JP3147406B2

JP3147406B2 - 積層型感光体

Info

Publication number: JP3147406B2
Application number: JP11620191A
Authority: JP
Inventors: 秀昭植田; 重明徳竹; 有記嶋田
Original assignee: ミノルタ株式会社
Priority date: 1991-05-21
Filing date: 1991-05-21
Publication date: 2001-03-19
Anticipated expiration: 2016-03-19
Also published as: JPH04344655A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は導電性支持体上に少なく
とも電荷発生層と電荷輸送層とを設けた積層感光体にお
いて、特に長波長領域に分光感度を有する積層型感光体
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、近赤外光（波長７８０ｎｍ以上）
を光源とするレーザープリンタの開発が盛んに行われ、
これに伴い長波長領域に分光感度を有する感光体の需要
が高まった。

【０００３】従来、この種の目的に使用される感光体と
しては、セレン、テルル、ヒ素の合金を用いる感光体ま
たは色素増感された硫化カドミウムを用いる無機系のも
のであった。これらはいずれも強い毒性を有する欠点が
ある。そこでこれらの欠点を解決するために長波長領域
に分光感度を有する有機光導電性物質が種々検討された
結果、フタロシアニン系化合物が他に比べ吸収波長領域
が長波長側へ拡大している特性を利用して、例えば、特
公平３−２７８９８号公報には、電荷発生層にフタロシ
アニンを含有し、電荷輸送層に下記一般式で表されるよ
うなスチリル化合物を含有する積層型感光体が開示され
ている。

【０００４】

【化２】

【０００５】から選ばれた１種のヘテロ環基を示す。ｎ
は、０、１、または２を示し、Ｒ₁、Ｒ₂は炭素数３以下
のアルキル基である。但し、Ｚは、ＯまたはＳを示し、
ヘテロ環基は置換されていてもよい。）

【０００６】

【発明が解決しようとする問題点】しかし上記のような
感光体においても、未だ十分な感度が得られず、画像に
カブリが生じるという欠点を有する。また帯電、露光、
除電等の画像形成プロセスを繰り返すことによって、帯
電の際に発生するオゾンや、高輝度で照射されるレーザ
等によって電荷輸送物質が劣化をおこし、帯電電位の低
下、あるいは残留電位の上昇により画像みだれが生じる
等の問題がある。

【０００７】したがって本発明の目的は、上記問題点を
解消し、可視領域および半導体レーザの波長領域にわた
り高感度でしかも製造工程が容易でかつ安価で、電子写
真特性の安定した感光体を提供することにある。

【０００８】

【問題を解決するための手段】導電性支持体上に、電荷
発生層と電荷輸送層とを設けた積層型の感光体におい
て、前記電荷発生層が少なくとも１種のχ型、τ型また
はη型の無金属フタロシアニン化合物を含有し、前記電
荷輸送層が、下記一般式(Ｉ)で表され且つスチリル構造
を分子中に２つのみ有する化合物（以下、ジスチリル化
合物と略す）を含有することを特徴とする感光体に関す
る。

【０００９】

【化３】

【００１０】（式中、Ａｒ₁およびＡｒ₂はそれぞれ置
換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を示
す。Ａｒ₃はそれぞれ置換基を有してもよいアルキル
基、アラルキル基またはアリール基を示す。Ｒ₁および
Ｒ₂はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルコキシ基ま
たはハロゲン原子を示す。Ｒ₃は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、チオエーテル基、フ
ェノキシ基、それぞれ置換基を有してもよいアリール
基、アラルキル基、アルコキシ基または複素環式基を示
す。）本発明に用いられるχ型、τ型、η型無金属フタ
ロシアニンは例えば特公昭４８−３４１８９号公報、特
開昭５８−１８２６３９号公報、特開昭６０−１９１５
３号公報に詳細に記載されており、これらのフタロシア
ニンは２種以上の混合物として使用してもよい。

