JP3186652U - 導電薄膜及びこの導電薄膜を含むタッチパネル - Google Patents

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Abstract

【課題】導電薄膜及びこの導電薄膜を含むタッチパネルを提供する。
【解決手段】導電薄膜２４は基板２１上に設けられてタッチ検出領域を形成する。ナノ導電金属をポジ型又はネガ型の感光性材料中に均等に分散させて混合物２２を形成した上で、前記混合物を基板２１上に塗布してウェットフィルムを形成し、感光処理工程によって露光と現像をすることができる。
【選択図】図２

Description

本考案は、ナノ導電金属と感光材料の混合物による導電薄膜に関し、より詳しくは、この導電薄膜に用いられるタッチパネルに関する。
昨今、多くの電子装置が何れも表示とタッチパッドの機能を備えているため、タッチパネルの技術も絶えず発展している。
静電容量タイプのタッチパネル等といったタッチパネルは、何れも導電薄膜をタッチパネルのタッチ検出領域としている。これに対し、周知技術の導電薄膜では通常金属酸化物又はナノ導電金属の金属層、及び感光材料を利用して、感光処理工程により金属層をパターン化して導電薄膜に必要なパターンを形成する。
図１は周知の導電薄膜を説明する概略図である。周知の導電薄膜で利用される感光処理工程は露光装置で生じた紫外線（ＵＶ）光源により、マスク上のパターンをポジ型又はネガ型のフォトレジストに変移させ、フォトレジストの型式がパターン化の結果を決定し、現像した後、フォトレジストのパターンはマスクと完全に同じか、又はマスクと相補する。
図１に示すように、周知の導電薄膜で利用される感光処理工程はフォトレジスト層を覆った後、さらに露光、現像、エッチング、及びストリッピング等からなる工程を経て、パターン化された後の金属層は導電薄膜となることができる。
然しながら、周知技術の導電薄膜で利用される感光処理工程には幾多の工程を必要としないと、金属層のパターン化に必要なパターンとできないため、製品の完成に必要な時間が掛かるほか、工程が煩雑過ぎ、製品の製造に掛るコストを直接押し上げる。
特許文献１に掲載されたタッチパネルは、ワイヤが混合された透明なコロイド（又は溶液）を可撓性の基板に塗布し、乾燥してからワイヤが混合されてなる導電薄膜を形成した上で、ワイヤが混合された導電薄膜をパターン化して必要なパターンを生成する。
台湾特許出願公開第２０１１４５３０９号公報
しかしながら、前述した従来の技術では、導電薄膜はパターン化のプロセスで相変わらずエッチングやストリッピング等の工程が必要なことから、製品の製造に必要な時間とコストを効果的に低減することができなかった。
そこで、本考案者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的かつ効果的に課題を改善する本考案の提案に到った。
本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案は、周知の導電薄膜における過剰な工程による製品の製造に必要な時間とコストが掛り過ぎる問題を解決するための導電薄膜を提供することを主目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本考案に係る導電薄膜は基板上に設けられてタッチ検出領域を形成し、ナノ導電金属をポジ型又はネガ型の感光性材料中に均等に分散させて混合物を形成した上で、前記混合物を前記基板上に塗布してウェットフィルムを形成して、感光処理工程によって露光と現像工程を経て、前記ウェットフィルムをパターン化して前記導電薄膜を形成することを特徴とする。
また、本考案に係るタッチパネルは、基板と導電薄膜からなり、前記導電薄膜は前記基板上に設けられてタッチ検出領域を形成し、ナノ導電金属をポジ型又はネガ型の感光性材料中に均等に分散させて混合物を形成した上で、前記混合物を前記基板上に塗布してウェットフィルムを形成して、感光処理工程によって露光と現像工程を経て、前記ウェットフィルムをパターン化して前記導電薄膜を形成することを特徴とする。
本考案の導電薄膜及びこの導電薄膜を含むタッチパネルは、一つ又は複数の下記の長所を備えている。
（１）本考案の実施形態では、ナノ銀とフォトレジストの混合物であるウェットフィルムをパターン化して導電薄膜を生成し、感光、露光、及び現像工程だけで必要とされる図形が得られ、製品を製造する工程の煩雑で冗長な欠点並びにコストが高いという欠点を効果的に改善した。
（２）本考案は実施形態において、ナノ銀とフォトレジストの混合物を導電薄膜の材料として利用し、フォトレジストの特性により、製造された薄膜は１ｕｍより小さい厚み、及び１０ｕｍより小さい線幅を達成することができ、目下市販されているＵＶ型銀ペーストの用途が限定されるという問題を効果的に改善した。
（３）本考案で応用される材料は厚みが薄いことで、グレーレベルの結果が得られることから、周知技術の透明導電層や不透明導電層とは明らかに異なる特性を生じる。
周知の導電薄膜を説明する概略図である。 本考案の好ましい一の実施形態による導電薄膜を説明する概略図である。 本考案の好ましい一の実施形態による導電薄膜を説明する概略図である。 本考案の好ましい一の実施形態による導電薄膜を説明する概略図である。 本考案の好ましい一の実施形態による導電薄膜を説明する概略図である。
以下に図面を参照して、本考案を実施するための形態について、詳細に説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
図２は本考案の好ましい一の実施形態による導電薄膜を説明する概略図である。先ず、基板２１を提供し、ナノ導電金属とポジ型又はネガ型の感光材料とを均等に混合して混合物２２を生成するが、感光材料は液状又はゲル状でよい。
