JP3190596B2 - Ｘ線リソグラフィ用ビームラインの音波衝撃遅延管路 - Google Patents
Ｘ線リソグラフィ用ビームラインの音波衝撃遅延管路Info
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシンクロトロン放射光を
用いるＸ線リソグラフィ用ビームラインに関する。特
に、該ビームラインの音波衝撃遅延管路に関する。
用いるＸ線リソグラフィ用ビームラインに関する。特
に、該ビームラインの音波衝撃遅延管路に関する。
【０００２】
【従来の技術】シンクロトロン放射光によるＸ線露光シ
ステムは一般に図９に示す構成からなっている。図９に
おいて５０は模式的に示されたシンクロトロンで、超高
真空中で電子ビーム５１を周回運動させ、周回軌道の接
線方向にシンクロトロン放射光５２を発生させる。シン
クロトロン５０から出た放射光５２は真空ダクト５３に
導入される。真空ダクト５３には真空の遮断弁６５、高
速遮断弁６６および、図示していないが必要に応じて放
射光をブロックするブロックシャッターや真空排気ポン
プ等が設置されている。そして、真空ダクト５３の下流
にはミラーボックス５４が接続されている。
ステムは一般に図９に示す構成からなっている。図９に
おいて５０は模式的に示されたシンクロトロンで、超高
真空中で電子ビーム５１を周回運動させ、周回軌道の接
線方向にシンクロトロン放射光５２を発生させる。シン
クロトロン５０から出た放射光５２は真空ダクト５３に
導入される。真空ダクト５３には真空の遮断弁６５、高
速遮断弁６６および、図示していないが必要に応じて放
射光をブロックするブロックシャッターや真空排気ポン
プ等が設置されている。そして、真空ダクト５３の下流
にはミラーボックス５４が接続されている。
【０００３】前記ミラーボックス５４の中にはＸ線ミラ
ー５５が入射光に対して１〜２度の角度で配置されてい
る。Ｘ線ミラー５５の形状は平面、円筒、円環（トロイ
ダル）面等種々の形状のものが用いられており、表面は
通常、金、白金等でコーティングされ、入射光のほぼ６
０〜７０％を反射し下流に伝送するとともに、Ｘ線露光
に不適当な短波長成分（硬Ｘ線）を除去するフィルター
機能を有している。そして、該Ｘ線ミラー５５は駆動装
置５６により反射基準点Ｏを中心に揺動可能となってい
る。その理由は、放射光は水平方向には３６０度方向に
放射されるが、垂直方向には１mrad（ミリラシ゛アン）程度の
広がりしかないのでＸ線ミラー５５を揺動することによ
り反射光を垂直方向に振り照射野を拡大するためであ
る。
ー５５が入射光に対して１〜２度の角度で配置されてい
る。Ｘ線ミラー５５の形状は平面、円筒、円環（トロイ
ダル）面等種々の形状のものが用いられており、表面は
通常、金、白金等でコーティングされ、入射光のほぼ６
０〜７０％を反射し下流に伝送するとともに、Ｘ線露光
に不適当な短波長成分（硬Ｘ線）を除去するフィルター
機能を有している。そして、該Ｘ線ミラー５５は駆動装
置５６により反射基準点Ｏを中心に揺動可能となってい
る。その理由は、放射光は水平方向には３６０度方向に
放射されるが、垂直方向には１mrad（ミリラシ゛アン）程度の
広がりしかないのでＸ線ミラー５５を揺動することによ
り反射光を垂直方向に振り照射野を拡大するためであ
る。
【０００４】ミラーボックス５４の下流には真空ダクト
５７が接続されており、該真空ダクトの一部（または全
体）はビームライン大径部６３で、内部が仕切板６４で
数区画ないしは数十区画に仕切られており、該仕切板６
４の中央部は放射光が通過する角穴または丸穴を設けた
構造の音波衝撃遅延管路（acoustic deley line）を形
成しており、ビームラインのの最終端には放射光取出口
となるフランジ５８に接合されたベリリウム薄膜５９が
取り付けられている。真空ダクト５７のベリリウム薄膜
５９の近傍に真空計のセンサーヘッド６７が設置されて
いる。ベリリウム薄膜５９の厚さは３０μｍ程度で、放
射光を真空中から大気中に取り出す機能とＸ線露光に不
適当な長波長成分（真空紫外線）を除去するフィルター
機能を有している。
５７が接続されており、該真空ダクトの一部（または全
体）はビームライン大径部６３で、内部が仕切板６４で
数区画ないしは数十区画に仕切られており、該仕切板６
４の中央部は放射光が通過する角穴または丸穴を設けた
構造の音波衝撃遅延管路（acoustic deley line）を形
