JP3140392B2 - スプレー式吸収塔 - Google Patents
スプレー式吸収塔Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、火力発電所などか
ら排出される燃焼排ガス中の硫黄酸化物及びばいじんを
除去する湿式排煙脱硫方法の実施に用いられるスプレー
式吸収塔に関するものである。
ら排出される燃焼排ガス中の硫黄酸化物及びばいじんを
除去する湿式排煙脱硫方法の実施に用いられるスプレー
式吸収塔に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】火力発電所などから排出される燃焼排ガ
ス中の硫黄酸化物を除去するために用いられる排煙脱硫
方法としては、吸収剤として石灰石又は石灰を使用し副
生品として石膏を回収する湿式石灰（石）・石膏法を採
用するのが現在のところ主流である。この湿式石灰
（石）・石膏法を実施する装置において主要機器となる
吸収塔には、スプレー式のものが多く採用されている。
従来の一般的なスプレー式吸収塔の構造を図５に示す。
図５において、排ガスは吸収塔側部又は下部のガス入口
ダクト１０より流入し、上部のガス出口ダクト１２より
排出される。この間に、吸収塔下部の吸収液タンク１４
から循環ポンプ１６を介してスプレーヘッダー１８のノ
ズル２０より噴霧された吸収液スラリーによって、排ガ
ス中の硫黄酸化物が除去される。また、排ガスに同伴さ
れる吸収剤のミストを除去するために、吸収塔上部のガ
ス出口ダクト１２手前に内蔵ミストエリミネータ２２を
設置するとともに、ガス出口ダクト１２にも出口ミスト
エリミネータ２４を設置している。２６は吸収剤供給ラ
インである。
ス中の硫黄酸化物を除去するために用いられる排煙脱硫
方法としては、吸収剤として石灰石又は石灰を使用し副
生品として石膏を回収する湿式石灰（石）・石膏法を採
用するのが現在のところ主流である。この湿式石灰
（石）・石膏法を実施する装置において主要機器となる
吸収塔には、スプレー式のものが多く採用されている。
従来の一般的なスプレー式吸収塔の構造を図５に示す。
図５において、排ガスは吸収塔側部又は下部のガス入口
ダクト１０より流入し、上部のガス出口ダクト１２より
排出される。この間に、吸収塔下部の吸収液タンク１４
から循環ポンプ１６を介してスプレーヘッダー１８のノ
ズル２０より噴霧された吸収液スラリーによって、排ガ
ス中の硫黄酸化物が除去される。また、排ガスに同伴さ
れる吸収剤のミストを除去するために、吸収塔上部のガ
ス出口ダクト１２手前に内蔵ミストエリミネータ２２を
設置するとともに、ガス出口ダクト１２にも出口ミスト
エリミネータ２４を設置している。２６は吸収剤供給ラ
インである。
【０００３】また、特開平５−２２０３３１号公報に開
示されたスプレー式吸収塔は、図６に示すように、吸収
塔内のガス流れ方向がガス流入側領域とガス排出側領域
とで逆向きになるような仕切板２８を設けたものであ
り、ガス入口ダクト３０から吸収塔内に流入した排ガス
は、ガスアップフロー部３２を流れて塔頂部で反転し、
ついで、ガスダウンフロー部３４を流れてガス出口ダク
ト３６から排出される。この間、ガスアップフロー部３
２においては、吸収塔下部の吸収液タンク３８から循環
ポンプ４０を介してスプレーヘッダー４２のノズル４４
から吸収液スラリーが噴霧され、ガスダウンフロー部３
４においては、吸収液タンク３８から循環ポンプ４６を
介してスプレーヘッダー４８のノズル５０から吸収液ス
ラリーが噴霧される。５２は出口ミストエリミネータ、
５４は吸収剤供給ラインである。
示されたスプレー式吸収塔は、図６に示すように、吸収
塔内のガス流れ方向がガス流入側領域とガス排出側領域
とで逆向きになるような仕切板２８を設けたものであ
り、ガス入口ダクト３０から吸収塔内に流入した排ガス
は、ガスアップフロー部３２を流れて塔頂部で反転し、
ついで、ガスダウンフロー部３４を流れてガス出口ダク
ト３６から排出される。この間、ガスアップフロー部３
２においては、吸収塔下部の吸収液タンク３８から循環
ポンプ４０を介してスプレーヘッダー４２のノズル４４
から吸収液スラリーが噴霧され、ガスダウンフロー部３
４においては、吸収液タンク３８から循環ポンプ４６を
介してスプレーヘッダー４８のノズル５０から吸収液ス
ラリーが噴霧される。５２は出口ミストエリミネータ、
５４は吸収剤供給ラインである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】一般的なスプレー式吸
収塔では、吸収塔内の吸収部は複数段のスプレーヘッダ
ーより構成されるが、図５に示すようなスプレー式吸収
塔の構造では、要求脱硫率が高くなるとスプレーヘッダ
ーの段数を多くしなければならず、その結果、吸収塔高
さが非常に高くなる。また、それに伴い、循環ポンプの
揚程（ヘッド）も大きくしなければならず、装置が大型
化し設備費や運転費が高くなるという問題がある。さら
に、排ガスに同伴されるミストを除去するために内蔵ミ
ストエリミネータを設置しているため、それに伴い、出
口ミストエリミネータの設置高さが高くなり、架台を含
めたコストが非常に高いという欠点がある。特に、近年
