYQUMKGXSMX-UHFFFAOYSA-N dimethyl(methylsilyl)silane Chemical compound C[SiH2][SiH](C)C JDTCYQUMKGXSMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- FWZMWMSAGOVWEZ-UHFFFAOYSA-N potassium;hydrofluoride Chemical class F.[K] FWZMWMSAGOVWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012070 reactive reagent Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N trichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はクロロシラン類とフ
ッ化水素カリウム類とを反応させることによるフルオロ
シラン類の製造方法に関するものである。フルオロシラ
ン類はケイ素系高分子薄膜製造の原料として有用なもの
である。
ッ化水素カリウム類とを反応させることによるフルオロ
シラン類の製造方法に関するものである。フルオロシラ
ン類はケイ素系高分子薄膜製造の原料として有用なもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来フルオロシラン類の類の製造方法と
して、クロロシラン類のハロゲン交換によるフッ素化は
良く用いられる方法である。これは原料として工業的に
安価でかつ入手容易なクロロシラン類を用いる点で有利
な方法ではある。しかしながら、この中で、フッ素化剤
としてＳｂＦ３ ，ＣｕＦ２ ，ＺｎＦ２ 等の金属フッ
化物を用いる方法は、フッ素化剤のコストや毒性の点で
工業的に満足できる方法ではない。またアンモニウムフ
ルオリド（ＮＨ４ Ｆ）やアルカリ金属フッ化物として
ＮａＨＦ２ およびＫＨＦ２ を用いる方法も、フッ素化
剤の反応性の低さから、一般に加熱が必要であり、低沸
点のクロロシラン類やケイ素上の置換基の再分配を起こ
しやすいクロロシラン類、立体障害の大きな置換基を有
するクロロシラン類に適用しにくいという点で工業的に
満足できる方法ではない。
して、クロロシラン類のハロゲン交換によるフッ素化は
良く用いられる方法である。これは原料として工業的に
安価でかつ入手容易なクロロシラン類を用いる点で有利
な方法ではある。しかしながら、この中で、フッ素化剤
としてＳｂＦ３ ，ＣｕＦ２ ，ＺｎＦ２ 等の金属フッ
化物を用いる方法は、フッ素化剤のコストや毒性の点で
工業的に満足できる方法ではない。またアンモニウムフ
ルオリド（ＮＨ４ Ｆ）やアルカリ金属フッ化物として
ＮａＨＦ２ およびＫＨＦ２ を用いる方法も、フッ素化
剤の反応性の低さから、一般に加熱が必要であり、低沸
点のクロロシラン類やケイ素上の置換基の再分配を起こ
しやすいクロロシラン類、立体障害の大きな置換基を有
するクロロシラン類に適用しにくいという点で工業的に
満足できる方法ではない。
【０００３】また、上記のクロロシラン類のハロゲン交
換法以外の、フルオロシラン類の製造方法としては、
（１）直接法、（２）アルコキシシラン類のフッ素化、
（３）ヒドロシランのフッ素化による方法が知られてい
る。しかし、（１）の直接法は、金属ケイ素を触媒量の
銅等の金属の存在下にフルオロアルカンまたはフルオロ
アレーンと反応させて、ジアルキルジフルオロシランま
たはジアリールジフルオロシランを製造する方法である
が、４００℃もの高温が必要である。（２）のアルコキ
シシラン類のフッ素化は、原料として、クロロシラン類
よりも工業的に高価なアルコキシシラン類を用いる点
で、工業的に有利ではない。さらにフッ素化剤としてＮ
ａＨＦ２ 、ＫＨＦ２ のようなアルカリ金属フッ化物を
用いる方法では、副生するアルコールをカルシウムクロ
リド等を用いて除去する必要がある。また、フッ素化剤
として高腐食性のフッ化水素を用いる方法も、反応容器
を耐食性の極めて高い容器にする必要があり、工業的に
満足できる方法ではない。三フッ化ホウ素を用いる方法
では高価なエーテル系溶媒を使用する必要があり工業的
に満足できる方法ではない。（３）のヒドロシランのフ
ッ素化による方法も、原料のヒドロシラン類がクロロシ
ラン類よりも格段に高価である点で、工業的に不利な方
法である。さらにヒドロシラン類のフッ素化剤として、
ＮＨ４ Ｆ、ＮＨ４ＨＦ２ 等のアンモニウムフルオリド
を用いる方法ではアミン等の塩基を溶媒として用いる必
要がある。フッ素化剤としてトリフェニルメチルテトラ
フルオロボレートを用いる方法は、原料がジアルキルシ
ランである場合のみに適用可能であり、かつ製造設備と
してバキュームラインやドライボックスを使用する必要
がある。従ってこれらの方法は工業的に全く満足できる
方法ではない。そこでクロロシラン類のフッ素化剤とし
て、安価で毒性が低くかつ反応性の高い試剤の開発が望
まれていた。
換法以外の、フルオロシラン類の製造方法としては、
（１）直接法、（２）アルコキシシラン類のフッ素化、
（３）ヒドロシランのフッ素化による方法が知られてい
る。しかし、（１）の直接法は、金属ケイ素を触媒量の
銅等の金属の存在下にフルオロアルカンまたはフルオロ
アレーンと反応させて、ジアルキルジフルオロシランま
たはジアリールジフルオロシランを製造する方法である
が、４００℃もの高温が必要である。（２）のアルコキ
シシラン類のフッ素化は、原料として、クロロシラン類
