JP3157301B2 - インキ洗浄用組成物 - Google Patents
インキ洗浄用組成物Info
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- JP3157301B2 JP3157301B2 JP24350992A JP24350992A JP3157301B2 JP 3157301 B2 JP3157301 B2 JP 3157301B2 JP 24350992 A JP24350992 A JP 24350992A JP 24350992 A JP24350992 A JP 24350992A JP 3157301 B2 JP3157301 B2 JP 3157301B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning composition
- ink
- ink cleaning
- inks
- present
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/006—Cleaning, washing, rinsing or reclaiming of printing formes other than intaglio formes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/06—Preparing for use and conserving printing surfaces by use of detergents
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、難溶性のスクリーン印
刷用インキをスクリーンから除去するインキ洗浄用組成
物に関する。
刷用インキをスクリーンから除去するインキ洗浄用組成
物に関する。
【０００２】
【従来の技術】スクリーン印刷法は非常に古くからある
技法であるが、多量に同じパターンを得るには極めて優
れた印刷法であり、現在もあらゆる分野で広く活用され
ている。特に、最近は先端技術と言われる電子工業分野
に、高密度、高精度なパターンが印刷できるよう盛んに
工夫が加えられている。併せて、印刷インキにも種々の
工夫がなされ、印刷性、密着性等の従来からの要求性能
に加えて、最近では、耐熱性、耐溶剤性等を併せ持った
新しいインキに対するニーズも高まってきた。
技法であるが、多量に同じパターンを得るには極めて優
れた印刷法であり、現在もあらゆる分野で広く活用され
ている。特に、最近は先端技術と言われる電子工業分野
に、高密度、高精度なパターンが印刷できるよう盛んに
工夫が加えられている。併せて、印刷インキにも種々の
工夫がなされ、印刷性、密着性等の従来からの要求性能
に加えて、最近では、耐熱性、耐溶剤性等を併せ持った
新しいインキに対するニーズも高まってきた。
【０００３】スクリーン印刷を終えたスクリーンは通常
種々の有機溶剤で洗浄した後、保存されるが、最近の高
度なニーズに応えるべく開発されたインキの多くが洗浄
しにくいものである。しかも、スクリーン印刷される各
種製品に高度な機能性、装飾性、耐久性等が要求される
につれて、数種類のインキを使い分け、数回ないし十数
回も重ね印刷される複雑な印刷法が増えつつある。これ
らのインキの例としては、エポキシ系、エポキシアクリ
レート系、塩ビアクリル系ウレタン系等があげられる。
従来、このようなインキの付着したスクリーンの洗浄に
は、酢酸エチル、セロソルブ類を主成分とした可燃性溶
剤や、メチルクロロホルム、トリクロロエチレン或いは
これらを主成分とする混合溶剤が使用されていた。
種々の有機溶剤で洗浄した後、保存されるが、最近の高
度なニーズに応えるべく開発されたインキの多くが洗浄
しにくいものである。しかも、スクリーン印刷される各
種製品に高度な機能性、装飾性、耐久性等が要求される
につれて、数種類のインキを使い分け、数回ないし十数
回も重ね印刷される複雑な印刷法が増えつつある。これ
らのインキの例としては、エポキシ系、エポキシアクリ
レート系、塩ビアクリル系ウレタン系等があげられる。
従来、このようなインキの付着したスクリーンの洗浄に
は、酢酸エチル、セロソルブ類を主成分とした可燃性溶
剤や、メチルクロロホルム、トリクロロエチレン或いは
これらを主成分とする混合溶剤が使用されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】現在、社会的な環境問
題に対する意識の高まりの中で、酢酸エチル、セロソル
ブ類は、その低引火点や催奇性の問題、メチルクロロホ
ルムにあっては、オゾン層破壊物質として、世界的に、
近い将来その製造及び使用が禁止されることに取り決め
られたこと、また、トリクロロエチレンでは、発癌性や
慢性毒性の問題から化審法（化学物質の審査及び製造等
の規制に関する法律）によって規制されるなどの問題か
ら、これらの溶剤を用いた洗浄剤を抜本的にかえる必要
