JP3174113B2 - Ｍｒｉ装置 - Google Patents
Ｍｒｉ装置Info
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- JP3174113B2 JP3174113B2 JP31031491A JP31031491A JP3174113B2 JP 3174113 B2 JP3174113 B2 JP 3174113B2 JP 31031491 A JP31031491 A JP 31031491A JP 31031491 A JP31031491 A JP 31031491A JP 3174113 B2 JP3174113 B2 JP 3174113B2
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- excitation
- slices
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】 この発明は、マルチスライスを
励起するＭＲＩ装置に関し、さらに詳しくは、繰り返し
時間内にスライススペースを置いて並ぶ複数のスライス
（マルチスライス）を選択励起し，それらスライスから
の信号を得るＭＲＩ装置に関する。
励起するＭＲＩ装置に関し、さらに詳しくは、繰り返し
時間内にスライススペースを置いて並ぶ複数のスライス
（マルチスライス）を選択励起し，それらスライスから
の信号を得るＭＲＩ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＭＲＩ装置では、繰り返し時間内に複数
のスライスを選択励起し，それらスライスからの信号を
得るマルチスライス励起方法が、ＳＥ法，ＩＲ法などの
各種パルスシーケンスに適用されている。
のスライスを選択励起し，それらスライスからの信号を
得るマルチスライス励起方法が、ＳＥ法，ＩＲ法などの
各種パルスシーケンスに適用されている。
【０００３】例えばＳＥ法では、図６の（ａ）の如くス
ライス厚Ｔの複数のスライスＳが連続しているときは、
図６の（ｂ）に示すように、励起厚みがスライス厚Ｔと
等しくなるような９０゜パルス励起形状Ｄ１により選択
励起する。そして、隣接するスライスＳへの干渉を考慮
して、図６の（ｃ）に示すように、前記９０゜パルス励
起形状（図中、実線で示す。）Ｄ１にほぼ重畳するよう
な１８０゜パルス励起形状（図中、点線で示す。）Ｄ２
により再び選択励起する。
ライス厚Ｔの複数のスライスＳが連続しているときは、
図６の（ｂ）に示すように、励起厚みがスライス厚Ｔと
等しくなるような９０゜パルス励起形状Ｄ１により選択
励起する。そして、隣接するスライスＳへの干渉を考慮
して、図６の（ｃ）に示すように、前記９０゜パルス励
起形状（図中、実線で示す。）Ｄ１にほぼ重畳するよう
な１８０゜パルス励起形状（図中、点線で示す。）Ｄ２
により再び選択励起する。
【０００４】また、図７の（ａ）の如くスライス厚Ｔの
複数のスライスＳがスライススペースＳｐを置いて並ん
でいるときも、図７の（ｂ）に示すよに、上記と同様な
９０゜パルス励起形状Ｄ１，１８０゜パルス励起形状Ｄ
２により選択励起している。
複数のスライスＳがスライススペースＳｐを置いて並ん
でいるときも、図７の（ｂ）に示すよに、上記と同様な
９０゜パルス励起形状Ｄ１，１８０゜パルス励起形状Ｄ
２により選択励起している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な１８０゜パルス励起形状Ｄ２による選択励起では、ス
ピン自体の非線形な振舞などによってスピンの反転が不
完全となり、スライスＳからの信号強度が低下する問題
点がある。そして、前記１８０゜パルス励起形状Ｄ２に
よる選択励起を１スライスのデータ収集に多用するＳＥ
マルチエコー法，ＩＲ法などのパルスシーケンスでは、
前記信号強度の低下がさらに顕著となる問題点がある。
な１８０゜パルス励起形状Ｄ２による選択励起では、ス
ピン自体の非線形な振舞などによってスピンの反転が不
完全となり、スライスＳからの信号強度が低下する問題
点がある。そして、前記１８０゜パルス励起形状Ｄ２に
よる選択励起を１スライスのデータ収集に多用するＳＥ
