CN106484160A - 显示装置、触控面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示装置、触控面板及其制造方法。本申请公开一种触控面板，其包括：基板；图案化触控电极层，设置在基板的一侧；以及图案化感光材料层，设置在图案化触控电极层上。

Description

显示装置、触控面板及其制造方法

技术领域

本发明涉及一种触控面板，特别涉及一种使用图案化金属电极层的触控面板。

背景技术

随着科技的进步，使得各种信息设备不断地推陈出新，例如手机、平板计算机、超轻薄笔记本电脑以及卫星导航等。除了一般以键盘或鼠标输入或操控之外，利用触控式技术来操控信息设备是一种相当直观且受欢迎的操控方式。其中，触控装置具有人性化及直观化的输入操作接口，使得任何年龄层的使用者都可直接以手指或触控笔选取或操控信息设备，因此也愈来愈受市场所喜爱。

一般而言，触控装置搭配的触控面板依据其感应原理可分为电阻式、电容式与光学式，目前市场的主流技术为感应灵敏高、可多点触控的电容式触控面板。由于电容式触控面板可同时感应多点触控，因此，通常被应用于使用频率高且较为精密的电子装置，例如智能型手机、平板电脑或具有触控式输入功能的笔记本电脑。

以电容式触控面板而言，除了目前业界常用的透明导电薄膜(例如氧化铟锡ITO)之外，尚有金属网格技术(Metal Mesh)，金属网格技术利用金属导线作为触控面板上的电极，以取代透明导电薄膜材料。然而其工艺中，需在金属导线上涂布一层光阻，再进行蚀刻，在蚀刻程序完成之后，则需去除残存在金属导线上的光阻后，再接着进行金属导线黑化工艺，以降低金属导线的反射率，而上述工艺相当繁琐，并需反复进行涂布、清洗等步骤，如此繁复的工艺会提高触控面板的制造成本。

因此，如何解决工艺繁琐的问题，并且提供高良率的触控面板，实为一个极欲克服的缺点。

发明内容

有鉴于上述课题，本发明的目的为提供一种触控面板，既能简化工艺又具有高良率。

为达上述目的，本发明提供一种触控面板，其包括：基板；图案化触控电极层，设置在基板的一侧；以及图案化感光材料层，设置于图案化触控电极层上。

在一个实施例中，图案化感光材料层为负光阻层或正光阻层。

在一个实施例中，图案化感光材料层包含有多个降低透光度的颗粒。

在一个实施例中，降低透光度的多个颗粒为碳粒子或黑色染料。

在一个实施例中，图案化触控电极层具有至少一个金属网状结构。

在一个实施例中，该触控面板还包括触控检测区域，触控检测区域内的图案化感光材料层的图案与图案化触控电极层的图案实质上相同。

在一个实施例中，图案化感光材料层的透光度是介于0.0001％-50％。

在一个实施例中，图案化电极层和图案化感光材料层的等效反射率介于0.1％-20％。

为实现上述目的，本发明提供一种触控面板的制造方法，制造方法包括以下步骤：提供基板；在基板的一侧形成金属层；形成感光材料层在金属层上；曝光显影感光材料层，以形成图案化感光材料层；蚀刻金属层，以形成图案化触控电极层，以及在蚀刻程序结束后，保留图案化感光材料层在图案化金属层上。

有鉴于上述课题，本发明的目的为提供一种显示装置，包括：第一基板；第二基板，与第一基板相对而设；显示介质，设置于第一基板与第二基板之间；图案化触控电极层，设置在第二基板的一侧；以及图案化感光材料层，设置于图案化触控电极层上。

综上所述，本发明的触控面板及其制造方法，既可减少反复涂布、清洗等繁琐工艺，也可减少触控面板上的金属导线黑化工艺，因此可降低制造成本，又因工艺的简化，也可有效提高触控面板的良率。

附图说明

图1为本发明优选实施例的触控面板的示意图。

图2为图1触控面板沿AA剖面线的剖面示意图。

图3为本发明触控面板的制造方法的步骤流程图。

图4A至图4E为本发明触控面板的制造方法的示意图。

图5为应用本发明优选实施例的触控面板的显示装置的示意图。

图6为应用本发明优选实施例的触控面板的另一显示装置的示意图。

具体实施方式

以下将参照相关附图，说明依据本发明优选实施例的显示装置、触控面板及其制造方法，其中相同的组件将以相同的附图标记加以说明。

在本发明的触控面板的优选实施例中，触控面板的基板上仅设置一层图案化触控电极层。以下将搭配图1以及图2进行说明。

请先参考图1，图1为本发明优选实施例的触控面板的示意图。图2为图1的触控面板沿AA’剖面线的剖面示意图。本实施例的触控面板1具有触控检测区域I，多个触控电极设置于触控检测区域I的区域内，以接收使用者输入的指示。

