JP3146921B2 - リフロー装置 - Google Patents

リフロー装置

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JP3146921B2
JP3146921B2 JP10334695A JP10334695A JP3146921B2 JP 3146921 B2 JP3146921 B2 JP 3146921B2 JP 10334695 A JP10334695 A JP 10334695A JP 10334695 A JP10334695 A JP 10334695A JP 3146921 B2 JP3146921 B2 JP 3146921B2
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朝宏 湧川
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板に搭載された電子
部品を半田付けするためのリフロー装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】リフロー装置は、電子部品が搭載された
基板をコンベアにより搬送しながら、基板にヒータで加
熱された熱風を吹き付けて基板を加熱し、これにより半
田を溶融させて電子部品を半田付けするようになってい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】コンベアとしては無端
チエンが多用されており、基板はその両側端部を無端チ
エンにより支持して搬送されながら、半田の溶融温度
(一般に約183℃)以上に加熱される。基板として
は、ガラエポ基板などが多用されているが、基板は加熱
されると軟化する。このため基板は下凸状にわん曲しや
すく、最悪の場合は無端チエンから落下してしまうとい
う問題点があった。
【0004】そこで本発明は、高温度に加熱された基板
がわん曲してコンベアから落下するのを解消できるリフ
ロー装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】このために本発明は、加
熱室と、この加熱室の内部に配設された左右一対のコン
ベアと、このコンベアに両側端部を支持されて加熱室の
入口から出口へ搬送される基板を半田の溶融温度以上ま
で徐々に加熱するヒータおよびフアンとを備えたリフロ
ー装置であって、コンベアにより搬送される基板の中央
部に下方からガスを吹き付けるガス吹き付け手段を、前
記コンベアの下流における基板温度が最も高い付近に集
中的に配設したものである。
【0006】また望ましくは、ガスを加熱するヒータを
ガス吹き付け手段に設けたものである。
【0007】また望ましくは、基板の両側端部を上方か
らコンベアに押えつけるローラを設けたものである。
【0008】
【作用】上記構成によれば、コンベアで両側端部を支持
されて搬送される基板の中央部に下方からガスを吹き付
けることにより、基板が下方へわん曲するのを防止し、
これにより基板がコンベアから落下するのを解消する。
またヒータを設けることにより基板の下面に吹き付ける
ガスの温度をコントロールし、またローラを設けること
により基板が下方から吹き付けられるガスにあおられて
コンベアから落下するのを防止する。
【0009】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。図1は本発明の第一実施例のリフロー装置の
内部構成を示す断面図、図2は同リフロー装置のコンベ
アにより搬送される基板の断面図である。図1におい
て、1は加熱室であり、その入口2から出口3へコンベ
ア4が水平に配設されている。このコンベア4は無端チ
エンであり、スプロケット5に調帯されており、モータ
(図外)に駆動されて回動する。
【0010】6はコンベア4により搬送される基板であ
って、電子部品7が搭載されている。コンベア4の上方
にはヒータ8が複数個設けられている。またヒータ8の
上方にはフアン9が設けられている。10はフアン9を
回転させるモータである。フアン9を回転させることに
より、ヒータ8で加熱された空気を基板6に吹き付けて
基板6を加熱する。基板6は入口2から出口3へ向かっ
て搬送されながら徐々に半田の溶融温度(約183℃)
以上の230℃程度にまで加熱される。また最下流(図
において右端部)のフアン9の下方にはヒータ8は存在
せず、このフアン9により比較的低温の空気を基板6に
吹き付けて、加熱溶融した半田を冷却し固化させる。
【0011】コンベア4により搬送される基板6の下方
には、ガス吹き付け手段として複数個(本実施例では4
個)のノズル11が基板6の搬送方向に沿うように設け
られている。このノズル11は、基板温度が最も高い付
近、すなわち最下流(右端部)のヒータ8の下方から基
板6がファン9によって冷却されて硬化する位置まで集
中的に配設されている。12はノズル11に連通するダ
クトであり、空気供給部13に接続されている。したが
って空気供給部13から圧送された空気は、ノズル11
の上端部から上方へ吹き出し、基板6の下面に吹き付け
られる。
【0012】4個のノズル11のうち、上流側の3個の
ノズル11には、ヒータとしての電熱線14が巻回され
ており、ノズル11から吹き出される空気を加熱する。
図2において、基板6は、その両側端部を左右一対のコ
ンベア4に取り付けられたピン15にわずかに支持され
ている。またノズル11は、基板6の中央部に空気を吹
き付ける(破線矢印参照)。ピン15の上方にはローラ
16が設けられており、ノズル11から吹き上げられた
空気により基板6がコンベア4から浮き上らないよう
に、このローラ16により基板6の両側端部をピン15
に押さえつけている(図1も参照)。
