JP3341914B2 - Ｍｒ装置及びプレパレーションパルスの印加方法 - Google Patents
Ｍｒ装置及びプレパレーションパルスの印加方法Info
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- JP3341914B2 JP3341914B2 JP00190693A JP190693A JP3341914B2 JP 3341914 B2 JP3341914 B2 JP 3341914B2 JP 00190693 A JP00190693 A JP 00190693A JP 190693 A JP190693 A JP 190693A JP 3341914 B2 JP3341914 B2 JP 3341914B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＭＲ装置（核磁気共鳴装
置）のプリパレーションパルス印加方法に関する。
置）のプリパレーションパルス印加方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＭＲ装置は、人体の解剖学的情報を映像
化する手段として、Ｘ線ＣＴ装置と同様にして、近年用
いられるようになってきた。ＭＲ装置は、その原理が生
体組織を構成する特定の原子核が、磁場の影響の中で特
定のラジオ周波数（以下ＲＦと略す）を吸収して励起さ
れ、吸収したＲＦエネルギーの一部分を放出する物理現
象（ＮＭＲ現象）に基づくものである。
化する手段として、Ｘ線ＣＴ装置と同様にして、近年用
いられるようになってきた。ＭＲ装置は、その原理が生
体組織を構成する特定の原子核が、磁場の影響の中で特
定のラジオ周波数（以下ＲＦと略す）を吸収して励起さ
れ、吸収したＲＦエネルギーの一部分を放出する物理現
象（ＮＭＲ現象）に基づくものである。
【０００３】図７はＭＲ装置の概念図である。図におい
て、１は磁界を発生するマグネット、２は該マグネット
１内に設けられるＲＦ帯域の電力が印加され、その検出
信号を得るＲＦコイルである。図に示すような全身用マ
グネットの場合、患者３はＲＦコイル２の内部に包まれ
るように置かれる。
て、１は磁界を発生するマグネット、２は該マグネット
１内に設けられるＲＦ帯域の電力が印加され、その検出
信号を得るＲＦコイルである。図に示すような全身用マ
グネットの場合、患者３はＲＦコイル２の内部に包まれ
るように置かれる。
【０００４】このような状態で、送信器４からＲＦ帯域
の周波数の電力をＲＦコイル２に印加する。この時の送
信器４の印加電力としては、例えば１０ＫＷ〜２０ＫＷ
が用いられる。この結果、患者３の体内からのＮＭＲ現
象に基づく信号がＲＦコイル２に誘起される。受信器５
は、この検出信号を受信して増幅し、Ａ／Ｄ変換器６に
送る。Ａ／Ｄ変換器６は、入力信号をディジタルデータ
に変換する。
の周波数の電力をＲＦコイル２に印加する。この時の送
信器４の印加電力としては、例えば１０ＫＷ〜２０ＫＷ
が用いられる。この結果、患者３の体内からのＮＭＲ現
象に基づく信号がＲＦコイル２に誘起される。受信器５
は、この検出信号を受信して増幅し、Ａ／Ｄ変換器６に
送る。Ａ／Ｄ変換器６は、入力信号をディジタルデータ
に変換する。
【０００５】コンピュータ７は、Ａ／Ｄ変換器６の出力
データを入力し、画像処理を行い、その結果をディスプ
レイ８に表示する。オペレータは、ディスプレイ８に表
示された画像を見ながら、患者の病変部の診察を行う。
９は、コンピュータ７と他の構成要素（送信器７，受信
器５及びＡ／Ｄ変換器６）との仲介を行うインタフェー
スである。
データを入力し、画像処理を行い、その結果をディスプ
レイ８に表示する。オペレータは、ディスプレイ８に表
示された画像を見ながら、患者の病変部の診察を行う。
