JP3183099B2 - バンプの形成方法 - Google Patents

バンプの形成方法

Info

Publication number
JP3183099B2
JP3183099B2 JP13341795A JP13341795A JP3183099B2 JP 3183099 B2 JP3183099 B2 JP 3183099B2 JP 13341795 A JP13341795 A JP 13341795A JP 13341795 A JP13341795 A JP 13341795A JP 3183099 B2 JP3183099 B2 JP 3183099B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
conductive paste
bump
present
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP13341795A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH08330309A (ja
Inventor
秀喜 永福
忠彦 境
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP13341795A priority Critical patent/JP3183099B2/ja
Publication of JPH08330309A publication Critical patent/JPH08330309A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3183099B2 publication Critical patent/JP3183099B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウェハやチップなどの
ワークの電極上にバンプを形成するバンプの形成方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】ウェハやチップなどのワークの電極にバ
ンプ(突出電極)を形成する方法として、従来より様々
な方法が提案されている。以下、従来のバンプの形成方
法の一例について説明する。
【0003】図5は従来のフリップチップの部分断面図
である。フリップチップ1はチップ2の表面に設けられ
た電極3上にバンプ4が形成されている。電極3はアル
ミニウムであって、空気に触れるとその表面に酸化膜が
生じやすい。酸化膜はバンプ4の接着性を阻害し、電極
3とバンプ4の間で導通不良を生じやすいことから、電
極3の表面には酸化防止のためのバリヤメタルとしてチ
タン膜5とニッケル膜6が薄く形成されている。チタン
膜5やニッケル膜6は蒸着手段により形成される。また
バンプ4の素材は金であって、メッキ手段によりニッケ
ル膜6上に積層形成される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
方法は、蒸着手段やメッキ手段により電極3上にチタン
膜5、ニッケル膜6、バンプ4を順次形成していくた
め、工程数が多く、しかもバンプ4の素材として高価な
金を用いることもあって、コストアップになりやすく、
更には歩留りも低いという問題点があった。
【0005】したがって本発明は、ワークの電極の表面
に生じた酸化膜による接着不良や導通不良を解消できる
ワークの形成方法を提供することを目的とする。また低
コストでバンプを形成できるバンプの形成方法を提供す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】このために本発明は、嫌
気性の導電ペースト中にワークの電極を浸し、この電極
に接触する前記導電ペーストを硬化させることによりバ
ンプを形成する。また前記電極を前記導電ペーストに浸
しているときに、前記電極に超音波振動を付与して、そ
の表面の酸化膜を破壊する。
【0007】
【作用】上記構成によれば、簡単にバンプを形成でき
る。また電極の表面の酸化膜を破壊して電極の新鮮面を
露出させることにより、バンプと電極の接着性と導通性
を十分に確保できる。
【0008】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。図1は本発明の第一実施例のフリップチップ
の斜視図である。このフリップチップ11は、チップ1
2の表面に設けられた電極13上に、バンプ14aが形
成されている。次にこのフリップチップ11のバンプ1
4aの形成方法を説明する。
【0009】図2は本発明の第一実施例のバンプの形成
方法の説明図であって、工程順に示している。図2
(a)において、20は容器であり、その内部に導電ペ
ースト14が貯留されている。この導電ペースト14は
嫌気性であって、空気から遮断されると硬化する性質を
有している。またこの導電ペースト14は、銅やアルミ
ニウムなどの金属に接触すると、その接触部分はより一
層速やかに硬化する性質を有している。このような嫌気
性のペーストとしては、例えば変性アクリル樹脂に硬化
促進剤を混入したものが知られている。導電ペースト1
4はこのようなペーストに、導電性を付与するために銀
などの導電物質の粉末を混入して生成されている。
【0010】さて、図2(a)に示すように、チップ1
2をフェースダウンで導電ペースト14に浸す。図2
(b)はその状態を示す拡大図である。本実施例の電極
13の素材はアルミニウムであって、その表面の酸化を
防ぐためのバリヤメタルとして、チタン膜24とニッケ
ル膜15がコーティングされている。このチタン膜24
とニッケル膜15は蒸着手段により形成される。またニ
ッケル膜15の表面には、導電ペースト14を上述した
性質により速やかに硬化させるための銅膜16が形成さ
れている。
【0011】上述したように導電ペースト14は、空気
から遮断された嫌気性雰囲気中で硬化する。さらには、
銅に接触していると、より一層速やかに硬化する。図2
(c)において、ハッチングで示す部分14aは、銅膜
16に接触して速やかに硬化した導電ペーストを示して
いる。次に図2(d)示すように、チップ12を引き上
げれば、銅膜16の表面に、導電ペースト14が硬化し
て生成したバンプ14aを有するフリップチップ11が
取り出される。以上のようにして、図1に示すフリップ
チップ11は完成する。
【0012】図3は本発明の第二実施例のバンプの形成
方法の説明図である。図3(a)において、チップ12
の表面の電極17の素材はアルミニウムであり、図3
(b)に示すように導電ペースト14に浸す。18は振
動子であって、容器20の下面に当接している。この振
動子18が駆動すると、その超音波振動は電極17に伝
えられる。なおこの電極17の表面にはバリヤメタルは
形成されていない。
【0013】図4(a)(b)は、図3(b)のA部分
の電極の部分拡大図であって、図4(a)は超音波振動
を付与する前の状態を示している。アルミニウムは空気
に触れると酸化されやすく、したがってアルミニウムか
ら成る電極17の表面には酸化膜17aが生じている。
図4(b)は超音波振動を付与した後を示している。超
音波振動が付与されると、酸化膜17aは細かく破壊さ
れ、電極17の新鮮面が露出し、この新鮮面に導電ペー
スト14が密着する。これにより導電ペースト14と電
極17を電気的に導通させることができる。
【0014】以下の工程は第一実施例と同様であって、
電極17に接触する導電ペースト14は速やかに硬化し
(図3(c)参照)、チップ12を引き上げると、バン
プ14aを有するフリップチップ11が完成する。
【0015】なお、本発明の第一および第二実施例で
は、チップの電極にバンプを形成する場合について説明
しているがウェハの電極にバンプを形成する場合にも本
発明は適用できる。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、バ
ンプを簡単に形成できる。また電極の表面の酸化膜を破
壊してその新鮮面を露出させることにより、バンプと電
極の接着性と導通性を十分に確保できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一実施例のフリップチップの斜視図
【図2】本発明の第一実施例のバンプの形成方法の説明
【図3】本発明の第二実施例のバンプの形成方法の説明
【図4】本発明の第二実施例の電極の部分拡大図
【図5】従来のフリップチップの部分断面図
【符号の説明】
11 フリップチップ 12 チップ 13、17 電極 14 導電ペースト 14a バンプ 17a 酸化膜 18 振動子
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−312369(JP,A) 特開 平8−102468(JP,A) 特開 平4−313246(JP,A) 特開 平5−190599(JP,A) 特開 平5−218044(JP,A) 実開 平3−63929(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】嫌気性の導電ペースト中にワークの電極を
    浸し、この電極に接触する前記導電ペーストを硬化させ
    ることを特徴とするバンプの形成方法。
  2. 【請求項2】前記電極を前記導電ペーストに浸している
    ときに、前記電極に超音波振動を付与して、その表面の
    酸化膜を破壊することを特徴とする請求項1記載のバン
    プの形成方法。
JP13341795A 1995-05-31 1995-05-31 バンプの形成方法 Expired - Fee Related JP3183099B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13341795A JP3183099B2 (ja) 1995-05-31 1995-05-31 バンプの形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13341795A JP3183099B2 (ja) 1995-05-31 1995-05-31 バンプの形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08330309A JPH08330309A (ja) 1996-12-13
JP3183099B2 true JP3183099B2 (ja) 2001-07-03