【0013】このリフロー装置は上記のような構成によ
り成り、次に全体の動作を説明する。電子部品7が搭載
された基板6は加熱室1の入口2から出口3へ向かって
コンベア4により搬送される。その間、ヒータ8で加熱
された熱風が吹き付けられることにより半田の溶融温度
以上まで加熱され、半田は溶融する。次いで最下流のフ
アン9により比較的低温の空気が吹き付けられることに
より、溶融した半田は固化し、電子部品7は基板6に半
田付けされる。
【0014】基板6は加熱されると軟化し、図2に示す
ように下凸状にたわむが、下方のノズル11から吹き上
げられた空気が基板6の下面の中央部に吹き付けられる
ことにより、基板6がたわむのは抑制され、したがって
基板6の両端部がピン15からずれ落ちて基板6がコン
ベア4から落下することはない。またノズル11から吹
き出される空気をヒータ14で加熱すれば、基板6はそ
の下面を加熱されることになり、半田の溶融をより一層
促進できる。また基板6の両側端部をローラ16でコン
ベア4へ押えつけることにより、下方から吹き付けられ
る空気により基板6があおられてコンベア4から落下す
るのを防止できる。
【0015】図3は本発明の第二実施例のリフロー装置
のコンベアにより搬送される基板の断面図である。この
実施例の基板6’は幅が広いので、ノズル11は基板
6’の幅方向に複数個(本実施例では3個)設けられて
いる。勿論、基板6’の搬送方向にも、図1に示すもの
と同様に複数個設けられている。このように幅方向にノ
ズル11を複数個配設することにより、幅広の基板6’
をしっかり支えることができる。
【0016】次に、基板6’の両面に電子部品を半田付
けする場合について説明する。基板6’の中には、基板
6’の裏面(下面)にすでに電子部品が半田付けされて
いるものがあるが、この電子部品の中には熱に弱いもの
があり、このような電子部品は、基板6’の上面の電子
部品を半田付けする際の熱によってダメージを受ける可
能性がある。このようにすでに下面に電子部品が半田付
けされている基板の上面に電子部品を半田付けする場合
は、ノズル11から吹き出す空気の温度をヒータ14に
よって180℃以下に制御することにより、下面に半田
付けされている電子部品への熱によるダメージを少なく
し、また下面の半田の再溶融するのを防止できる。この
ように本発明は、両面実装基板の半田付けにも有効であ
る。
【0017】本発明は上記実施例に限定されないのであ
って、例えば加熱室にチッソガスを送ってチッソガス中
で半田付けするチッソリフロー装置にも適用できる。ま
たノズル11から吹き出すガスとしては、空気に限ら
ず、チッソガスでもよいものである。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、コンベア
の下流における基板温度が最も高い付近にガス吹付け手
段を集中的に配設し、基板の中央部に下方からガスを
中的に吹き付けるようにしているので、基板が下方へわ
ん曲するのを防止し、これにより基板がコンベアから落
下するのを解消できる。またガス吹き付け手段にヒータ
を設けることにより、吹き出されるガスを加熱し、半田
の溶融をより一層促進できる。またローラを設けること
により、下方から吹き付けられるガスにあおられて基板
がコンベアから落下するのを防止する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一実施例のリフロー装置の内部構成
を示す断面図
【図2】本発明の第一実施例のリフロー装置のコンベア
により搬送される基板の断面図
【図3】本発明の第二実施例のリフロー装置のコンベア
により搬送される基板の断面図
【符号の説明】
1 加熱室 4 コンベア 6,6’ 基板 7 電子部品 8 ヒータ 9 フアン 11 ノズル 14 電熱線 16 ローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/34 507

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】加熱室と、この加熱室の内部に配設された
    左右一対のコンベアと、このコンベアに両側端部を支持
    されて加熱室の入口から出口へ搬送される基板を半田の
    溶融温度以上まで徐々に加熱するヒータおよびフアンと
    を備えたリフロー装置であって、前記コンベアにより搬
    送される前記基板の中央部に下方からガスを吹き付ける
    ガス吹き付け手段を、前記コンベアの下流における基板
    温度が最も高い付近に集中的に配設したことを特徴とす
    るリフロー装置。
  2. 【請求項2】前記ガスを加熱するヒータを前記ガス吹き
    付け手段に設けたことを特徴とする請求項1記載のリフ
    ロー装置。
  3. 【請求項3】前記基板の両側端部を上方から前記コンベ
    アに押えつけるローラを設けたことを特徴とする請求項
    1記載のリフロー装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102087194B1 (ko) * 2013-08-09 2020-03-11 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치용 필름 및 그 제조 방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR102087194B1 (ko) * 2013-08-09 2020-03-11 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치용 필름 및 그 제조 방법

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