は火力発電所などから要求される排出ガス中の硫黄酸化
物濃度及びばいじん濃度等の規制値が厳しくなってきて
おり、上述したような問題を解決することが切望されて
いる。
収塔では、吸収塔内の吸収部は複数段のスプレーヘッダ
ーより構成されるが、図５に示すようなスプレー式吸収
塔の構造では、要求脱硫率が高くなるとスプレーヘッダ
ーの段数を多くしなければならず、その結果、吸収塔高
さが非常に高くなる。また、それに伴い、循環ポンプの
揚程（ヘッド）も大きくしなければならず、装置が大型
化し設備費や運転費が高くなるという問題がある。さら
に、排ガスに同伴されるミストを除去するために内蔵ミ
ストエリミネータを設置しているため、それに伴い、出
口ミストエリミネータの設置高さが高くなり、架台を含
めたコストが非常に高いという欠点がある。特に、近年
は火力発電所などから要求される排出ガス中の硫黄酸化
物濃度及びばいじん濃度等の規制値が厳しくなってきて
おり、上述したような問題を解決することが切望されて
いる。
【０００５】これに対し、図６に示すようなスプレー式
吸収塔では、吸収塔内に仕切板を設置して、吸収塔高さ
が低くなるようにしているが、図６のようなスプレー式
吸収塔には下記のような問題がある。 （１） 吸収塔内に仕切板を設置してガスアップフロー
部とガスダウンフロー部を設けた分だけ吸収塔高さは低
くなるが、脱硫性能やばいじん除去性能自体は向上しな
い。 （２） 吸収塔内にミストエリミネータ等が設置されて
おらず、吸収塔内での排ガス中のミストの除去について
考慮されていないので、出口ミストエリミネータへの負
荷が大きくなる。 （３） ガスダウンフロー部での脱硫効率を維持するた
めに、ガスダウンフロー部に吸収液スラリーを循環供給
するための循環ポンプを設け、この循環ポンプのサクシ
ョン（吸込口）近傍に吸収剤を補給するラインを配置し
ているので、ガスアップフロー部用とガスダウンフロー
部用にそれぞれ循環ポンプを設置しなければならず、設
備費や運転費が高くなり、また、配置上の考慮が必要と
なる。
吸収塔では、吸収塔内に仕切板を設置して、吸収塔高さ
が低くなるようにしているが、図６のようなスプレー式
吸収塔には下記のような問題がある。 （１） 吸収塔内に仕切板を設置してガスアップフロー
部とガスダウンフロー部を設けた分だけ吸収塔高さは低
くなるが、脱硫性能やばいじん除去性能自体は向上しな
い。 （２） 吸収塔内にミストエリミネータ等が設置されて
おらず、吸収塔内での排ガス中のミストの除去について
考慮されていないので、出口ミストエリミネータへの負
荷が大きくなる。 （３） ガスダウンフロー部での脱硫効率を維持するた
めに、ガスダウンフロー部に吸収液スラリーを循環供給
するための循環ポンプを設け、この循環ポンプのサクシ
ョン（吸込口）近傍に吸収剤を補給するラインを配置し
ているので、ガスアップフロー部用とガスダウンフロー
部用にそれぞれ循環ポンプを設置しなければならず、設
備費や運転費が高くなり、また、配置上の考慮が必要と
なる。
【０００６】本発明は上記の諸点に鑑みなされたもの
で、本発明の目的は、高い効率で排ガス中の硫黄酸化物
やばいじんを除去することができる上に、装置全体がコ
ンパクトで、設備費や運転費が削減でき、配置上の考慮
も必要なく、排ガスに同伴されるミストの除去性能も向
上し得るスプレー式吸収塔を提供することにある。
で、本発明の目的は、高い効率で排ガス中の硫黄酸化物
やばいじんを除去することができる上に、装置全体がコ
ンパクトで、設備費や運転費が削減でき、配置上の考慮
も必要なく、排ガスに同伴されるミストの除去性能も向
上し得るスプレー式吸収塔を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの湿式排煙脱硫方法としては、吸収塔下部の吸収液タ
ンクから循環供給される吸収液スラリーを、吸収塔内上
部に設けられたスプレーヘッダーのノズルから噴霧し
て、吸収塔内に流入する排ガス中の硫黄酸化物及びばい
じんを除去するとともに、吸収塔内で排ガスに同伴され
る吸収剤のミストを除去する湿式排煙脱硫方法におい
て、吸収塔内のガス流れ方向が塔頂部近傍で反転してガ
スアップフロー部とガスダウンフロー部が形成されるよ
うな仕切部材を、ガスアップフロー部の断面積とガスダ
ウンフロー部の断面積との比が４：１〜２：１の範囲と
なるような位置に設けて、吸収液と排ガスとの接触が促
進され、かつ、排ガス中のばいじんと吸収液との相対速
度が速くなるように、ガスダウンフロー部での排ガスの
流速を６〜１６m／sの範囲となるようにし、スプレーヘ
ッダーのノズルから噴霧される吸収液スラリーの噴霧方
向を、ガスアップフロー部で略下向きとし、ガスダウン
フロー部で略上向き又は略下向きとする構成がある（図
１〜図３参照）。
めの湿式排煙脱硫方法としては、吸収塔下部の吸収液タ
ンクから循環供給される吸収液スラリーを、吸収塔内上
部に設けられたスプレーヘッダーのノズルから噴霧し
て、吸収塔内に流入する排ガス中の硫黄酸化物及びばい
じんを除去するとともに、吸収塔内で排ガスに同伴され
る吸収剤のミストを除去する湿式排煙脱硫方法におい
て、吸収塔内のガス流れ方向が塔頂部近傍で反転してガ
スアップフロー部とガスダウンフロー部が形成されるよ