成しており、ビームラインのの最終端には放射光取出口
となるフランジ５８に接合されたベリリウム薄膜５９が
取り付けられている。真空ダクト５７のベリリウム薄膜
５９の近傍に真空計のセンサーヘッド６７が設置されて
いる。ベリリウム薄膜５９の厚さは３０μｍ程度で、放
射光を真空中から大気中に取り出す機能とＸ線露光に不
適当な長波長成分（真空紫外線）を除去するフィルター
機能を有している。
【０００５】ベリリウム薄膜５９から大気中に取り出さ
れた放射光はＸ線マスク６０を通ってウエハ６１の表面
に塗布されたレジスト（感光材）を感光させＸ線マスク
６０に描かれたパターンを転写する。ベリリウム薄膜５
９の外側の通称大気部分は大気圧または減圧状態の空気
または、Ｘ線を透過しやすいヘリウムガスにさらされて
いる。Ｘ線マスク６０とウエハ６１の間隔は１０〜２０
μｍで、Ｘ線ステッパ６２に保持され、１回の露光ごと
にウエハの感光位置を移動し、逐次露光を行なうもので
ある。
れた放射光はＸ線マスク６０を通ってウエハ６１の表面
に塗布されたレジスト（感光材）を感光させＸ線マスク
６０に描かれたパターンを転写する。ベリリウム薄膜５
９の外側の通称大気部分は大気圧または減圧状態の空気
または、Ｘ線を透過しやすいヘリウムガスにさらされて
いる。Ｘ線マスク６０とウエハ６１の間隔は１０〜２０
μｍで、Ｘ線ステッパ６２に保持され、１回の露光ごと
にウエハの感光位置を移動し、逐次露光を行なうもので
ある。
【０００６】ベリリウム薄膜５９はＸ線の吸収による温
度上昇や劣化または作業者の不注意によって破損するこ
とがある。ベリリウム薄膜５９が破損すると外部の大気
（空気またはヘリウムガス）が真空ダクト５７に流入
し、ビームラインの真空状態を劣化させる。さらに、放
射光源であるシンクロトロン５０の真空も劣化させ、運
転を不能にする危険性がある。かかる事故を回避するた
めに、ビームライン大径部６３に音波衝撃遅延管路、ベ
リリウム薄膜５９の近傍に真空計のセンサーヘッド６
７、ビームライン上流側に高速遮断弁６６および高速で
はないが完全な密封性能を有する遮断弁６５が設けられ
ており、ベリリウム薄膜が破損すると真空計センサーヘ
ッド６７が真空の劣化を検出し、高速遮断弁６６および
遮断弁６５を同時に閉止し、上流側の真空系統を保護す
るようにしている。
度上昇や劣化または作業者の不注意によって破損するこ
とがある。ベリリウム薄膜５９が破損すると外部の大気
（空気またはヘリウムガス）が真空ダクト５７に流入
し、ビームラインの真空状態を劣化させる。さらに、放
射光源であるシンクロトロン５０の真空も劣化させ、運
転を不能にする危険性がある。かかる事故を回避するた
めに、ビームライン大径部６３に音波衝撃遅延管路、ベ
リリウム薄膜５９の近傍に真空計のセンサーヘッド６
７、ビームライン上流側に高速遮断弁６６および高速で
はないが完全な密封性能を有する遮断弁６５が設けられ
ており、ベリリウム薄膜が破損すると真空計センサーヘ
ッド６７が真空の劣化を検出し、高速遮断弁６６および
遮断弁６５を同時に閉止し、上流側の真空系統を保護す
るようにしている。
【０００７】高速遮断弁６６がセンサーからの信号によ
り完全に閉じ時間は一般に数１０msecであり、侵入する
ガスの分子速度は５００（空気）〜１５００（ヘリウ
ム）ｍ／secであるので、ビームラインの長さが１０ｍ
とするとガスは７〜２０msecで高速遮断弁６６に到達す
ることになる。音波衝撃遅延管路は侵入したガスの大部
分を遅延管路の大径部空間に一時的にトラップし、高速
遮断弁への到達を遅らせる作用をする。しかしながら、
露光面積が大きくなると音波衝撃遅延管路の仕切板６４
に設けられている放射光の通過穴の寸法もそれにつれて
大きくなり、その結果、ガスを必要時間トラップするこ
とが困難になってきた。
り完全に閉じ時間は一般に数１０msecであり、侵入する
ガスの分子速度は５００（空気）〜１５００（ヘリウ
ム）ｍ／secであるので、ビームラインの長さが１０ｍ
とするとガスは７〜２０msecで高速遮断弁６６に到達す
ることになる。音波衝撃遅延管路は侵入したガスの大部
分を遅延管路の大径部空間に一時的にトラップし、高速
遮断弁への到達を遅らせる作用をする。しかしながら、
露光面積が大きくなると音波衝撃遅延管路の仕切板６４
に設けられている放射光の通過穴の寸法もそれにつれて
大きくなり、その結果、ガスを必要時間トラップするこ