触控面板1包括基板10以及第一图案化触控电极层12。且第一图案化触控电极层12设置在基板10的一侧。本实施例以第一图案化触控电极层12设置在基板10之上为例。

基板10可依据不同需求调整，本实施例的基板为透明基板，且可为硬性基板或软性基板。而基板的材料可为玻璃、石英、蓝宝石、高分子材料、塑料、树脂性材料等等，但不以这些为限。

请继续参考图1，图案化触控电极结构12至少部份设置于在触控检测区域I内。

进一步而言，本实施例的图案化触控电极12至少包括图案化触控电极层122和图案化感光材料层123。

本实施例的图案化触控电极层122分别形成多个类矩形的金属网状(mesh)结构。本实施例的图案化触控电极层122为交叉的分布方式，但也可有其它实施方式为未交叉的树枝状结构或是随机分布的结构，在此并不作限制。且除了图面例示的类矩形结构，其它实施方式的金属网状结构也可形成菱形、或是多边形的网状结构。

本实施例的图案化触控电极层122的线宽介于1至5μm、片电阻10Ω以下。但线宽以及片电阻将会依据不同材料与工艺方式而有所不同，不以此为限制。

当图案化触控电极结构12接收到感测信号，感测信号将会被传递至控制单元14，控制单元14可依据感测信号据以产生对应的动作。

接着，请继续参考图2，图案化触控电极层122设置于基板10的一侧，图案化感光材料层123，则设置于图案化触控电极层122上。

其中，图案化触控电极层122可为单层金属网状结构或是双层金属网状结构，在本发明中不作限制。图案化感光材料层123可为负光阻层或正光阻层，例如：黑色矩阵负光阻，在本发明中不作其它限制。图案化感光材料层123还可包括多个降低图案化触控电极层122透光度的颗粒，例如碳粒子、黑色染料或其它可降低透光度的微粒。此外，在触控检测区域I内的图案化触控电极层122的图案与图案化感光材料层123的图案实质上为相同的图案，然而，由于不同的蚀刻工艺，图案化触控电极层122的线宽会小于等于图案化感光材料层123的线宽。

图案化触控电极层122可利用沉积方式制作而成，其可例如但不限于蒸镀(evaporation)、溅镀(sputter)、喷涂(spray)、喷墨(inkjet)、印刷(printing)、涂布(coating)等方式。

在本实施例中，图案化感光材料层123利用黄光显影工艺制作而成，而图案化感光材料层123还可利用喷涂(spray)、喷墨(inkjet)、印刷(printing)、涂布(coating)等方式制作而成。

而图案化触控电极层122的材料为金属材料，可例如但不限于金、银、铜、其它金属或其合金或纳米级金属材料等。需补充说明的是，图案化触控电极层122的等效反射率介于0.1％-20％之间，图案化感光材料层123的透光度介于0.0001％-50％，其可有效降低图案化触控电极层122的可视程度。在其它实施例中，该图案化感光材料层123的透光度可介于0.0001％-20％之间，在本发明中不作限制。

以下请参照图3、图4A至图4E，图3为本发明触控面板的制造方法的步骤流程图。图4A至图4E为本发明触控面板的制造方法的示意图。

本发明触控面板的制造方法至少包括以下步骤：提供基板10(步骤S1)，在基板10的一侧形成金属层102(步骤S2)。形成感光材料层103在金属层102上(步骤S3)。曝光显影感光材料层103，以形成图案化感光材料层123(步骤S4)。蚀刻金属层102，以形成图案化触控电极层122(步骤S5)；以及，在蚀刻程序结束后，保留图案化感光材料层123在图案化金属层122上(步骤S6)。

基板10可依据不同需求调整，本实施例的基板为透明基板，且可为硬性基板或软性基板。而基板的材料可为玻璃、石英、蓝宝石、高分子材料、塑料、树脂性材料等等，但不以上述材料为限。金属层102和图案化电极层122的材料可例如但不限于金、银、铜、其它金属或其合金或纳米级金属材料等，本发明不作其它限制。此外，图案化触控电极层122可为单层金属网状结构或是双层金属网状结构，在本实施例中，图案化触控电极层122为单层金属网状结构，然而可依据实际需求进行调整，在本发明中不做其它限制。感光材料层102和图案化感光材料层123的材料可为负光阻或正光阻，例如：黑色矩阵负光阻，在本发明中不作其它限制。图案化感光材料层123还可包括多个降低图案化触控电极层122透光度的颗粒，例如碳粒子、黑色染料或其它可降低透光度的微粒。此外，在触控检测区域I内的图案化触控电极层122的图案与图案化感光材料层123的图案实质上为相同的图案，然而，根据不同的蚀刻工艺，图案化触控电极层122的线宽会小于等于图案化感光材料层123的线宽。