ナノ導電金属と感光材料の混合物２２は塗布工程で基板上に塗布して、ウェットフィルムを形成する。続いて、マスク２３を直接使用して感光処理工程を実行して露光を行い、現像工程でナノ導電金属と感光材料の混合物２２で形成されたウェットフィルムをパターン化して、特定パターンのある導電薄膜２４を生成する。
上述した通り、本考案の導電薄膜で実行される感光処理工程は露光と現像の工程によるだけで、必要とされる特定パターンの導電薄膜が製造可能である。これに対し、周知技術の導電薄膜で実行される感光処理工程はさらにエッチング、ストリッピングの工程が必要となる。従って、本考案の導電薄膜は確かに効果的に感光処理工程に必要な工程を減らせることから、製品の製造に必要な時間とコストを低減できる。
図３は本考案の好ましい一の実施形態による導電薄膜を説明する概略図である。この好ましい実施例では、ナノ銀とポジ型又はネガ型のフォトレジストとの混合で混合物３２を生成し、同様にフォトレジストは液状又はゲル状でよい。
続く工程では、ナノ銀とフォトレジストの混合物３２を塗布工程で基板３１上に塗布してウェットフィルムを形成する。同様にこの後、マスク３３を直接利用して露光と現像工程を実行して、ナノ銀とフォトレジストの混合物３２で形成されたウェットフィルムをパターン化することによって、特定パターンを有する導電薄膜３４を生成することができる。
ちなみに、この好ましい実施形態では、ナノ銀とフォトレジストの混合物３２は塗布工程で基板３１上に塗布されてウェットフィルムを形成し、さらに露光と現像の工程を直接実行すれば、パターン化された導電薄膜３４が生成され、同様に従来の感光処理工程に必要な工程が減らされ、製品の製造に必要な時間とコストを効果的に低減できる。
また、本実施形態で使用されるナノ導電金属はナノ銀であるが、ナノ銀は一定の含有量がないと導電效果が奏されず、この特性は目下市販されているＵＶ型銀ペーストと類似している。しかしながら、実際には本実施形態で提供されるナノ銀は、目下市販されているＵＶ型銀ペーストにはない更に多くの特性と長所を備えている。
本実施形態ではナノ銀とフォトレジストの混合物を導電薄膜の材料として使用しているが、上述の材料はどの様な塗布の方法でも厚みが１ｕｍより小さい薄膜が形成できる。
これに対して、ＵＶ型銀ペーストで導電薄膜の材料とした場合、通常印刷方法で薄膜を形成するが、こうした方法では形成された薄膜の厚みが通常５ｕｍより大きく、感光処理工程を実行すると、同様に製造工程が煩雑で冗長となる上に、コストが高くつく欠点がある。
なお、本実施形態におけるナノ銀とフォトレジストの混合物を導電薄膜の材料として使用するが、フォトレジスト材料の特性から、形成された導電薄膜は更に１０ｕｍ より小さい線幅が達成可能で、肉眼では検出できない。これに対し、ＵＶ型銀ペーストを導電薄膜の材料として使用した場合、通常２０ｕｍより大きい線幅しか得られない。よって、本実施形態で使用される材料はＵＶ型銀ペーストに比べてより好適な特性を備えており、使用範囲は一層幅広い。
このように、本実施形態で使用される材料はタッチパッドに応用可能なほかに、更に表示用途としてのタッチパネル等にも応用可能である。これに対し、ＵＶ型銀ペーストは材料特性に制限されて、通常何れもパネル周囲のトレースの製造に用いられる。
このほか、本実施形態で応用される材料は厚さが薄く、好適には４ｕｍ以下であれば、グレーレベルの効果が得られることから、周知技術の透明導電層又は不透明導電層とは明らかに異なる特性と用途を生じる。
図４は本考案の好ましい一の実施形態による導電薄膜を説明する概略図である。図で示されたフローチャートは図３の実施形態のフローチャートであり、本実施形態は下記の工程からなる。
工程Ｓ４１において、基板を提供する。
工程Ｓ４２において、ナノ銀をポジ型又はネガ型のフォトレジストに均等に分散させて混合物を形成する。
工程Ｓ４３において、混合物を基板上に塗布してウェットフィルムを形成する。
工程Ｓ４４において、感光、露光、及び現像工程によりウェットフィルムをパターン化して導電薄膜を形成する。
図５は本考案の好ましい一の実施形態による導電薄膜を説明する概略図である。上述した通り、本考案の導電薄膜５４をタッチパネル５５上に設けて、タッチ検出領域とするが、当然ながらタッチパッド等の他の装置にもに用いられる。
以上のとおり、本考案における実施形態では、ナノ銀とフォトレジストの混合物を基板に塗布してウェットフィルムを形成すると共に、ウェットフィルムをパターン化して導電薄膜を生成する。こうした方法では感光処理工程では露光と現像工程のみで必要とされるパターンが得られることから、製品の製造に必要な時間及びコストを効果的に低減できる。
なお、本考案におけるこの好ましい実施形態では、ナノ銀とフォトレジストの混合物を導電薄膜の材料として利用すると、フォトレジスト材料自体の特性から、形成される薄膜の厚みは１ｕｍより小さく、また、線幅は更に１０ｕｍより小さく達成され、目下市販されているＵＶ型銀ペーストの用途が限定される問題が効果的に改善できる。
このほか、本考案で用いられる材料は薄い厚みのもとで、グレーレベルという結果が得られることから、本考案の導電薄膜は周知技術の導電薄膜とは明らかに異なる特性を備えており、周知技術が達成し得ない効果を達成できる。
以上、本考案の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本考案の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
２１ 基板
３１ 基板
２２ ナノ導電金属と感光材料の混合物
３２ ナノ導電金属と感光材料の混合物
２３ マスク
３３ マスク
２４ 導電薄膜
３４ 導電薄膜
５４ 導電薄膜
５５ タッチパネル
Ｓ４１ 工程
Ｓ４２ 工程
Ｓ４３ 工程
Ｓ４４ 工程

