JP3152182B2 - ガラス導波路素子及びその製造方法 - Google Patents
ガラス導波路素子及びその製造方法Info
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- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス導波路素子
及びその製造方法に関する。
及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光通信技術の発展に伴い、波長多
重(WDM)通信が行われるようになっている。この種
の通信には光ファイバ内を伝搬した波長多重光を分離す
るため、ある波長の光を透過させるか反射させるかを選
択できる素子が必要である。
重(WDM)通信が行われるようになっている。この種
の通信には光ファイバ内を伝搬した波長多重光を分離す
るため、ある波長の光を透過させるか反射させるかを選
択できる素子が必要である。
【0003】この種の素子としては、光ファイバにゲル
マニウムを添加した導波路に紫外光を照射することによ
る誘起屈折率変化で光の伝搬方向に沿った回折格子を形
成し、さらにヒータ等によってこの導波路、つまり回折
格子の温度を変化させてブラッグ波長を変化させること
により、ある波長を透過させるか反射させるかを選択す
るものがある。
マニウムを添加した導波路に紫外光を照射することによ
る誘起屈折率変化で光の伝搬方向に沿った回折格子を形
成し、さらにヒータ等によってこの導波路、つまり回折
格子の温度を変化させてブラッグ波長を変化させること
により、ある波長を透過させるか反射させるかを選択す
るものがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光ファ
イバを用いた従来の素子は、ヒータ等を実装するため製
造工程が複雑でありコストがかかる。また、光ファイバ
を用いているため本質的に小型化、集積化に適さない。
従って将来、波長多重通信の多重量が16チャネル、3
2チャネルと増加していくにしたがい、価格、量産性の
見地から従来の素子では多重化に対応することは実質的
に困難である。
イバを用いた従来の素子は、ヒータ等を実装するため製
造工程が複雑でありコストがかかる。また、光ファイバ
を用いているため本質的に小型化、集積化に適さない。
従って将来、波長多重通信の多重量が16チャネル、3
2チャネルと増加していくにしたがい、価格、量産性の
見地から従来の素子では多重化に対応することは実質的
に困難である。
【0005】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、小型化、集積化が容易で量産可能なガラス導波路素
子及びその製造方法を提供することにある。
し、小型化、集積化が容易で量産可能なガラス導波路素
子及びその製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のガラス導波路素子は、基板と、基板上に形成
されたアンダークラッドと、アンダークラッド上に形成
され光の伝搬方向に沿って屈折率が周期的に変化する回
折格子を有するコアと、コアを覆うオーバークラッド
と、オーバークラッドに設けられ回折格子のブラッグ波
長を変化させるためのヒータとを備えたガラス導波路素
子であって、コア及びその周辺部は基板からコアの長手
方向に沿って連続的に離れた状態にするためのピットが
形成されており、ピットに挟まれた内側にあるオーバー
クラッドの上面に、コアの温度を変化させるため、コア
に沿うように金属多層膜からなるヒータが形成され、か
つ、ヒータの中央部には、コアに周期的な屈折率変化を
生じさせるための紫外光を照射するための開口部が形成
されているものである。
に本発明のガラス導波路素子は、基板と、基板上に形成
されたアンダークラッドと、アンダークラッド上に形成
され光の伝搬方向に沿って屈折率が周期的に変化する回
折格子を有するコアと、コアを覆うオーバークラッド
と、オーバークラッドに設けられ回折格子のブラッグ波
長を変化させるためのヒータとを備えたガラス導波路素
子であって、コア及びその周辺部は基板からコアの長手
方向に沿って連続的に離れた状態にするためのピットが
形成されており、ピットに挟まれた内側にあるオーバー