９は、コンピュータ７と他の構成要素（送信器７，受信
器５及びＡ／Ｄ変換器６）との仲介を行うインタフェー
スである。
【０００６】ところで、この種のＭＲ装置では、繰り返
し時間が数ｍｓという高速スキャンを行う場合、画像コ
ントラストを付けるために一連のデータ収集に先立ち、
プリパレーションパルスと呼ばれる様々なＲＦパルスと
勾配パルスからなるパルスシーケンスが付加されること
が多い。そのプリパレーションパルスの中で、Ｔ２コン
トラストを付けるために、９０゜−１８０゜−９０゜系
列からなるＴ２プリパレーションパルス（Ｔ２は横緩和
時間）がある。
し時間が数ｍｓという高速スキャンを行う場合、画像コ
ントラストを付けるために一連のデータ収集に先立ち、
プリパレーションパルスと呼ばれる様々なＲＦパルスと
勾配パルスからなるパルスシーケンスが付加されること
が多い。そのプリパレーションパルスの中で、Ｔ２コン
トラストを付けるために、９０゜−１８０゜−９０゜系
列からなるＴ２プリパレーションパルス（Ｔ２は横緩和
時間）がある。
【０００７】このＴ２プリパレーションパルスは、一般
には図８に示すようにＲＦ印加時にスライス選択用磁場
勾配を付加しない非選択的な方式が行われている。
（ａ）はＲＦ印加パルス、（ｂ）はスライス軸である。
勾配磁場は印加されていない。ここで、最初の９０゜は
静磁界方向（ｚ軸方向）に対する傾き、次の１８０゜は
９０゜の傾きから更に１８０゜、次の９０゜は更にこの
傾きから９０゜の傾きを示す。前記繰り返し時間は、こ
のＴ２プリパレーションパルスに続いてデータのサンプ
リングが行われるが、データのサンプリングを行うため
のくり返し行われる励起の間隔をいう。
には図８に示すようにＲＦ印加時にスライス選択用磁場
勾配を付加しない非選択的な方式が行われている。
（ａ）はＲＦ印加パルス、（ｂ）はスライス軸である。
勾配磁場は印加されていない。ここで、最初の９０゜は
静磁界方向（ｚ軸方向）に対する傾き、次の１８０゜は
９０゜の傾きから更に１８０゜、次の９０゜は更にこの
傾きから９０゜の傾きを示す。前記繰り返し時間は、こ
のＴ２プリパレーションパルスに続いてデータのサンプ
リングが行われるが、データのサンプリングを行うため
のくり返し行われる励起の間隔をいう。
【０００８】この非選択励起方式は、マグネット中心
（磁場中心）付近では何等問題はない。しかしながら、
マグネット中心から隔たると磁場不均一の影響をうけや
すく、画像にはシェーディングアーチファクト（画像む
ら）として現れてくる。このため、勾配磁場をＴ２プリ
パレーションパルスに選択励起方式が用いられることが
望ましい。
（磁場中心）付近では何等問題はない。しかしながら、
マグネット中心から隔たると磁場不均一の影響をうけや
すく、画像にはシェーディングアーチファクト（画像む
ら）として現れてくる。このため、勾配磁場をＴ２プリ
パレーションパルスに選択励起方式が用いられることが
望ましい。
【０００９】一般に、９０゜パルスによる選択励起は、
ＲＦ印加中に横磁化の位相がずれるために、図９に示す
ようにスライス勾配の面積の半分の逆符号のリフェーズ
勾配をスライス勾配に続いて付加し、横磁化の位相をそ
ろえるという手法が用いられる。図において、Ｓ１はス
ライス勾配の面積の１／２で、このＳ１に続く逆符号の
リフェーズ勾配ａの面積Ｓ２は、Ｓ１に等しい。
ＲＦ印加中に横磁化の位相がずれるために、図９に示す
ようにスライス勾配の面積の半分の逆符号のリフェーズ
勾配をスライス勾配に続いて付加し、横磁化の位相をそ
ろえるという手法が用いられる。図において、Ｓ１はス
ライス勾配の面積の１／２で、このＳ１に続く逆符号の
リフェーズ勾配ａの面積Ｓ２は、Ｓ１に等しい。
【００１０】この選択励起方式は、マグネット中心から
離れていても磁場不均一の影響を受けることがなく、ｚ