Claims (10)

  1. 基板上に設けられてタッチ検出領域を形成し、ナノ導電金属をポジ型又はネガ型の感光性材料中に均等に分散させて混合物を形成した上で、前記混合物を前記基板上に塗布してウェットフィルムを形成して、感光処理工程によって露光と現像工程を経て、前記ウェットフィルムをパターン化して形成することを特徴とする、
    導電薄膜。
  2. 前記ナノ導電金属はナノ銀であることを特徴とする請求項１に記載の導電薄膜。
  3. 前記感光性材料はフォトレジストであることを特徴とする請求項２に記載の導電薄膜。
  4. 前記感光性材料は液状又はゲル状であることを特徴とする請求項３に記載の導電薄膜。
  5. 前記導電薄膜はタッチパネル又はタッチパッドに用いられることを特徴とする請求項３に記載の導電薄膜。
  6. 前記導電薄膜の線幅は１０ ｕｍより小さいことを特徴とする請求項３に記載の導電薄膜。
  7. 前記ウェットフィルムの厚みは１ ｕｍより小さいことを特徴とする請求項３に記載の導電薄膜。
  8. 前記導電薄膜の厚みが４ ｕｍより小さい場合、グレーレベルの効能を達成することができることを特徴とする請求項３に記載の導電薄膜。
  9. 基板と導電薄膜からなり、前記導電薄膜は前記基板上に設けられてタッチ検出領域を形成し、ナノ導電金属をポジ型又はネガ型の感光性材料中に均等に分散させて混合物を形成した上で、前記混合物を前記基板上に塗布してウェットフィルムを形成し、感光、露光、及び現像工程を経て、前記ウェットフィルムをパターン化して前記導電薄膜を形成することを特徴とする、
    タッチパネル。
  10. 前記ナノ導電金属はナノ銀で、前記感光性材料はフォトレジストであることを特徴とする請求項９に記載のタッチパネル。
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