クラッドの上面に、コアの温度を変化させるため、コア
に沿うように金属多層膜からなるヒータが形成され、か
つ、ヒータの中央部には、コアに周期的な屈折率変化を
生じさせるための紫外光を照射するための開口部が形成
されているものである。
【0007】
【0008】
【0009】
【0010】また本発明のガラス導波路素子の製造方法
は、基板上に薄膜を形成し、所望の光回路に薄膜を合わ
せてパターニングしてテラスを形成し、テラス上にアン
ダークラッド、コア及びオーバークラッドを順次形成し
た後、コアの両側にコアに沿うようにテラスまで到達す
る深さを有するピットを断続的に形成し、ピットからテ
ラスをエッチングできる物質を侵入させてテラスをコア
の長手方向に沿って連続的に除去し、コアに光の伝搬方
向に沿って周期的に屈折率が変化する回折格子を形成
し、ピットに挟まれた内側にあるオーバークラッドの上
面に、コアの温度を変化させるため、コアに沿うように
金属多層膜からなるヒータを形成すると共に、ヒータの
中央部に、コアに周期的な屈折率変化を生じさせるため
の紫外光を照射するための開口部を形成するものであ
る。
は、基板上に薄膜を形成し、所望の光回路に薄膜を合わ
せてパターニングしてテラスを形成し、テラス上にアン
ダークラッド、コア及びオーバークラッドを順次形成し
た後、コアの両側にコアに沿うようにテラスまで到達す
る深さを有するピットを断続的に形成し、ピットからテ
ラスをエッチングできる物質を侵入させてテラスをコア
の長手方向に沿って連続的に除去し、コアに光の伝搬方
向に沿って周期的に屈折率が変化する回折格子を形成
し、ピットに挟まれた内側にあるオーバークラッドの上
面に、コアの温度を変化させるため、コアに沿うように
金属多層膜からなるヒータを形成すると共に、ヒータの
中央部に、コアに周期的な屈折率変化を生じさせるため
の紫外光を照射するための開口部を形成するものであ
る。
【0011】上記構成に加え本発明のガラス導波路素子
の製造方法は、薄膜がシリコンからなるのが好ましい。
の製造方法は、薄膜がシリコンからなるのが好ましい。
【0012】上記構成に加え本発明のガラス導波路素子
の製造方法は、オーバークラッド及びアンダークラッド
を貫通する空隙からなるピットを、製造中は薄膜を除去
するためのエッチング物質の流入経路として用い、完成
後はコアの横方向周辺部への熱放散を抑止するための断
熱構造として機能させるのが好ましい。
の製造方法は、オーバークラッド及びアンダークラッド
を貫通する空隙からなるピットを、製造中は薄膜を除去
するためのエッチング物質の流入経路として用い、完成
後はコアの横方向周辺部への熱放散を抑止するための断
熱構造として機能させるのが好ましい。
【0013】
【0014】上記構成に加え本発明のガラス導波路素子
の製造方法は、オーバークラッド上にチタン層を形成
し、チタン層の上に白金層を形成することによりヒータ
とするのが好ましい。
の製造方法は、オーバークラッド上にチタン層を形成
し、チタン層の上に白金層を形成することによりヒータ
とするのが好ましい。
【0015】上記構成に加え本発明のガラス導波路素子
の製造方法は、ヒータは、エッチング若しくはリフトオ
フ法によってチタン、白金、金の3層膜として形成し、
ワイヤボンディングするためのパッド領域はそのまま3
層膜とし、ヒータ領域は金のみを除去して2層膜とする
のが好ましい。
の製造方法は、ヒータは、エッチング若しくはリフトオ
フ法によってチタン、白金、金の3層膜として形成し、
ワイヤボンディングするためのパッド領域はそのまま3
層膜とし、ヒータ領域は金のみを除去して2層膜とする
のが好ましい。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳述する。
図面に基づいて詳述する。
【0017】図1は本発明のガラス導波路素子の一実施
の形態を示す概観斜視図である。尚、具体的な数値を挙
げて説明しているが限定されるものではない。
の形態を示す概観斜視図である。尚、具体的な数値を挙
げて説明しているが限定されるものではない。
【0018】石英基板1上にアンダークラッド2が形成
され、アンダークラッド2の上に光の伝搬方向に沿って
屈折率が周期的に変化する回折格子を有するコア3が形
成されている。コア3はオーバークラッド4で覆われて