うな仕切部材を、ガスアップフロー部の断面積とガスダ
ウンフロー部の断面積との比が４：１〜２：１の範囲と
なるような位置に設けて、吸収液と排ガスとの接触が促
進され、かつ、排ガス中のばいじんと吸収液との相対速
度が速くなるように、ガスダウンフロー部での排ガスの
流速を６〜１６m／sの範囲となるようにし、スプレーヘ
ッダーのノズルから噴霧される吸収液スラリーの噴霧方
向を、ガスアップフロー部で略下向きとし、ガスダウン
フロー部で略上向き又は略下向きとする構成がある（図
１〜図３参照）。
【０００８】上記の目的を達成するために、本発明のス
プレー式吸収塔は、吸収塔下部の吸収液タンクから循環
ポンプにより循環供給される吸収液スラリーが、吸収塔
内上部に設けられた少なくとも１段のスプレーヘッダー
のノズルから噴霧されて、ガス入口ダクトから吸収塔内
に流入した排ガス中の硫黄酸化物及びばいじんが除去さ
れるとともに、吸収塔内に内蔵されたガス出口ダクトか
ら排出される排ガス中の吸収剤のミストが出口ミストエ
リミネータで除去されるようにしたスプレー式吸収塔で
あって、吸収塔内のガス流れ方向が塔頂部近傍で反転し
てガスアップフロー部とガスダウンフロー部が形成され
るような仕切部材が、吸収液と排ガスとの接触を活発に
し、かつ、排ガス中のばいじんと吸収液との相対速度を
速くするために、ガスアップフロー部の断面積とガスダ
ウンフロー部の断面積との比が４：１〜２：１の範囲と
なるような位置に設けられ、スプレーヘッダーのノズル
から噴霧される吸収液スラリーの噴霧方向が、ガスアッ
プフロー部では略下向きであり、ガスダウンフロー部で
は略上向き又は略下向きであり、吸収塔のガス出口形状
が、排ガスがガスダウンフロー部下流から反転してガス
出口ダクトに流れるような形状であり、ガス出口ダクト
近傍に、吸収塔出口部で反転したミストを含む排ガスか
らミストを除去するためのミスト分離板が設けられ、ガ
ス出口ダクトがガスダウンフロー部下流で反転した排ガ
スの流れ方向に沿うようにやや上向きに設けられ、ガス
アップフロー部及びガスダウンフロー部におけるそれぞ
れのスプレーヘッダーのノズルから噴霧される吸収液ス
ラリーの循環が、吸収液タンクに接続された同一の循環
ポンプで行われるようにした構成とされている（図１〜
図３参照）。
プレー式吸収塔は、吸収塔下部の吸収液タンクから循環
ポンプにより循環供給される吸収液スラリーが、吸収塔
内上部に設けられた少なくとも１段のスプレーヘッダー
のノズルから噴霧されて、ガス入口ダクトから吸収塔内
に流入した排ガス中の硫黄酸化物及びばいじんが除去さ
れるとともに、吸収塔内に内蔵されたガス出口ダクトか
ら排出される排ガス中の吸収剤のミストが出口ミストエ
リミネータで除去されるようにしたスプレー式吸収塔で
あって、吸収塔内のガス流れ方向が塔頂部近傍で反転し
てガスアップフロー部とガスダウンフロー部が形成され
るような仕切部材が、吸収液と排ガスとの接触を活発に
し、かつ、排ガス中のばいじんと吸収液との相対速度を
速くするために、ガスアップフロー部の断面積とガスダ
ウンフロー部の断面積との比が４：１〜２：１の範囲と
なるような位置に設けられ、スプレーヘッダーのノズル
から噴霧される吸収液スラリーの噴霧方向が、ガスアッ
プフロー部では略下向きであり、ガスダウンフロー部で
は略上向き又は略下向きであり、吸収塔のガス出口形状
が、排ガスがガスダウンフロー部下流から反転してガス
出口ダクトに流れるような形状であり、ガス出口ダクト
近傍に、吸収塔出口部で反転したミストを含む排ガスか
らミストを除去するためのミスト分離板が設けられ、ガ
ス出口ダクトがガスダウンフロー部下流で反転した排ガ
スの流れ方向に沿うようにやや上向きに設けられ、ガス
アップフロー部及びガスダウンフロー部におけるそれぞ
れのスプレーヘッダーのノズルから噴霧される吸収液ス
ラリーの循環が、吸収液タンクに接続された同一の循環
ポンプで行われるようにした構成とされている（図１〜
図３参照）。
【０００９】上記のように、スプレーヘッダーのノズル
から噴霧される吸収液スラリーの噴霧方向を、ガスアッ
プフロー部では略下向きとし、ガスダウンフロー部では
略上向き又は略下向きとする（図１参照）。また、上記
のように、吸収塔のガス出口形状を、排ガスがガスダウ
ンフロー部下流から反転してガス出口ダクトに流れるよ
うな形状とし、ガス出口ダクト近傍に、吸収塔出口部で
反転したミストを含む排ガスからミストを除去するため
のミスト分離板を設ける（図１参照）。また、上記のよ
うに、ガス出口ダクトを、ガスダウンフロー部下流で反
転した排ガスの流れ方向に沿うようにやや上向きに設け
る（図１参照）。また、上記のように、ガスアップフロ
ー部及びガスダウンフロー部におけるそれぞれのスプレ
ーヘッダーのノズルから噴霧される吸収液スラリーの循
環を、吸収液タンクに接続された同一の循環ポンプで行
う（図１参照）。
から噴霧される吸収液スラリーの噴霧方向を、ガスアッ
プフロー部では略下向きとし、ガスダウンフロー部では
略上向き又は略下向きとする（図１参照）。また、上記
のように、吸収塔のガス出口形状を、排ガスがガスダウ
ンフロー部下流から反転してガス出口ダクトに流れるよ
うな形状とし、ガス出口ダクト近傍に、吸収塔出口部で