よりも工業的に高価なアルコキシシラン類を用いる点
で、工業的に有利ではない。さらにフッ素化剤としてＮ
ａＨＦ２ 、ＫＨＦ２ のようなアルカリ金属フッ化物を
用いる方法では、副生するアルコールをカルシウムクロ
リド等を用いて除去する必要がある。また、フッ素化剤
として高腐食性のフッ化水素を用いる方法も、反応容器
を耐食性の極めて高い容器にする必要があり、工業的に
満足できる方法ではない。三フッ化ホウ素を用いる方法
では高価なエーテル系溶媒を使用する必要があり工業的
に満足できる方法ではない。（３）のヒドロシランのフ
ッ素化による方法も、原料のヒドロシラン類がクロロシ
ラン類よりも格段に高価である点で、工業的に不利な方
法である。さらにヒドロシラン類のフッ素化剤として、
ＮＨ４ Ｆ、ＮＨ４ＨＦ２ 等のアンモニウムフルオリド
を用いる方法ではアミン等の塩基を溶媒として用いる必
要がある。フッ素化剤としてトリフェニルメチルテトラ
フルオロボレートを用いる方法は、原料がジアルキルシ
ランである場合のみに適用可能であり、かつ製造設備と
してバキュームラインやドライボックスを使用する必要
がある。従ってこれらの方法は工業的に全く満足できる
方法ではない。そこでクロロシラン類のフッ素化剤とし
て、安価で毒性が低くかつ反応性の高い試剤の開発が望
まれていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、フルオロシ
ラン類を効率的に製造する方法の提供をその課題とす
る。
ラン類を効率的に製造する方法の提供をその課題とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、クロロシラン類とフ
ッ化水素カリウム類、ＫＦ（ＨＦ）ｎ（ただしｎは１．
５≦ｎ≦５の数）とが迅速に反応しフルオロシラン類を
生成するという新規な事実を見い出し、この知見に基づ
いて本発明を完成させるにいたった。すなわち本発明に
よれば、クロロシラン類とフッ化水素カリウム類とを反
応させてフルオロシランを製造することを特徴とするフ
ルオロシラン類の製造方法が提供される。
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、クロロシラン類とフ
ッ化水素カリウム類、ＫＦ（ＨＦ）ｎ（ただしｎは１．
５≦ｎ≦５の数）とが迅速に反応しフルオロシラン類を
生成するという新規な事実を見い出し、この知見に基づ
いて本発明を完成させるにいたった。すなわち本発明に
よれば、クロロシラン類とフッ化水素カリウム類とを反
応させてフルオロシランを製造することを特徴とするフ
ルオロシラン類の製造方法が提供される。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明においては原料として用い
るクロロシラン類は、少なくとも一つ以上のＳｉ−Ｃｌ
結合を有するものであればいかなるものであっても良
い。ケイ素原子が環構造の構成元素の一つである場合や
高分子構造の構成元素の一つであってもよい。このよう
な本発明の出発原料はＳｉ−Ｃｌ結合を有していること
以外は特に制限はない。具体的にはシランのほか、ジシ
ラン以上のポリシランなどのシラン化合物である。ケイ
素原子上の置換基の例としては水素原子、アルキル基
（好ましくは炭素数１〜３６のもの、より好ましくは１
〜１２のもの）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数
３〜２４のもの、より好ましくは４〜１２のもの）、ア
ラルキル基（好ましくは炭素数７〜４０のもの、より好
ましくは７〜２０のもの）、アリール基（好ましくは炭
素数６〜３０のもの、より好ましくは６〜１４のも
の）、シリル基、シロキシ基等が挙げられる。さらに具
体的にこれらクロロシラン類を例示すると、トリエチル
クロロシラン、オクチルジメチルクロロシラン、ｉ−プ
ロピルジメチルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチルクロ
ロシラン、ジメチルクロロシラン、メチルジクロロシラ
ン、ヘキシルトリクロロシラン、ジシクロヘキシルジク
ロロシラン、ベンジルジメチルクロロシラン、トリフェ
ニルクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、フェニ
ルトリクロロシラン、ジフェニルクロロシラン、フェニ
ルジクロロシラン、フェニルクロロシラン、フェニルジ
メチルクロロシラン、１−ナフチルジメチルクロロシラ
ン、ジメシチルジクロロシラン、１，１−ジクロロ−１
−シラシクロペンタン、１、２−ジクロロ−１、１、
２、２−テトラメチルジシラン、１、２−ジクロロ−２
−フェニル−１、１、２−トリメチルジシラン、１，３
−ジクロロ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキ
サン、ポリ｛（メチルクロロシリレン）（トリメチレ
ン）｝等が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。
るクロロシラン類は、少なくとも一つ以上のＳｉ−Ｃｌ
結合を有するものであればいかなるものであっても良
い。ケイ素原子が環構造の構成元素の一つである場合や
高分子構造の構成元素の一つであってもよい。このよう
な本発明の出発原料はＳｉ−Ｃｌ結合を有していること
以外は特に制限はない。具体的にはシランのほか、ジシ
ラン以上のポリシランなどのシラン化合物である。ケイ
素原子上の置換基の例としては水素原子、アルキル基
（好ましくは炭素数１〜３６のもの、より好ましくは１