軸方向のスライスした画像を得ることができる。
離れていても磁場不均一の影響を受けることがなく、ｚ
軸方向のスライスした画像を得ることができる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このリ
フェーズの手法を単純にＴ２プリパレーションパルスに
適用しようとすると、１番目の９０゜パルスの後の横磁
化はそろうが、２番目の９０゜パルス中に生じる磁化の
位相ずれが２番目の９０゜パルスの印加の終了時には縦
磁化の強度損失となってしまい、画像のＳ／Ｎ比が悪く
なってしまう。
フェーズの手法を単純にＴ２プリパレーションパルスに
適用しようとすると、１番目の９０゜パルスの後の横磁
化はそろうが、２番目の９０゜パルス中に生じる磁化の
位相ずれが２番目の９０゜パルスの印加の終了時には縦
磁化の強度損失となってしまい、画像のＳ／Ｎ比が悪く
なってしまう。
【００１２】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
ものであって、磁場中心から離れても縦磁化の強度損失
を伴わず、磁場不均一の影響を小さくすることができる
９０°−１８０°−９０°系列からなるプリパレーショ
ンパルス印加方法及びその方法を行うＭＲ装置を提供す
ることを目的としている。
ものであって、磁場中心から離れても縦磁化の強度損失
を伴わず、磁場不均一の影響を小さくすることができる
９０°−１８０°−９０°系列からなるプリパレーショ
ンパルス印加方法及びその方法を行うＭＲ装置を提供す
ることを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前記した課題を解決する
本発明は、９０゜−１８０゜−９０゜系列からなるプリ
パレーションパルスをＲＦコイルに印加するのに同期し
て、最初の９０゜パルスに同期した勾配パルスにリフェ
ーズ勾配パルスを付加し、２番目の９０゜パルスの前に
２番目の９０°パルスのための選択励起用勾配の半分の
面積のディフェーズ勾配パルスを付加するようにしたこ
とを特徴としている。
本発明は、９０゜−１８０゜−９０゜系列からなるプリ
パレーションパルスをＲＦコイルに印加するのに同期し
て、最初の９０゜パルスに同期した勾配パルスにリフェ
ーズ勾配パルスを付加し、２番目の９０゜パルスの前に
２番目の９０°パルスのための選択励起用勾配の半分の
面積のディフェーズ勾配パルスを付加するようにしたこ
とを特徴としている。
【００１４】
【作用】９０゜−１８０゜−９０゜のＴ２プリパレーシ
ョンパルスをＲＦコイルに印加するのに同期してスライ
ス勾配を付けるために選択励起用勾配磁化を印加する。
この時、スライス軸に、前の９０゜パルスの時に、リフ
ェーズ勾配パルスを付加する。一般に、選択励起用の９
０゜パルスにより励起されるスピンは、ＲＦパルスの印
加中に位相がずれる。このずれを元に戻すために前記リ
フェーズ勾配パルスを用いる。
ョンパルスをＲＦコイルに印加するのに同期してスライ
ス勾配を付けるために選択励起用勾配磁化を印加する。
この時、スライス軸に、前の９０゜パルスの時に、リフ
ェーズ勾配パルスを付加する。一般に、選択励起用の９
０゜パルスにより励起されるスピンは、ＲＦパルスの印
加中に位相がずれる。このずれを元に戻すために前記リ
フェーズ勾配パルスを用いる。
【００１５】図１に本発明の原理説明図を示す。この図
で、（ａ）はＲＦパルス、（ｂ）はスライス軸である。
前記したスピンの位相ずれを元に戻すために、リフェー
ズ勾配パルスａが付加される。本発明の特徴は、２番目
の９０゜パルスの前に２番目の９０°パルスのための選
択励起用勾配の半分の面積のディフェーズ勾配パルスｂ
を印加したことにある。
で、（ａ）はＲＦパルス、（ｂ）はスライス軸である。