反転したミストを含む排ガスからミストを除去するため
のミスト分離板を設ける（図１参照）。また、上記のよ
うに、ガス出口ダクトを、ガスダウンフロー部下流で反
転した排ガスの流れ方向に沿うようにやや上向きに設け
る（図１参照）。また、上記のように、ガスアップフロ
ー部及びガスダウンフロー部におけるそれぞれのスプレ
ーヘッダーのノズルから噴霧される吸収液スラリーの循
環を、吸収液タンクに接続された同一の循環ポンプで行
う（図１参照）。
【００１０】上記のように、吸収塔内に仕切部材を設け
る位置は、ガスアップフロー部の断面積とガスダウンフ
ロー部の断面積との比が４：１〜２：１の範囲、すなわ
ち、ガスアップフロー部の断面積に対してガスダウンフ
ロー部の断面積が１／４〜１／２の範囲となるような位
置であり、この範囲でガスダウンフロー部の断面積の方
を小さくすることにより、ガスダウンフロー部でのガス
流速が、ガスアップフロー部の２〜４倍程度となる。こ
の場合、ガスアップフロー部でのガス流速は、３〜４m
／s程度であるので、ガスダウンフロー部でのガス流速
は、６〜１６m／sの範囲となる。ガスダウンフロー部で
のガス流速が遅くなると、噴霧した吸収液と排ガスとの
接触が促進されず、排ガス中のばいじんと噴霧液との相
対速度も遅くなり、脱硫性能やばいじん捕集性能が低下
し、また、ミストを含む排ガスが吸収塔出口部で反転し
たときの慣性力が小さくなり、ミスト分離板によるミス
トの除去性能が低下する。これらの観点から、ガスダウ
ンフロー部でのガス流速は、６m／s以上、好ましくは、
７m／s以上になるようにする。したがって、ガスアップ
フロー部の断面積に対するガスダウンフロー部の断面積
の比は、上限が１／２となる。ただし、ガスアップフロ
ー部の断面積に対するガスダウンフロー部の断面積の比
が１／４未満であると、ガスダウンフロー部でのガス流
速が速くなり過ぎ、ガスダウンフロー部の断面積も小さ
すぎるので、吸収塔圧力損失が上昇し、吸収塔の前流側
あるいは後流側に設置されるガス昇圧ファン（脱硫ファ
ン）の容量を増加しなければならず、かえって、脱硫設
備全体の設備費・運転費が高くなる。このため、ガス流
速をあまり速くし過ぎることはできない。したがって、
ガスダウンフロー部でのガス流速は、１６m／s以下、好
ましくは、１３m／s以下になるようにする。
る位置は、ガスアップフロー部の断面積とガスダウンフ
ロー部の断面積との比が４：１〜２：１の範囲、すなわ
ち、ガスアップフロー部の断面積に対してガスダウンフ
ロー部の断面積が１／４〜１／２の範囲となるような位
置であり、この範囲でガスダウンフロー部の断面積の方
を小さくすることにより、ガスダウンフロー部でのガス
流速が、ガスアップフロー部の２〜４倍程度となる。こ
の場合、ガスアップフロー部でのガス流速は、３〜４m
／s程度であるので、ガスダウンフロー部でのガス流速
は、６〜１６m／sの範囲となる。ガスダウンフロー部で
のガス流速が遅くなると、噴霧した吸収液と排ガスとの
接触が促進されず、排ガス中のばいじんと噴霧液との相
対速度も遅くなり、脱硫性能やばいじん捕集性能が低下
し、また、ミストを含む排ガスが吸収塔出口部で反転し
たときの慣性力が小さくなり、ミスト分離板によるミス
トの除去性能が低下する。これらの観点から、ガスダウ
ンフロー部でのガス流速は、６m／s以上、好ましくは、
７m／s以上になるようにする。したがって、ガスアップ
フロー部の断面積に対するガスダウンフロー部の断面積
の比は、上限が１／２となる。ただし、ガスアップフロ
ー部の断面積に対するガスダウンフロー部の断面積の比
が１／４未満であると、ガスダウンフロー部でのガス流
速が速くなり過ぎ、ガスダウンフロー部の断面積も小さ
すぎるので、吸収塔圧力損失が上昇し、吸収塔の前流側
あるいは後流側に設置されるガス昇圧ファン（脱硫ファ
ン）の容量を増加しなければならず、かえって、脱硫設
備全体の設備費・運転費が高くなる。このため、ガス流
速をあまり速くし過ぎることはできない。したがって、
ガスダウンフロー部でのガス流速は、１６m／s以下、好
ましくは、１３m／s以下になるようにする。
【００１１】本発明のスプレー式吸収塔では、ガス出口
ダクト（図５におけるガス出口ダクト１２に相当するも
の）を吸収塔内に内蔵し、さらにこの部分を吸収部とし
て利用するので、吸収塔及びガス出口ダクトを含め、ガ
ス出口ダクトの省略、吸収塔高さの低減により、装置全
体がコンパクトになる。また、ガスダウンフロー部での
ガス流速が６m／s以上と速くなるので、反転形状となっ
ている吸収塔出口部での慣性力と出口部に設置したミス
ト分離板によりガス中のミストが除去される。その結
果、従来の図５に示す吸収塔で設置されていた内蔵ミス
トエリミネータが削除でき、かつ、従来の図６に示す吸
収塔のように出口ミストエリミネータへの負荷が大きく
なることがない。従来、吸収塔内のガス流速は、内蔵ミ
ストエリミネータのフラッディング現象（ミストがガス
流に乗ってしまい落下しない現象）があり、吸収塔内の
圧損上昇が伴うため、高速流にはできなかったが、本発
明では、上記のように内蔵ミストエリミネータを省略で
きるので、高速ガス流が可能になる。
ダクト（図５におけるガス出口ダクト１２に相当するも
