CN104345942A - 触控面板、导电薄膜及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明是有关于一种触控面板、导电薄膜及其制作方法。其中，此导电薄膜可设置于一基板上，以形成触控感测区域。可将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的一感光性材料中以形成一混合物，再将该混合物涂布于基板上以形成湿膜，再经由黄光曝光及显影步骤将湿膜图案化即可形成此导电薄膜。
Description
技术领域
本发明涉及一种导电薄膜，特别是涉及一种利用混合纳米导电金属与感光性材料来形成的导电薄膜，及此导电薄膜的制作方法与应用此导电薄膜的触控面板。
背景技术
现今许多的电子装置均具备有显示以及触控的功能，也因此触控面板的技术也不断的推陈出新。触控面板，如电容式触控面板等，均需要用一层导电薄膜来做为触控面板的触控感测区域。而现有习知技术的导电薄膜常需要利用金属氧化物或纳米导电金属的金属层及感光材料并通过黄光工艺将金属层图案化以形成导电薄膜所需要的图案。
请参阅图1所示,是现有习知技术的导电薄膜的制造方法的示意图。传统的制造方法所利用的黄光工艺需要借由曝光机所产生的紫外线（UV）光源将光罩上的图案转移至正型或负型光阻上，光阻的型式决定图案化的结果，经显影后，光阻的图案会和光罩完全相同或和光罩呈互补。
如图所示，传统的制造方法所利用的黄光工艺在覆盖光阻层后还需要经过包含曝光、显影、蚀刻及剥膜等程序，经图案化后的金属层则可做为导电薄膜。然而，由上述可知，现有习知技术的导电薄膜的制造方法所利用的黄光工艺需要经多道步骤，才能将金属层图案化为所需要的图案，也因此提高了产品完成所需要的时间，除此之外，过于繁琐的步骤也会直接增加制造产品所需要的成本。
中国台湾专利公开号第201145309号也揭示了一种触控面板，此触控面板是利用混有金属丝段的透明胶体（或溶液）涂布于一可挠性基板上，并待其干涸以形成金属丝段交织而成的导电薄膜，之后需再将金属丝段交织的导电薄膜图案化以产生所需要的图案。然而，此导电薄膜在图案化的过程中仍然需要经过蚀刻及剥膜的步骤，因此其制造产品所需要的时间及成本仍然无法有效地降低。
因此，如何提出一种导电薄膜，能够有效改善现有习知技术的导电薄膜的制造方法需要过多的步骤，导致制造产品所需的时间及成本过高的情况已成为一个刻不容缓的问题。
发明内容
有鉴于上述现有习知技技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种新的导电薄膜及其制作方法与应用此导电薄膜的触控面板，所要解决的技术问题是使其可以解决现有习知技术的导电薄膜的制造方法由于需要过多的步骤而导致制造产品所需要的时间及成本过高的问题，非常适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种导电薄膜，是可设置于基板上，以形成触控感测区域,其中，可将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的感光性材料中以形成混合物，再将此混合物涂布于基板上以形成湿膜，再经由黄光曝光及显影步骤将湿膜图案化以形成导电薄膜。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的导电薄膜，其中所述的纳米导电金属可为纳米银。
前述的导电薄膜，其中所述的感光性材料可为光阻。
前述的导电薄膜，其中所述的感光性材料可为液态或胶态。
前述的导电薄膜，其中所述的导电薄膜可用于触控面板或触控板。
前述的导电薄膜，其中所述的导电薄膜的线宽可小于10um。
前述的导电薄膜，其中所述的湿膜的厚度可小于1um。
前述的导电薄膜，其中所述的导电薄膜的厚度小于4um时能够达到灰阶的结果。
本发明的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种导电薄膜的制作方法，此方法可包含下列步骤：提供基板；将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的感光性材料中以形成混合物；将混合物涂布于基板上以形成湿膜；以及经由黄光曝光及显影步骤将湿膜图案化以形成导电薄膜。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的导电薄膜的制作方法，其中所述的纳米导电金属可为纳米银。
前述的导电薄膜的制作方法，其中所述的感光性材料可为光阻。
前述的导电薄膜的制作方法，其中所述的感光性材料可为液态或胶态。
前述的导电薄膜的制作方法，其中所述的导电薄膜可用于触控面板或触控板。
前述的导电薄膜的制作方法，其中所述的导电薄膜的线宽可小于10um。
前述的导电薄膜的制作方法，其中所述的湿膜的厚度可小于1um。
前述的导电薄膜的制作方法，其中所述的导电薄膜的厚度小于4um时能够达到灰阶的结果。
