KR20030044517A

KR20030044517A - 감광성수지 세정용 시너

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Publication number: KR20030044517A
Application number: KR1020010075300A
Authority: KR
Inventors: 김지홍; 최호성; 김태근; 여상혁; 박해성
Original assignee: 주식회사 덕성
Priority date: 2001-11-30
Filing date: 2001-11-30
Publication date: 2003-06-09
Also published as: TWI229786B

Abstract

본 발명은 액정표시패널, 플라즈마표시패널 등의 전자소자 및 전자부품의 제조공정 중에서 감광성수지층의 패턴형상 노광처리 이전에 감광성수지를 제거하는 데 사용되는 시너에 관한 것으로, 특히 본 발명의 시너는 디메틸글루타레이트 (dimethylglutarate), 디메틸석시네이트(dimethylsuccinate), 디메틸아디페이 트(dimethyladipate), 또는 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 디베이직에스테르(dibasic ester, DBE)로 이루어진 것을 특징으로 하며, 바람직하기로는 상기 시너는 상기 하나 이상의 공용제를 10 내지 90 중량% 더 포함하여 이루어져 있는 것이 적당하며, 보다 바람직하기로는 상기 공용제는 에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 에스테르류; 알킬에스테르류; 케톤류; 또는 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되이 적당하고, 이러한 본 발명의 감광성수지 세정용 시너는 경화 또는 경화되지 않은 불필요한 감광성수지층을 용해시켜 제거하는 데 있어 저독성, 우수한 용해력, 감광막제거 경계면의 높은 선형도(linearity)와 적당한 건조성 등의 유용성을 갖는다.

Description

감광성수지 세정용 시너{THINNER COMPOSITION FOR RINSING PHOTORESIST}

본 발명은 액정표시패널, 플라즈마표시패널 등의 전자소자 및 전자부품의 제조공정 중에서 감광성수지층의 패턴형상 노광처리 이전에 감광성수지를 제거하는데 사용되는 시너에 관한 것으로, 특히 본 발명의 시너는 디메틸글루타레이트 (dimethylglutarate), 디메틸석시네이트(dimethylsuccinate), 디메틸아디페이트 (dimethyladipate), 또는 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 디베이직에스테르(dibasic ester, DBE)로 이루어진 것을 특징으로 하며, 이러한 본 발명의 시너는 용해성이 우수하고, 저독성, 적당한 휘발성등의 우수한 효과를 발휘한다.

일반적으로 반도체 집접회로 또는 플랫판넬디스플레이(Flat Panel Display, FPD) 회로는 극히 미세한 구조로 이루어져 있으며, 많은 단계의 공정을 거쳐 제조된다. 이중 포토리소그래피패터닝기술(photo-lithography patterning technology)은 액정표시패널, 플라즈마표시패널 등의 각종 전자소자나 전자부품의 제조에 있어서 잘 알려진 방법이다. 이 방법은 먼저, 기판의 표면에 포지티브 혹은 네가티브형 감광성수지층을 균일하게 도포시키고, 노광/현상하여 소정의 패턴을 형성시킨다. 상기 감광성수지의 도포과정에서, 감광성수지는 패턴이 형성되는 영역뿐 아니라, 기판의 가장자리 부위와 후면 부위까지 퍼져 불필요한 감광성수지층을 형성하게 된다. 이에 따라 상기 도포공정 다음의 노광/현상공정에서, 상기 잔류된 감광성수지층은 미세구조 회로가 노광/현상되는 과정에서 초점불량(defocus), 산란 등의 원인으로 작용하여 전체 공정의 수율을 저하시키고 최종제품의 품질을 저하시키는 원인이 된다.

이러한 잔류 감광성수지층을 제거하기 위하여 감광성수지도포 공정 후 기판 가장자리 부위와 후면 부위에 감광막 제거장치(Edge Bead Remover, EBR)를 설치하게 되는데, 이 장치의 노즐을 통하여 세정용 시너(thinner)를 분사하여 상기 잔류 감광성수지를 제거하게 된다.