マルチエコー法，ＩＲ法などのパルスシーケンスでは、
前記信号強度の低下がさらに顕著となる問題点がある。
【０００６】そこで、この発明の目的は、マルチスライ
ス励起方法を適用したパルスシーケンスについて、１８
０゜パルスを用いた選択励起による信号強度の低下を軽
減できるようにしたＭＲＩ装置を提供することにある。
ス励起方法を適用したパルスシーケンスについて、１８
０゜パルスを用いた選択励起による信号強度の低下を軽
減できるようにしたＭＲＩ装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明のＭＲＩ装置に
おけるマルチスライス励起方法は、繰り返し時間内にス
ライススペースを置いて並ぶ複数のスライスを選択励起
し，それらスライスからの信号を得るＭＲＩ装置におい
て、一つのスライスを、９０゜パルスにより選択励起し
た後、スライス厚み方向の幅が９０゜パルス励起形状の
ほぼ｛（９０゜パルス励起形状の励起厚み＋スライスス
ペース）／（９０゜パルス励起形状の励起厚み）｝倍の
１８０゜パルス励起形状の１８０゜パルスにより選択励
起することを構成上の特徴とするものである。
おけるマルチスライス励起方法は、繰り返し時間内にス
ライススペースを置いて並ぶ複数のスライスを選択励起
し，それらスライスからの信号を得るＭＲＩ装置におい
て、一つのスライスを、９０゜パルスにより選択励起し
た後、スライス厚み方向の幅が９０゜パルス励起形状の
ほぼ｛（９０゜パルス励起形状の励起厚み＋スライスス
ペース）／（９０゜パルス励起形状の励起厚み）｝倍の
１８０゜パルス励起形状の１８０゜パルスにより選択励
起することを構成上の特徴とするものである。
【０００８】
【作用】この発明のＭＲＩ装置におけるマルチスライス
励起方法では、スライス方向の幅が９０゜パルス励起形
状のほぼ｛（９０゜パルス励起形状の励起厚み＋スライ
ススペース）／（９０゜パルス励起形状の励起厚み）｝
倍の１８０゜パルス励起形状によって選択励起する。す
なわち、マルチスライス励起方法を適用したパルスシー
ケンスでは、従来、９０゜パルス励起形状にほぼ重畳す
る１８０゜パルス励起形状によって選択励起している
が、この発明では、１８０゜パルス励起形状を、スライ
ス方向の幅がほぼ｛（９０゜パルス励起形状の励起厚み
＋スライススペース）／９０゜パルス励起形状の励起厚
み｝倍だけ大きくする。したがって、その大きくなった
分だけ選択励起による信号強度の低下を軽減できる。
励起方法では、スライス方向の幅が９０゜パルス励起形
状のほぼ｛（９０゜パルス励起形状の励起厚み＋スライ
ススペース）／（９０゜パルス励起形状の励起厚み）｝
倍の１８０゜パルス励起形状によって選択励起する。す
なわち、マルチスライス励起方法を適用したパルスシー
ケンスでは、従来、９０゜パルス励起形状にほぼ重畳す
る１８０゜パルス励起形状によって選択励起している
が、この発明では、１８０゜パルス励起形状を、スライ
ス方向の幅がほぼ｛（９０゜パルス励起形状の励起厚み
＋スライススペース）／９０゜パルス励起形状の励起厚
み｝倍だけ大きくする。したがって、その大きくなった
分だけ選択励起による信号強度の低下を軽減できる。
【０００９】
【実施例】以下、図に示す実施例に基づいてこの発明を
さらに詳細に説明する。なお、これによりこの発明が限
定されるものではない。図１は、この発明の一実施例の
マルチスライス励起方法を実施するためのＭＲＩ装置１
のブロック図である。
さらに詳細に説明する。なお、これによりこの発明が限
定されるものではない。図１は、この発明の一実施例の
マルチスライス励起方法を実施するためのＭＲＩ装置１
のブロック図である。
【００１０】計算機２は、操作卓１３からの指示に基づ
き、全体の作動を制御する。シーケンスコントローラ３
は、記憶しているシーケンスに基づいて、勾配磁場駆動
回路４を作動させ、マグネットアセンブリ５の静磁場コ
イル，勾配磁場コイルで静磁場，勾配磁場を発生させ
る。また、ゲート変調回路７を制御し、ＲＦ発振回路６
で発生したＲＦパルスを所定の波形に変調して、ＲＦ電
力増幅器８からマグネットアセンブリ５の送信コイルに
加える。
き、全体の作動を制御する。シーケンスコントローラ３
は、記憶しているシーケンスに基づいて、勾配磁場駆動
