JP3191535B2 - 液晶配向剤および液晶表示素子 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶配向剤および液晶表
示素子に関する。さらに詳しくは、ラビング時に傷つき
にくい液晶配向膜を得ることのできる液晶配向剤および
当該液晶配向剤から得られる液晶配向膜を具備してなる
液晶表示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、正の誘電異方性を有するネマチッ
ク型液晶を、ポリイミドなどからなる液晶配向膜を有す
る透明電極付き基板でサンドイッチ構造にし、液晶分子
の長軸が基板間で９０〜２７０度連続的に捻れるように
してなるＴＮ，ＳＴＮ型液晶セルを有する液晶表示素子
（ＴＮ，ＳＴＮ型表示素子）が知られている。このＴ
Ｎ，ＳＴＮ型表示素子における液晶の配向は、ラビング
処理が施された液晶配向膜により形成されているが、ラ
ビング時の摩擦により、液晶配向膜が傷つき、表示特性
に影響を及ぼすという問題を有している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
従来の問題点を解決するため、ラビング時に傷つきにく
い液晶配向膜を得ることのできる液晶配向剤に関する。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記問題点につき、鋭意
検討した結果、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン
化合物とを反応させて得られる重合体及び／またはその
イミド化重合体と、ジアジド化合物を含有する液晶配向
剤を用いることで、ラビング時に傷つきにくい液晶配向
膜が得られることを見いだした。

【０００５】本発明によれば、本発明の上記目的及び利
点は、下記成分（ａ）及び（ｂ）を含有することを特徴
とする液晶配向剤により達成することができる。 （ａ）テトラカルボン酸二無水物（以下「化合物Ｉ」と
いう）及びジアミン化合物（以下「化合物ＩＩ」とい
う）とを反応させて得られる重合体（以下「特定重合体
Ｉ」という）及び／またはそのイミド化重合体（以下
「特定重合体ＩＩ」という）。 （ｂ）ジアジド化合物（以下「化合物ＩＩＩ」とい
う）。

【０００６】本発明において用いられる化合物Ｉとして
は、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，
３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，
２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水
物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二
無水物、テトラシクロ［６，２，１，１，０^2,7］ドデ
カン−４，５，９，１０−テトラカルボン酸二無水物、
３，５，６−トリカルボキシノルボルナン−２−酢酸二
無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカ
ルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキ
サヒドロ−５−テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−
フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−
ジオン、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラニ
ル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカ
ルボン酸二無水物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−
７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物
などの脂肪族及び脂環族テトラカルボン酸二無水物；ピ
ロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’
−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，
４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカ
ルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフ
ェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，
４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無
水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水
物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキ
シ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホ
ン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフ
ェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，
４，４’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二
無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオ
キサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニ
ルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフ
ェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル
酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス
（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルメタ
ン二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙
げることができる。これらのうちではブタンテトラカル
ボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシク
ロペンチル酢酸二無水物、テトラシクロ［６，２，１，
１，０^2,7］ドデカン−４，５，９，１０−テトラカル
ボン酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ
フラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−
ジカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−
ヘキサヒドロ−５−テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−
３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，
３−ジオン、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，
４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，
３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸
二無水物、、３，３’，４，４’−パーフルオロイソプ
ロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。

【０００７】本発明において用いられる化合物ＩＩとし
ては、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレン
ジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，
４’−ジアミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノ
ジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニル
スルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、
１，５−ジアミノナフタレン、３，３’−ジメチル−
４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノベ
ンズアニリド、３，４’−ジアミノジフェニルエーテ
ル、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジ
アミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェ
ノン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フ
ェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ス
ルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼ
ン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）
ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロ
ピリデン）ビスアニリン、１，３−ビス（４−アミノフ
ェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノ
キシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）
−１０−ヒドロアントラセン、９，９−ビス（４−アミ
ノフェニル）フルオレン、４，４’−メチレン−ビス
（２−クロロアニリン）、２，２’，５，５’−テトラ
クロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジ
クロロ−４，４’−ジアミノ−５，５’−ジメトキシビ
フェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノ
ビフェニルなどの芳香族ジアミン；ジアミノテトラフェ
ニルチオフェンなどのヘテロ原子を有する芳香族ジアミ
ン；１，１−メタキシリレンジアミン、１，２−エチレ
ンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレ
ンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジ
アミン、ノナメチレンジアミン、１，４−ジアミノシク
ロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシク
ロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−
メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ
［６，２，１，０^2.7］−ウンデシレンジメチルジアミ
ン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）
などの脂肪族または脂環族ジアミン；