이러한 시너의 성능을 결정짓는 요소로는 다음과 같은 용해도, 휘발성, 점도, 감광성제거 경계면의 선형도 등이 있으며, 이러한 성능을 개선하여 기판에서의 감광성수지층을 부분적으로 제거하는 유용한 방법의 개발이 시급하다.

휘발성

휘발성은 감광성수지를 제거하고 난 후, 시너가 얼마나 쉽게 휘발하여 기판의 표면에 잔류하지 않느냐에 관한 것으로, 휘발성이 너무 낮을 경우 시너가 휘발하지 못하고 잔류하여 감광막제거 경계면에 테일링 현상을 유도할 뿐 아니라 후속 공정에서 방해입자로 작용하여 제조공정의 생산성을 저하시키는 문제점이 발생시킬 수 있다. 또한, 휘발성이 너무 높을 경우에는 기판이 급속히 냉각되어 도포되는 감광성수지에서 경계둑(scum)이 형성되는 현상과 감광막 제거장치(Edge Bead Remover, EBR)의 노즐을 통한 시너의 분사시 감광성수지를 완전히 용해/제거하지 못하고 휘발되는 문제점이 발생된다. 또한 취급과정에서 대기 중으로 휘발되어 청정실의 오염, 폭발 위험 등의 문제를 야기 시킬 수 있다.

점도

시너의 점도는 감광막 제거장치의 노즐을 통한 시너의 분사시 고려해야 할 요소로, 점도가 너무 높을 경우 노즐을 통한 분사시에 분사압이 너무 높아질 수 있으며 이로 인해 시너의 사용량이 불필요하게 증가되어 경제성을 떨어뜨리게 된다. 또한 시너의 점도가 너무 낮을 경우 감광성수지가 감광막제거 경계면에 집중되지 못하여 불량을 유발할 수 있다.

선형도

감광막 제거 경계면의 선형도(linearity)는 상기 용해속도, 휘발성, 점도 모두와 관련되는 요소로, 용해속도, 휘발성 및 점도가 적절히 조화되어야 깨끗한 경계면의 선형도를 얻을 수 있다. 그러므로 선형도는 감광성수지 세정용 시너의 성능을 판단하는 가장 큰 요소라 할 수 있다.

한편, 종래 사용되는 감광성수지 세정용 시너들을 살펴보면 다음과 같다.

먼저, 종래의 단일 시너로서, 일본특허공개공보 소63-69563호의 프로필렌글리콜에테르, 프로필렌글리콜에테르아세테이트와 같은 에테르류; 에테르아세테이트류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵탄온, 사이클로헥사논과 같은 케톤류; 및 메틸락테이트, 에틸락테이트, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트와 같은 에스테르류를 이용하는 시너조성물과; 일본특허공개공보 평 4-42523호의 알킬알콕시프로피오네이트를 사용하는 시너조성물 등이 있었다. 그러나이러한 종래의 단일 시너 조성물 중에서 노말부틸아세테이트(n-butyl acetae, n-BA)는 용해속도는 우수하지만 휘발성이 너무 높고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(propyleneglycol monomethyl ether acetate, PGMEA) 및 에틸락테이트 (ethyl lactate, EL)는 용해속도가 낮아 원하는 제거 성능을 나타내기 못하는 단점이 있어 단독으로 사용하기에는 곤란하며, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 (ethyleneglycol monoethylether acetate, ECA)는 용해속도는 우수하지만 불임 등의 독성이 의심되어 사용이 금지되고 있다.

이러한 단일 조성물들의 단점을 보완하기 위하여 혼합용제가 개발되었는데, 그 예로는 일본특허공개공보 평7-146562호의 프로필렌글리콜알킬에테르와 3-알콕시프로피온산알킬류로 이루어진 시너 조성물; 일본특허공개공보 평7-128867호의 프로필렌글리콜알킬에테르, 부틸아세테이트 및 에틸락케이트로 이루어진 시너 조성물; 미국특허 제4,983,490호의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트와 프로필렌글리콜알킬에테르로 이루어진 시너 조성물과 같은 혼합 시너 조성물들이 공지되어 있는데, 상기 조성물은 나쁜 냄새로 인해 작업자들에게 불쾌감과 거부감을 일으킴과 아울러, 유독성으로 인하여 건강을 해칠 위험이 상존하였다. 더구나 종래의 혼합용제들은 용해성, 휘발성, 유독성, 경계면의 선형도, 세정효과에서 문제가 되고 있어 새로운 시너의 개발이 적극 요구되어 왔다.