回路４を作動させ、マグネットアセンブリ５の静磁場コ
イル，勾配磁場コイルで静磁場，勾配磁場を発生させ
る。また、ゲート変調回路７を制御し、ＲＦ発振回路６
で発生したＲＦパルスを所定の波形に変調して、ＲＦ電
力増幅器８からマグネットアセンブリ５の送信コイルに
加える。
【００１１】マグネットアセンブリ５の受信コイルで得
られたＮＭＲ信号は、前置増幅器９を介して位相検波器
１０に入力され、さらにＡＤ変換器１１を介して計算機
２に入力される。計算機２は、ＡＤ変換器１１から得た
ＮＭＲ信号のデータに基づき、イメージを再構成し、表
示装置１２で表示する。この発明のマルチスライス励起
方法は、計算機２およびシーケンスコントローラ３に記
憶された手順により実施される。
られたＮＭＲ信号は、前置増幅器９を介して位相検波器
１０に入力され、さらにＡＤ変換器１１を介して計算機
２に入力される。計算機２は、ＡＤ変換器１１から得た
ＮＭＲ信号のデータに基づき、イメージを再構成し、表
示装置１２で表示する。この発明のマルチスライス励起
方法は、計算機２およびシーケンスコントローラ３に記
憶された手順により実施される。
【００１２】図２は、この発明のマルチスライス励起方
法によるパルスシーケンスである。このパルスシーケン
スは、繰り返し時間内に図３の（ａ）に示すようなスラ
イス厚Ｔの複数のスライスＳを選択励起し，それらスラ
イスＳからの信号を得るマルチスライスＳＥ法のパルス
シーケンスである。なお、図３の（ａ）のＳｐはスライ
ススペースである。
法によるパルスシーケンスである。このパルスシーケン
スは、繰り返し時間内に図３の（ａ）に示すようなスラ
イス厚Ｔの複数のスライスＳを選択励起し，それらスラ
イスＳからの信号を得るマルチスライスＳＥ法のパルス
シーケンスである。なお、図３の（ａ）のＳｐはスライ
ススペースである。
【００１３】このパルスシーケンスでは、まず、９０゜
パルスＰ１を印加すると共にスライス勾配ｇｓを印加し
て、１つのスライスＳを選択励起する。このときの９０
゜パルス励起形状Ｄ１は、図３の（ｂ）に示すように、
従来例（図７の（ｂ））と同様であり、その励起厚みは
Ｔである。
パルスＰ１を印加すると共にスライス勾配ｇｓを印加し
て、１つのスライスＳを選択励起する。このときの９０
゜パルス励起形状Ｄ１は、図３の（ｂ）に示すように、
従来例（図７の（ｂ））と同様であり、その励起厚みは
Ｔである。
【００１４】次に、複数のスライスＳが連続していると
きと同様な（すなわち、従来例と同様な）１８０゜パル
スＰ２を印加すると共に、 ＧＳ＝スライス勾配ｇｓ＊励起厚Ｔ／（励起厚Ｔ＋スライススヘ゜ースＳｐ） なるスライス勾配ＧＳを印加する。さらに、９０゜パル
ス印加時のスライス勾配により乱れたスピンの位相を元
に戻すためにリフェーズ勾配ｒｅを印加する。
きと同様な（すなわち、従来例と同様な）１８０゜パル
スＰ２を印加すると共に、 ＧＳ＝スライス勾配ｇｓ＊励起厚Ｔ／（励起厚Ｔ＋スライススヘ゜ースＳｐ） なるスライス勾配ＧＳを印加する。さらに、９０゜パル
ス印加時のスライス勾配により乱れたスピンの位相を元
に戻すためにリフェーズ勾配ｒｅを印加する。
【００１５】前記スライス勾配ＧＳはスライス勾配ｇｓ
に比べて緩いため、その緩い分だけ１８０゜パルス励起
形状のスライス方向の幅が、従来の１８０゜パルス励起
形状Ｄ２（図６の（ｃ），図７の（ｂ）参照）に比べて
大きくなる。このときの１８０゜パルス励起形状Ｅを図
３の（ｃ）に点線で示す。
に比べて緩いため、その緩い分だけ１８０゜パルス励起
形状のスライス方向の幅が、従来の１８０゜パルス励起
形状Ｄ２（図６の（ｃ），図７の（ｂ）参照）に比べて
大きくなる。このときの１８０゜パルス励起形状Ｅを図
３の（ｃ）に点線で示す。
【００１６】したがって、上記パルスシーケンスでは、
１８０゜パルス励起形状Ｅのスライス方向の幅が大きく
なった分だけ、選択励起による信号強度の低下が軽減さ
れる。
１８０゜パルス励起形状Ｅのスライス方向の幅が大きく
なった分だけ、選択励起による信号強度の低下が軽減さ
れる。
【００１７】この発明の他の実施例としては、図４に示
すように、前記１８０゜パルスＰ２のパルス幅をｔｐｗ
とするとき、 ＴＰＷ＝ｔｐｗ＊励起厚Ｔ／（励起厚Ｔ＋スライススペースＳｐ） なるパルス幅ＴＰＷの１８０゜パルスＱを印加すると共