前記したスピンの位相ずれを元に戻すために、リフェー
ズ勾配パルスａが付加される。本発明の特徴は、２番目
の９０゜パルスの前に２番目の９０°パルスのための選
択励起用勾配の半分の面積のディフェーズ勾配パルスｂ
を印加したことにある。
【００１６】２番目の９０゜パルス印加中に励起を受け
るスピンの位相はずれるが、２番目の９０゜パルスの後
には横磁化は残らないので、通常の方法では位相を戻す
ことができない。このために、９０゜パルス前にスライ
ス勾配の面積の半分の大きさで極性が逆の勾配を付加す
る。このようなシーケンスをとることにより、位相のず
れたスピンの位相を戻すことができ、Ｔ２プリパレーシ
ョンパルスによる選択励起により、磁場中心から離れて
も縦磁化強度の損失を伴わず、磁場不均一の影響を小さ
くすることができる。
るスピンの位相はずれるが、２番目の９０゜パルスの後
には横磁化は残らないので、通常の方法では位相を戻す
ことができない。このために、９０゜パルス前にスライ
ス勾配の面積の半分の大きさで極性が逆の勾配を付加す
る。このようなシーケンスをとることにより、位相のず
れたスピンの位相を戻すことができ、Ｔ２プリパレーシ
ョンパルスによる選択励起により、磁場中心から離れて
も縦磁化強度の損失を伴わず、磁場不均一の影響を小さ
くすることができる。
【００１７】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図２は本発明の具体的な動作シーケンスを
示す図である。（ａ）はＲＦパルス、（ｂ）はスライス
軸、（ｃ）は時刻、（ｄ）は回転座標系（ｘ，ｙ，ｚ）
におけるスピン磁化の様子をそれぞれ示している。巨視
的な磁化を白い矢印で表し、それらを作る個々の磁化を
黒い矢印で示している。
に説明する。図２は本発明の具体的な動作シーケンスを
示す図である。（ａ）はＲＦパルス、（ｂ）はスライス
軸、（ｃ）は時刻、（ｄ）は回転座標系（ｘ，ｙ，ｚ）
におけるスピン磁化の様子をそれぞれ示している。巨視
的な磁化を白い矢印で表し、それらを作る個々の磁化を
黒い矢印で示している。
【００１８】ｚ軸が主磁場（静磁場）方向で、Ｔ２プリ
パレーション印加前の時刻イでは、磁化は（イ）に示す
ように平衡状態にある。１番目の９０゜パルス中に磁化
の位相はずれて（ロ）に示すように巨視的磁化（白い矢
印）の強度は、個々の磁化が分散される結果、小さくな
っている。
パレーション印加前の時刻イでは、磁化は（イ）に示す
ように平衡状態にある。１番目の９０゜パルス中に磁化
の位相はずれて（ロ）に示すように巨視的磁化（白い矢
印）の強度は、個々の磁化が分散される結果、小さくな
っている。
【００１９】そして、時刻ロにリフェーズパルスａを印
加すると、時刻ハにはこの位相ずれは戻り、（ハ）に示
すように横磁化の強度はｙ軸にそろい大きくなってい
る。ここで、（ａ）に示す１８０゜パルスが印加される
と、２番目の９０゜パルスが印加されるまでの間に、ｙ
軸方向に向いていた横磁化は時刻ニでは（ニ）に示すよ
うに反転されて−ｙ軸方向を向く。この間に違うＴ２の
磁化は、それぞれのＴ２値（横緩和時間）により減衰
し、Ｔ２値の差が横磁化強度の違いとして残される。
加すると、時刻ハにはこの位相ずれは戻り、（ハ）に示
すように横磁化の強度はｙ軸にそろい大きくなってい
る。ここで、（ａ）に示す１８０゜パルスが印加される
と、２番目の９０゜パルスが印加されるまでの間に、ｙ
軸方向に向いていた横磁化は時刻ニでは（ニ）に示すよ
うに反転されて−ｙ軸方向を向く。この間に違うＴ２の
磁化は、それぞれのＴ２値（横緩和時間）により減衰
し、Ｔ２値の差が横磁化強度の違いとして残される。
【００２０】２番目の９０゜パルスの前に、ディフェー
ズ勾配パルスｂにより、横磁化の位相はずれ、２番目の