とが困難になってきた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は放射光取出窓
を狭小化させることによりベリリウム薄膜の厚みを厚く
しなくても強度を保障するとともに、ベリリウム薄膜が
破損して外部の大気がビームラインに流入し、真空計の
センサーヘッドの検出信号により高速遮断弁６６が完全
に閉じるまでガスが前記弁まで到達しないようにした音
波衝撃遅延管路を提供すること、および音波衝撃遅延管
路の設置によりビームラインの真空の早期立ち上げが困
難になることを防止するすることを目的とする。
を狭小化させることによりベリリウム薄膜の厚みを厚く
しなくても強度を保障するとともに、ベリリウム薄膜が
破損して外部の大気がビームラインに流入し、真空計の
センサーヘッドの検出信号により高速遮断弁６６が完全
に閉じるまでガスが前記弁まで到達しないようにした音
波衝撃遅延管路を提供すること、および音波衝撃遅延管
路の設置によりビームラインの真空の早期立ち上げが困
難になることを防止するすることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】Ｘ線リソグラフィ用ビー
ムラインの音波衝撃遅延管路において、ビームラインの
大径外筒部１内に窓穴７´を有する多数の仕切板７、
７、・・を設置し、該仕切板７の窓穴７´を挿通しＸ線
ミラーで反射された放射光を包被し、Ｘ線ミラーの揺動
に同期して前記仕切板７の窓穴７´内を垂直方向に揺動
する内筒２を設け内筒２には前記仕切板７、７、・・と
対向して微小間隙を空けて仕切板９、９、・・を設けて
大径外筒部内を多数の仕切空間１０、１０、・・に仕切
るとともに、内筒２には前記各仕切空間１０と連通する
多数の穴２´を穿設しており、前記内筒２の放射光出口
端はビームラインから突設せる真空ベローズ４に接続せ
る放射光取出窓３に取付けられ、放射光入口端はビーム
ライン大径外筒端部または、さらに上流側に突出して設
置されていることを特徴とする。
ムラインの音波衝撃遅延管路において、ビームラインの
大径外筒部１内に窓穴７´を有する多数の仕切板７、
７、・・を設置し、該仕切板７の窓穴７´を挿通しＸ線
ミラーで反射された放射光を包被し、Ｘ線ミラーの揺動
に同期して前記仕切板７の窓穴７´内を垂直方向に揺動
する内筒２を設け内筒２には前記仕切板７、７、・・と
対向して微小間隙を空けて仕切板９、９、・・を設けて
大径外筒部内を多数の仕切空間１０、１０、・・に仕切
るとともに、内筒２には前記各仕切空間１０と連通する
多数の穴２´を穿設しており、前記内筒２の放射光出口
端はビームラインから突設せる真空ベローズ４に接続せ
る放射光取出窓３に取付けられ、放射光入口端はビーム
ライン大径外筒端部または、さらに上流側に突出して設
置されていることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係るビームライン
の音波衝撃遅延管路の概略説明図である。１はミラーボ
ックス５４の下流側に接続されているビームラインの大
径外筒部である。２は放射光の光路の外側を包被し前記
大径外筒部１の内部に設置されている内筒であってその
先端部には放射光取出窓３が結合されており、該窓３は
真空ベローズにより前記大径外筒部１の先端部フランジ
５に接続されている。６1、６2は大径外筒部１の胴部の
両端下方側に設置され、内筒２を垂直方向に駆動するた
めの駆動装置である。そして、内管２がミラー５５の運
動と同期して駆動されることにより放射光の光路が確保
されている。
の音波衝撃遅延管路の概略説明図である。１はミラーボ
ックス５４の下流側に接続されているビームラインの大
径外筒部である。２は放射光の光路の外側を包被し前記
大径外筒部１の内部に設置されている内筒であってその
先端部には放射光取出窓３が結合されており、該窓３は
真空ベローズにより前記大径外筒部１の先端部フランジ
５に接続されている。６1、６2は大径外筒部１の胴部の
両端下方側に設置され、内筒２を垂直方向に駆動するた
めの駆動装置である。そして、内管２がミラー５５の運
動と同期して駆動されることにより放射光の光路が確保
されている。
【００１１】７、７、・・は大径外筒部１の内部に軸方
向に所定の間隔をあけて設置された仕切板で、これらの
仕切板７、７、・・には中央部に内筒２の上下動の妨げ
にならない窓穴７´、７´・・が設けられており、隣接
する仕切板７、７は連結ボルト８、８、・・で連結され
ている。９、９、・・は仕切板７、７・・に対応して内