【０００８】

【化１】

【０００９】（式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピ
ル基などのアルキル基、シクロヘキシル基などのシクロ
アルキル基またはフェニル基などのアリール基のような
炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、ｐは１〜３、ｑは
１〜２０のそれぞれ整数を示す）などで表されるジアミ
ノオルガノシロキサンが挙げられる。これらのうち、ｐ
−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニル
メタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，
２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プ
ロパン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレ
ン 、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フ
ェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−
アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパンが好ましい。
これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用でき
る。また、これらジアミンは市販品をそのまま使用して
も、再還元して使用してもよい。

【００１０】本発明に用いられる特定重合体Ｉは、化合
物Ｉと化合物ＩＩの反応により得られる。かかる反応は
有機溶媒中で、通常０〜１５０℃、好ましくは０〜１０
０℃の温度で行われる。

【００１１】反応に用いられる上記有機溶媒としては、
化合物Ｉ，化合物ＩＩ及び反応で生成する特定重合体Ｉ
を溶解しうるものであれば特に制限はない。例えば、γ
−ブチロラクトン，Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキ
サメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン系極性溶
媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロ
ゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒を挙げること
ができる。有機溶媒の使用量は、通常、化合物Ｉ及び全
アミン化合物（化合物ＩＩ＋モノアミン）の総量が、反
応溶液の全量に対して０．１〜３０重量％になるように
するのが好ましい。

【００１２】化合物Ｉとジアミン化合物の使用割合は、
ジアミン化合物中のアミノ基１当量に対してテトラカル
ボン酸二無水物の酸無水物基を０．２〜２当量とするの
が好ましく、より好ましくは０．３〜１．４当量であ
る。

【００１３】本発明に用いられる特定重合体ＩＩは、上
記した特定重合体Ｉを、加熱して、または脱水剤及びイ
ミド化触媒の存在下でイミド化することにより得られ
る。加熱によりイミド化する場合の反応温度は、通常６
０〜２００℃、好ましくは１００〜１７０℃である。反
応温度が６０℃未満では反応の進行が遅れ、また２００
℃を越えると可溶性ポリイミドの分子量が大きく低下す
ることがある。また、脱水剤及びイミド化触媒の存在下
でイミド化する場合の反応は、前記した有機溶媒中で行
うことができる。反応温度は、通常０〜１８０℃、好ま
しくは６０〜１５０℃である。脱水剤としては、無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸
無水物を用いることができる。また、イミド化触媒とし
ては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチ
ルアミンなどの３級アミンを用いることができるが、こ
れらに限定されるものではない。脱水剤の使用量は、特
定重合体Ｉの繰り返し単位１モルに対して１．６〜２０
モルとするのが好ましい。また、イミド化触媒の使用量
は使用する脱水剤１モルに対し、０．５〜１０モルとす
るのが好ましい。

【００１４】このようにして得られる特定重合体Ｉ及び
／または特定重合体ＩＩの固有粘度［η_inh＝（ｌｎ η
ｒｅｌ／Ｃ、Ｃ＝０．５ｇ／ｄｌ、３０℃、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン中、以下同条件にて固有粘度を測定］
は、通常、０．０５〜１０ｄｌ／ｇ、好ましくは０．０
５〜５ｄｌ／ｇである。

【００１５】なお、前記有機溶媒には、貧溶媒であるア
ルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、ハロ
ゲン化炭化水素類、炭化水素類を生成する重合体が析出
しない程度に併用することができる。かかる貧溶媒とし
ては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジ
オール、トリエチレングリコール、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シュウ酸ジ
エチル、マロン酸ジエチル、ジエチルエーテル、メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコール−
ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｉ−プロ
ピルエーテル、ブチルセロソルブ、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、１，２−ジクロ
ロエタン、１，４−ジクロロブタン、トリクロロエタ
ン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどを挙げることができる。