本发明的目的及解决其技术问题另外再采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种触控面板，此触控面板可包含基板以及导电薄膜，此导电薄膜可设置于基板上以形成触控感测区域，此导电薄膜是如同上面所述的导电薄膜。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本发明触控面板、导电薄膜及其制作方法至少具有下列优点及有益效果：
(1)本发明在一实施例中将纳米银与光阻的混合物的湿膜图案化以产生导电薄膜，仅需要黄光曝光及显影步骤即可获得所需要图形，有效改善了产品制造工艺繁复冗长且成本高昂的缺点。
(2)本发明在一实施例中利用纳米银与光阻的混合物做为导电薄膜的材料，由于光阻的特性，制做出来的薄膜可以达到小于1um的厚度及小于10um的线宽，有效改善了目前市售UV型银浆用途受限的问题。
(3)本发明所应用的材料在低厚度之下即可获得灰阶的结果，因此可产生与现有习知技术的透明导电层或是不透明导电层截然不同的特性。
综上所述，本发明是有关于一种触控面板、导电薄膜及其制作方法。其中，此导电薄膜可设置于一基板上，以形成触控感测区域。可将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的一感光性材料中以形成一混合物，再将该混合物涂布于基板上以形成湿膜，再经由黄光曝光及显影步骤将湿膜图案化即可形成此导电薄膜。本发明在技术上有显著的进步，并具有明显的积极效果,诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1是现有习知技术的导电薄膜的制造方法的示意图。
图2是本发明的导电薄膜的制作方法的示意图。
图3是本发明的导电薄膜的制作方法的一实施例的示意图。
图4是本发明的导电薄膜的制作方法的一实施例的流程图。
图5是本发明的触控面板的一实施例的示意图。
图6是本发明的导电薄膜的制造方法的流程图。
21、31：基板
22、32：纳米导电金属与感光材料的混合物
23、33：光罩
24、34、54：导电薄膜
55：触控面板
S41～S44、S61～S64：步骤流程
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的触控面板、导电薄膜及其制作方法其具体实施方式、结构、方法、步骤、特征及其功效，详细说明如后。
有关本发明的前述及其他技术内容、特点及功效，在以下配合参考图式的较佳实施例的详细说明中将可清楚的呈现。为了方便说明,在以下的实施例中，相同的元件以相同的编号表示。
请参阅图2所示，是本发明的导电薄膜的制作方法的示意图。如图所示，首先提供一基板21，再将纳米导电金属与正型或负型的感光材料均匀混合以产生一混合物22，其中感光材料可为液态或胶态。纳米导电金属与感光材料的混合物22可经涂布步骤涂布于基板上以形成湿膜。接下来则可直接利用光罩23进行黄光曝光，再进行显影的步骤以图案化纳米导电金属与感光材料的混合物22形成的湿膜产生具有特定图案的导电薄膜24。
由上述可知，本发明的导电薄膜的制作方法所使用的黄光工艺仅需要经过曝光及显影的步骤即可制成具有所需要的特定图案的导电薄膜。相反的，现有习知技术的导电薄膜的制作方法所使用的黄光工艺则还需要经过蚀刻剥膜的步骤。因此，本发明的导电薄膜的制作方法确实能够有效减少黄光工艺所需要的步骤，故可以降低产品制造所需要的时间以及成本。
请参阅图3所示，是本发明的导电薄膜的制作方法的一实施例的示意图。如图所示，在本实施例中是利用将纳米银与正型或负型的光阻混合以产生混合物32，同样的，光阻可为液态或胶态。再接下来的步骤中，将纳米银与光阻的混合物32经涂布步骤涂布于基板31上以形成湿膜。同样的，之后则可直接利用光罩33进行曝光及显影的步骤，以图案化纳米银与光阻的混合物32所形成的湿膜借此产生具有特定图案的导电薄膜34。
值得一提的是，在本实施例中是纳米银与光阻的混合物32经涂布步骤涂布于基板31上以形成湿膜，再直接进行曝光及显影的程序即可产生图案化的导电薄膜34，同样能减少传统黄光工艺所需要的步骤，有效地降低产品制造所需要的时间以及成本。
而在另一方面，由于本实施例中使用的纳米导电金属为纳米银，而纳米银需要在一定的含量之上才能达到其导电的效果，这个特性与目前市售的UV型银浆类似。然而，实际上本实施例中提出的纳米银具备更多目前市售的UV型银浆所不具备的特性及优点。
例如，由于本实施例中使用纳米银与光阻的混合物做为导电薄膜的材料，而上述的材料可以利用任何涂布的方式形成厚度小于1um的薄膜；相反的，使用UV型银浆做为导电薄膜的材料时，经常会使用印刷的方式来形成薄膜，而这种方式形成的薄膜的厚度通常大于5um，而若利用黄光工艺则同样会有工艺繁复冗长且成本高昂的缺点。
另外，本实施例中使用纳米银与光阻的混合物做为导电薄膜的材料,且由于光阻材料的特性，形成的导电薄膜更可以达成小于10um的线宽,使人眼无法测知；相反的，使用UV型银浆做为导电薄膜的材料时通常仅能获得大于20um的线宽。故本实施例中使用的材料相较于UV型银浆具备更佳的特性，使用范围更为广泛。也因为如此，本实施例中使用的材料除了可以应用于触控板之外，还可以应用于显示用途的触控面板等等；相反的，UV型银浆由于其材料特性上的限制，其通常均用于制造面板周围的走线（Trace）。