の）を吸収塔内に内蔵し、さらにこの部分を吸収部とし
て利用するので、吸収塔及びガス出口ダクトを含め、ガ
ス出口ダクトの省略、吸収塔高さの低減により、装置全
体がコンパクトになる。また、ガスダウンフロー部での
ガス流速が６m／s以上と速くなるので、反転形状となっ
ている吸収塔出口部での慣性力と出口部に設置したミス
ト分離板によりガス中のミストが除去される。その結
果、従来の図５に示す吸収塔で設置されていた内蔵ミス
トエリミネータが削除でき、かつ、従来の図６に示す吸
収塔のように出口ミストエリミネータへの負荷が大きく
なることがない。従来、吸収塔内のガス流速は、内蔵ミ
ストエリミネータのフラッディング現象（ミストがガス
流に乗ってしまい落下しない現象）があり、吸収塔内の
圧損上昇が伴うため、高速流にはできなかったが、本発
明では、上記のように内蔵ミストエリミネータを省略で
きるので、高速ガス流が可能になる。
【００１２】そして、ガス流速の増加により、吸収液と
排ガスとの接触が活発となり脱硫反応が促進される傾向
にあるので、ガス流れを高速にすることによるガスアッ
プフロー部での脱硫性能向上に加えて、さらにガス流速
が速いガスダウンフロー部でも大幅に脱硫性能が向上す
る。特に、ガスダウンフロー部で吸収液スプレーを上向
き（向流）に噴霧する場合には、脱硫性能の向上が格別
顕著である。上記のように、ガスダウンフロー部での脱
硫効率が高くなれば、従来の図６に示す吸収塔のよう
に、ガスアップフロー部用及びガスダウンフロー部用に
それぞれ循環ポンプを設置する必要がなくなり、ガスア
ップフロー部及びガスダウンフロー部における吸収液の
循環は同一の循環ポンプにて行うことができる。したが
って、従来に比べて設備費、運転費の削減が図れ、配置
上にも余裕ができる。また、高速ガス流の中に吸収液を
噴霧するので、排ガス中のばいじんと噴霧液との相対速
度が速くなり、ばいじん捕集性能が向上する。さらに、
ガスダウンフロー部で吸収液スプレーを上向き（向流）
に噴霧する場合には、ばいじん捕集性能が大幅に向上す
る。
排ガスとの接触が活発となり脱硫反応が促進される傾向
にあるので、ガス流れを高速にすることによるガスアッ
プフロー部での脱硫性能向上に加えて、さらにガス流速
が速いガスダウンフロー部でも大幅に脱硫性能が向上す
る。特に、ガスダウンフロー部で吸収液スプレーを上向
き（向流）に噴霧する場合には、脱硫性能の向上が格別
顕著である。上記のように、ガスダウンフロー部での脱
硫効率が高くなれば、従来の図６に示す吸収塔のよう
に、ガスアップフロー部用及びガスダウンフロー部用に
それぞれ循環ポンプを設置する必要がなくなり、ガスア
ップフロー部及びガスダウンフロー部における吸収液の
循環は同一の循環ポンプにて行うことができる。したが
って、従来に比べて設備費、運転費の削減が図れ、配置
上にも余裕ができる。また、高速ガス流の中に吸収液を
噴霧するので、排ガス中のばいじんと噴霧液との相対速
度が速くなり、ばいじん捕集性能が向上する。さらに、
ガスダウンフロー部で吸収液スプレーを上向き（向流）
に噴霧する場合には、ばいじん捕集性能が大幅に向上す
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。図１〜図３は、本発明の実施の形態
によるスプレー式吸収塔を示している。本実施の形態
は、例えば、吸収剤として石灰石を用いる湿式排煙脱硫
方法（石灰石・石膏法）の実施に使用されるスプレー式
吸収塔において、吸収塔内のガス流れ方向が塔頂部で反
転してガスアップフロー部とガスダウンフロー部が形成
されるような仕切板を、ガスアップフロー部の断面積と
ガスダウンフロー部の断面積との比が４：１〜２：１の
範囲となるような位置に設けて、ガスダウンフロー部で
の排ガスの流速を６m／s以上とするものであり、吸収液
スラリーの噴霧方向を、ガスアップフロー部では下向
き、ガスダウンフロー部では上向きとし、吸収塔のガス
出口形状を反転形状として、さらに、ミスト分離板を設
けたものである。なお、本実施の形態では、仕切部材と
して仕切板を用いているが、他の形態の仕切部材を用い
ることも可能である。
て詳細に説明する。図１〜図３は、本発明の実施の形態
によるスプレー式吸収塔を示している。本実施の形態
は、例えば、吸収剤として石灰石を用いる湿式排煙脱硫
方法（石灰石・石膏法）の実施に使用されるスプレー式
吸収塔において、吸収塔内のガス流れ方向が塔頂部で反
転してガスアップフロー部とガスダウンフロー部が形成
されるような仕切板を、ガスアップフロー部の断面積と
ガスダウンフロー部の断面積との比が４：１〜２：１の
範囲となるような位置に設けて、ガスダウンフロー部で
の排ガスの流速を６m／s以上とするものであり、吸収液
スラリーの噴霧方向を、ガスアップフロー部では下向
き、ガスダウンフロー部では上向きとし、吸収塔のガス
出口形状を反転形状として、さらに、ミスト分離板を設
けたものである。なお、本実施の形態では、仕切部材と
して仕切板を用いているが、他の形態の仕切部材を用い
ることも可能である。
【００１４】図１に示すように、吸収塔内には、ガス流
れ方向が塔頂部近傍で反転するような仕切板５６が設置
されており、排ガスはガス入口ダクト５８より吸収塔内