筒２に設置された仕切板である。仕切板７と、これ対応
する仕切板９とは好ましくは１ｍｍ以下の隙間を有して
おり、仕切板７、７、・・９、９、・・により大径外筒
部１内を多数の仕切空間１０、１０・・・に仕切ってい
る。前記内筒２の上下面には前記仕切空間に連通する開
口部となる多数の穴２´、２´・・が穿設されている。
前記穴２´の個数、寸法、形状は任意であるが、各仕切
空間１０内における全体の開口面積は少なくとも内筒２
の断面積の１０倍以上にしている。
向に所定の間隔をあけて設置された仕切板で、これらの
仕切板７、７、・・には中央部に内筒２の上下動の妨げ
にならない窓穴７´、７´・・が設けられており、隣接
する仕切板７、７は連結ボルト８、８、・・で連結され
ている。９、９、・・は仕切板７、７・・に対応して内
筒２に設置された仕切板である。仕切板７と、これ対応
する仕切板９とは好ましくは１ｍｍ以下の隙間を有して
おり、仕切板７、７、・・９、９、・・により大径外筒
部１内を多数の仕切空間１０、１０・・・に仕切ってい
る。前記内筒２の上下面には前記仕切空間に連通する開
口部となる多数の穴２´、２´・・が穿設されている。
前記穴２´の個数、寸法、形状は任意であるが、各仕切
空間１０内における全体の開口面積は少なくとも内筒２
の断面積の１０倍以上にしている。
【００１２】本発明装置の詳細構造について図２〜図４
により以下説明する。内筒２の駆動装置６1、６2はそれ
ぞれ直線案内軸受け１２を内装せる軸受ケース１３、先
端部にフォーク１４を有する案内軸１５、軸受ケース１
３に設置せるリニアーアクチュエータ１６、該アクチュ
エーター１６と案内軸１５とを連結する連結板１７、真
空ベローズ１８から構成されており、大径外筒部１の胴
部下方側のフランジ部１１1、１１2に各駆動装置の軸受
ケース１３が設置されている。そして、内筒２の連結板
１９と案内軸１５のフォーク１４とをピン２０で連結し
ている。
により以下説明する。内筒２の駆動装置６1、６2はそれ
ぞれ直線案内軸受け１２を内装せる軸受ケース１３、先
端部にフォーク１４を有する案内軸１５、軸受ケース１
３に設置せるリニアーアクチュエータ１６、該アクチュ
エーター１６と案内軸１５とを連結する連結板１７、真
空ベローズ１８から構成されており、大径外筒部１の胴
部下方側のフランジ部１１1、１１2に各駆動装置の軸受
ケース１３が設置されている。そして、内筒２の連結板
１９と案内軸１５のフォーク１４とをピン２０で連結し
ている。
【００１３】放射光取出窓３は円盤形状をしており、そ
の中央部には放射光の断面形状に合わせて矩形または円
弧状の貫通口が穿設され、表面にベリリウムの薄膜２１
が溶接または蝋付されている。前記窓３は大径外筒部１
のフランジ板５に真空ベローズ４、取付板３´、５´に
より連結されている。内筒２の断面は放射光の断面を包
被する形状をしており、先端部は放射光取出窓３にフラ
ンジ３゛により取付けられており後端部は大径外筒部か
ら上流側の真空ダクト５７に突き出ている。前記駆動装
置６1、６2は内筒２を垂直方向に駆動させるとともに、
放射光取出窓３にかかる大気圧と大径外筒部内の真空の
圧力差によって生ずる水平方向の力を支持している。
の中央部には放射光の断面形状に合わせて矩形または円
弧状の貫通口が穿設され、表面にベリリウムの薄膜２１
が溶接または蝋付されている。前記窓３は大径外筒部１
のフランジ板５に真空ベローズ４、取付板３´、５´に
より連結されている。内筒２の断面は放射光の断面を包
被する形状をしており、先端部は放射光取出窓３にフラ
ンジ３゛により取付けられており後端部は大径外筒部か
ら上流側の真空ダクト５７に突き出ている。前記駆動装
置６1、６2は内筒２を垂直方向に駆動させるとともに、
放射光取出窓３にかかる大気圧と大径外筒部内の真空の
圧力差によって生ずる水平方向の力を支持している。
【００１４】大径外筒部１の仕切板７、７、・・は組立
上、上下に２分割してつなぎ板２２、２２でねじ止め連
結されており、各仕切板７、７・・は連結ボルト８、８
・・で連結され、内筒２及び仕切板９、９・・と一体に
組立られた後大径外筒部１内に組み付けられる。２３は
真空計のセンサーヘッドで、フランジ板５に取付けられ
ており、ベリリウム薄膜が損傷したときの真空度の変化
を検出し、上流側の高速遮断弁６６、遮断弁６５を作動
させシンクロトロン本体内へのガスの侵入を阻止してい
る。なお、音波衝撃遅延管路を構成する大径外筒部の概