Family

ID=15104291

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13341795A Expired - Fee Related JP3183099B2 (ja) 1995-05-31 1995-05-31 バンプの形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3183099B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5245270B2 (ja) * 2007-03-28 2013-07-24 日本電気株式会社 半導体装置及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08330309A (ja) 1996-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200537627A (en) Semiconductor device and method of manufacturing the semiconductor device
JPH1056254A (ja) 接合方法
JPH11307674A (ja) 半導体装置用パッケージおよびその製造方法
JP3183099B2 (ja) バンプの形成方法
WO1998042022A1 (fr) Dispositif a semiconducteur et procede de fabrication associe
JP3128718B2 (ja) ワイヤボンデイング方法
JPH0145228B2 (ja)
JPH10229059A (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置
JPS62136835A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH08236679A (ja) 半導体装置用リードフレーム
JP2916287B2 (ja) メッキ用治具
JP3003394B2 (ja) 突起電極の製造方法
JP3656690B2 (ja) 電子部品の製造方法
JP2550991B2 (ja) ピングリッドアレイ半導体モジュ−ル
JPS62229949A (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP3694949B2 (ja) 電子部品搭載用基板
JP4071121B2 (ja) 半導体装置
JP3214302B2 (ja) バンプ付ワークの製造方法
JPH09129784A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPS60144943A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2754712B2 (ja) 半導体装置
JPH08330308A (ja) バンプの形成方法
JPS6148953A (ja) 樹脂封止形半導体装置の製造方法
JPS6364052B2 (ja)
JP2979425B2 (ja) 静電チヤツク基板

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080427

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090427

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100427

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110427

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees