JPH09129784A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法

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JPH09129784A
JPH09129784A JP7280804A JP28080495A JPH09129784A JP H09129784 A JPH09129784 A JP H09129784A JP 7280804 A JP7280804 A JP 7280804A JP 28080495 A JP28080495 A JP 28080495A JP H09129784 A JPH09129784 A JP H09129784A
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JP
Japan
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chip
substrate
electrode portion
electronic component
semiconductor device
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JP7280804A
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Koichi Oka
幸一 岡
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Fujifilm Business Innovation Corp
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Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ICチップ等の電子部品を印刷配線基板等に
実装するに当たって、該チップの電極部を他の電極部と
同じ高さに実装できる実装方法を、基板の座グリ加工等
高コスト加工を不要として安価に提供する。 【解決手段】 基板1に設けた貫通孔2内または貫通孔
上にICチップ3を位置させるとともに、基板の電極部
5とICチップの電極部6を電気的接続手段7で接続す
るとともに、ICチップ3と基板電極部5と接続手段7
を封止部材4で封止した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ICチップを印刷
配線基板(PCB)等に実装した半導体装置およびその
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、ICチップを印刷配線基板な
どに実装するに当たって、ICチップの電極部と基板上
に設けた電極部を金線等の接続手段を用いて接続してい
るが、ICチップの電極部と基板上に設けた電極部との
間隔は小さい方が好ましく、また、両電極部は同一の平
面にあることが望ましい。図6は、このような要請に応
える実開平4−99555号公報に示される実装方法を
示している。この実装方法は、ICチップ3より高い高
さを有する電子部品8が基板1上に実装された場合に対
応するものである。すなわち、基板1に所定の高さの凸
状部12を形成し、その上にICチップ3を実装するこ
とによって、ICチップ3の電極部6と基板1上に実装
した電子部品8の電極部9の高さを等しくし、両極部
6,9の間を接続手段7で接続した後、封止部材4によ
ってICチップ3および電子部品8ならびに接続手段7
を封止している。この方法では、基板1の表面に凸状部
12を形成するには、該凸状部12以外の基板1の表面
全体にわたって座グリ加工等の加工単価の高い工程を必
要とするものである。
【0003】図7は、このような要請に応える他の実装
方法である実開平4−123551号公報に示される実
装方法を示している。この実装方法は、高さを有するI
Cチップ3を基板1上に実装する場合に対応するもので
ある。すなわち、基板1に所定の深さの有底孔11を形
成し、その中にICチップ3を実装することによって、
ICチップ3の電極部6と基板1上のPCB電極部5の
高さを等しくし、両極部5,6の間を接続手段7で接続
した後、封止部材4によってICチップ3および接続手
段7ならびに有底孔11を封止している。この方法で
は、基板1の表面に有底孔11を形成するには、座グリ
加工等の加工単価の高い工程を必要とするものである。
さらに、この実装方法は、ICチップ3が有底孔11内
に設置されることから該チップの発熱を放熱しにくいと
いう問題を有している。したがって、これらの実装方法
は、基板の加工コストが高いという欠点があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ICチップ
を印刷配線基板(PCB)等に実装するに当たって、該
チップの電極部を他の電極部と同じ高さに実装できる実
装方法を、基板の座グリ加工等高コスト加工を不要とし
て安価に提供することを目的とする。さらに、本発明