【００１１】本発明に用いられるτ型無金属フタロシア
ニンは、ＣｕＫα₁／Ｎｉの１.５４１λのＸ線を使用し
た際、ブラッグ角度（２θ±０.２度）が７.６、９.
２、１６.８、１７.４、２０.４および２０.９に強い線
を示すＸ線回折図形を有するものである。特に、赤外線
吸収スペクトルが７００〜７６０ｃｍ~¹の間に７５１±
２ｃｍ~¹が最もつよい４本の吸収帯を、１３２０〜１３
４０ｃｍ~¹の間に２本のほぼ同じ強さの吸収帯を、３２
８８±３ｃｍ~¹に特徴的な吸収を有するものが望まし
い。

【００１２】τ型無金属フタロシアニンの代表的な製造
方法はα型無金属フタロシアニンを５０〜１８０℃、好
ましくは６０〜１３０℃においてτ型を示すに足りる十
分な時間撹拌あるいは機械的歪力をもってミリングする
ところに特徴がある。なお、Ｘ線回折および赤外線吸収
スペクトルは、製造時における条件の相違によって結晶
中の格子欠陥あるいは転移のでき方等によって多少のズ
レができるために範囲をもって示したものである。

【００１３】τ型無金属フタロシアニンの原料となるα
型無金属フタロシアニンは、モーザーおよびトーマスの
「フタロシアニン化合物」（Ｍoser and Ｔhomas “Ｐh
thalocyanine Ｃompounds"）などの公知の方法および他
の適当な方法によって得られるものが使用できる。例え
ば、無金属フタロシアニンは硫酸などの酸によって脱金
属ができる金属フタロシアニン、例えばリチウムフタロ
シアニン、ナトリウムフタロシアニン、カルシウムフタ
ロシアニン、マグネシウムフタロシアニンなどの酸処理
によって、また、フタロジニトリル、アミノイミノイソ
インドレニンなどから直接合成したものが使用できる。
この無金属フタロシアニンは、望ましくは５℃以下で硫
酸などの酸に溶解もしくは酸塩にしたものを、水、好ま
しくは氷水中に注ぎ再析出、もしくは加水分解すること
によってα型無金属フタロシアニンが得られる。α型無
金属フタロシアニンは乾燥状態もしくは水ペースト状態
で撹拌もしくはミリングされる。このときの分散メディ
アとしては通常顔料の分散、乳化、混合などに用いられ
るものでもよく、例えばガラスビーズ、スチールビー
ズ、アルミナボール、フリント石などを挙げることがで
きる。しかし分散メディアは必ずしも必要ではない。磨
砕助剤としては、通常顔料分散の磨砕助剤として用いら
れるもの、例えば食塩、重炭酸ソーダ、ぼう硝などを挙
げることができる。撹拌、ミリング時に分散媒を必要と
する場合には、撹拌、ミリング時の温度において液状の
もの、例えば、グリセリン、エチレングリコール、ジエ
チレングリコールなどのアルコール系溶剤、ポリエチレ
ングリコール系分散媒、エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなど
のセロソルブ系分散媒、ケトン系分散媒、エステルケト
ン系などの分散媒を使用することができる。

【００１４】結晶転移工程において使用される撹拌、ミ
リング装置としては、例えば、サンドミル、ニーダー、
ホモミキサー、アジター、スターラー、バンバリーミキ
サー、ボールミル、アトライターなどを挙げることがで
きる。

【００１５】結晶転移工程における温度範囲は５０〜１
８０℃、好ましくは６０〜１３０℃で行う。また、通常
の結晶転移工程におけるのと同様に結晶核を用いるもの
も有効な方法である。

【００１６】τ型への結晶転移速度は、撹拌、ミリング
の効率、歪力、原料の粒子径、温度などの種々の条件に
依存する。結晶転移工程終了後、通常の精製法で磨砕助
剤および分散媒などを除去し、乾燥することによって目
的とするτ型無金属フタロシアニンを得ることができ
る。