略寸法は、外径が４００ｍｍ、長さが２ｍ前後である。
上、上下に２分割してつなぎ板２２、２２でねじ止め連
結されており、各仕切板７、７・・は連結ボルト８、８
・・で連結され、内筒２及び仕切板９、９・・と一体に
組立られた後大径外筒部１内に組み付けられる。２３は
真空計のセンサーヘッドで、フランジ板５に取付けられ
ており、ベリリウム薄膜が損傷したときの真空度の変化
を検出し、上流側の高速遮断弁６６、遮断弁６５を作動
させシンクロトロン本体内へのガスの侵入を阻止してい
る。なお、音波衝撃遅延管路を構成する大径外筒部の概
略寸法は、外径が４００ｍｍ、長さが２ｍ前後である。
【００１５】上記の装置では運転初期における大径外筒
部１内の真空立ち上げ時、仕切板７と仕切板９とが微小
間隙で重なり合って大径部１内を多数の仕切空間１０に
区画され、各隣接する仕切空間１０、１０は内筒２とこ
れらの穴２´、２´、・・を介して連通しているので真
空排気口Ｄから各仕切空間内のガスを吸引して所定の真
空度にするためには長時間を要する。図５は上記の問題
点を解決した実施態様の概略説明図である。大径外筒部
１内の真空立ち上げ時に駆動装置３０で仕切板７を大径
外筒部の軸方向に移動させて仕切板９との間隔を広げる
ことにより簡単に解決できる。
部１内の真空立ち上げ時、仕切板７と仕切板９とが微小
間隙で重なり合って大径部１内を多数の仕切空間１０に
区画され、各隣接する仕切空間１０、１０は内筒２とこ
れらの穴２´、２´、・・を介して連通しているので真
空排気口Ｄから各仕切空間内のガスを吸引して所定の真
空度にするためには長時間を要する。図５は上記の問題
点を解決した実施態様の概略説明図である。大径外筒部
１内の真空立ち上げ時に駆動装置３０で仕切板７を大径
外筒部の軸方向に移動させて仕切板９との間隔を広げる
ことにより簡単に解決できる。
【００１６】図６〜図８を参照して以下詳細構造につき
説明する。各仕切板７、７、・・は図６に示すように、
連結ボルト８で連結されている。各仕切板７、７、・・
の下部には２個のブラケット３１が取付けられ、軸装さ
れたローラ３２が大径部外筒１の内周面を転動すること
により仕切板は軸方向に移動することができる。
説明する。各仕切板７、７、・・は図６に示すように、
連結ボルト８で連結されている。各仕切板７、７、・・
の下部には２個のブラケット３１が取付けられ、軸装さ
れたローラ３２が大径部外筒１の内周面を転動すること
により仕切板は軸方向に移動することができる。
【００１７】仕切板７、７、・・を移動させる駆動装置
３０は前述の内筒２の駆動装置６1、６2と同様な構造を
している。即ち、直線案内軸受け３４を内装せる軸受ケ
ース３５、軸受ケース３５に設置せるリニアーアクチュ
エータ３６、端部仕切板７を連結する連結軸３７、該連
結軸を真空シールする真空ベローズ３８、アクチュエー
ター３６と連結軸３７とを連結する連結板３９から構成
されており、大径外筒部１のフランジ部５´に駆動装置
３０の軸受ケース３５が設置されている。なお、リニア
ーアクチュエータ３６にはストロークの両端で停止する
機能と、インターロック用電気的信号を発生する機能を
有している。
３０は前述の内筒２の駆動装置６1、６2と同様な構造を
している。即ち、直線案内軸受け３４を内装せる軸受ケ
ース３５、軸受ケース３５に設置せるリニアーアクチュ
エータ３６、端部仕切板７を連結する連結軸３７、該連
結軸を真空シールする真空ベローズ３８、アクチュエー
ター３６と連結軸３７とを連結する連結板３９から構成
されており、大径外筒部１のフランジ部５´に駆動装置
３０の軸受ケース３５が設置されている。なお、リニア
ーアクチュエータ３６にはストロークの両端で停止する
機能と、インターロック用電気的信号を発生する機能を
有している。
【００１８】本発明は上記の構造からなっているため、
大径外筒部１の真空立ち上げ時、リニアーアクチュエー
タ３６を駆動し、連結軸３７を左方へ移動させることに
より各仕切板７、７、・・が左方に移動して内筒２の外
周に設置されている各仕切板９、９、・・との間隔が図
５の状態のようにに広げられる。したがって、かかる状
態で真空排気口Ｄから大径外筒部１内のガスを吸引する
ので大径外筒部内の真空度を短時間のうちに使用条件に
まで到達できる。大径外筒部１内の真空度が使用条件に
達するとリニアーアクチュエータ３６を駆動して連結軸
を右方へ移動させ、それに伴って仕切板７、７、・・を
仕切板９、９、・・に近接させ図１（図２、図６）の状
態にさせてＸ線リソグラフィの運転を開始し、ウエハ６
１にビームの露光を開始する。
大径外筒部１の真空立ち上げ時、リニアーアクチュエー
タ３６を駆動し、連結軸３７を左方へ移動させることに
より各仕切板７、７、・・が左方に移動して内筒２の外
周に設置されている各仕切板９、９、・・との間隔が図
５の状態のようにに広げられる。したがって、かかる状
態で真空排気口Ｄから大径外筒部１内のガスを吸引する
ので大径外筒部内の真空度を短時間のうちに使用条件に
まで到達できる。大径外筒部１内の真空度が使用条件に
達するとリニアーアクチュエータ３６を駆動して連結軸
を右方へ移動させ、それに伴って仕切板７、７、・・を
仕切板９、９、・・に近接させ図１（図２、図６）の状
態にさせてＸ線リソグラフィの運転を開始し、ウエハ６
１にビームの露光を開始する。
【００１９】本発明装置はＸ線ミラーによるビームの上
下スキャンに同期して、その中心軸にビームを包被して
いる内筒２を駆動装置６、６で上下に振るようにしてい
るのでベリリウム窓３の窓穴を狭小にできる。それ故従
来の窓穴の大きいものに比べてベリリウム薄膜２１の強
度が向上し、ベリリウム薄膜の破損を防止できる。そし
て、万一ベリリウム薄膜２１が破損しても、ベリリウム
窓から上流部直接通じる通路の断面積を最小にすること
ができ、ガスの流入抵抗を増加できるばかりでなく、流
入するガスが途中で通路の断面積より大きい開口部から
各仕切板に流入してトラップされることにより本来の音
波衝撃遅延管路の作用を十分発揮でき、最終的に高速遮
断弁に到達する流入速度を大幅に減速させることが可能
である。
下スキャンに同期して、その中心軸にビームを包被して
いる内筒２を駆動装置６、６で上下に振るようにしてい
るのでベリリウム窓３の窓穴を狭小にできる。それ故従
来の窓穴の大きいものに比べてベリリウム薄膜２１の強
度が向上し、ベリリウム薄膜の破損を防止できる。そし
て、万一ベリリウム薄膜２１が破損しても、ベリリウム
窓から上流部直接通じる通路の断面積を最小にすること
ができ、ガスの流入抵抗を増加できるばかりでなく、流
入するガスが途中で通路の断面積より大きい開口部から
各仕切板に流入してトラップされることにより本来の音
波衝撃遅延管路の作用を十分発揮でき、最終的に高速遮
断弁に到達する流入速度を大幅に減速させることが可能
である。
【００２０】
【発明の効果】本発明は、放射光取手窓の窓穴を狭小に
できるため、ベリリウム薄膜の厚さを厚くしなくてもの
強度を向上できる。万一ベリリウム薄膜が破損してもビ
ームライン内への流入ガスの上流側への流入速度を大幅
に減速できるので、真空計のセンサーヘッドの検出信号
よりガスが高速遮断弁まで到達するまでに弁を遮断で
き、シンクロトロン本体内へのガスの侵入を防止でき
る。また、ビームラインの真空立ち上げ時に、短時間に
所望の真空度に到達させることができる。
できるため、ベリリウム薄膜の厚さを厚くしなくてもの
強度を向上できる。万一ベリリウム薄膜が破損してもビ
ームライン内への流入ガスの上流側への流入速度を大幅
に減速できるので、真空計のセンサーヘッドの検出信号
よりガスが高速遮断弁まで到達するまでに弁を遮断で
き、シンクロトロン本体内へのガスの侵入を防止でき
る。また、ビームラインの真空立ち上げ時に、短時間に
所望の真空度に到達させることができる。
【図１】本発明装置の実施態様の概略説明図。
【図２】図１の要部の詳細断面図。
【図３】図２におけるＡ−Ａ断面図。
【図４】図２におけるＢ−Ｂ断面図。
【図５】本発明装置の他の実施態様の概略説明図。
【図６】図５の要部の詳細断面図。
【図７】図６におけるＣ−Ｃ断面図。
【図８】ローラ取付け部の斜視図
【図９】公知のシンクロトロン放射光によるＸ線露光装
置の概略説明図。
置の概略説明図。
１ ビームライン大径外筒部 ２
内筒 ３ 放射光取出窓 ４
真空ベローズ ５ 大径部フランジ ６1 、６2
駆動装置 ７ 仕切板 ８
連結ロッド ９ 仕切板 １０
仕切空間 ３０ 駆動装置 ３１
ブラケット ３２ ローラ ５０
シンクロトロン ５４ ミラーボックス ５５
Ｘ線ミラー ５７ 真空ダクト ５９
ベリリウム薄膜 ６１ ウエハ ６２
Ｘ線ステッパ ６３ ビームライン大径部 ６４
仕切板 ６５ 遮断弁 ６６
高速遮断弁 Ｄ 真空排気口
内筒 ３ 放射光取出窓 ４
真空ベローズ ５ 大径部フランジ ６1 、６2
駆動装置 ７ 仕切板 ８
連結ロッド ９ 仕切板 １０