は、ICチップを基板中に実装するときに、熱がこもら
ないようにした実装方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板に設けた
貫通孔内もしくは該貫通孔上にICチップを位置させ、
該ICチップの電極部と他の電極部を電気的に接続し、
これら実装部分を封止する半導体装置である。さらに本
発明は、封止後のICチップ裏面の少なくとも一部を露
出するかICチップ裏面に放熱部材を取付けるようにし
た。また、本発明は、上記半導体装置の実装方法であっ
て、基板のICチップ載置部分にICチップよりも大き
い貫通孔をあける工程と、ICチップを保持手段にて貫
通孔内の任意の位置で保持する工程と、ICチップを保
持した状態でICチップの電極と基板の電極とを電気的
に接続する工程と、ICチップを保持した状態でICチ
ップ上面から封止部材でICチップと基板電極部を封止
する工程と、ICチップ保持手段を抜く工程とからなる
半導体装置の製造方法である。
【0006】
【発明の実施の形態】この出願の一つの発明は、ICチ
ップを実装した半導体装置であり、基板1の貫通孔2内
または上にICチップ3を位置させ、ICチップ電極部
6と他の電極部5または9を、電気的接続手段7で接続
し、封止部材4で封止した。この出願の他の発明は、上
記ICチップを実装した半導体装置の製造方法であり、
基板1の基板電極部5内側にICチップ3よりも大きい
貫通孔2をあける工程と、貫通孔2内または上で、IC
チップ保持手段13でICチップ3を保持する工程と、
この状態で基板電極部5とICチップ電極部6とを電気
的接続手段7によって接続する工程と、ICチップ3を
保持した状態でICチップ3の上方から封止部材4で封
止する工程と、この封止の後、ICチップ保持手段13
を基板1から抜く工程とからなる。
【0007】
【実施例】図1を用いて本発明の第1の実施例を説明す
る。この実施例のICチップ実装半導体装置は、基板電
極部5の内側にICチップ3よりも大きい貫通孔2を形
成した基板1の該貫通孔内にICチップ3の電極部6と
基板電極部5がほぼ同じ平面にあるようにICチップ3
を位置させ、ICチップ3の電極部6と基板電極部5を
接続手段7で接続し、前記ICチップ3と、ICチップ
3の電極部6と、基板電極部5と、金やアルミニウムか
らなるボンディングワイヤなどの接続手段7をエポキシ
樹脂などの封止部材4で封止した。
【0008】図2を用いて、本発明にかかる半導体装置
の製造方法を説明する。基板1の基板電極部5の内側
に、ICチップ3よりも大きい貫通孔2をプレス打抜加
工等で形成する(図2A)。プレス打ち抜き加工による
貫通孔は、図6に示した凸状部や図7に示した有底孔に
比べてはるかに低コストに形成できる。次いで、表面が
封止樹脂に濡れず耐熱性を有する例えばフッ素樹脂製
の、平面形状および寸法が前記基板貫通孔2に準ずるI
Cチップ保持手段13を用意し、この保持手段13の上
面にICチップ3を真空吸着等によって保持して、前記
基板貫通孔2に所定の高さに挿入して、ICチップ電極
部6を所望の位置に保持する(図2B)。前記ICチッ
プ保持手段13は、表面をフッ素樹脂で被覆したもので
あってもよい。
【0009】ICチップ3が所定の高さに保持された状
態で、基板電極部5とICチップ電極部6とをボンディ
ングワイヤ7を用いてワイヤボンディングにて接続する
(図2C)。この接続は、TAB等別の手段を用いても
よい。次いで、ICチップ3の上方から高粘度エポキシ
樹脂等の封止部材4を滴下し、硬化させる(図2D)。
封止部材4が硬化して保持手段13を取り除いてもIC
チップ3が移動しないようになったら、ICチップ保持
手段13の真空吸着を解除して基板貫通孔2からICチ
ップ保持手段13を抜く(図2E)。以上の工程によっ
て、図1に示した半導体装置を得る。この製造方法によ
って得た半導体装置は、ICチップ3の裏面が露出して
いる。
【0010】図3は、ICチップ3の裏面も封止部材4
で封止した例を示している。この実装法の製造法は、図
2Eの製造工程の後、ICチップ3の下方からエポキシ
樹脂を充填/硬化して、図3に示す半導体装置を得る。
【0011】図4は、基板1上に高さの高い電子部品8
が実装されるとともにこの電子部品の電極部9と同じ平
面にICチップの電極部6を設けるようにした例を示
す。すなわち、この実施例ではICチップ3は基板1に
設けた貫通孔2の上に位置されている。このような半導
体装置を製造するに当たっては、基板貫通孔2の下方か
ら挿入したICチップ保持手段13上のICチップ3の
電極部6が基板1の上方で電子部品8の電極部9と同じ
高さになるようにICチップ保持手段13を保持した
後、両電極部をワイヤボンディングし、封止部材4で封
止することによって得ることができる。
【0012】図5に、放熱効果をさらに向上させた実施
例を示す。この実施例は、図1に示した実施例における
ICチップ3の裏面に放熱手段10を接触させたもので
ある。この実施例によれば、図1に示した半導体装置に
比較してICチップの発熱を極めて良好に放熱すること
ができる。
【0013】上記実施例では、保持手段13をフッ素樹