へ流入し、ガスアップフロー部６０を経て塔頂部近傍に
て反転し、ガスダウンフロー部６２を経てガス出口ダク
ト６４より排出される。上述したように、仕切板５６
は、ガスアップフロー部６０の断面積とガスダウンフロ
ー部６２の断面積との比が４：１〜２：１の範囲となる
位置に設置し、かつ、ガスダウンフロー部６２での排ガ
ス流速を６m／s以上としている。吸収液スラリーは、吸
収塔下部の吸収液タンク６６から循環ポンプ６８により
吸収液循環配管７０を経て、図１及び図２に示すよう
に、ガスアップフロー部６０とガスダウンフロー部６２
のそれぞれに設置された循環スプレーヘッダー７２、７
４に振り分けられ、さらに分岐スプレー管７３、７５に
分配されて、それぞれのスプレーノズル７６、７８より
噴霧され、排ガス中の硫黄酸化物を吸収する。なお、本
実施の形態では、吸収液スラリーを、ガスアップフロー
部６０では下向きに、ガスダウンフロー部６２では上向
きに噴霧している。ただし、ガスダウンフロー部６２で
吸収液スラリーを下向きに噴霧する構成とすることも可
能である。また、吸収液タンク６６には、新しく調製さ
れた吸収剤スラリー（石灰石・石膏法では、石灰石スラ
リー）が吸収剤供給ライン８０より供給される。
れ方向が塔頂部近傍で反転するような仕切板５６が設置
されており、排ガスはガス入口ダクト５８より吸収塔内
へ流入し、ガスアップフロー部６０を経て塔頂部近傍に
て反転し、ガスダウンフロー部６２を経てガス出口ダク
ト６４より排出される。上述したように、仕切板５６
は、ガスアップフロー部６０の断面積とガスダウンフロ
ー部６２の断面積との比が４：１〜２：１の範囲となる
位置に設置し、かつ、ガスダウンフロー部６２での排ガ
ス流速を６m／s以上としている。吸収液スラリーは、吸
収塔下部の吸収液タンク６６から循環ポンプ６８により
吸収液循環配管７０を経て、図１及び図２に示すよう
に、ガスアップフロー部６０とガスダウンフロー部６２
のそれぞれに設置された循環スプレーヘッダー７２、７
４に振り分けられ、さらに分岐スプレー管７３、７５に
分配されて、それぞれのスプレーノズル７６、７８より
噴霧され、排ガス中の硫黄酸化物を吸収する。なお、本
実施の形態では、吸収液スラリーを、ガスアップフロー
部６０では下向きに、ガスダウンフロー部６２では上向
きに噴霧している。ただし、ガスダウンフロー部６２で
吸収液スラリーを下向きに噴霧する構成とすることも可
能である。また、吸収液タンク６６には、新しく調製さ
れた吸収剤スラリー（石灰石・石膏法では、石灰石スラ
リー）が吸収剤供給ライン８０より供給される。
【００１５】吸収塔のガス出口部の形状は、排ガスがガ
スダウンフロー部６２下流から反転してガス出口ダクト
６４に流れるような形状となっており、排ガス中の吸収
液ミストは、ガス出口部での反転による慣性力と、ガス
出口ダクト６４近傍に設置されたミスト分離板８２によ
り除去され、さらに、出口ミストエリミネータ８４によ
り規制値以下の値まで除去される。なお、図１では、ガ
ス出口ダクト６４をやや上向きに設けているが、ガスダ
ウンフロー部６２下流で反転した排ガスの流れ方向に沿
うようになっていれば、ガス出口ダクト６４を他の形態
とすることも勿論可能である。例えば、図４に示すよう
に、ガス出口ダクト６４を略水平方向に設けてもよい。
なお、ミスト分離板を設けない構成とすることも可能で
ある。ガス入口ダクト５８より吸収塔内へ流入した排ガ
ス中の硫黄酸化物は、ガスアップフロー部６０及びガス
ダウンフロー部６２での吸収液スプレーにより吸収され
るが、本実施の形態では、吸収塔内に内蔵するミストエ
リミネータを設けないで、高速のガス流速を確保してい
るために、脱硫性能は向上し、特にガス流速を６m／s以
上と速くしているガスダウンフロー部６２では、吸収液
スラリーを上向きに噴霧（向流スプレー）していること
もあり、従来よりも大幅に高い脱硫率を達成することが
できる。その結果、従来の図６に示す吸収塔のように、
ガスダウンフロー部において、新しい吸収剤を多く含ん
だ吸収液を噴霧するためのガスダウンフロー部用の循環
ポンプを別に設置する必要がなく、ガスアップフロー部
と同一の循環ポンプを使用すればよい。
スダウンフロー部６２下流から反転してガス出口ダクト
６４に流れるような形状となっており、排ガス中の吸収
液ミストは、ガス出口部での反転による慣性力と、ガス
出口ダクト６４近傍に設置されたミスト分離板８２によ
り除去され、さらに、出口ミストエリミネータ８４によ
り規制値以下の値まで除去される。なお、図１では、ガ
ス出口ダクト６４をやや上向きに設けているが、ガスダ
ウンフロー部６２下流で反転した排ガスの流れ方向に沿
うようになっていれば、ガス出口ダクト６４を他の形態
とすることも勿論可能である。例えば、図４に示すよう
に、ガス出口ダクト６４を略水平方向に設けてもよい。
なお、ミスト分離板を設けない構成とすることも可能で
ある。ガス入口ダクト５８より吸収塔内へ流入した排ガ
ス中の硫黄酸化物は、ガスアップフロー部６０及びガス
ダウンフロー部６２での吸収液スプレーにより吸収され
るが、本実施の形態では、吸収塔内に内蔵するミストエ
リミネータを設けないで、高速のガス流速を確保してい