仕切空間 ３０ 駆動装置 ３１
ブラケット ３２ ローラ ５０
シンクロトロン ５４ ミラーボックス ５５
Ｘ線ミラー ５７ 真空ダクト ５９
ベリリウム薄膜 ６１ ウエハ ６２
Ｘ線ステッパ ６３ ビームライン大径部 ６４
仕切板 ６５ 遮断弁 ６６
高速遮断弁 Ｄ 真空排気口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−9929（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−61700（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−182100（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−38000（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−241354（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−237113（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−41296（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−68990（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−17715（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−72500（ＪＰ，Ｕ) 実開 平５−95000（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G21K 5/02 H05H 7/14 H05H 13/04
Claims (3)
- 【請求項１】シンクロトロンからの放射光を垂直方向に
揺動するＸ線ミラーで反射させ、該反射光をウエハに露
光するＸ線リソグラフィ用ビームラインの音波衝撃遅延
管路において、ビームラインの大径外筒部（１）内に窓
穴（７´）を有する多数の仕切板（７）、（７）、・・
を設置し、該仕切板（７）の窓穴（７´）を挿通しＸ線
ミラーで反射された放射光を包被し、Ｘ線ミラーの揺動
に同期して前記仕切板（７）の窓穴（７´）内を垂直方
向に揺動する内筒（２）を設け、該内筒（２）には前記
仕切板（７）、（７）、・・と対向して微小間隙を空け
て仕切板（９）、（９）、・・を設けて大径外筒部内を
多数の仕切空間（１０）、（１０）、・・に仕切るとと
もに、内筒（２）には前記各仕切空間（１０）と連通す
る開口部（２´）を穿設しており、前記内筒（２）の放
射光出口端はビームラインから突設せる真空ベローズ
（４）に接続せる放射光取出窓（３）に取付けられ、放
射光入口端はビームライン大径外筒端部または、さらに
上流側まで突出して設置されていることを特徴とするＸ
線リソグラフィ用ビームラインの音波衝撃遅延管路。 - 【請求項２】各仕切空間（１０）、（１０）、・・と連
通する内筒（２）に穿設している開口部（２´）の各総
面積は、該内筒の断面積より大きいことを特徴とする請
求項１記載のＸ線リソグラフィ用ビームラインの音波衝
撃遅延管路。 - 【請求項３】ビームラインの大径外筒部（１）内に設置
せる仕切板（７）、（７）、・・は、ビームラインの軸
方向に移動可能であることを特徴とする請求項１または
請求項２記載のＸ線リソグラフィ用ビームラインの音波
衝撃遅延管路。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10084497A JP3190596B2 (ja) | 1997-04-04 | 1997-04-04 | Ｘ線リソグラフィ用ビームラインの音波衝撃遅延管路 |
| US09/049,229 US6031889A (en) | 1997-04-04 | 1998-03-27 | Acoustic delay line with movable partition plates |
| DE69817652T DE69817652T2 (de) | 1997-04-04 | 1998-04-03 | Akustische Verzögerungsleitung mit bewegbaren Trennscheiben |