いる。コア3及びその周辺部には、石英基板1及び両ク
ラッド2、4から断続的に離れた状態にするための凹字
断面形状の空隙(ピット)5が形成されている。
され、アンダークラッド2の上に光の伝搬方向に沿って
屈折率が周期的に変化する回折格子を有するコア3が形
成されている。コア3はオーバークラッド4で覆われて
いる。コア3及びその周辺部には、石英基板1及び両ク
ラッド2、4から断続的に離れた状態にするための凹字
断面形状の空隙(ピット)5が形成されている。
【0019】尚、コア3の下に位置するアンダークラッ
ド2と石英基板1との間は、後に述べる製造方法によっ
て、ガラス導波路素子の長手方向全長にわたり空隙とな
っている。
ド2と石英基板1との間は、後に述べる製造方法によっ
て、ガラス導波路素子の長手方向全長にわたり空隙とな
っている。
【0020】オーバークラッド4上のコア3に対応する
位置には回折格子のブラッグ波長を変化させるためのヒ
ータ6が設けられている。ヒータ6の中央部(発熱領
域)6aには、コア3に周期的な屈折率変化を生じさせ
るための紫外光を照射するための開口部7が形成されて
いる。6bはヒータ6に電圧を印加するためのパッド領
域である。
位置には回折格子のブラッグ波長を変化させるためのヒ
ータ6が設けられている。ヒータ6の中央部(発熱領
域)6aには、コア3に周期的な屈折率変化を生じさせ
るための紫外光を照射するための開口部7が形成されて
いる。6bはヒータ6に電圧を印加するためのパッド領
域である。
【0021】ピット5の幅は約20μm、長さは約3.
3mm、深さは約40.5μmであり、ピット5の長手
方向の間隔は約0.2mm、幅方向の間隔は約130μ
mである。
3mm、深さは約40.5μmであり、ピット5の長手
方向の間隔は約0.2mm、幅方向の間隔は約130μ
mである。
【0022】次に図1に示したガラス導波路素子の製造
方法について説明する。
方法について説明する。
【0023】図2(a)〜図2(g)は図1に示したガ
ラス導波路素子の製造方法を示す工程図である。
ラス導波路素子の製造方法を示す工程図である。
【0024】石英基板1上に厚さ約2.5μmのシリコ
ン薄膜8をスパッタ法によって基板全面に成膜する(図
示せず)。このシリコン薄膜をフォトリソグラフィによ
りシリコンテラス8にパターニングする(図2
(a))。
ン薄膜8をスパッタ法によって基板全面に成膜する(図
示せず)。このシリコン薄膜をフォトリソグラフィによ
りシリコンテラス8にパターニングする(図2
(a))。
【0025】プラズマCVDを用いて厚さ約8μmのア
ンダークラッド2を形成する(図2(b))。
ンダークラッド2を形成する(図2(b))。
【0026】スパッタ法を用いて、ゲルマニウムを添加
した厚さ約6μmのコア膜をアンダークラッド2上の全
面に成膜し(図示せず)、フォトリソグラフィによりコ
ア(光回路)3を形成する(図2(c))。
した厚さ約6μmのコア膜をアンダークラッド2上の全
面に成膜し(図示せず)、フォトリソグラフィによりコ
ア(光回路)3を形成する(図2(c))。
【0027】火炎堆積法によって厚さ30μmのオーバ
ークラッド4を形成する(図2(d))。
ークラッド4を形成する(図2(d))。
【0028】リフトオフ法によって厚さ約0.1μmの
チタン層、厚さ約0.5μmの白金層、厚さ約0.5μ
mの金層の3層からなるヒータ6を形成する。但し、発
熱領域6aは金をエッチングにより除去し、チタン及び
白金の2層構造とする(図2(e))。
チタン層、厚さ約0.5μmの白金層、厚さ約0.5μ
mの金層の3層からなるヒータ6を形成する。但し、発
熱領域6aは金をエッチングにより除去し、チタン及び
白金の2層構造とする(図2(e))。
【0029】ヒータ6の両側にピット5を形成する。こ
のピット5のエッチングはシリコンテラス8に到達する
まで行う(図2(f))。
のピット5のエッチングはシリコンテラス8に到達する
まで行う(図2(f))。
【0030】エッチングによりシリコンテラス8をガラ
ス導波路素子の長手方向全長にわたって全て除去する
(図2(g))。
ス導波路素子の長手方向全長にわたって全て除去する
(図2(g))。
【0031】ダイシングにより各素子に分割し、エキシ
マレーザを照射してコア3にブラッググレーティングを
形成することによりガラス導波路が得られる。