が生じてきた。かかる状況において、各種スクリーンあ
るいは各種基板においてレジストインキなどを洗浄する
ことが必要な産業分野においては、例えば特開５８−１
０４７９５号公報にＮ−メチルピロリドンを主成分とす
る洗浄剤が提案されている。しかし、Ｎ−メチルピロリ
ドンは、インキ溶解性は優れているがスクリーンに塗布
されている乳剤や接着剤まで溶解、膨潤させてしまう問
題や水溶解性が無限大であることから洗浄剤として使用
中に、水分濃度が経時的に上昇することにともない溶解
性が極端に低下するなどの問題を抱えている。このよう
に、現段階では、洗浄性、環境安全性、実用性等の要求
性能を完全に満足し得る洗浄剤は未だ見い出されておら
ず、一日も早く、これらの要求特性を完全に満足した洗
浄剤が求められている。
題に対する意識の高まりの中で、酢酸エチル、セロソル
ブ類は、その低引火点や催奇性の問題、メチルクロロホ
ルムにあっては、オゾン層破壊物質として、世界的に、
近い将来その製造及び使用が禁止されることに取り決め
られたこと、また、トリクロロエチレンでは、発癌性や
慢性毒性の問題から化審法（化学物質の審査及び製造等
の規制に関する法律）によって規制されるなどの問題か
ら、これらの溶剤を用いた洗浄剤を抜本的にかえる必要
が生じてきた。かかる状況において、各種スクリーンあ
るいは各種基板においてレジストインキなどを洗浄する
ことが必要な産業分野においては、例えば特開５８−１
０４７９５号公報にＮ−メチルピロリドンを主成分とす
る洗浄剤が提案されている。しかし、Ｎ−メチルピロリ
ドンは、インキ溶解性は優れているがスクリーンに塗布
されている乳剤や接着剤まで溶解、膨潤させてしまう問
題や水溶解性が無限大であることから洗浄剤として使用
中に、水分濃度が経時的に上昇することにともない溶解
性が極端に低下するなどの問題を抱えている。このよう
に、現段階では、洗浄性、環境安全性、実用性等の要求
性能を完全に満足し得る洗浄剤は未だ見い出されておら
ず、一日も早く、これらの要求特性を完全に満足した洗
浄剤が求められている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、これらの点
に鑑み、スクリーン印刷法プリント配線板の製造に用い
られる各種インキに対して、使用中その高度な溶解性を
維持しつつ、乳剤などの基材に影響を与えず、しかも高
引火点の洗浄用組成物を開発すべく検討をすすめた結
果、二塩基酸エステルに特定の範囲のアセトフェノンを
加えることにより前記項目が達成されることを見出だ
し、本発明に到達した。
に鑑み、スクリーン印刷法プリント配線板の製造に用い
られる各種インキに対して、使用中その高度な溶解性を
維持しつつ、乳剤などの基材に影響を与えず、しかも高
引火点の洗浄用組成物を開発すべく検討をすすめた結
果、二塩基酸エステルに特定の範囲のアセトフェノンを
加えることにより前記項目が達成されることを見出だ
し、本発明に到達した。
【０００６】すなわち本発明は、二塩基酸エステルにア
セトフェノンを加えてなることを特徴とするインキ洗浄
用組成物に関する。本発明に用いられる二塩基酸エステ
ルは、２５重量％以上、９５重量％未満である。本発明
において、添加されるアセトフェノンの総量は５〜５０
重量％であり、より好ましい範囲は１０〜３０重量％で
ある。この範囲内であれば、インキ溶解性を維持しつ
つ、なお且つ乳剤などの基材に対して影響をせず、イン
キ洗浄を効果的に行うことが可能となる。アセトフェノ
ンの添加量は、５重量％に満たない場合、インキの溶
解、剥離による洗浄が不十分となり、５０重量％を超え
た場合には、アセトフェトンの添加量の増加に見合う添
加効果が認められないばかりか特定の乳剤が膨潤剥離す
る等の悪影響が現われる。
セトフェノンを加えてなることを特徴とするインキ洗浄
用組成物に関する。本発明に用いられる二塩基酸エステ
ルは、２５重量％以上、９５重量％未満である。本発明
において、添加されるアセトフェノンの総量は５〜５０
重量％であり、より好ましい範囲は１０〜３０重量％で
ある。この範囲内であれば、インキ溶解性を維持しつ
つ、なお且つ乳剤などの基材に対して影響をせず、イン
キ洗浄を効果的に行うことが可能となる。アセトフェノ
ンの添加量は、５重量％に満たない場合、インキの溶
解、剥離による洗浄が不十分となり、５０重量％を超え
た場合には、アセトフェトンの添加量の増加に見合う添
加効果が認められないばかりか特定の乳剤が膨潤剥離す
る等の悪影響が現われる。
【０００７】本発明の組成物は、高引火点の二塩基酸エ
ステルを主成分としているのできわめて安全であり、工
業的に価値の高い理想的なインキ洗浄用組成物である。
一方、二塩基酸エステルは、高沸点溶剤であるため使用
方法によっては乾燥性が遅く問題となる場合があり、こ
のような場合には、洗浄用組成物に界面活性剤を添加す
ることにより、水リンス性を付加し乾燥性を改善するこ
とも可能である。（尚、水による被洗物からの洗浄液の
除去工程における、被洗物からの洗浄液の除去性および