【００１６】本発明において用いられる化合物IIIとし
ては、例えば４，４’−ジアジドスチルベン、４，４’
−ジアジドスチルベン−２，２’−ジスルホン酸ナトリ
ウム、１，５−ジアジドナフタレン、１，５−ジアジド
ナフタレン−３，７−ジスルホン酸ナトリウム、４，
４’−ジアジドベンゾフェノン、４，４’−ジアジドジ
フェニルメタン、４，４’−ジアジドカルコン、４，
４’−ジアジドベンザルアセトン、２，６−ジ（４−ア
ジドベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ジ（４−ア
ジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、６−ア
ジド−２−（４’−アジドスチリル）ベンズイミダゾー
ル、２，６−ジ（４−アジドベンザル）シクロペンタノ
ン、４，４’−ジアジドビフェニル、３，３’−ジアジ
ドビフェニル、４，４’−ジアジドジフェニルメタン、
３，３’−ジアジドジフェニルメタン、４，４’−ジア
ジドジフェニルエタン、３，３’−ジアジドジフェニル
エタン、４，４’−ジアジドジフェニルエーテル、３，
３’−ジアジドジフェニルエーテル、４，４’−ジアジ
ドジフェニルスルフィド、３，３’−ジアジドジフェニ
ルスルフィド、４，４’−ジアジドジフェニルスルフォ
ン、３，３’−ジアジドジフェニルスルフォンなどのジ
アジド化合物を挙げることができる。これらのうち、
２，６−ジ（４−アジドベンザル）シクロヘキサノン、
２，６−ジ（４−アジドベンザル）−４−メチルシクロ
ヘキサノンが好ましい。

【００１７】本発明の液晶配向剤は、特定重合体Ｉ及び
／または特定重合体ＩＩを含有する溶液に化合物ＩＩＩ
を添加することにより得られる。この際の溶媒としては
前述の溶剤を挙げることができる。

【００１８】特定重合体Ｉ及び／または特定重合体ＩＩ
１００重量部に対する化合物ＩＩＩの割合は、０．１
〜２０重量部であり、化合物ＩＩＩの割合が０．１重量
部未満であるとラビング傷防止の効果が少なく、また、
化合物ＩＩＩの割合が２０重量部を越えると溶液の保存
安定性が悪くなる。

【００１９】本発明の液晶配向剤は、特定重合体Ｉを含
有するが、これらの特定重合体の分子量を調節し、最適
な基板への塗布性を実現するために、モノアミンを反応
時に添加してもよい。

【００２０】この際に用いるモノアミンとして、例えば
アニリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、
ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチ
ルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ
−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシル
アミン、ｎ−トリデシルアミン、ｎ−テトラデシルアミ
ン、ｎ−ペンタデシルアミン、ｎ−ヘキサデシルアミ
ン、ｎ−ヘプタデシルアミン、ｎ−オクタデシルアミ
ン、ｎ−エイコシルアミンなどを挙げることができる。

【００２１】また、本発明の液晶配向剤は、特定重合体
Ｉと基板との接着性を改善する目的で、官能性シラン含
有化合物を含有することができる。

【００２２】官能性シラン含有化合物としては、例えば
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプ
ロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリ
エトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル
−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエ
トキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−ト
リメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１
０−トリメトキシイシリル−１，４，７−トリアザデカ
ン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザ
デカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニ
ルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジア
ザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレ
ン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビ
ス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキ
シシランなどが挙げられる。

【００２３】本発明の液晶配向剤を用いて得られる液晶
表示素子は、例えば次の方法によって製造することがで
きる。

【００２４】まず、透明導電膜が設けられた基板の透明
導電膜側に、本発明の液晶配向剤を印刷により塗布し、
８０〜２００℃、好ましくは１２０〜２００℃の温度で
加熱して塗膜を形成させる。この塗膜は、通常、０．０
０１〜１μｍ、好ましくは０．００５〜０．５μｍであ
る。