マレーザを照射してコア3にブラッググレーティングを
形成することによりガラス導波路が得られる。
【0032】ヒータ6に電流を流すことにより、ブラッ
グ波長のシフトを確認した。例えば、ヒータ電流80m
Aにおいて長波長側に0.4nmであった。
グ波長のシフトを確認した。例えば、ヒータ電流80m
Aにおいて長波長側に0.4nmであった。
【0033】ここで、薄膜材料としてシリコンを用いた
のは、石英材料との相性、成膜の容易さ、高温耐性、さ
らに製造工程において石英との選択エッチングが比較的
身近で安全なためである。
のは、石英材料との相性、成膜の容易さ、高温耐性、さ
らに製造工程において石英との選択エッチングが比較的
身近で安全なためである。
【0034】ヒータ材料として通常はクロムが用いられ
るが、ヒータ形成後に紫外光、具体的にはエキシマレー
ザを照射するのでクロムは使用できず、レーザ光の照射
に耐える高融点金属であり、かつ反応性に乏しい安定な
金属、特に酸化しにくい金属で、さらにヒータとして使
用できる抵抗率を有する金属として実験検討した結果、
白金が最適である。但し、白金はガラスとの密着性が弱
いので、チタンを挿入することにより密着性を高めてい
る。従ってヒータは2層構造にする必要がある。
るが、ヒータ形成後に紫外光、具体的にはエキシマレー
ザを照射するのでクロムは使用できず、レーザ光の照射
に耐える高融点金属であり、かつ反応性に乏しい安定な
金属、特に酸化しにくい金属で、さらにヒータとして使
用できる抵抗率を有する金属として実験検討した結果、
白金が最適である。但し、白金はガラスとの密着性が弱
いので、チタンを挿入することにより密着性を高めてい
る。従ってヒータは2層構造にする必要がある。
【0035】以上において本発明によれば、波長多重通
信のさらなる多重化に対し、光ファイバを用いた従来素
子と同様の特性を有し、小型化、集積化が容易で量産可
能なガラス導波路素子及びその製造方法の提供を実現で
きる。
信のさらなる多重化に対し、光ファイバを用いた従来素
子と同様の特性を有し、小型化、集積化が容易で量産可
能なガラス導波路素子及びその製造方法の提供を実現で
きる。
【0036】尚、本実施の形態ではコアに添加する元素
としてゲルマニウムを用いたが、これに限定せず、紫外
光に対して誘起屈折率変化を生じる元素、例えばリンな
どを添加しても同様の効果が得られる。また、アンダー
クラッド、コア、オーバークラッドの成膜方法として他
の方法を用いてもよい。
としてゲルマニウムを用いたが、これに限定せず、紫外
光に対して誘起屈折率変化を生じる元素、例えばリンな
どを添加しても同様の効果が得られる。また、アンダー
クラッド、コア、オーバークラッドの成膜方法として他
の方法を用いてもよい。
【0037】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、ガラス導
波路のアンダークラッド及びオーバークラッドで覆われ
たコア及びその周辺部は基板からコアの長手方向に沿っ
て連続的に離れた状態に形成されていると共に、両クラ
ッドから断続的に離れた状態に形成されており、小型
化、集積化が容易で量産可能なガラス導波路素子及びそ
の製造方法の提供を実現することができる。
波路のアンダークラッド及びオーバークラッドで覆われ
たコア及びその周辺部は基板からコアの長手方向に沿っ
て連続的に離れた状態に形成されていると共に、両クラ
ッドから断続的に離れた状態に形成されており、小型
化、集積化が容易で量産可能なガラス導波路素子及びそ
の製造方法の提供を実現することができる。
【図1】本発明のガラス導波路素子の一実施の形態を示
す概観斜視図である。
す概観斜視図である。
【図2】(a)〜(g)は図1に示したガラス導波路素
子の製造方法を示す工程図である。
子の製造方法を示す工程図である。
1 基板(石英基板) 2 アンダークラッド 3 コア 4 オーバークラッド 5 空隙(ピット) 6 ヒータ 8 シリコン薄膜(シリコンテラス)