るために、脱硫性能は向上し、特にガス流速を６m／s以
上と速くしているガスダウンフロー部６２では、吸収液
スラリーを上向きに噴霧（向流スプレー）していること
もあり、従来よりも大幅に高い脱硫率を達成することが
できる。その結果、従来の図６に示す吸収塔のように、
ガスダウンフロー部において、新しい吸収剤を多く含ん
だ吸収液を噴霧するためのガスダウンフロー部用の循環
ポンプを別に設置する必要がなく、ガスアップフロー部
と同一の循環ポンプを使用すればよい。
【００１６】さらに、ガス流速の増加と向流スプレーの
効果により、吸収塔でのばいじん除去率が従来よりも向
上する。また、ガス出口部でのガス流れの反転による慣
性力と出口部に設置したミスト分離板８２により、出口
ミストエリミネータ８４の入口ミスト量が、従来の図６
に示す吸収塔の出口ミストエリミネータの入口に比べて
大幅に低減され、出口ミストエリミネータへの負荷を軽
減することができる。なお、本実施の形態において、図
２に示すように、ガスアップフロー部６０とガスダウン
フロー部６２のそれぞれに循環スプレーヘッダー７２、
７４を設置する構成とする以外にも、例えば、図３に示
すように、１本の循環スプレーヘッダー８６を仕切板５
６に貫通させて、ガスアップフロー部６０とガスダウン
フロー部６２に吸収液スラリーを噴霧する構成とするこ
ともできる。
効果により、吸収塔でのばいじん除去率が従来よりも向
上する。また、ガス出口部でのガス流れの反転による慣
性力と出口部に設置したミスト分離板８２により、出口
ミストエリミネータ８４の入口ミスト量が、従来の図６
に示す吸収塔の出口ミストエリミネータの入口に比べて
大幅に低減され、出口ミストエリミネータへの負荷を軽
減することができる。なお、本実施の形態において、図
２に示すように、ガスアップフロー部６０とガスダウン
フロー部６２のそれぞれに循環スプレーヘッダー７２、
７４を設置する構成とする以外にも、例えば、図３に示
すように、１本の循環スプレーヘッダー８６を仕切板５
６に貫通させて、ガスアップフロー部６０とガスダウン
フロー部６２に吸収液スラリーを噴霧する構成とするこ
ともできる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例について説明す
る。図１に示すようなスプレー式吸収塔において、ガス
アップフロー部の断面積とガスダウンフロー部の断面積
との比が３．３：１となるような位置に仕切板を設置
し、流速８m／sで排ガスをガス入口ダクトから流入させ
た。この場合、ガスアップフロー部内での排ガス流速は
３m／sであり、断面積が１／３．３となるガスダウンフ
ロー部では排ガス流速が約３．３倍となって、ガスダウ
ンフロー部内での排ガス流速は約１０m／sとなった。本
実施例では、内蔵ミストエリミネータを省略して高速の
ガス流速を確保しているために、脱硫性能は向上し、特
にガス流速を約１０m／sと速くしているガスダウンフロ
ー部では、向流スプレー効果もあって、従来よりも大幅
に高い脱硫率を達成することができた。その結果、ガス
アップフロー部及びガスダウンフロー部における吸収液
の循環を同一の循環ポンプで行うことができる。さら
に、ガス流速の増加と向流スプレーの効果により、吸収
塔でのばいじん除去率が、従来に比べて、７０％から８
０％に向上した。また、ガス出口部でのガス流れの反転
による慣性力と出口部に設置したミスト分離板により、
出口ミストエリミネータの入口ミスト量が、従来の図６
に示す吸収塔の出口ミストエリミネータの入口に比べ
て、１００g／m3Nから６０g／m3Nに低減され、出口ミス
トエリミネータへの負荷を軽減することができた。
る。図１に示すようなスプレー式吸収塔において、ガス
アップフロー部の断面積とガスダウンフロー部の断面積
との比が３．３：１となるような位置に仕切板を設置
し、流速８m／sで排ガスをガス入口ダクトから流入させ
た。この場合、ガスアップフロー部内での排ガス流速は
３m／sであり、断面積が１／３．３となるガスダウンフ
ロー部では排ガス流速が約３．３倍となって、ガスダウ
ンフロー部内での排ガス流速は約１０m／sとなった。本
実施例では、内蔵ミストエリミネータを省略して高速の
ガス流速を確保しているために、脱硫性能は向上し、特
にガス流速を約１０m／sと速くしているガスダウンフロ
ー部では、向流スプレー効果もあって、従来よりも大幅
に高い脱硫率を達成することができた。その結果、ガス
アップフロー部及びガスダウンフロー部における吸収液
の循環を同一の循環ポンプで行うことができる。さら
に、ガス流速の増加と向流スプレーの効果により、吸収
塔でのばいじん除去率が、従来に比べて、７０％から８
０％に向上した。また、ガス出口部でのガス流れの反転
による慣性力と出口部に設置したミスト分離板により、
出口ミストエリミネータの入口ミスト量が、従来の図６
に示す吸収塔の出口ミストエリミネータの入口に比べ
て、１００g／m3Nから６０g／m3Nに低減され、出口ミス
トエリミネータへの負荷を軽減することができた。
【００１８】
【発明の効果】本発明は上記のように構成されているの
で、つぎのような効果を奏する。 （１） 吸収塔内のガス流れ方向が塔頂部近傍で反転す
るような仕切板を、ガスアップフロー部の断面積とガス