| EP98106180A EP0869703B1 (en) | 1997-04-04 | 1998-04-03 | Acoustic delay line with movable partition plates |
| CNB981092934A CN1147210C (zh) | 1997-04-04 | 1998-04-04 | 具有可移隔板的声延迟线 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10084497A JP3190596B2 (ja) | 1997-04-04 | 1997-04-04 | Ｘ線リソグラフィ用ビームラインの音波衝撃遅延管路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10282299A JPH10282299A (ja) | 1998-10-23 |
| JP3190596B2 true JP3190596B2 (ja) | 2001-07-23 |
Family
ID=14284635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10084497A Expired - Fee Related JP3190596B2 (ja) | 1997-04-04 | 1997-04-04 | Ｘ線リソグラフィ用ビームラインの音波衝撃遅延管路 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6031889A (ja) |
| EP (1) | EP0869703B1 (ja) |
| JP (1) | JP3190596B2 (ja) |
| CN (1) | CN1147210C (ja) |
| DE (1) | DE69817652T2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103298236A (zh) * | 2013-06-13 | 2013-09-11 | 无锡爱邦辐射技术有限公司 | 电子加速器安置扫描盒 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1051867A (ja) * | 1900-01-01 | |||
| US5031199A (en) * | 1990-06-05 | 1991-07-09 | Wisconsin Alumni Research Foundation | X-ray lithography beamline method and apparatus |
-
1997
- 1997-04-04 JP JP10084497A patent/JP3190596B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-27 US US09/049,229 patent/US6031889A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-03 DE DE69817652T patent/DE69817652T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-03 EP EP98106180A patent/EP0869703B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-04-04 CN CNB981092934A patent/CN1147210C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1206200A (zh) | 1999-01-27 |
| US6031889A (en) | 2000-02-29 |
| JPH10282299A (ja) | 1998-10-23 |
| CN1147210C (zh) | 2004-04-21 |
| DE69817652T2 (de) | 2004-07-01 |
| EP0869703A1 (en) | 1998-10-07 |
| DE69817652D1 (de) | 2003-10-09 |
| EP0869703B1 (en) | 2003-09-03 |
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