にスライス勾配ｇｓを印加して、前記実施例と同様な効
果を奏するものが挙げられる。
すように、前記１８０゜パルスＰ２のパルス幅をｔｐｗ
とするとき、 ＴＰＷ＝ｔｐｗ＊励起厚Ｔ／（励起厚Ｔ＋スライススペースＳｐ） なるパルス幅ＴＰＷの１８０゜パルスＱを印加すると共
にスライス勾配ｇｓを印加して、前記実施例と同様な効
果を奏するものが挙げられる。
【００１８】この発明のさらに他の実施例としては、図
５に示すように、前記１８０゜パルスＰ２のパルス形状
がｓｉｎｃ波形であり且つそのｓｉｎｃ波形の周期をｆ
Ｐ２とするとき、 ＦＰ２＝ｆＰ２＊励起厚Ｔ／（励起厚Ｔ＋スライススペースＳｐ） なるｓｉｎｃ波形の周期ＦＰ２を有するパルス形状の１
８０゜パルスＲを印加して前記実施例と同様な効果を奏
するものが挙げられる。
５に示すように、前記１８０゜パルスＰ２のパルス形状
がｓｉｎｃ波形であり且つそのｓｉｎｃ波形の周期をｆ
Ｐ２とするとき、 ＦＰ２＝ｆＰ２＊励起厚Ｔ／（励起厚Ｔ＋スライススペースＳｐ） なるｓｉｎｃ波形の周期ＦＰ２を有するパルス形状の１
８０゜パルスＲを印加して前記実施例と同様な効果を奏
するものが挙げられる。
【００１９】
【発明の効果】この発明のＭＲＩ装置におけるマルチス
ライス励起方法によれば、１８０゜パルスを用いた選択
励起による信号強度の低下を軽減できる。このため、１
８０゜パルスを用いた選択励起を１スライスのデータ収
集に多用するＳＥマルチエコー法，ＩＲ法などのパルス
シーケンスに特に有用である。
ライス励起方法によれば、１８０゜パルスを用いた選択
励起による信号強度の低下を軽減できる。このため、１
８０゜パルスを用いた選択励起を１スライスのデータ収
集に多用するＳＥマルチエコー法，ＩＲ法などのパルス
シーケンスに特に有用である。
【図１】この発明のＭＲＩ装置におけるマルチスライス
励起方法を実施するためのＭＲＩ装置のブロック図であ
る。
励起方法を実施するためのＭＲＩ装置のブロック図であ
る。
【図２】この発明の一実施例のマルチスライス励起方法
におけるパルスシーケンスの例示図である。
におけるパルスシーケンスの例示図である。
【図３】この発明の一実施例におけるパルスシーケンス
に係る励起形状の例示図である。
に係る励起形状の例示図である。
【図４】この発明の他の実施例におけるパルスシーケン
スの例示図である。
スの例示図である。
【図５】この発明のさらに他の実施例におけるパルスシ
ーケンスの例示図である。
ーケンスの例示図である。
【図６】従来のパルスシーケンスに係る励起形状の例示
図である。
図である。
【図７】従来のパルスシーケンスに係る励起形状の例示
図である。
図である。
１ ＭＲＩ装置 ２ 計算機 ３ シーケンスコントローラ Ｄ１ ９０゜パルス励起形状 Ｅ １８０゜パルス励起形状 Ｐ１ ９０゜パルス Ｐ２，Ｑ，Ｒ １８０゜パルス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−49619（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−224537（ＪＰ，Ａ) 藤村哲、守田正夫，「スライス切出し 用高周波パルス形状の最適化」，電気学 会論文誌Ｃ，（1989），Ｖｏｌ．109, Ｎｏ．７，Ｐ472−Ｐ476 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61B 5/055 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (3)
- 【請求項１】 繰り返し時間内にスライススペースを置
いて並ぶ複数のスライスを選択励起し、それらスライス
からの信号を得るＭＲＩ装置であって、 前記複数のスライスを１８０゜パルスで励起するとき、
各々の前記スライスの厚さに対応するスライス勾配より
も小さいスライス勾配を印加するスライス勾配印加手段
を備えたことを特徴とするＭＲＩ装置。 - 【請求項２】 繰り返し時間内にスライススペースを置
いて並ぶ複数のスライスを選択励起し、それらスライス
からの信号を得るＭＲＩ装置であって、 前記複数のスライスを１８０゜パルスで励起するとき、