【００１７】また、η型無金属フタロシアニンは、無金
属フタロシアニン、特に、α型無金属フタロシアニン１
００重量部と、ベンゼン核に置換基を有する無金属フタ
ロシアニン、またはベンゼン核に置換基を有してもよい
フタロシアニン窒素同位体もしくは金属フタロシアニン
の１種あるいは２種以上を５０重量部以下との混合物
を、３０〜２２０℃、好ましくは６０〜１３０℃におい
てτ型無金属フタロシアニンを得ると同様の撹拌もしく
はミリングすることによって製造することができるもの
であり、純粋な無金属フタロシアニンに限らず、他のフ
タロシアニン類との混合物をも指称するものである。こ
のη型無金属フタロシアニンは、赤外線吸収スペクトル
が７００〜７６０ｃｍ~¹の間に７５３±１ｃｍ~¹が最も
強い４本の吸収帯を、１３２０〜１３４０ｃｍ~¹の間に
２本のほぼ同じ強さの吸収帯を、３２８５±５ｃｍ-1に
特徴的な吸収を有するものである。η型無金属フタロシ
アニンは、ブラッグ角度が７.６、９.２、１６.８、１
７.４、および２８.５に強いピークを示すＸ線回折図形
を有するものと、７.６、９.２、１６.８、１７.４、２
１.５、および２７.５に強いピークを示すＸ線回折図形
を有するものとがある。

【００１８】上記フタロシアニンの置換基としては、ア
ミノ基、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基、シアノ
基、メルカプト基、ハロゲン原子などがあり、さらにス
ルホン基、カルボン酸基、またはこれらの金属塩、アン
モニウム基、アミン基などを比較的簡単な置換基として
例示することができる。さらに、ベンゼン核にアルキレ
ン基、スルホニル基、カルボニル基、イミノ基などを介
して種々の置換基を導入することができ、これらは、従
来、フタロシアニン顔料の技術分野において凝集防止
剤、結晶成長防止剤、あるいは結晶転移防止剤として公
知のもの（例えばＵＳＰ４０８８５０７号）もしくは未
知のものを使用することができる。

【００１９】χ型無金属フタロシアニンはＣｕＫα₁／
Ｎｉの１.４５１のＸ線を使用した際、ブラッグ角度
（２θ±０.２度）が７.５、９.１、１６.７、１７.３.
２２.３に強い線を示すＸ線回折図形を有するものであ
る。

【００２０】χ型無金属フタロシアニンの代表的な製造
方法は、α型無金属フタロシアニンから不純物および任
意の金属原子を除去し、長時間ミリングすることによっ
て得られる。また、α型無金属フタロシアニンを一部分
のχ型無金属フタロシアニンおよび脂肪族有機溶媒と混
合させ、結晶転移させることによっても得られる。

【００２１】またα型無金属フタロシアニンを１０~²〜
２０Ｔorrの圧力範囲内で昇華させることによっても得
ることができる。

【００２２】ここで本発明の感光体に用いられる一般式
(Ｉ)のジスチリル化合物の製法について以下に示す。

【００２３】本発明の感光体に用いられるジスチリル化
合物は、例えば、下記一般式(II)で表されるアルデヒド
化合物と

【００２４】

【化４】

【００２５】（式中、Ａr₃、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃は(Ｉ)と同
義。）下記一般式(III)で表されるリン化合物を縮合さ
せることにより合成することができる。

【００２６】

【化５】

【００２７】（式中、Ａr₁、Ａr₂は(Ｉ)と同義。Ｘは

【００２８】

【数１】

【００２９】で表されるトリアルキルまたはトリアリー
ルスルホニウム基、あるいはＰＯ(ＯＲ₅)₂で表されるジ
アルキルまたはジアリール亜リン酸基を示す。但し式中
Ｙはハロゲン原子、Ｒ₄、Ｒ₅はそれぞれアルキル基また
はアリール基を示す。）また、一般式(Ｉ)で表されるジ
スチリル化合物は、下記一般式(IV)および(Ｖ)で表され
る化合物を縮合させることによっても合成することがで
きる。