９０゜パルスの直前の時刻ホでは巨視的磁化の強度は
（ホ）に示すように小さくなっている。しかしながら、
この時間ニ〜ホまでの間に、磁化が受ける位相ずれは、
２番目の９０゜パルスが印加中に受ける磁化の位相のず
れと相殺される。従って、２番目の９０゜パルス後の時
刻ヘまでの間に位相はそろい、（ヘ）に示すように縦磁
化強度の減衰は起こらない。
ズ勾配パルスｂにより、横磁化の位相はずれ、２番目の
９０゜パルスの直前の時刻ホでは巨視的磁化の強度は
（ホ）に示すように小さくなっている。しかしながら、
この時間ニ〜ホまでの間に、磁化が受ける位相ずれは、
２番目の９０゜パルスが印加中に受ける磁化の位相のず
れと相殺される。従って、２番目の９０゜パルス後の時
刻ヘまでの間に位相はそろい、（ヘ）に示すように縦磁
化強度の減衰は起こらない。
【００２１】このことにより、Ｔ２プリパレーションパ
ルスの選択励起が可能となる。選択励起は、磁場不均一
に対して強いので、非選択励起方式のＴ２プリパレーシ
ョンパルスで見られたようなシェーディングアーチファ
クトは改善される。
ルスの選択励起が可能となる。選択励起は、磁場不均一
に対して強いので、非選択励起方式のＴ２プリパレーシ
ョンパルスで見られたようなシェーディングアーチファ
クトは改善される。
【００２２】図３は本発明の選択励起が行われるＮＭＲ
のイメージング装置（ＭＲ装置）の構成ブロック図であ
る。図において、マグネットアセンブリ１１は、内部に
被検体（図示せず）を挿入するための空間部分（孔）を
有し、この空間部分を取り巻くようにして、被検体に一
定の静磁場を印加する静磁場コイルと、勾配磁場を発生
するための勾配磁場コイル（勾配磁場コイルはｘ，ｙ，
ｚの各軸のコイルを具備している）と、被検体内の原子
核のスピンを励起するための高周波パルスを与えるＲＦ
送信コイルと、被検体からのＮＭＲ信号を検出する受信
コイル等が配置されている。
のイメージング装置（ＭＲ装置）の構成ブロック図であ
る。図において、マグネットアセンブリ１１は、内部に
被検体（図示せず）を挿入するための空間部分（孔）を
有し、この空間部分を取り巻くようにして、被検体に一
定の静磁場を印加する静磁場コイルと、勾配磁場を発生
するための勾配磁場コイル（勾配磁場コイルはｘ，ｙ，
ｚの各軸のコイルを具備している）と、被検体内の原子
核のスピンを励起するための高周波パルスを与えるＲＦ
送信コイルと、被検体からのＮＭＲ信号を検出する受信
コイル等が配置されている。
【００２３】静磁場コイル，勾配磁場コイル，ＲＦ送信
コイル及び受信コイルは、静磁場電源（主磁場電源）１
２，勾配磁場駆動回路１３，ＲＦ電力増幅器１４及び前
置増幅器１５にそれぞれに接続されている。シーケンス
記憶回路１８は、本発明を特徴づける部分であり、計算
機１７からの指令に従って任意のビューでゲート変調回
路１９を操作（所定のタイミングによってＲＦ発振回路
２０の高周波出力信号を変調）し、高周波パルスをＲＦ
電力増幅器１４からＲＦ送信コイルに印加する。
コイル及び受信コイルは、静磁場電源（主磁場電源）１
２，勾配磁場駆動回路１３，ＲＦ電力増幅器１４及び前
置増幅器１５にそれぞれに接続されている。シーケンス
記憶回路１８は、本発明を特徴づける部分であり、計算
機１７からの指令に従って任意のビューでゲート変調回
路１９を操作（所定のタイミングによってＲＦ発振回路
２０の高周波出力信号を変調）し、高周波パルスをＲＦ
電力増幅器１４からＲＦ送信コイルに印加する。
【００２４】ここで、シーケンス記憶回路１８の動作に
ついて更に詳しく説明する。シーケンス記憶回路１８内
には、９０゜−１８０゜−９０゜系列からなるプリパレ
ーションパルスを印加するタイミングと、これに同期し
て勾配磁場を与えるタイミングが記憶されている。勾配
磁場には、図１に示すようなリフェーズパルスを印加す