フロントページの続き (72)発明者 小林 大 茨城県日立市日高町5丁目1番1号 日 立電線株式会社 オプトロシステム研究 所内 (72)発明者 荒井 英明 茨城県日立市日高町5丁目1番1号 日 立電線株式会社 オプトロシステム研究 所内 (72)発明者 田村 維識 茨城県日立市日高町5丁目1番1号 日 立電線株式会社 オプトロシステム研究 所内 (56)参考文献 特開 平7−84225(JP,A) 特開 平1−158413(JP,A) 特開 平7−191351(JP,A) 特開 平8−43777(JP,A) 特開 平8−101319(JP,A) 特開 平10−333191(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 6/12 - 6/14 G02F 1/00 - 1/125 JICSTファイル(JOIS)
Claims (6)
- 【請求項1】 基板と、該基板上に形成されたアンダー
クラッドと、該アンダークラッド上に形成され光の伝搬
方向に沿って屈折率が周期的に変化する回折格子を有す
るコアと、該コアを覆うオーバークラッドと、該オーバ
ークラッドに設けられ上記回折格子のブラッグ波長を変
化させるためのヒータとを備えたガラス導波路素子であ
って、上記コア及びその周辺部は上記基板からコアの長
手方向に沿って連続的に離れた状態に形成されていると
共に両クラッドから断続的に離れた状態にするためのピ
ットが形成されており、上記ピットに挟まれた内側にあ
るオーバークラッドの上面に、コアの温度を変化させる
ため、該コアに沿うように金属多層膜からなるヒータが
形成され、かつ、上記ヒータの中央部には、上記コアに
周期的な屈折率変化を生じさせるための紫外光を照射す
るための開口部が形成されていることを特徴とするガラ
ス導波路素子。 - 【請求項2】 上記ヒータは、上記オーバークラッド上
に形成されたチタン層と、該チタン層の上に形成された
白金層とで構成されている請求項1に記載のガラス導波
路素子。 - 【請求項3】 上記ヒータは、ワイヤボンディングすべ
きパッド領域がチタン、白金及び金からなる3層膜であ
り、発熱領域がチタン及び白金からなる2層膜である請
求項1に記載のガラス導波路素子。 - 【請求項4】 基板上に薄膜を形成し、所望の光回路に
該薄膜を合わせて該パターニングしてテラスを形成し、
該テラス上にアンダークラッド、コア及びオーバークラ
ッドを順次形成した後、該コアの両側にコアに沿うよう
に上記テラスまで到達する深さを有するピットを断続的
に形成し、該ピットから上記テラスをエッチングできる
物質を侵入させて上記テラスをコアの長手方向に沿って
連続的に除去し、上記コアに光の伝搬方向に沿って周期
的に屈折率が変化する回折格子を形成し、上記ピットに
挟まれた内側にあるオーバークラッドの上面に、コアの
温度を変化させるため、該コアに沿うように金属多層膜
からなるヒータを形成すると共に、上記ヒータの中央部
に、上記コアに周期的な屈折率変化を生じさせるための
紫外光を照射するための開口部を形成することを特徴と
するガラス導波路素子の製造方法。 - 【請求項5】 上記オーバークラッド上にチタン層を形
成し、該チタン層の上に白金層を形成することによりヒ
ータとする請求項4に記載のガラス導波路素子の製造方
法。 - 【請求項6】 上記ヒータは、エッチング若しくはリフ
トオフ法によってチタン、白金、金の3層膜として形成
し、ワイヤボンディングするためのパッド領域はそのま
ま3層膜とし、ヒータ領域は金のみを除去して2層膜と
する請求項4に記載のガラス導波路素子の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27445797A JP3152182B2 (ja) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | ガラス導波路素子及びその製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7333679B2 (en) | 2002-06-28 | 2008-02-19 | Nec Corporation | Thermophotometric phase shifter and method for fabricating the same |
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CA2249670A1 (en) | 1999-04-07 |
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