除此之外，本实施例所应用的材料在低厚度之下，较佳的是在4um以下，即可获得灰阶的结果，因此可产生与现有习知技术的透明导电层或是不透明导电层截然不同的特性与用途。
请参阅图4所示，是本发明的导电薄膜的制作方法的一实施例的流程图。本流程为图3的实施例的流程，本实施例可包含下列步骤：
在步骤S41中，提供基板。
在步骤S42中，将纳米银均匀散布至正型或负型的光阻中以形成混合物。
在步骤S43中，将混合物涂布于基板上以形成湿膜。
在步骤S44中，经由黄光曝光及显影步骤将湿膜图案化以形成导电薄膜。
请参阅图5所示，是本发明的触控面板的一实施例的示意图。如同上述，利用本发明的制造方法所制做的导电薄膜54可设置于触控面板55上以做为其触控感测区域，当然也可以用于触控板等其它装置。
尽管前述在说明本发明的导电薄膜的制造方法过程中，也已同时说明本发明的导电薄膜的流程，但为求清楚起见，以下仍然另绘示流程图以详细说明。
请参阅图6所示，是本发明的导电薄膜的制造方法的流程图，此方法包含下列步骤：
在步骤S61中，提供基板。
在步骤S62中，将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的感光性材料中以形成混合物。
在步骤S63中，将混合物涂布于基板上以形成湿膜。
在步骤S64中，经由黄光曝光及显影步骤将湿膜图案化以形成导电薄膜。
综上所述，本发明在一实施例中将纳米银与光阻的混合物涂布于基板以形成湿膜，并将湿膜图案化以产生导电薄膜，这样的方式使黄光工艺仅需要曝光及显影步骤即可获得所需要图案，因此上述的方式可以有效减少产品制造所需要的时间及所需要的成本。
本发明在一实施例中利用纳米银与光阻的混合物做为导电薄膜的材料，由于光阻材料本身的特性，所形成的薄膜的厚度可以达到小于1um,而线宽更可以小于10um，这样则可以有效改善目前市售UV型银浆用途受限的问题。除此之外，本发明所应用的材料在低厚度之下可获得灰阶的结果，因此应用本发明的方法所制成的导电薄膜具有与现有习知技术的导电薄膜截然不同的特性，故可达到其无法达到的功效。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的方法及技术内容作出些许的更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (17)
1.一种导电薄膜，其特征在于，其是设置于基板上，以形成触控感测区域，其中，将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的感光性材料中以形成混合物，再将该混合物涂布于该基板上以形成湿膜，再经由黄光曝光及显影步骤将该湿膜图案化以形成该导电薄膜。
2.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于其中该纳米导电金属为纳米银。
3.根据权利要求2所述的导电薄膜，其特征在于其中该感光性材料为光阻。
4.根据权利要求3所述的导电薄膜，其特征在于其中该感光性材料为液态或胶态。
5.根据权利要求3所述的导电薄膜，其特征在于其中该导电薄膜是用于触控面板或触控板。
6.根据权利要求3所述的导电薄膜，其特征在于其中该导电薄膜的线宽小于10um。
7.根据权利要求3所述的导电薄膜，其特征在于其中该湿膜的厚度小于1um。
8.根据权利要求3所述的导电薄膜，其特征在于其中该导电薄膜的厚度小于4um时能够达到灰阶的结果。
9.一种导电薄膜的制作方法，其特征在于其包括以下步骤：
提供基板；
将纳米导电金属均匀散布至正型或负型的感光性材料中以形成混合物；
将该混合物涂布于该基板上以形成湿膜；以及
经由黄光曝光及显影步骤将该湿膜图案化以形成该导电薄膜。
10.根据权利要求9所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该纳米导电金属为纳米银。
11.根据权利要求10所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该感光性材料为光阻。
12.根据权利要求11所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该感光性材料为液态或胶态。
13.根据权利要求11所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该导电薄膜是用于触控面板或触控板。
14.根据权利要求11所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该导电薄膜的线宽小于10um。
15.根据权利要求11所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该湿膜的厚度小于1um。
16.根据权利要求11所述的导电薄膜的制作方法，其特征在于其中该导电薄膜的厚度小于4um时能够达到灰阶的结果。
17.一种触控面板，其特征在于，其包含基板以及导电薄膜，该导电薄膜设置于该基板上，以形成触控感测区域，其中该导电薄膜是根据权利要求1至8中任一权利要求所述的导电薄膜。
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