【００３０】

【化６】

【００３１】（式中、Ａr₁、Ａr₂、Ａr₃、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ
₃は(Ｉ)と同義、Ｘは(III)と同義。）上記方法における
反応溶媒としては、例えば炭化水素、アルコール類、エ
ーテル類が良好で、メタノール、エタノール、iso−プ
ロピルアルコール、ブタノール、２−メトキシエタノー
ル、１，２−ジメトキシエタン、ビス(２−メトキシエ
チル)エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ト
ルエン、キシレン、ジメチルスルホキシド、Ｎ,Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１,３−
ジメチル−２−イミダゾリジノンなどが挙げられる。中
でも極性溶媒、例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド
およびジメチルスルホキシドが好適である。

【００３２】縮合剤としては苛性ソーダ、苛性カリ、ナ
トリウムアミド、水素ナトリウム、およびナトリウムメ
チラート、カリウム−ter−ブトキシドなどのアルコラ
ートが用いられる。

【００３３】また反応温度は約０℃〜約１００℃、好ま
しくは１０℃〜８０℃であり、広範囲にわたって選択す
ることができる。

【００３４】上記一般式(Ｉ)で表されるようなジスチリ
ル化合物はいずれも窒素原子を中心に非対称である点に
構造的特徴を有している。これにより立体障害が小さ
く、結着剤中において結晶化をおさえることができるの
で結着材への良好な相溶性を示す。以下に、本発明の感
光体に使用する一般式(Ｉ)で表されるジスチリル化合物
を具体的に示すが、これに限定されるものではない。

【００３５】

【化７】

【００３６】

【化８】

【００３７】

【化９】

【００３８】

【化１０】

【００３９】

【化１１】

【００４０】

【化１２】

【００４１】

【化１３】

【００４２】

【化１４】

【００４３】

【化１５】

【００４４】

【化１６】

【００４５】導電性支持体上に、電荷発生材料として前
記無金属フタロシアニンを１または２種以上含有する電
荷発生層と、電荷輸送材料として一般式(Ｉ)で表される
ジスチリル化合物を含有する電荷輸送層とを形成するこ
とによって、高感度で耐久性に優れた本発明の感光体を
提供することができる。

【００４６】以下に、導電性支持体上に電荷発生層と電
荷輸送層とを積層した本発明にかかる積層型感光体を形
成する場合について具体的に説明する。

【００４７】本発明の積層型感光体は、導電性支持体上
に上述したχ型、τ型、η型無金属フタロシアニンを、
蒸着または適当な樹脂を溶解させた溶液中に分散させて
作製した塗布液を塗布乾燥して電荷発生層を形成する。
この時、電荷発生層の膜厚は４μｍ以下、好ましくは２
μｍ以下とする。使用する無金属フタロシアニン化合物
が少なすぎると感度が悪く、多すぎると帯電性が悪くな
ったり、機械的強度が弱くなったりするため、電荷発生
層中のフタロシアニン化合物１重量部に対するバインダ
ー樹脂の割合を、０〜１０重量部、好ましくは０〜３重
量部となるようにする。

【００４８】このようにして形成された電荷発生層上
に、電荷輸送材料としての一般式(Ｉ)で表されるジスチ
リル化合物、およびバインダー樹脂を含む溶液を塗布乾
燥して電荷輸送層を形成し本発明の感光体を作製する。
この時、電荷輸送層の膜厚は３〜３０μｍ、好ましくは
５〜２０μｍとするのが望ましい。また、電荷輸送層中
のジスチリル化合物の割合は、バインダー樹脂１重量部
に対して０.０２〜２重量部、好ましくは０.０３〜１.
３重量部となるようにする。なお電荷輸送材料がそれ自
身バインダーとして使用できる高分子電荷輸送材料であ
る場合は、他のバインダー樹脂を使用しなくてもよい。