るシーケンスも含まれている。そして、計算機１７から
の指令に基づき、図１に示すようなタイミングのＲＦパ
ルス及びスライス勾配パルス（リフェーズパルスを含
む）を勾配磁場駆動回路１３及びＲＦ電力増幅器１４か
ら同期して出力するように機能する。
ついて更に詳しく説明する。シーケンス記憶回路１８内
には、９０゜−１８０゜−９０゜系列からなるプリパレ
ーションパルスを印加するタイミングと、これに同期し
て勾配磁場を与えるタイミングが記憶されている。勾配
磁場には、図１に示すようなリフェーズパルスを印加す
るシーケンスも含まれている。そして、計算機１７から
の指令に基づき、図１に示すようなタイミングのＲＦパ
ルス及びスライス勾配パルス（リフェーズパルスを含
む）を勾配磁場駆動回路１３及びＲＦ電力増幅器１４か
ら同期して出力するように機能する。
【００２５】つまり、シーケンス記憶回路８は、スピン
ワープ法に基づくシーケンス信号によって勾配磁場駆動
回路１３，ゲート変調回路１９及びＡ／Ｄ変換器２１を
操作する。更に、シーケンス記憶回路１８は、前記した
一連のシーケンス動作に入る前に、ゲート変調回路１９
及び勾配磁場駆動回路１３を操作して、所望の方向で選
択励磁する。
ワープ法に基づくシーケンス信号によって勾配磁場駆動
回路１３，ゲート変調回路１９及びＡ／Ｄ変換器２１を
操作する。更に、シーケンス記憶回路１８は、前記した
一連のシーケンス動作に入る前に、ゲート変調回路１９
及び勾配磁場駆動回路１３を操作して、所望の方向で選
択励磁する。
【００２６】位相検波器２２は、ＲＦ発振回路２０の出
力を参照信号として、前置増幅器１５の出力信号（受信
コイルで検出されたＮＭＲ信号）を位相検波してＡ／Ｄ
変換器２１に与える。Ａ／Ｄ変換器２１は、位相検波器
２２を介して得られるＮＭＲ信号をアナログ／ディジタ
ル変換して計算機１７に入力する。
力を参照信号として、前置増幅器１５の出力信号（受信
コイルで検出されたＮＭＲ信号）を位相検波してＡ／Ｄ
変換器２１に与える。Ａ／Ｄ変換器２１は、位相検波器
２２を介して得られるＮＭＲ信号をアナログ／ディジタ
ル変換して計算機１７に入力する。
【００２７】計算機１７は、操作コンソール２３との間
で情報の授受や種々のスキャンシーケンスを実現するた
めに、シーケンス記憶回路１８の動作の切り替えや、メ
モリの書き替えをしたり、Ａ／Ｄ変換器２１からの各デ
ータを用いて画像再構成演算をするようになっている。
画像処理結果は、表示装置１６に表示される。
で情報の授受や種々のスキャンシーケンスを実現するた
めに、シーケンス記憶回路１８の動作の切り替えや、メ
モリの書き替えをしたり、Ａ／Ｄ変換器２１からの各デ
ータを用いて画像再構成演算をするようになっている。
画像処理結果は、表示装置１６に表示される。
【００２８】本発明のシーケンスである図１において、
１番目の９０゜パルスの後のリフェーズ勾配パルスａ
と、２番目の９０゜パルスの前のディフェーズ勾配パル
スｂとは、２個の９０゜パルス用のスライス勾配が同じ
大きさなら面積が同じとなり、これら２つの勾配は１８
０゜パルスを挟んでいるので、図４に示すようにスライ
ス勾配だけの形も可能である。この方法では、一般に選
択励起では付属するリフェーズ勾配パルスが１つもない
形となる。
１番目の９０゜パルスの後のリフェーズ勾配パルスａ
と、２番目の９０゜パルスの前のディフェーズ勾配パル
スｂとは、２個の９０゜パルス用のスライス勾配が同じ
大きさなら面積が同じとなり、これら２つの勾配は１８
０゜パルスを挟んでいるので、図４に示すようにスライ
ス勾配だけの形も可能である。この方法では、一般に選
択励起では付属するリフェーズ勾配パルスが１つもない
形となる。
【００２９】前述の実施例では、Ｔ２プリパレーション
パルスにおいて、９０゜パルスと１８０゜パルスは同位