〜１２のもの）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数
３〜２４のもの、より好ましくは４〜１２のもの）、ア
ラルキル基（好ましくは炭素数７〜４０のもの、より好
ましくは７〜２０のもの）、アリール基（好ましくは炭
素数６〜３０のもの、より好ましくは６〜１４のも
の）、シリル基、シロキシ基等が挙げられる。さらに具
体的にこれらクロロシラン類を例示すると、トリエチル
クロロシラン、オクチルジメチルクロロシラン、ｉ−プ
ロピルジメチルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチルクロ
ロシラン、ジメチルクロロシラン、メチルジクロロシラ
ン、ヘキシルトリクロロシラン、ジシクロヘキシルジク
ロロシラン、ベンジルジメチルクロロシラン、トリフェ
ニルクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、フェニ
ルトリクロロシラン、ジフェニルクロロシラン、フェニ
ルジクロロシラン、フェニルクロロシラン、フェニルジ
メチルクロロシラン、１−ナフチルジメチルクロロシラ
ン、ジメシチルジクロロシラン、１，１−ジクロロ−１
−シラシクロペンタン、１、２−ジクロロ−１、１、
２、２−テトラメチルジシラン、１、２−ジクロロ−２
−フェニル−１、１、２−トリメチルジシラン、１，３
−ジクロロ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキ
サン、ポリ｛（メチルクロロシリレン）（トリメチレ
ン）｝等が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。
【０００７】本発明で用いるフッ化水素カリウム類はＫ
Ｆ（ＨＦ）ｎ（ただしｎは１．５≦ｎ≦５の数）で示さ
れるものである。具体的に本発明で用いるフッ化水素カ
リウム類を例示すると、ＫＦ（ＨＦ）１．５ 、ＫＦ
（ＨＦ）２ 、ＫＦ（ＨＦ）２．５ 、ＫＦ（ＨＦ）
３ 、ＫＦ（ＨＦ）４ 等が挙げられるが、これらに限定
されるものではない。またこれらのフッ化水素カリウム
類を単独で、また２種類以上を混合して使用することも
本方法の形態に含まれる。
Ｆ（ＨＦ）ｎ（ただしｎは１．５≦ｎ≦５の数）で示さ
れるものである。具体的に本発明で用いるフッ化水素カ
リウム類を例示すると、ＫＦ（ＨＦ）１．５ 、ＫＦ
（ＨＦ）２ 、ＫＦ（ＨＦ）２．５ 、ＫＦ（ＨＦ）
３ 、ＫＦ（ＨＦ）４ 等が挙げられるが、これらに限定
されるものではない。またこれらのフッ化水素カリウム
類を単独で、また２種類以上を混合して使用することも
本方法の形態に含まれる。
【０００８】本発明の反応はフッ化水素カリウム類のフ
ッ素原子の数とクロロシラン類のＳｉ−Ｃｌ結合の数の
比が１以上になるようなモル比で行われるが、通常この
フッ素原子の数とＳｉ−Ｃｌ結合の数の比は１〜１０の
範囲で実施され、好ましくは１〜３の範囲である。
ッ素原子の数とクロロシラン類のＳｉ−Ｃｌ結合の数の
比が１以上になるようなモル比で行われるが、通常この
フッ素原子の数とＳｉ−Ｃｌ結合の数の比は１〜１０の
範囲で実施され、好ましくは１〜３の範囲である。
【０００９】本発明の反応によれば出発原料のＳｉ−Ｃ
ｌ結合の塩素原子は全てフッ素原子に置換されるのが好
ましいが、その結合が２個以上ある場合はそのうちの１
個だけが反応してもよい。本発明は特に溶媒を用いるこ
となく、容易に実施される。しかし溶媒の使用は反応の
生起にとって障害となるものでなく、必要に応じ溶媒中
で実施される。これらの溶媒の選択は、反応させるべき
クロロシラン類およびフッ化水素カリウム類の反応性を
考慮して、一般に用いられる溶媒、例えば芳香族炭化水
素系、飽和炭化水素系、脂肪族エーテル系、芳香族エー
テル系、脂肪族塩化物系、芳香族塩化物系の溶媒の中か
ら選ぶのが好ましい。
ｌ結合の塩素原子は全てフッ素原子に置換されるのが好
ましいが、その結合が２個以上ある場合はそのうちの１
個だけが反応してもよい。本発明は特に溶媒を用いるこ
となく、容易に実施される。しかし溶媒の使用は反応の
生起にとって障害となるものでなく、必要に応じ溶媒中
で実施される。これらの溶媒の選択は、反応させるべき
クロロシラン類およびフッ化水素カリウム類の反応性を
考慮して、一般に用いられる溶媒、例えば芳香族炭化水
素系、飽和炭化水素系、脂肪族エーテル系、芳香族エー
テル系、脂肪族塩化物系、芳香族塩化物系の溶媒の中か
ら選ぶのが好ましい。
【００１０】本発明の反応は一般的に室温で容易に進行
する。また０℃以下でも進行するが、原料物質の構造に
より、好ましい速度を達するために加熱することもでき
る。
する。また０℃以下でも進行するが、原料物質の構造に
より、好ましい速度を達するために加熱することもでき
る。
【００１１】本発明の生成物であるフルオロシラン類は
無機塩類を濾別することにより容易に単離される。この
他、蒸留、結晶化などの方法により単離することも、本
発明の方法の有利な態様に含まれる。
無機塩類を濾別することにより容易に単離される。この
他、蒸留、結晶化などの方法により単離することも、本
発明の方法の有利な態様に含まれる。
【００１２】
【実施例】次に本発明を実施例により更に詳細に説明す
るが、もとより本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。
るが、もとより本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。