汚れの再付着の様子を表す指標を「水リンス性」と呼ぶ
こととする。）界面活性剤としては、公知のアニオン、
カチオン、ノニオン界面活性剤が使用できる。例えば、
直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレ
ンアルキルエーテル等があるが、これらに限定されるわ
けではない。界面活性剤を用いることにより、本発明の
洗浄用組成物が有する、汚れ成分、たとえば、樹脂、着
色顔料、フィラーなどの無機粉末の被洗物への再不着抑
制効果や、洗浄剤等の乳化分散効果が得られる。なお、
本発明の界面活性剤類の添加量は２５重量％以下で十分
であり、それ以上加えても、水リンス性、乳化性などに
顕著な効果はみられず、粘性の増加することによって、
かえって実用性が低下してしまう。本発明による洗浄用
組成物は、各種の分野で使用されるレジストインキ、好
適にはプリント配線板の製造時に用いられるエッチング
レジスト、メッキレジスト、ソルダーレジスト等のほ
か、配線板に文字や図案などを最後に印刷するために用
いられるマーキングインキをも容易かつ効率的に洗浄除
去できるものである。
ステルを主成分としているのできわめて安全であり、工
業的に価値の高い理想的なインキ洗浄用組成物である。
一方、二塩基酸エステルは、高沸点溶剤であるため使用
方法によっては乾燥性が遅く問題となる場合があり、こ
のような場合には、洗浄用組成物に界面活性剤を添加す
ることにより、水リンス性を付加し乾燥性を改善するこ
とも可能である。（尚、水による被洗物からの洗浄液の
除去工程における、被洗物からの洗浄液の除去性および
汚れの再付着の様子を表す指標を「水リンス性」と呼ぶ
こととする。）界面活性剤としては、公知のアニオン、
カチオン、ノニオン界面活性剤が使用できる。例えば、
直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレ
ンアルキルエーテル等があるが、これらに限定されるわ
けではない。界面活性剤を用いることにより、本発明の
洗浄用組成物が有する、汚れ成分、たとえば、樹脂、着
色顔料、フィラーなどの無機粉末の被洗物への再不着抑
制効果や、洗浄剤等の乳化分散効果が得られる。なお、
本発明の界面活性剤類の添加量は２５重量％以下で十分
であり、それ以上加えても、水リンス性、乳化性などに
顕著な効果はみられず、粘性の増加することによって、
かえって実用性が低下してしまう。本発明による洗浄用
組成物は、各種の分野で使用されるレジストインキ、好
適にはプリント配線板の製造時に用いられるエッチング
レジスト、メッキレジスト、ソルダーレジスト等のほ
か、配線板に文字や図案などを最後に印刷するために用
いられるマーキングインキをも容易かつ効率的に洗浄除
去できるものである。
【０００８】
【実施例】以下実施例および比較例によって本発明を更
に詳述する。
に詳述する。
【０００９】
【実施例１〜５】表１の洗浄用組成物を作り、各種イン
キに対する洗浄性評価と耐乳剤性に対する影響の評価を
行った。インキとしては、エポキシ系、エポキシアクリ
レート系、塩ビアクリル系の市販品を用い、乳剤も一般
に市販品されているジアゾ系乳剤を用いた。尚、試験に
使用したインキは、通常洗浄しにくいと言われているイ
ンキであるが本発明の効果がこれ以外のインキにも及ぶ
ことは言うまでもない。
キに対する洗浄性評価と耐乳剤性に対する影響の評価を
行った。インキとしては、エポキシ系、エポキシアクリ
レート系、塩ビアクリル系の市販品を用い、乳剤も一般
に市販品されているジアゾ系乳剤を用いた。尚、試験に
使用したインキは、通常洗浄しにくいと言われているイ
ンキであるが本発明の効果がこれ以外のインキにも及ぶ
ことは言うまでもない。
【００１０】洗浄性の試験は、各種インキ（約１ｇ）を
各種乳剤を塗布してある２００メッシュのスクリーン
（７０×５０ｍｍ）にゴムスキージで塗布し、約１時間
経過後、市販の超音波洗浄器（４７ｋＨｚ、８０ｗ）で
１分間洗浄を行った。結果を目視判定によって次の４段
階に評価した。 ◎：完全に洗浄にできている ○：細かなパターンの一部に少量のインキが残っている △：一部分にインキが残っている ×：全面にインキが残っている 耐乳剤性試験は、洗浄用組成物に乳剤を３０分間浸漬
後、乳剤の状態を目視判定し、次の２段階に評価した。
各種乳剤を塗布してある２００メッシュのスクリーン
（７０×５０ｍｍ）にゴムスキージで塗布し、約１時間
経過後、市販の超音波洗浄器（４７ｋＨｚ、８０ｗ）で
１分間洗浄を行った。結果を目視判定によって次の４段
階に評価した。 ◎：完全に洗浄にできている ○：細かなパターンの一部に少量のインキが残っている △：一部分にインキが残っている ×：全面にインキが残っている 耐乳剤性試験は、洗浄用組成物に乳剤を３０分間浸漬
後、乳剤の状態を目視判定し、次の２段階に評価した。
【００１１】 ○：変化なし ×：膨潤 水リンス性試験は、洗浄用組成物で洗浄後水ですすぎ、
１分間エアーブロー後すすぎ水及び溶剤組成物の乾燥状