图案化触控电极层122可利用沉积方式制作而成，其可例如但不限于蒸镀(evaporation)、溅镀(sputter)、喷涂(spray)、喷墨(inkjet)、印刷(printing)、涂布(coating)等方式。

在本实施例中，图案化感光材料层123利用黄光显影工艺制作而成，而图案化感光材料层123还可利用喷涂(spray)、喷墨(inkjet)、印刷(printing)、涂布(coating)等方式制作而成。

需补充说明的是，图案化触控电极层122和图案化感光材料层的等效反射率介于0.1％-20％之间，图案化感光材料层123的透光度介于0.0001％-50％。其可有效降低图案化触控电极层122的可视程度。

另外，由于本实施例中的制造方法，在蚀刻程序之后，将图案化感光材料层123保留在图案化触控电极层122上，因此可不使用公知技术的黑化工艺，因此可减少去除光阻、黑化工艺等繁琐工艺，进而可降低成本。

请参照图5，图5为应用本发明优选实施例的触控面板的显示装置2的示意图。显示装置2可包括第一基板21、第二基板22、显示介质23以及前述实施例的图案化触控电极层122和图案化感光材料层123。第二基板22与第一基板21相对而设，并具有触控检测区域。显示介质23设置于第一基板21与第二基板22之间。图案化触控电极层122和图案化感光材料层123设置在第二基板22的一侧。

显示介质例如可为液晶材料、电浆材料、电泳材料或有机致发光材料OLED或发光二极管LED，优选地可为液晶材料。

在本实施例中，图案化触控电极层122和图案化感光材料层123设置于第二基板22远离第一基板21的一侧。也可因为应用的显示装置不同而将图案化触控电极层122和图案化感光材料层123设置于第二基板22面向显示介质23的一侧，在本发明中不作其它限制。

请参照图6，图6为应用本发明优选实施例的触控面板的另一显示装置4的示意图。显示装置4可包括第一基板41、第二基板42、显示基质43、第三基板44以及前述实施例的图案化触控电极层442和图案化感光材料层443。图案化触控电极层442和图案化感光材料层443设置于第三基板44的一侧，第三基板44未设置图案化触控电极层442和图案化感光材料层443的一侧，与第二基板42贴合，其中，第三基板44和第二基板42，利用光学胶45(OpticalClear Adhesive,OCA)进行贴合。

显示介质例如可为液晶材料、电浆材料、电泳材料或有机致发光材料OLED，或发光二极管LED，优选地可为液晶材料。

综上所述，本发明的触控面板及其制造方法，既可减少反复涂布、清洗等繁琐工艺，也可减少触控面板上的金属导线黑化工艺，因此可降低制造成本，又因工艺的简化，也可有效提高触控面板的良率。

以上所述仅为举例性，而非为限制性。任何未脱离本发明的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含在随附的权利要求范围中。

Claims (10)

1.一种触控面板，其包括：

基板；

图案化触控电极层，设置在所述基板的一侧；以及

图案化感光材料层，设置在所述图案化触控电极层上。

2.根据权利要求1所述的触控面板，其中所述图案化感光材料层为负光阻层或正光阻层。

3.根据权利要求1所述的触控面板，其中所述图案化感光材料层包含有多个降低透光度的颗粒。

4.根据权利要求1所述的触控面板，其中所述降低透光度的多个颗粒为碳粒子或黑色染料。

5.根据权利要求1所述的触控面板，其中所述图案化触控电极层具有至少一个金属网状结构。

6.根据权利要求1所述的触控面板，还包括：

触控检测区域，其中所述触控检测区域内的所述图案化感光材料层的图案与所述图案化触控电极层的图案实质上相同。

7.根据权利要求1所述的触控面板，其中所述图案化感光材料层的透光度介于0.0001％-50％。

8.根据权利要求1所述的触控面板，其中所述图案化电极层和所述图案化感光材料层的等效反射率介于0.1％-20％。

9.一种触控面板的制造方法，所述制造方法包括以下步骤：

提供基板；

在所述基板的一侧形成金属层；

形成感光材料层在所述金属层上；

曝光显影所述感光材料层，以形成图案化感光材料层；

蚀刻该金属层，以形成图案化触控电极层；以及

在所述蚀刻程序结束后，保留所述图案化感光材料层在所述图案化金属层上。

10.一种显示装置，包括：

第一基板；

第二基板，与所述第一基板相对而设；

显示介质，设置在所述第一基板与所述第二基板之间；

图案化触控电极层，设置在所述第二基板的一侧；以及

图案化感光材料层，设置在所述图案化触控电极层上。