【００４９】上記のようにフタロシアニンを適当な樹脂
中に分散させる形態ではなく、フタロシアニンの蒸着膜
を電荷発生層とする積層型感光体でも比較的高い感度を
有するものが得られるが、蒸着膜の作成には高真空排気
装置を必要としコスト高につながる。

【００５０】また本発明の感光体は、導電性支持体上に
中間層を設けた構成のものであってもよく、これによっ
て接着性の改良、塗工性の向上、支持体の保護、支持体
側から感光層への電荷注入性の向上をはかることができ
る。

【００５１】中間層に用いられる材料としてはポリイミ
ド、ポリアミド、ニトロセルロースポリビニルブチラー
ル、ポリビニルアルコール、酸化アルミニウム等が適当
で、また膜厚は１μｍ以下が望ましい。

【００５２】さらに本発明の感光体は表面保護層を設け
たものであってもよい。表面保護層に用いられる材料と
しては、アクリル樹脂、ポリアリール樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、ウレタン樹脂などのポリマーをそのまま、
または酸化スズや酸化インジウムなどの低抵抗化合物を
分散させたものなどが適当である。

【００５３】また有機プラズマ重合膜を使用することが
できる。有機プラズマ重合膜は必要に応じて適宜酸素、
窒素、ハロゲン、周期律表の第III族、第Ｖ族原子を含
んでいてもよい。表面保護層の膜厚は、５μｍ以下が望
ましい。

【００５４】尚、本発明の積層型感光体は導電性支持体
上に電荷輸送層と電荷発生層をこの順序で積層したもの
であってもよい。

【００５５】本発明の感光体に用いられる導電性支持体
としては、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル等の泊ある
いは板を、シート状またはドラム状にしたものが使用さ
れ、る。またこれらの金属を、プラスチックフィルム等
に真空蒸着、無電解メッキ等によって付着させたもの、
あるいは導電性ポリマー、酸化インジュウム、酸化スズ
等の導電性化合物の層を同様に、紙あるいはプラスチッ
クフィルムなどの支持体上に塗布もしくは蒸着によって
設けたもの等を使用することができる。

【００５６】本発明の感光体の製造に使用されるバイン
ダー樹脂は電気絶縁性であり、単独で測定して１×１０
¹²Ω・ｃｍ以上の体積抵抗を有することが望ましい。例
えば、それ自体公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光
硬化性樹脂、光導電性樹脂等の結着材を使用することが
できる。具体的には、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メ
ラミン樹脂、エポキシ樹脂、ケイ素樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂、キシレン樹脂、
ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、
ポリアクリレート樹脂、、飽和ポリエステル樹脂、フェ
ノキシ樹脂等が挙げられる。本発明の感光体において、
電荷発生層を形成する際に用い得るバインダー樹脂とし
ては、光感度の点からみて特にブチラール樹脂が好まし
い。また電荷輸送層を形成する際には耐久性の面から見
てポリカーボネート樹脂が特に好ましい。

【００５７】本発明の感光体はバインダー樹脂とともに
ハロゲン化パラフィン、ポリ塩化ビフェニル、ジメチル
ナフタレン、ジブチルフタレート、Ｏ−ターフェニルな
どの可塑剤やクロラニル、テトラシアノエチレン、２,
４,７−トリニトロフルオレノン、５,６−ジシアノベン
ゾキノン、テトラシアノキノジメタン、テトラクロル無
水フタル酸、３,５−ジニトロ安息香酸等の電子吸引性
増感剤、メチルバイオレット、ローダミンＢ、シアニン
染料、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の増感剤を使
用してもよい。

【００５８】また、これらの樹脂を溶解する溶剤は、樹
脂の種類によって異なるが、例えば、メタノール、エタ
ノール、iso−プロピルアルコール等のアルコール類、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメ
チルアセトアミド等のアミド類、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル等
のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル
類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレン、
四塩化炭素、トリクロルエチレン等の脂肪族ハロゲン化
炭化水素類、あるいはベンゼン、トルエン、キシレン、
モノクロルベンゼン等の芳香族類等を用いることができ
る。