態を目視評価した。 ○：乾燥している ×：乾燥していない 結果を表２にまとめて示した。
１分間エアーブロー後すすぎ水及び溶剤組成物の乾燥状
態を目視評価した。 ○：乾燥している ×：乾燥していない 結果を表２にまとめて示した。
【００１２】
【比較例１〜３】実施例と同一のインキ、乳剤を用い、
実施例と同様な方法で表３に示す洗浄用組成物について
評価を行った。結果を表４に示す。
実施例と同様な方法で表３に示す洗浄用組成物について
評価を行った。結果を表４に示す。
【００１３】
【表１】
【００１４】
【表２】
【００１５】
【表３】
【００１６】
【表４】
【００１７】
【発明の効果】実施例の結果（表２）、比較例の結果
（表４）から明らかなように本発明の溶剤組成物は、極
めてインキ洗浄性に優れ又乳剤などのスクリーン基材に
対して影響を与えないという性質を兼ね備えており、さ
らに環境に対して安全でしかも労働衛生上も問題のない
実用的なインキ洗浄用組成物である。
（表４）から明らかなように本発明の溶剤組成物は、極
めてインキ洗浄性に優れ又乳剤などのスクリーン基材に
対して影響を与えないという性質を兼ね備えており、さ
らに環境に対して安全でしかも労働衛生上も問題のない
実用的なインキ洗浄用組成物である。
Claims (4)
- 【請求項１】 二塩基酸エステルにアセトフェノンを加
えてなることを特徴とするインキ洗浄用組成物。 - 【請求項２】 二塩基酸エステルがコハク酸ジメチル、
グルタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチル又はそれらの
混合物からなる特許請求の範囲第１項記載のインキ洗浄
用組成物。 - 【請求項３】 アセトフェノンの総量が、溶剤の総量に
対して５〜５０重量％であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載のインキ洗浄用組成物。 - 【請求項４】 さらに界面活性剤を溶剤の総量に対して
２５重量％以下加えることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載のインキ洗浄用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24350992A JP3157301B2 (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | インキ洗浄用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24350992A JP3157301B2 (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | インキ洗浄用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0693293A JPH0693293A (ja) | 1994-04-05 |
| JP3157301B2 true JP3157301B2 (ja) | 2001-04-16 |
Family
ID=17104964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24350992A Expired - Lifetime JP3157301B2 (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | インキ洗浄用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3157301B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030044517A (ko) * | 2001-11-30 | 2003-06-09 | 주식회사 덕성 | 감광성수지 세정용 시너 |
| KR20110100222A (ko) * | 2008-12-18 | 2011-09-09 | 인비스타 테크놀러지스 에스.에이.알.엘. | 시클로헥산 산화 공정 부산물 유도체 및 그의 사용 방법 |
| CN110437941A (zh) * | 2018-05-02 | 2019-11-12 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 一种玻璃脱胶剂及脱胶方法 |
-
1992
- 1992-09-11 JP JP24350992A patent/JP3157301B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0693293A (ja) | 1994-04-05 |
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|---|---|---|---|
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