相とした場合を示した。これは９０゜（ｘ）−１８０゜
（ｘ）−９０゜（ｘ）と表されるが、１８０゜の位相を
９０゜の位相からπ／２だけずらした９０゜（ｘ）−１
８０゜（ｙ）−９０゜（−ｘ）系列であってもよい。
パルスにおいて、９０゜パルスと１８０゜パルスは同位
相とした場合を示した。これは９０゜（ｘ）−１８０゜
（ｘ）−９０゜（ｘ）と表されるが、１８０゜の位相を
９０゜の位相からπ／２だけずらした９０゜（ｘ）−１
８０゜（ｙ）−９０゜（−ｘ）系列であってもよい。
【００３０】また、９０゜−１８０゜−９０゜の形をと
るプリパレーションパルスには１８０゜の両側の任意の
軸に比較的大きなモーションプローブ勾配と呼ばれる勾
配が付加されるデフュージョン画像用のプリパレーショ
ンがある。このプリパレーションパルスも選択励起に用
いられる。図５，図６は本発明による９０°−１８０°
−９０°系列からなるプリパレーション励起の他の方法
を示す図である。いずれも（ａ）はＲＦパルス、（ｂ）
はスライス軸をそれぞれ示している。図５は、リフェー
ズ勾配を付けた場合を、図６はリフェーズ勾配を付けな
い場合をそれぞれ示している。
るプリパレーションパルスには１８０゜の両側の任意の
軸に比較的大きなモーションプローブ勾配と呼ばれる勾
配が付加されるデフュージョン画像用のプリパレーショ
ンがある。このプリパレーションパルスも選択励起に用
いられる。図５，図６は本発明による９０°−１８０°
−９０°系列からなるプリパレーション励起の他の方法
を示す図である。いずれも（ａ）はＲＦパルス、（ｂ）
はスライス軸をそれぞれ示している。図５は、リフェー
ズ勾配を付けた場合を、図６はリフェーズ勾配を付けな
い場合をそれぞれ示している。
【００３１】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば磁場中心から離れても縦磁化強度の損失を伴わ
ず、磁場不均一の影響を小さくすることができる９０°
−１８０°−９０°系列からなるプリパレーションパル
ス印加方法及びその方法を行うＭＲ装置を提供すること
ができる。
よれば磁場中心から離れても縦磁化強度の損失を伴わ
ず、磁場不均一の影響を小さくすることができる９０°
−１８０°−９０°系列からなるプリパレーションパル
ス印加方法及びその方法を行うＭＲ装置を提供すること
ができる。
【図１】本発明の原理説明図である。
【図２】本発明の具体的動作シーケンスを示す図であ
る。
る。
【図３】本発明の選択励起が行われるＭＲ装置の構成ブ
ロック図である。
ロック図である。
【図４】本発明の他の方法の説明図である。
【図５】本発明による９０°−１８０°−９０°系列か
らなるプリパレーション励起の他の方法を示す図であ
る。
らなるプリパレーション励起の他の方法を示す図であ
る。
【図６】本発明による９０°−１８０°−９０°系列か
らなるプリパレーション励起の他の方法を示す図であ
る。
らなるプリパレーション励起の他の方法を示す図であ
る。
【図７】ＭＲ装置の概念図である。
【図８】非選択的なＴ２プリパレーション方式の説明図
である。
である。
【図９】選択励起の説明図である。
１１ マグネットアセンブリ １２ 主磁場電源 １３ 勾配磁場駆動回路 １４ ＲＦ電力増幅器 １５ 前置増幅器 １６ 表示装置 １７ 計算機 １８ シーケンス記憶回路 １９ ゲート変調回路 ２０ ＲＦ発振回路 ２１ Ａ／Ｄ変換器 ２２ 位相検波器 ２３ 操作コンソール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−309330（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−189342（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−29686（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61B 5/055 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (4)