본 발명은 상기와 같은 종래의 감광성수지 세정용 단일 시너 및 시너 조성물에서 제기된 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서,

첫째, 감광성수지의 세정시 용해성이 우수하고,

둘째, 증기압이 낮고 저독성이어서 청정실의 오염 및 폭발 위험성이 없고 작업자의 건강을 해칠 위험이 없으며,

셋째, 점도가 낮아 노즐을 통한 분사시에 분사압을 낮출 수 있으며, 이로 인해 시너의 사용량을 감소시켜 경제성을 향상시킬 수 있고,

넷째, 감광막 제거장치의 노즐을 통한 분사시 감광성수지 경계면의 깨끗한 선형도를 나타내는 감광성수지 세정용 시너를 제공하는 것을 목적으로 한다.

도 1은 SLP-H20 감광성수지가 도포/건조된 산화실리콘웨이퍼 시편을 본 발명에 따른 DBE-PMP 시너(DBE:PMP = 30:70, 중량비)에 침전시킨 후, 선형도를 평가하기 위하여 촬영한 광학현미경 사진이다.

도 2는 CPD-0727LG 감광성수지가 도포/건조된 산화실리콘웨이퍼 시편을 본 발명에 따른 DBE-PGME 시너(DBE:PGME = 30:70, 중량비)에 침전시킨 후, 선형도를 평가하기 위하여 촬영한 광학현미경 사진이다.

도 3은 SLP-H20 감광성수지가 도포/건조된 산화실리콘웨이퍼 시편을 비교예인 PGMEA-PGME 시너(PGMEA:PGME = 30:70, 중량비)에 침전시킨 후, 선형도를 평가하기 위하여 촬영한 광학현미경 사진으로서, 감광막 어택 현상을 보이고 있다.

도 4는 SLP-H20 감광성수지가 도포/건조된 산화실리콘웨이퍼 시편을 비교예인 PMP 시너에 침전시킨 후, 선형도를 평가하기 위하여 촬영한 광학현미경 사진으로서, 감광막 테일링 현상을 나타낸 사진이다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 감광성수지 세정용 시너는 디메틸글루타레이트(dimethylglutarate), 디메틸석시네이트(dimethyl- succinate), 디메틸아디페이트(dimethyladipate), 또는 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 디베이직에스테르(dibasic ester, DBE)로 이루어진다.

본 발명에 따른 감광성수지 세정용 시너에서 디베이직에스테르(dibasic ester, DBE)는 다음과 같은 일반식을 갖는다.

CH₃CO₂·(CH₂)nCO₂CH₃-------------------------------- 화학식 (1)

상기 화학식(1)에서 n=2인 경우에는 디메틸글루타레이트, n=3인 경우에는 디메틸석시네티트, n=4인 경우에는 디메틸아디페이트이다.

바람직한 일실시예에서, 본 발명의 감광성수지 세정용 시너는 디메틸글루타레이트 57∼63 중량%, 디메틸석시네이트 21∼27 중량%, 디메틸아디페이트 12∼20 중량%로 이루어진다.

상기와 같은 조성의 디베이직에스테르로 이루어진 시너는 각종 수지에 대한 용해성이 우수하고 적당한 점도를 가진다. 또한 LD50(구강)이 5g/kg으로써 독성과 냄새로 인한 불쾌감이 거의 없어 환경친화적이라 할 수 있고, 공기에 노출시에도 안정성이 높고 휘발성이 적당하다. 물리적 성질은 비점 210℃, 인화점 56℃, 점도 3.2cps , 증기압(20℃에서) 0.1mmHg이다.