【００２５】上記の様に形成された塗膜は、ナイロンな
どの合成繊維からなる布を巻き付けたロールでラビング
処理を行うことにより、液晶配向膜とされる。

【００２６】上記基板としては、例えばフロートガラ
ス、ソーダガラスなどのガラス、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルス
ルホン、ポリカーボネートなどのプラスチックフィルム
などからなる透明基板を用いることができる。

【００２７】上記透明導電膜としては、ＳｎＯ₂からな
るＮＥＳＡ膜、Ｉｎ₂Ｏ₃−ＳｎＯ₂からなるＩＴＯ膜な
どを用いることができ、これらの透明導電膜のパターニ
ングには、フォト・エッチング法、予めマスクを用いる
方法などが用いられる。

【００２８】液晶配向剤の塗布に際しては、基板及び透
明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、
基板及び透明導電膜上に、予め官能性シラン含有化合
物、チタネートなどを塗布することもできる。

【００２９】液晶配向膜が形成された基板は、その２枚
を液晶配向膜をラビング方向が直交または逆平行となる
よう対向させ、基板の間の周辺部をシール剤でシール
し、液晶を充填し、充填孔を封止して液晶セルとし、そ
の両面に偏光方向がそれぞれ基板の液晶配向膜のラビン
グ方向と一致または直交するように張り合わせることに
より液晶表示素子とされる。

【００３０】上記シール剤としては、例えば硬化剤及び
スペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有したエポ
キシ樹脂などを用いることができる。

【００３１】上記液晶としては、ネマティック型液晶、
スメクティック型液晶、その中でもネマティック型液晶
を形成させるものが好ましく、例えばシッフベース系液
晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシク
ロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液
晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液
晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュ
バン系液晶などが用いられる。また、これらの液晶に、
例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエー
ト、コレステリルカーボネートなどのコレステリック液
晶や商品名Ｃ−１５，ＣＢ−１５（Ｍｅｒｃｋ Ｌｔ
ｄ．）として販売されているようなカイラル剤などを添
加して使用することもできる。さらに、ｐ−デシロキシ
ベンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナメ
ートなどの強誘電性液晶も使用することができる。

【００３２】液晶セルの外側に使用される偏光板として
は、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ
素を吸収させたＨ膜と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース
保護膜で挟んだ偏光板、またはＨ膜そのものからなる偏
光板などを挙げることができる。

【００３３】

【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。なお、ラビング時の液晶配向膜の傷は、顕
微鏡観察により評価した。また、液晶表示素子の配向性
評価は、電圧をオン・オフさせた時の液晶セル中の異常
ドメインの有無を、偏光顕微鏡で観察し、異常ドメイン
の認められない場合を良好と判断した。

【００３４】合成例１ ２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水
物４４．８ｇ及びｐ−フェニレンジアミン２１．６ｇを
Ｎ−メチル−２−ピロリドン９８８ｇに溶解させ、室温
で６時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメ
タノールに注ぎ、反応生成物を沈澱させた。その後、メ
タノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させ
て、固有粘度１．４４ｄｌ／ｇの特定重合体Ｉａ６０．
２ｇを得た。

【００３５】合成例２ 合成例１で得られた特定重合体Ｉａ３０．０ｇを５７０
ｇのγ−ブチロラクトンに溶解し、２１．６ｇのピリジ
ンと１６．７４ｇの無水酢酸を添加し、１２０℃で３時
間イミド化反応を行った。次いで、反応生成液を合成例
１と同様に沈澱させ、固有粘度１．３５ｄｌ／ｇの特定
重合体ＩＩａ２４．０ｇを得た。

【００３６】合成例３ 合成例１において、ジアミンを４，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン３９．６ｇとした以外は、合成例１と同様
にして特定重合体Ｉｂを得、さらにこの特定重合体Ｉｂ
を用いて合成例２と同様にしてイミド化反応を行い、固
有粘度１．１６ｄｌ／ｇの特定重合体ＩＩｂ２２．２ｇ
を得た。

【００３７】合成例４ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物をシクロ
ブタンテトラカルボン酸二無水物３９．２２ｇとした以
外は合成例１と同様にして、固有粘度１．２６ｄｌ／ｇ
特定重合体Ｉｃ５０．５ｇを得た。