【００１３】実施例１ フェニルクロロシラン（２０ｍｍｏｌ）とＫＦ（ＨＦ）
２ （１０ｍｍｏｌ）の混合物を試験管中に仕込み、０
℃にて４時間撹拌した。反応混合物の液層を１Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトルにより分析したところ、原料のフェニルク
ロロシランが完全に消費され、フェニルフルオロシラン
が１００％（シラン基準）の収率で生成していることが
示された。反応混合物を減圧下、０℃にて蒸留し、フェ
ニルフルオロシランを単離した（単離収率８２％）。得
られたフェニルフルオロシランの構造および純度は、
１Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル、赤外
吸収スペクトル、マススペクトルおよびガスクロマトグ
ラフィーにて確認した。
２ （１０ｍｍｏｌ）の混合物を試験管中に仕込み、０
℃にて４時間撹拌した。反応混合物の液層を１Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトルにより分析したところ、原料のフェニルク
ロロシランが完全に消費され、フェニルフルオロシラン
が１００％（シラン基準）の収率で生成していることが
示された。反応混合物を減圧下、０℃にて蒸留し、フェ
ニルフルオロシランを単離した（単離収率８２％）。得
られたフェニルフルオロシランの構造および純度は、
１Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル、赤外
吸収スペクトル、マススペクトルおよびガスクロマトグ
ラフィーにて確認した。
【００１４】比較例１ フェニルクロロシラン（２．５ｍｍｏｌ）に対して、Ｋ
Ｆ（ＨＦ）２ の代わりにＫＦ（ＨＦ）（２．５ｍｍｏ
ｌ）を用い、他は実施例１と同様に反応を行ない、反応
混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲスペクトルおよびガスク
ロマトグラフィーにより分析したところ、原料のフェニ
ルクロロシランが全く反応しないまま残存していること
が示された。さらに、反応温度を０℃から室温（約２０
℃）に上昇させ、反応時間を２日間とした後、同様に分
析したが、原料のフェニルクロロシランは全く反応しな
いまま残存していた。
Ｆ（ＨＦ）２ の代わりにＫＦ（ＨＦ）（２．５ｍｍｏ
ｌ）を用い、他は実施例１と同様に反応を行ない、反応
混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲスペクトルおよびガスク
ロマトグラフィーにより分析したところ、原料のフェニ
ルクロロシランが全く反応しないまま残存していること
が示された。さらに、反応温度を０℃から室温（約２０
℃）に上昇させ、反応時間を２日間とした後、同様に分
析したが、原料のフェニルクロロシランは全く反応しな
いまま残存していた。
【００１５】比較例２ フェニルクロロシランの代わりにフェニルシラン（２．
５ｍｍｏｌ）を用い、ＫＦ（ＨＦ）２ の量を（２．５
ｍｍｏｌ）とする他は、実施例１と同様に反応を行な
い、反応混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲおよびガスクロ
マトグラフィーにより分析したところ、原料のフェニル
シランが全く反応しないまま残存していることが示され
た。さらに、反応温度を０℃から室温（約２０℃）に上
昇させ、反応時間を１日間とした後、同様に分析した
が、原料のフェニルシランは全く反応しないまま残存し
ていた。
５ｍｍｏｌ）を用い、ＫＦ（ＨＦ）２ の量を（２．５
ｍｍｏｌ）とする他は、実施例１と同様に反応を行な
い、反応混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲおよびガスクロ
マトグラフィーにより分析したところ、原料のフェニル
シランが全く反応しないまま残存していることが示され
た。さらに、反応温度を０℃から室温（約２０℃）に上
昇させ、反応時間を１日間とした後、同様に分析した
が、原料のフェニルシランは全く反応しないまま残存し
ていた。
【００１６】実施例２ フェニルクロロシラン（２．５ｍｍｏｌ）とＫＦ（Ｈ
Ｆ）４ （０．６５ｍｍｏｌ）の混合物を試験管中に仕
込み、０℃にて１時間撹拌した。反応混合物の液層を
１Ｈ−ＮＭＲにより分析したところ、原料のフェニルク
ロロシランが完全に消費され、フェニルフルオロシラン
が１００％（シラン基準）の収率で生成していることが
示された。
Ｆ）４ （０．６５ｍｍｏｌ）の混合物を試験管中に仕
込み、０℃にて１時間撹拌した。反応混合物の液層を
１Ｈ−ＮＭＲにより分析したところ、原料のフェニルク
ロロシランが完全に消費され、フェニルフルオロシラン
が１００％（シラン基準）の収率で生成していることが
示された。
【００１７】実施例３ ジフェニルクロロシラン（２０ｍｍｏｌ）とＫＦ（Ｈ
Ｆ）２ （７．２４ｍｍｏｌ）の混合物を試験管中に仕
込み、２５℃にて１８時間撹拌した。反応混合物の液層
を １Ｈ−ＮＭＲにより分析したところ、原料のジフェ
ニルクロロシランが完全に消費され、ジフェニルフルオ
ロシランが１００％（シラン基準）の収率で生成してい
ることが示された。反応混合物から液層を濾別後、減圧
蒸留し、ジフェニルフルオロシランを単離した（単離収
率９２％）。得られたジフェニルフルオロシランの構造
および純度は、 １Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭＲ
スペクトル、赤外吸収スペクトル、マススペクトルおよ
びガスクロマトグラフィーにて確認した。
Ｆ）２ （７．２４ｍｍｏｌ）の混合物を試験管中に仕
込み、２５℃にて１８時間撹拌した。反応混合物の液層
を １Ｈ−ＮＭＲにより分析したところ、原料のジフェ
ニルクロロシランが完全に消費され、ジフェニルフルオ
ロシランが１００％（シラン基準）の収率で生成してい
ることが示された。反応混合物から液層を濾別後、減圧
蒸留し、ジフェニルフルオロシランを単離した（単離収
率９２％）。得られたジフェニルフルオロシランの構造
および純度は、 １Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭＲ
スペクトル、赤外吸収スペクトル、マススペクトルおよ
びガスクロマトグラフィーにて確認した。
【００１８】比較例３ ジフェニルクロロシラン（４ｍｍｏｌ）に対して、ＫＦ
（ＨＦ）２ の代わりにＫＦ（ＨＦ）（２．１ｍｍｏ
ｌ）を用い、他は実施例３と同様に反応を行ない、反応
混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより分析し
たところ、原料のジフェニルクロロシランが全く反応し
ないまま残存していることが示された。さらに、反応温
度を２５℃から５０℃に上昇させ、反応時間を１日間と
した後、同様に分析したが、原料のジフェニルクロロシ
ランは全く反応しないまま残存していた。
（ＨＦ）２ の代わりにＫＦ（ＨＦ）（２．１ｍｍｏ
ｌ）を用い、他は実施例３と同様に反応を行ない、反応
混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより分析し
たところ、原料のジフェニルクロロシランが全く反応し
ないまま残存していることが示された。さらに、反応温
度を２５℃から５０℃に上昇させ、反応時間を１日間と
した後、同様に分析したが、原料のジフェニルクロロシ
ランは全く反応しないまま残存していた。
【００１９】実施例４ ジフェニルクロロシランの代わりにフェニルジメチルク
ロロシランを用いる他は、実施例３と同様に反応を行な
い、４時間後、反応混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲおよ
びガスクロマトグラフィーにより分析したところ、原料
のフェニルジメチルクロロシランが完全に消費され、フ
ェニルジメチルフルオロシランが１００％（シラン基
準）の収率で生成していることが示された。反応混合物
から液層を濾別後、減圧蒸留し、フェニルジメチルフル
オロシランを単離した（単離収率８５％）。得られたフ
ェニルジメチルフルオロシランの構造および純度は、
１Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル、赤外
吸収スペクトル、マススペクトルおよびガスクロマトグ
ラフィーにて確認した。
ロロシランを用いる他は、実施例３と同様に反応を行な
い、４時間後、反応混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲおよ
びガスクロマトグラフィーにより分析したところ、原料
のフェニルジメチルクロロシランが完全に消費され、フ
ェニルジメチルフルオロシランが１００％（シラン基
準）の収率で生成していることが示された。反応混合物
から液層を濾別後、減圧蒸留し、フェニルジメチルフル
オロシランを単離した（単離収率８５％）。得られたフ
ェニルジメチルフルオロシランの構造および純度は、
１Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル、赤外
吸収スペクトル、マススペクトルおよびガスクロマトグ
ラフィーにて確認した。
【００２０】実施例５ ジフェニルクロロシランの代わりにオクチルジメチルク
ロロシランを用いる他は、実施例３と同様に反応を行な
い、２日後、反応混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲおよび
ガスクロマトグラフィーにより分析したところ、原料の
オクチルジメチルクロロシランが完全に消費され、オク
チルジメチルフルオロシランが１００％（シラン基準）
の収率で生成していることが示された。反応混合物から
液層を濾別後、減圧蒸留し、オクチルジメチルフルオロ
シランを単離した（単離収率９６％）。得られたオクチ
ルジメチルフルオロシランの構造および純度は、 １Ｈ
−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル、赤外吸収
スペクトル、マススペクトルおよびガスクロマトグラフ
ィーにて確認した。
ロロシランを用いる他は、実施例３と同様に反応を行な
い、２日後、反応混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲおよび
ガスクロマトグラフィーにより分析したところ、原料の
オクチルジメチルクロロシランが完全に消費され、オク
チルジメチルフルオロシランが１００％（シラン基準）
の収率で生成していることが示された。反応混合物から
液層を濾別後、減圧蒸留し、オクチルジメチルフルオロ
シランを単離した（単離収率９６％）。得られたオクチ
ルジメチルフルオロシランの構造および純度は、 １Ｈ
−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル、赤外吸収
スペクトル、マススペクトルおよびガスクロマトグラフ
ィーにて確認した。
【００２１】実施例６ １，１−ジクロロシラシクロペンタン（２０ｍｍｏｌ）