- 【請求項１】 ９０゜−１８０゜−９０゜系列からなる
プリパレーションパルスをＲＦコイルに印加するのに同
期して、最初の９０゜パルスに同期した選択励起用勾配
パルスにリフェーズ勾配パルスを付加し、 ２番目の９０゜パルスの前に２番目の９０°パルスのた
めの選択励起用勾配パルスの半分の面積を持つディフェ
ーズ勾配パルスを付加するようにしたことを特徴とする
ＭＲ装置の選択励起プリパレーションパルス印加方法。 - 【請求項２】 ９０゜−１８０゜−９０゜系列からなる
プリパレーションパルスをＲＦコイルに印加するのに同
期して、最初の９０゜パルスに同期して発生した選択励
起用勾配パルスと同じ面積を持つ勾配パルスを２番目の
９０゜パルスに同期して発生するようにしてリフェーズ
勾配を必要としないことを特徴とするＭＲ装置の選択励
起プリパレーションパルス印加方法。 - 【請求項３】 プリパレーションパルスを含むパルスシ
ーケンスを実行するＭＲ装置であって、 ９０゜−１８０゜−９０゜系列からなるプリパレーショ
ンパルスをＲＦコイルに印加するのに同期して、最初の
９０゜パルスに同期した選択励起用勾配パルスにリフェ
ーズ勾配パルスを付加し、２番目の９０゜パルスの前に
２番目の９０°パルスのための選択励起用勾配パルスの
半分の面積を持つディフェーズ勾配パルスを付加するプ
リパレーション用パルスシーケンス実行手段を備えたこ
とを特徴とするＭＲ装置。 - 【請求項４】 プリパレーションパルスを含むパルスシ
ーケンスを実行するＭＲ装置であって、 ９０゜−１８０゜−９０゜系列からなるプリパレーショ
ンパルスをＲＦコイルに印加するのに同期して、最初の
９０゜パルスに同期して発生した選択励起用勾配パルス
と同じ面積を持つ勾配パルスを２番目の９０゜パルスに
同期して発生するようにしてリフェーズ勾配を必要とし
ないプリパレーション用パルスシーケンス実行手段を備
えたことを特徴とするＭＲ装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP00190693A JP3341914B2 (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | Ｍｒ装置及びプレパレーションパルスの印加方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06205754A JPH06205754A (ja) | 1994-07-26 |
| JP3341914B2 true JP3341914B2 (ja) | 2002-11-05 |
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ID=11514626
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JP3341914B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1993
- 1993-01-08 JP JP00190693A patent/JP3341914B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH06205754A (ja) | 1994-07-26 |
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