各々の前記スライスの厚さに対応する１８０゜パルス幅
よりも小さいパルス幅を有する１８０゜パルスを印加す
るＲＦパルス印加手段を備えたことを特徴とするＭＲＩ
装置。 - 【請求項３】 繰り返し時間内にスライススペースを置
いて並ぶ複数のスライスを選択励起し、それらスライス
からの信号を得るＭＲＩ装置であって、 前記複数のスライスを１８０゜パルスで励起するとき、
各々の前記スライスの厚さに対応する１８０゜パルスに
おけるｓｉｎｃ波形の周期よりも小さい周期を有する１
８０゜パルスを印加するＲＦパルス印加手段を備えたこ
とを特徴とするＭＲＩ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31031491A JP3174113B2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | Ｍｒｉ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31031491A JP3174113B2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | Ｍｒｉ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05146417A JPH05146417A (ja) | 1993-06-15 |
| JP3174113B2 true JP3174113B2 (ja) | 2001-06-11 |
Family
ID=18003737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31031491A Expired - Fee Related JP3174113B2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | Ｍｒｉ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3174113B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014089146A (ja) * | 2012-10-31 | 2014-05-15 | Yamato Scale Co Ltd | 計量システム |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001258863A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-25 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | Ｍｒイメージング方法およびｍｒｉ装置 |
| RU2689974C2 (ru) * | 2014-09-18 | 2019-05-29 | Конинклейке Филипс Н.В. | Способ генерации многодиапазонных рч импульсов |
-
1991
- 1991-11-26 JP JP31031491A patent/JP3174113B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 藤村哲、守田正夫，「スライス切出し用高周波パルス形状の最適化」，電気学会論文誌Ｃ，（１９８９），Ｖｏｌ．１０９，Ｎｏ．７，Ｐ４７２−Ｐ４７６ |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014089146A (ja) * | 2012-10-31 | 2014-05-15 | Yamato Scale Co Ltd | 計量システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05146417A (ja) | 1993-06-15 |
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Legal Events
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