脂製もしくはフッ素樹脂で被覆したものとしたが、少な
くとも保持部材の表面はフッ素樹脂に限らず、封止樹脂
に濡れず耐熱性を有する他の材料によるものであっても
よい。
【0014】さらに、上記説明では、基板に実装される
部品をICチップとしたが、本発明を、ある程度以上の
高さを有する他の電子部品の実装に適用することができ
ることはもちろんである。
【0015】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、基板に
凸状部または有底孔を形成することなくプレス加工でき
る貫通孔を設けるようにしたので、凸状部または有底孔
を形成するのに必要な座グリ加工等の高コスト加工しな
くてよく、ICチップなどの高さの高い電子部品を基板
上に所定の高さで、安価に実装することができる。さら
に、本発明によれば、ICチップ等の電子部品を基板に
実装するに当たって、該部品の裏面を基板に接触させる
ことなく露出させることができるので、放熱を効果的に
行える実装とすることができる。さらに、本発明によれ
ば、上記のような構成の半導体装置を、安価に提供する
製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明にかかる、ICチップの実装方法によ
ってえた半導体装置の構造を示す概念図。
【図2】 図1に示す半導体装置の製造工程を説明する
工程図。
【図3】 本発明にかかる、ICチップの実装方法によ
ってえた半導体装置の他の実施例の構造を示す概念図。
【図4】 本発明にかかる、ICチップの実装方法によ
ってえた半導体装置の第3の実施例の構造を示す概念
図。
【図5】 本発明にかかる、ICチップの実装方法によ
ってえた半導体装置の第4の実施例の構造を示す概念
図。
【図6】 従来の半導体装置のICチップの実装方法に
よって得た半導体装置の構造を示す概念図。
【図7】 従来の半導体装置の他のICチップの実装方
法によって得た半導体装置の構造を示す概念図。
【符号の説明】
1 プリント基板(PCB)、 2 貫通孔、 3 I
Cチップ、 4 封止部材、 5 PCB電極部、 6
ICチップ電極部、 7 接続手段、 8電子部品、
9 電子部品電極部、 10 放熱板、 11 有底
孔、 13ICチップ保持手段。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板の貫通孔内もしくは貫通孔上に位置
    させたICチップ等の電子部品と、該ICチップ等の電
    子部品の電極部と基板の電極部とを電気的に接続する手
    段と、ICチップ等の電子部品と基板電極部を封止する
    封止部材とからなる半導体装置。
  2. 【請求項2】 封止後のICチップ等の電子部品の裏面
    の少なくとも一部が露出する請求項1記載の半導体装
    置。
  3. 【請求項3】 封止後のICチップ等の電子部品の裏面
    がすべて封止部材によって被覆される請求項1記載の半
    導体装置。
  4. 【請求項4】 封止後のICチップ等の電子部品の裏面
    に放熱部材を取付ける請求項1または請求項2記載の半
    導体装置。
  5. 【請求項5】 基板のICチップ等の電子部品の載置部
    分にICチップ等の電子部品よりも大きい貫通孔をあけ
    る工程と、 前記ICチップ等の電子部品を保持手段によって前記貫
    通孔内または貫通孔上の任意の位置で保持する工程と、 前記ICチップ等の電子部品を保持した状態でICチッ
    プ等の電子部品の電極と基板の電極とを電気的に接続す
    る工程と、 ICチップ等の電子部品を保持した状態でICチップ等
    の電子部品上面から封止部材でICチップ等の電子部品
    と基板電極部を封止する工程と、 前記ICチップ等の保持手段を抜く工程とからなる半導
    体装置の製造方法。
JP7280804A 1995-10-27 1995-10-27 半導体装置およびその製造方法 Pending JPH09129784A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001185657A (ja) * 1999-12-10 2001-07-06 Amkor Technology Korea Inc 半導体パッケージ及びその製造方法
DE19821715B4 (de) * 1997-05-17 2005-12-29 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd., Ichon Gepacktes integriertes Schaltkreisbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung
JP2014203870A (ja) * 2013-04-02 2014-10-27 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法及び半導体装置

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