とＫＦ（ＨＦ）２ （１４．３ｍｍｏｌ）の混合物を、
２５℃にて２日間撹拌した。反応混合物の液層を １Ｈ
−ＮＭＲにより分析したところ、原料の１，１−ジクロ
ロシラシクロペンタンが完全に消費され、１，１−ジフ
ルオロシラシクロペンタンが１００％（シラン基準）の
収率で生成していることが示された。反応混合物から液
層を濾別後、減圧蒸留し、１，１−ジフルオロシラシク
ロペンタンを単離した（単離収率６５％）。得られた
１，１−ジフルオロシラシクロペンタンの構造および純
度は、 １Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクト
ル、赤外吸収スペクトル、マススペクトルおよびガスク
ロマトグラフィーにて確認した。
とＫＦ（ＨＦ）２ （１４．３ｍｍｏｌ）の混合物を、
２５℃にて２日間撹拌した。反応混合物の液層を １Ｈ
−ＮＭＲにより分析したところ、原料の１，１−ジクロ
ロシラシクロペンタンが完全に消費され、１，１−ジフ
ルオロシラシクロペンタンが１００％（シラン基準）の
収率で生成していることが示された。反応混合物から液
層を濾別後、減圧蒸留し、１，１−ジフルオロシラシク
ロペンタンを単離した（単離収率６５％）。得られた
１，１−ジフルオロシラシクロペンタンの構造および純
度は、 １Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクト
ル、赤外吸収スペクトル、マススペクトルおよびガスク
ロマトグラフィーにて確認した。
【００２２】実施例７ １，２−ジクロロ−２−フェニル−１，１，２−トリメ
チルジシラン（７．５ｍｍｏｌ）とＫＦ（ＨＦ）２
（５．８５ｍｍｏｌ）の混合物を試験管中に仕込み、２
５℃にて１日間撹拌した。反応混合物の液層を １Ｈ−
ＮＭＲにより分析したところ、原料の１，２−ジクロロ
−２−フェニル−１，１，２−トリメチルジシランが完
全に消費され、１，２−ジフルオロ−２−フェニル−
１，１，２−トリメチルジシランが１００％（シラン基
準）の収率で生成していることが示された。反応混合物
から液層を濾別後、減圧蒸留し、１，２−ジフルオロ−
２−フェニル−１，１，２−トリメチルジシランを単離
した（単離収率９７％）。得られた１，２−ジフルオロ
−２−フェニル−１，１，２−トリメチルジシランの構
造および純度は、 １Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭ
Ｒスペクトル、赤外吸収スペクトル、マススペクトルお
よびガスクロマトグラフィーにて確認した。
チルジシラン（７．５ｍｍｏｌ）とＫＦ（ＨＦ）２
（５．８５ｍｍｏｌ）の混合物を試験管中に仕込み、２
５℃にて１日間撹拌した。反応混合物の液層を １Ｈ−
ＮＭＲにより分析したところ、原料の１，２−ジクロロ
−２−フェニル−１，１，２−トリメチルジシランが完
全に消費され、１，２−ジフルオロ−２−フェニル−
１，１，２−トリメチルジシランが１００％（シラン基
準）の収率で生成していることが示された。反応混合物
から液層を濾別後、減圧蒸留し、１，２−ジフルオロ−
２−フェニル−１，１，２−トリメチルジシランを単離
した（単離収率９７％）。得られた１，２−ジフルオロ
−２−フェニル−１，１，２−トリメチルジシランの構
造および純度は、 １Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭ
Ｒスペクトル、赤外吸収スペクトル、マススペクトルお
よびガスクロマトグラフィーにて確認した。
【００２３】実施例８ トリフェニルクロロシラン（５ｍｍｏｌ）とＫＦ（Ｈ
Ｆ）２ （３．６２ｍｍｏｌ）およびジオキサン（３ｍ
ｌ）の混合物を、試験管中に仕込み、２５℃にて２日間
撹拌した。反応混合物の液層をガスクロマトグラフィー
により分析したところ、原料のトリフェニルクロロシラ
ンが完全に消費され、トリフェニルフルオロシランが１
００％（シラン基準）の収率で生成していることが示さ
れた。反応混合物から液層を濾別、濃縮後、ヘキサンか
ら結晶化し、トリフェニルフルオロシランを単離した
（単離収率８５％）。得られたトリフェニルフルオロシ
ランの構造および純度は、 １Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓ
ｉ−ＮＭＲスペクトル、赤外吸収スペクトル、マススペ
クトルおよびガスクロマトグラフィーにて確認した。
Ｆ）２ （３．６２ｍｍｏｌ）およびジオキサン（３ｍ
ｌ）の混合物を、試験管中に仕込み、２５℃にて２日間
撹拌した。反応混合物の液層をガスクロマトグラフィー
により分析したところ、原料のトリフェニルクロロシラ
ンが完全に消費され、トリフェニルフルオロシランが１
００％（シラン基準）の収率で生成していることが示さ
れた。反応混合物から液層を濾別、濃縮後、ヘキサンか
ら結晶化し、トリフェニルフルオロシランを単離した
（単離収率８５％）。得られたトリフェニルフルオロシ
ランの構造および純度は、 １Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓ
ｉ−ＮＭＲスペクトル、赤外吸収スペクトル、マススペ
クトルおよびガスクロマトグラフィーにて確認した。
【００２４】実施例９ ＫＦ（ＨＦ）２ の量を１．８１ｍｍｏｌにする以外は
実施例８と同様に反応を行い、１日後に反応混合物の液
層をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、ト
リフェニルフルオロシランが４７％（シラン基準）の収
率で生成していることが示された。この時、原料のトリ
フェニルクロロシランは５３％残存していた。さらに２
週間撹拌を継続し、同様に分析したところ、トリフェニ
ルフルオロシランが９５％（シラン基準）の収率で生成
していることが確認された。
実施例８と同様に反応を行い、１日後に反応混合物の液
層をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、ト
リフェニルフルオロシランが４７％（シラン基準）の収
率で生成していることが示された。この時、原料のトリ
フェニルクロロシランは５３％残存していた。さらに２
週間撹拌を継続し、同様に分析したところ、トリフェニ
ルフルオロシランが９５％（シラン基準）の収率で生成
していることが確認された。
【００２５】実施例１０ 溶媒をジオキサンの代わりに１，２−ジクロロエタンに
する以外は実施例９と同様に反応を行い、１日後に反応
混合物の液層をガスクロマトグラフィーにより分析した
ところ、トリフェニルフルオロシランが３９％（シラン
基準）の収率で生成していることが示された。この時、
原料のトリフェニルクロロシランは６１％残存してい
た。さらに２週間撹拌を継続し、同様に分析したとこ
ろ、トリフェニルフルオロシランが８０％（シラン基
準）の収率で生成し、原料のトリフェニルクロロシラン
が２０％残存していていることが確認された。
する以外は実施例９と同様に反応を行い、１日後に反応
混合物の液層をガスクロマトグラフィーにより分析した
ところ、トリフェニルフルオロシランが３９％（シラン
基準）の収率で生成していることが示された。この時、
原料のトリフェニルクロロシランは６１％残存してい
た。さらに２週間撹拌を継続し、同様に分析したとこ
ろ、トリフェニルフルオロシランが８０％（シラン基
準）の収率で生成し、原料のトリフェニルクロロシラン
が２０％残存していていることが確認された。
【００２６】実施例１１ 溶媒をジオキサンの代わりにベンゼンにする以外は実施
例８と同様に反応を行い、２日後に反応混合物の液層を
ガスクロマトグラフィーにより分析したところ、トリフ
ェニルフルオロシランが５７％（シラン基準）の収率で
生成していることが示された。この時、原料のトリフェ
ニルクロロシランは４３％残存していた。
例８と同様に反応を行い、２日後に反応混合物の液層を
ガスクロマトグラフィーにより分析したところ、トリフ
ェニルフルオロシランが５７％（シラン基準）の収率で
生成していることが示された。この時、原料のトリフェ
ニルクロロシランは４３％残存していた。
【００２７】実施例１２ １，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトラフェニルジ
シロキサン（２．５ｍｍｏｌ）とＫＦ（ＨＦ）２
（１．８１ｍｍｏｌ）およびジオキサン（３ｍｌ）の混
合物を、試験管中に仕込み、２５℃にて１日間撹拌し
た。反応混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲおよびガスクロ
マトグラフィーにより分析したところ、原料の１，３−
ジクロロ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサ
ンが完全に消費され、１，３−ジフルオロ−１，１，
３，３−テトラフェニルジシロキサンが１００％（シラ
ン基準）の収率で生成していることが示された。反応混
合物から液層を濾別後、減圧蒸留し、１，３−ジフルオ
ロ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサンを単
離した（単離収率９２％）。得られた１，３−ジフルオ
ロ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサンの構
造および純度は、 １Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭ
Ｒスペクトル、赤外吸収スペクトル、マススペクトルお
よびガスクロマトグラフィーにて確認した。
シロキサン（２．５ｍｍｏｌ）とＫＦ（ＨＦ）２
（１．８１ｍｍｏｌ）およびジオキサン（３ｍｌ）の混
合物を、試験管中に仕込み、２５℃にて１日間撹拌し
た。反応混合物の液層を １Ｈ−ＮＭＲおよびガスクロ
マトグラフィーにより分析したところ、原料の１，３−
ジクロロ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサ
ンが完全に消費され、１，３−ジフルオロ−１，１，
３，３−テトラフェニルジシロキサンが１００％（シラ
ン基準）の収率で生成していることが示された。反応混
合物から液層を濾別後、減圧蒸留し、１，３−ジフルオ
ロ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサンを単
離した（単離収率９２％）。得られた１，３−ジフルオ
ロ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサンの構
造および純度は、 １Ｈ−、１３Ｃ−、２９Ｓｉ−ＮＭ
Ｒスペクトル、赤外吸収スペクトル、マススペクトルお
よびガスクロマトグラフィーにて確認した。
【００２８】実施例１３ ポリ｛（メチルクロロシリレン）（トリメチレン）｝
（重量平均分子量１６．５万、分散度１．７８、モノマ
ーユニットとして５ｍｍｏｌ）とＫＦ（ＨＦ）２（１．
８ｍｍｏｌ）およびベンゼン（３ｍｌ）の混合物を、試
験管中に仕込み、２５℃にて２日間撹拌した。反応混合
物を １Ｈ、１３Ｃ−、および２９Ｓｉ−ＮＭＲスペク