또한 바람직한 다른 실시예에서, 본 발명의 시너는 상기 디베이직에스테르로 이루어진 시너에 하나 이상의 공용제를 10 내지 90 중량%, 보다 바람직하기로는 10 내지 50 중량% 혼합하여 이루어진다.

상기 공용제로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(ethyleneglycol monomethylether acetate, EGMEA)와 같은 에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르와 같은 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트와 같은 프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 에틸에톡시프로피오네이트, 메틸에톡시프로피오네이트, 부틸에톡시프로피오네이트와 같은 모노옥시카르본산 에스테르류; 노말부틸아세테이트, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 메틸락테이트, 에틸락테이트, 부틸락테이트와 같은 알킬에스테르류; 2-헵탄온, 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온와 같은 케톤류; 또는 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이 적당하다.

본 발명의 상기 혼합용 공용제들 중 상기 프로필렌글리콜모노메틸에테르는 감광성수지 중 페놀수지와 광활성물질에 대하여 용해성이 우수하며, 독성을 나타내는 수치인 LD50(구강)이 5 g/kg으로 인체 흡입시 프로필렌글리콜과 알코올로 빠르게 분해되어 독성이 적어 작업자에게도 안전하다. 그러나 높은 증기압으로 인해 휘발성이 높아 장시간 사용시 작업자들에게 불쾌감을 주며, 점도가 높아 단독으로 사용하기에 어려움이 있다. 물리적 성질은 비점 121℃, 인화점 32℃, 점도(25℃) 1.9 cps, 증기압(25℃) 12.6mmHg 이다.

그 외 선택적으로 사용될 수 있는 상기 공용제들 중 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(비점 144℃, 증기압 2.0mmHg), 프로필렌글리콜모노메틸에테르프로피오네이트(비점 161℃, 증기압 0.9mmHg), 노말부틸아세테이트(비점 126℃, 증기압 12mmHg), 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(비점 146℃, 증기압 3.8mmHg), 메틸메톡시프로피오네이트(비점 142℃), 메틸아세토아세테이트(비점 170℃, 증기압 1.3mmHg)와 같은 것들은 휘발성이 높으므로 보조용제로서 일정 비율이 되게 조합하여 시너의 보조성분으로 사용될 수 있는데, 이러한 물질을 포함하는 시너는 감광성수지에 대한 높은 용해성능, 적당한 휘발성 및 점도를 유지, 그리고 감광성수지 제거 경계면의 선형도에 대해 우수한 특성을 발휘한다.

또한 선택적으로, 본 발명에 사용되는 시너에는 상기 디베이직에스테르 및 상기 공용제 외에, 본 발명에 실질적인 악영향이 없는 제한된 양의 기타 유기용제를 첨가해도 되는 것은 물론이다.

이상과 같은 본 발명에 따른 시너는 감광성수지에 대한 용해성이 우수하고, 적당한 휘발성, 저독성, 그리고 경계면에 대하여 깨끗한 선형도를 얻을 수 있으므로 단시간 내에 감광성수지층의 불필요한 부분을 매우 효율적으로 제거하여 만족스러운 결과를 나타낸다. 따라서, 본 발명에 따른 감광성수지 세정용 시너를 사용할 경우, 에지비드린스(Edge Bead Rinse, EBR) 처리 특성의 증대, 감광성수지의 처리단면 개선과 같은 효과로 인하여 반도체소자 및 평판인쇄 공정에서 생산성을 향상시킬 수 있다.

이하, 본 발명에 따른 감광성수지 세정용 시너는 다음 실시예들를 통하여 보다 명확하게 이해될 수 있다.

[실시예 1] 감광성 수지 세정용 시너의 제조

시너를 그 조성비를 다르게 하여 시너 1 내지 시너 16 및 비교예 1 및 2를제조하였고, 그 조성을 다음 <표 1>과 같이 나타내었다.