【００５９】以下に前記ジスチリル化合物例(８)で表さ
れるジスチリル化合物の合成方法を示す。

【００６０】下記式：

【００６１】

【化１７】

【００６２】で表されるアルデヒド化合物４.０３ｇ
と、下記式：

【００６３】

【化１８】

【００６４】であらわされるホスホネート化合物３.０
４ｇをジメチルホルムアルデヒド４０ｍｌに溶解させ
た。得られた溶液を５℃以下に冷却しながら、ジメチル
ホルムアミド２０ｍｌ中にカルシウム−ter−ブトキシ
ド１.６８ｇを含む懸濁液を滴下し、室温で８時間撹拌
した。室温で４時間撹拌した後、８０℃で２時間反応さ
せ、反応を完結させた。得られた混合物を氷水５００ｍ
ｌ中にバージした後、希塩酸で中和し、約３０分後、析
出した結晶を濾過し、濾過生成物を水で洗浄後ベンゼン
に溶解させ、シリカゲルカラムクロマトで分離生成し
た。

【００６５】流出物からベンゼンを留去後、アセトニト
リルから再結晶して、淡黄白色結晶２.９ｇ（収率５２
％）を得た。

【００６６】元素分析の結果は以下のとおりである。

【００６７】

【表１】

【００６８】

【実施例】以後の実施例に用いられる本発明のジスチリ
ル化合物は前記合成例またはこれと類似の方法により合
成を行ったものである。

【００６９】実施例１ χ型無金属フタロシアニン０.４５重量部、ブチラール
樹脂（ＢＸ−１、積水化学(株)製）０.４５重量部をジ
クロルエタン５０重量部とともにサンドミルにより分散
させた。得られたフタロシアニン顔料の分散物を厚さ１
００μｍのアルミ化マイラー上にフィルムアプリケータ
ーを用いて、乾燥膜厚が０.３ｇ／ｍ²となるように塗布
した後乾燥し電荷発生層を形成した。この上にジスチリ
ル化合物(１)４０重量部およびポリカーボネート樹脂
（ＰＣ−Ｚ、三菱ガス化学(株)製）６０重量部をテトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）４００重量部に溶解した溶液
を、乾燥膜厚が２０μｍになるように塗布、乾燥させて
電荷輸送層を形成して、２層からなる感光層を有する感
光体を作成した。

【００７０】この感光体を７８０ｎｍの半導体レーザー
を用いた市販のレーザープリンタ（ミノルタカメラ(株)
製ＳＰ−１０１）に組み込み、印加電圧−６Ｋｖのコロ
ナ放電により帯電させ、初期表面電位Ｖ₀(ｖ)、表面電
位が初期表面電位の半分に減衰するために必要な露光量
（以下、半減露光量）Ｅ_1/2(erg／cm²)、１秒間暗中に
放置したときの初期電位の減衰率ＤＤＲ₁(％)を測定し
た。結果を表２に示す。

【００７１】実施例２〜４実施例１で用いたジスチリル化合物(１)の代わりにジス
チリル化合物(３)、(５)、(７)を用いた以外は実施例１
と同様の方法で３種類の積層感光体を作成した。各々の
感光体について実施例１と同様の方法でＶ₀、Ｅ_1/2、Ｄ
ＤＲ₁を測定し、この結果を表２に示す。

【００７２】実施例５ τ型フタロシアニン０.４５重量部、ポリビニルブチラ
ール（ＢＨ−３、積水化学(株)製）０.９重量部をＴＨ
Ｆ１００重量部とともにサンドミルにより分散させた。
得られたフタロシアニン顔料の分散物を厚さ１００μｍ
のアルミ化マイラー上にフィルムアプリケーターを用い
て、乾燥膜厚が０.２ｇ／ｍ²となるように塗布した後乾
燥し電荷発生層を形成した。この上にジスチリル化合物
(２３)３５重量部およびポリカーボネート樹脂（Ｃ−１
４００、帝人化成(株)製）６５重量部をジクロルメタン
５００重量部に溶解した溶液を、乾燥膜厚が２５μｍに
なるように浸漬塗布し、乾燥させて電荷輸送層を形成し
て、２層からなる感光層を有する感光体を作成した。こ
の感光体について実施例１と同様の方法でＶ₀、Ｅ₁ _/2、
ＤＤＲ₁を測定し、結果を表２に示す。