トルにより分析したところ、ポリ｛（メチルフルオロシ
リレン）（トリメチレン）｝が１００％（シラン基準）
の収率で生成していることが示された。反応混合物を濾
別し、液層を濃縮乾固してポリ｛（メチルフルオロシリ
レン）（トリメチレン）｝を単離した。
（重量平均分子量１６．５万、分散度１．７８、モノマ
ーユニットとして５ｍｍｏｌ）とＫＦ（ＨＦ）２（１．
８ｍｍｏｌ）およびベンゼン（３ｍｌ）の混合物を、試
験管中に仕込み、２５℃にて２日間撹拌した。反応混合
物を １Ｈ、１３Ｃ−、および２９Ｓｉ−ＮＭＲスペク
トルにより分析したところ、ポリ｛（メチルフルオロシ
リレン）（トリメチレン）｝が１００％（シラン基準）
の収率で生成していることが示された。反応混合物を濾
別し、液層を濃縮乾固してポリ｛（メチルフルオロシリ
レン）（トリメチレン）｝を単離した。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、少なくとも一つ以上の
Ｓｉ−Ｃｌ結合を有するクロロシラン類と、ＫＦ（Ｈ
Ｆ）ｎ（ただしｎは１．５≦ｎ≦５の数）で示されるフ
ッ化水素カリウム類からフルオロシラン類を効率的に製
造することができる。従って本発明の産業的意義は多大
である。
Ｓｉ−Ｃｌ結合を有するクロロシラン類と、ＫＦ（Ｈ
Ｆ）ｎ（ただしｎは１．５≦ｎ≦５の数）で示されるフ
ッ化水素カリウム類からフルオロシラン類を効率的に製
造することができる。従って本発明の産業的意義は多大
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−241806（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−198784（ＪＰ，Ａ) Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．, 1995，70（１），ｐ．１−３ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，1995，５，ｐ. 515−517 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07F 7/12
Claims (1)
- 【請求項１】 （ａ）少なくとも一つ以上のＳｉ−Ｃｌ
結合を有するクロロシラン類を （ｂ）ＫＦ（ＨＦ）ｎ（ただしｎは１．５≦ｎ≦５の
数）で示されるフッ化水素カリウム類とを反応させてフ
ルオロシランを製造することを特徴とするフルオロシラ
ン類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16214897A JP3208423B2 (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | フルオロシラン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16214897A JP3208423B2 (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | フルオロシラン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1112287A JPH1112287A (ja) | 1999-01-19 |
| JP3208423B2 true JP3208423B2 (ja) | 2001-09-10 |
Family
ID=15748959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16214897A Expired - Lifetime JP3208423B2 (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | フルオロシラン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3208423B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20170101299A (ko) * | 2015-11-09 | 2017-09-05 | 와커 헤미 아게 | 시아노알킬 플루오로실란의 제조 방법 |
-
1997
- 1997-06-19 JP JP16214897A patent/JP3208423B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．，１９９５，７０（１），ｐ．１−３ |
| Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９９５，５，ｐ．５１５−５１７ |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20170101299A (ko) * | 2015-11-09 | 2017-09-05 | 와커 헤미 아게 | 시아노알킬 플루오로실란의 제조 방법 |
| KR102017403B1 (ko) * | 2015-11-09 | 2019-09-02 | 와커 헤미 아게 | 시아노알킬 플루오로실란의 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1112287A (ja) | 1999-01-19 |
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