[표 1]각 시너 및 비교예의 제조(단위: 중량%)

구 분	조 성 비	구 분	조 성 비
시 너 1	DBE = 100	시 너 10	DBE:EGMEA = 30:70
˝ 2	DBE:PMP = 20:80	˝ 11	DBE:MMP = 10:90
˝ 3	DBE:PMP = 30:70	˝ 12	DBE:PGME = 20:80
˝ 4	DBE:PMP = 70:30	˝ 13	DBE:PGME = 30:70
˝ 5	DBE:n-BA = 30:70	˝ 14	DBE:PGME = 40:60
˝ 6	DBE:n-BA = 70:30	˝ 15	DBE:DPM = 30:70
˝ 7	DBE:PGMEA = 30:70	˝ 16	DBE:EAA = 30:70
˝ 8	DBE:PGMEA = 50:50	비교예 1	PGMEA:PGME = 30:70
˝ 9	DBE:PGMEA = 70:30	˝ 2	PMP = 100
여기서,DBE : 디베이직에스테르(디메틸글루타레이트 57∼63 중량%,디메틸석시네이트 21∼27 중량%, 디메틸아디페이트 12∼20 중량%)PMP : 프로필렌글리콜모노메틸에테르프로피오네이트n-BA : 노말부틸아세테이트PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트EGMEA : 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트MMP : 메틸메톡시프로피오네이트EAA : 에틸아세토아세테이트PGME : 프로필렌글리콜모노메틸에테르DPM : 디프로필렌글리콜모노메틸에테르EGMEA : 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트

[실시예 2] 용해속도 테스트

본 발명의 시너의 감광성 수지에 대한 용해속도를 테스트하기 위하여, 상기 <표 1>의 「시너 1 내지 시너 9」는 SLP-H20(동우화인켐(주) 제품)에, 「시너 10 내지 시너 15」는 CPD-0727LG(동진세미켐(주) 제품)에, 「비교예 1 및 2」는 역시 SLP-H20(동우화인켐(주) 제품)에 대하여 테스트하였다.

테스트를 위하여, 먼저 상기 각 감광성수지 제품을 산화 실리콘 웨이퍼에 도포하고, 이를 80℃에서 3분간 소프트 베이크시킨 후, 1㎝ ×1㎝ 시편으로 자른다.상기 각 시편을 실온에서 상기 <표 1>의 각 시너 용액 및 비교예 용액에 침전시켜 감광성수지가 완전 제거되는 시간을 측정하고, 그 결과인 용해속도를 아래 <표 2>에 나타냈다.

[실시예 3] 선형도 평가

상기〔실시예 2〕에서와 같이 감광성수지층이 제거된 시편에 대하여 그 경계면의 선형도를 광학현미경으로 검사하였으며, 그 결과를 3등급으로 나누어 평가하고, 그 결과를 역시 아래 <표 2>에 나타내었다.

[표 2]감광성수지에 대한 각 시너 및 비교예의 용해속도 및 선형도 평가

구 분	용해속도	선형도	구 분	용해속도	선형도
시 너 1	B	A	시 너 10	A	A
˝ 2	A	A	˝ 11	B	A
˝ 3	A	A	˝ 12	A	A
˝ 4	A	B	˝ 13	A	A
˝ 5	A	B	˝ 14	B	A
˝ 6	B	B	˝ 15	A	A
˝ 7	B	A	˝ 16	B	A
˝ 8	B	A	비교예 1	C	B
˝ 9	B	B	˝ 2	B	C
여기서,먼저용해속도와 관련하여A: 제거속도가 빠름B: 보통C: 제거속도가 현저히 떨어짐다음으로선형도와 관련하여A: 처리단면이 깨끗함(선형도 높음)B: 처리단면이 약간 침식됨(선형도 보통, 어택현상)C: 처리단면에 과량의 잔유물이 남음(선형도 낮음, 테일링현상)

이상에서 본 발명의 감광성수지 세정용 시너는 용해속도 및 선형도에 대한 결과를 나타낸 <표 2> 에서와 같이, 비교예들에 비하여 상기 용해속도 및 선형도특성이 우수함을 알 수 있다. 비록 개별적인 성능에서는 비교예와 유사하거나 다소 떨어지더라도 종합적으로는 양호하다고 할 수 있다.