【００３８】合成例５ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を１，
３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラ
ヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト
［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン６０．０ｇとし
た以外は合成例１と同様にして特定重合体Ｉｄを得、さ
らにこの特定重合体Ｉｄを用いて合成例２と同様にして
イミド化反応を行い、固有粘度１．１６ｄｌ／ｇの特定
重合体ＩＩｄ２２．２ｇを得た。

【００３９】合成例６ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物をピロメ
リット酸二無水物４３．６ｇとした以外は合成例１と同
様にして、固有粘度１．６６ｄｌ／ｇ特定重合体Ｉｅ６
０．５ｇを得た。

【００４０】実施例１ 合成例１で得られた特定重合体Ｉａ５ｇと２，６−ジ
（４−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン
０．５ｇ（固形分量として）をＮ−メチル−２−ピロリ
ドンに溶解させて、固形分濃度４重量％の溶液とし、こ
の溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過し、液晶配向剤
溶液を調製した。この溶液を、液晶配向膜塗布用印刷機
を用いて、ＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板の
上に透明電極面に塗布し、２００℃で１時間乾燥し、乾
燥膜厚０．０５μｍの塗膜を形成した。この塗膜にナイ
ロン製の布を巻き付けたロールを有するラビングマシー
ンにより、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステージの移
動速度１ｃｍ／秒でラビング処理を行った。

【００４１】次に、一対のラビング処理された基板の液
晶配向膜を有するそれぞれの外縁に、直径１７μｍの酸
化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン
印刷塗布した後、一対の基板を液晶配向膜面が相対する
ように、しかもラビング方向が直交するように重ね合わ
せて圧着し、接着剤を硬化させた。次いで、液晶注入口
より一対の基板間に、ネマティック型液晶（メルク社
製、ＺＬＩ−１５６５）を充填した後、エポキシ系接着
剤で液晶注入口を封止し、基板の外側の両面に偏光板
を、偏光板の偏光方向がそれぞれの基板の液晶配向膜の
ラビング方向と一致するように張り合わせ、液晶表示素
子を作製したところ、液晶の配向性は良好であった。。
また、液晶配向膜の表面を顕微鏡で観察したところ、表
面にラビング傷はほとんど観察されなかった。

【００４２】実施例２〜９ 実施例１において、合成例２〜６で得られた特定重合体
Ｉ及び特定重合体ＩＩ、下記に示す化合物ＩＩＩを用
い、液晶配向剤を調製した以外は、実施例１と同様にし
て液晶セル作製を行った。液晶の配向性及びラビング時
の表面傷を評価し、結果を表１に示した。

【００４３】

【表１】 Ａ¹；２，６−ジ（４−アジドベンザル）−４−メチル
シクロヘキサノン Ｂ²；２，６−ジ（４−アジドベンザル）シクロヘキサ
ノン

【００４４】比較例１ 合成例１で得られた特定重合体Ｉａだけを用いた以外
は、実施例１と同様にして液晶セル作製を行ったとこ
ろ、液晶の配向性は良好であったが、表面に多数のラビ
ング傷が観察された。

【００４５】

【発明の効果】本発明の液晶配向剤によれば、ラビング
時に傷つきにくい液晶配向膜が得られる。また、本発明
の液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜を有する液晶
表示素子は、使用する液晶を選択することにより、ＳＨ
（Super Homeotropic），強誘電性，反強誘電性液晶表
示素子にも好適に使用することができる。さらに、本発
明の液晶配向剤を用いて形成した配向膜を有する液晶表
示素子は、液晶の配向性及び信頼性に優れ、種々の装置
に有効に使用でき、例えば卓上計算機、腕時計、置時
計、係数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピ
ューター、液晶テレビなどの表示装置に用いられる。

フロントページの続き (72)発明者 別所 信夫 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本 合成ゴム株式会社内 審査官 藤岡 善行 (56)参考文献 特開 平５−202188（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02F 1/1337

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記成分（ａ）１００重量部に対して、
   下記成分（ｂ）を０．１〜２０重量部含有することを特
   徴とする液晶配向剤。 （ａ）テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物と
   を反応させて得られる重合体及び／またはそのイミド化
   重合体。 （ｂ）ジアジド化合物。
2. 【請求項２】 請求項１記載の液晶配向剤から得られる
   液晶配向膜を具備してなることを特徴とする液晶表示素
   子。