【００７３】実施例６〜７実施例５で用いたジスチリル化合物(２３)の代わりにジ
スチリル化合物(３０)、(３７)を用いた以外は実施例１
と同様の方法で３種類の積層感光体を作成した。各々の
感光体について実施例１と同様の方法でＶ₀、Ｅ_1/2、Ｄ
ＤＲ₁を測定し、この結果を表２に示す。

【００７４】実施例８ η型フタロシアニン０.９重量部、ポリビニルブチラー
ル（ＸＹＨＬ、ユニオンカーバイト(株)製）０.４５重
量部をトルエン１００重量部とともにサンドミルにより
分散させた。得られたフタロシアニン顔料の分散物を厚
さ１００μｍのアルミ化マイラー上にフィルムアプリケ
ーターを用いて、乾燥膜厚が０.１５ｇ／ｍ²となるよう
に塗布した後乾燥し電荷発生層を形成した。この上にジ
スチリル化合物(４６)５０重量部およびポリアリール樹
脂（Ｕ−１００、ユニチカ(株)製）５０重量部をジクロ
ルメタン５００重量部に溶解した溶液を、乾燥膜厚が２
３μｍになるように塗布、乾燥させて電荷輸送層を形成
して、２層からなる感光層を有する感光体を作製した。
この感光体について実施例１と同様の方法でＶ₀、
Ｅ_1/2、ＤＤＲ₁を測定し、結果を表２に示す。

【００７５】比較例１〜６実施例１で用いたジスチリル化合物(１)の代わりに下記
に示すジスチリル化合物(１−１)、(１−２)、(１−
３)、(１−４)、(１−５)、(１−６)を用いた以外は実
施例１と同様の方法で６種類の積層型感光体を作製し
た。また各々の感光体について実施例１と同様の方法で
Ｖ₀、Ｅ_1/2、ＤＤＲ₁を測定し、この結果を表２に示
す。

【００７６】尚、化合物(１−４)、(１−６)は溶解性が
悪く、感光体作製時に一部結晶が析出した。

【００７７】

【化１９】

【００７８】

【表２】

【００７９】

【発明の効果】本発明の積層型感光体においては、電荷
輸送材料として、一般式(１)で表されるジスチリル化合
物と特定の電荷発生材料、χ型、τ型、η型無金属フタ
ロシアニンとを組み合わせて構成することにより、特に
長波長領域において高感度である感光体を提供すること
ができた。

【００８０】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平３−149560（ＪＰ，Ａ) 特開平２−198451（ＪＰ，Ａ) 特開平１−93746（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/06

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に、電荷発生層と電荷輸
送層とを設けた積層型の感光体において、前記電荷発生
層が少なくとも１種のχ型、τ型またはη型の無金属フ
タロシアニン化合物を含有し、前記電荷輸送層が、下記
一般式(Ｉ)で表され且つスチリル構造を分子中に２つの
み有する化合物を含有することを特徴とする積層型感光
体：【化１】（式中、Ａｒ₁およびＡｒ₂はそれぞれ置換基を有しても
よいアルキル基またはアリール基を示す。Ａｒ₃はそれ
ぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アラルキル基ま
たはアリール基を示す。Ｒ₁およびＲ₂はそれぞれ水素原
子、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を示
す。Ｒ₃は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、チオエーテル基、フェノキシ基、それぞれ置
換基を有してもよいアリール基、アラルキル基、アルコ
キシ基または複素環式基を示す。）。