특히 앞서 설명한 바와 같이 시너의 감광막 제거 경계면의 선형도는 용해속도, 휘발성, 점도 모두와 관련되는 요소이므로, 선형도 정도에 대한 도 1 내지 도 4의 광학현미경 사진에서 알 수 있는 바와 같이 비교예에 비하여 우수함을 알 수 있다. 도 1은 SLP-H20 감광성수지가 도포/건조된 산화실리콘웨이퍼 시편을 DBE-PMP 시너(<표 1>의 [시너 3], DBE:PMP = 30:70, 중량비)에 침전시킨 것이고, 도 2는 CPD-0727LG 감광성수지가 도포/건조된 산화실리콘웨이퍼 시편을 본 발명에 따른 DBE-PGME 시너(<표 1>의 [시너 12], DBE:PGME = 30:70, 중량비)에 침전시킨 것이고, 도 3은 SLP-H20 감광성수지가 도포/건조된 산화실리콘웨이퍼 시편을 비교예인 PGMEA-PGME 시너(<표 1>의 [비교예 1], PGMEA:PGME = 30:70, 중량비)에 침전시킨 것이고, 도 4는 SLP-H20 감광성수지가 도포/건조된 산화실리콘웨이퍼 시편을 비교예인 PMP 시너(<표 1>의 [비교예 2])에 침전시킨 것이다. 비교예 1에 대한 도 3에서는 감광막 어택 현상을 보이고 있고, 비교예 2에 대한 도 4에서는 감광막 테일링 현상을 보이고 있다.

첨부된 도 1 및 도 2에 나타낸 본 발명에 따른 시너 외에도 다른 각 시너 또한 유사한 선형도를 나타내었다.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 따른 감광성수지 세정용 시너는

첫째, 기판표면으로부터 감광성수지층의 부분적 제거는 감광성수지의 세정시 용해성이 우수하여 단시간에 용해 제거하므로 매우 효율적으로 사용이 가능하며,

둘째, 증기압이 낮고 인체에 독성이 낮은 시너로 청정실의 오염 및 폭발 위험성이 없고 작업자의 건강을 해칠 위험이 없으며,

셋째, 감광성수지층 경계면에서 깨끗한 선형도를 보이며,

넷째, 잔류된 감광성수지층을 완전히 제거하여 미세구조 회로가 노광되는 과정에서 발생될 수 있는 초점불량(defocus), 산란 등을 방지할 수 있으므로 전체 공정의 수율을 높여 최종제품의 품질을 향상시킬 수 있음과 아울러,

다섯째, 점도가 낮아 노즐을 통한 분사시에 분사압을 낮출 수 있으며, 이로 인해 시너의 사용량을 감소시켜 경제성을 향상시킬 수 있다.

이상에서 본 발명은 기재된 실시예를 통하여 상세히 설명하였지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims

감광성수지층의 패턴형상 노광처리 이전에 감광성수지를 제거하는데 사용되는 시너에 있어서,

디메틸글루타레이트(dimethylglutarate), 디메틸석시네이트(dimethyl- succinate), 디메틸아디페이트(dimethyladipate), 또는 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 디베이직에스테르(dibasic ester, DBE)로 이루어진 것을 특징으로 하는 감광성수지 세정용 시너.
제 1 항에 있어서, 상기 시너는

하나 이상의 공용제를 10 내지 90 중량% 더 포함하여 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 감광성수지 세정용 시너.
제 2 항에 있어서, 상기 공용제는

에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와 같은 에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르와 같은 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트와 같은 프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 에틸에톡시프로피오네이트, 메틸에톡시프로피오네이트, 부틸에톡시프로피오네이트와 같은 모노옥시카르본산 에스테르류; 노말부틸아세테이트, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 메틸락테이트, 에틸락테이트, 부틸락테이트와 같은 알킬에스테르류; 2-헵탄온, 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온와 같은 케톤류; 또는 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성수지 세정용 시너.