ダウンフロー部の断面積との比が４：１〜２：１の範囲
となるような位置に設けて、ガスダウンフロー部での排
ガスの流速を６〜１６m／sの範囲となるようにしている
ので、吸収塔高さが低くなって装置がコンパクトになる
だけでなく、高い効率で排ガス中の硫黄酸化物やばいじ
んを除去することができる。 （２） 従来方式の図５におけるガス出口ダクトを吸収
塔内に内蔵し、さらにこの部分を吸収部として利用する
ので、吸収塔及びガス出口ダクトを含め、ガス出口ダク
トの省略、吸収塔高さの低減により、装置全体がコンパ
クトになる。 （３） ガスダウンフロー部でのガス流速が６m／s以上
と速くなるので、吸収塔のガス出口形状を、排ガスがガ
スダウンフロー部下流から反転してガス出口ダクトに流
れるような形状とし、ガス出口ダクト近傍にミスト分離
板を設けることにより、反転形状となっている吸収塔出
口部での慣性力とミスト分離板により排ガス中のミスト
を除去することができる。したがって、吸収塔内に内蔵
したミストエリミネータを設ける必要がなく、しかも、
出口ミストエリミネータへの負荷も大きくならない。ま
た、内蔵ミストエリミネータを省略できるので、高速ガ
ス流とすることが可能になる。 （４） ガス流速の増加により、吸収液と排ガスとの接
触が活発となり脱硫反応が促進されるので、ガス流れを
高速にすることによるガスアップフロー部での脱硫性能
向上に加えて、さらにガス流速が速いガスダウンフロー
部でも大幅に脱硫性能が向上する。特に、ガスダウンフ
ロー部で吸収液スプレーを上向き（向流）に噴霧する場
合には、脱硫性能の向上が格別顕著である。 （５） ガスダウンフロー部での脱硫効率が高くなる結
果、ガスアップフロー部用及びガスダウンフロー部用に
それぞれ循環ポンプを設置する必要がなくなり、ガスア
ップフロー部及びガスダウンフロー部における吸収液の
循環を同一の循環ポンプで行うことができる。したがっ
て、従来に比べて設備費、運転費の削減が図れ、配置上
の考慮も不要となる。 （６） 高速ガス流の中に吸収液を噴霧するので、排ガ
ス中のばいじんと噴霧液との相対速度が速くなり、ばい
じん捕集性能が向上する。さらに、ガスダウンフロー部
で吸収液スプレーを上向き（向流）に噴霧する場合に
は、ばいじん捕集性能が大幅に向上する。
で、つぎのような効果を奏する。 （１） 吸収塔内のガス流れ方向が塔頂部近傍で反転す
るような仕切板を、ガスアップフロー部の断面積とガス
ダウンフロー部の断面積との比が４：１〜２：１の範囲
となるような位置に設けて、ガスダウンフロー部での排
ガスの流速を６〜１６m／sの範囲となるようにしている
ので、吸収塔高さが低くなって装置がコンパクトになる
だけでなく、高い効率で排ガス中の硫黄酸化物やばいじ
んを除去することができる。 （２） 従来方式の図５におけるガス出口ダクトを吸収
塔内に内蔵し、さらにこの部分を吸収部として利用する
ので、吸収塔及びガス出口ダクトを含め、ガス出口ダク
トの省略、吸収塔高さの低減により、装置全体がコンパ
クトになる。 （３） ガスダウンフロー部でのガス流速が６m／s以上
と速くなるので、吸収塔のガス出口形状を、排ガスがガ
スダウンフロー部下流から反転してガス出口ダクトに流
れるような形状とし、ガス出口ダクト近傍にミスト分離
板を設けることにより、反転形状となっている吸収塔出
口部での慣性力とミスト分離板により排ガス中のミスト
を除去することができる。したがって、吸収塔内に内蔵
したミストエリミネータを設ける必要がなく、しかも、
出口ミストエリミネータへの負荷も大きくならない。ま
た、内蔵ミストエリミネータを省略できるので、高速ガ
ス流とすることが可能になる。 （４） ガス流速の増加により、吸収液と排ガスとの接
触が活発となり脱硫反応が促進されるので、ガス流れを
高速にすることによるガスアップフロー部での脱硫性能
向上に加えて、さらにガス流速が速いガスダウンフロー
部でも大幅に脱硫性能が向上する。特に、ガスダウンフ
ロー部で吸収液スプレーを上向き（向流）に噴霧する場
合には、脱硫性能の向上が格別顕著である。 （５） ガスダウンフロー部での脱硫効率が高くなる結
果、ガスアップフロー部用及びガスダウンフロー部用に
それぞれ循環ポンプを設置する必要がなくなり、ガスア
ップフロー部及びガスダウンフロー部における吸収液の
循環を同一の循環ポンプで行うことができる。したがっ
て、従来に比べて設備費、運転費の削減が図れ、配置上
の考慮も不要となる。 （６） 高速ガス流の中に吸収液を噴霧するので、排ガ
ス中のばいじんと噴霧液との相対速度が速くなり、ばい
じん捕集性能が向上する。さらに、ガスダウンフロー部
で吸収液スプレーを上向き（向流）に噴霧する場合に
は、ばいじん捕集性能が大幅に向上する。
【図１】本発明の実施の形態によるスプレー式吸収塔を
示す概略構成図である。
示す概略構成図である。
【図２】本発明の実施の形態におけるスプレー式吸収塔
の循環スプレーヘッダーの配置の一例を示す平面断面図
である。
の循環スプレーヘッダーの配置の一例を示す平面断面図
である。
【図３】本発明の実施の形態におけるスプレー式吸収塔
の循環スプレーヘッダーの配置の他の例を示す平面断面
図である。
の循環スプレーヘッダーの配置の他の例を示す平面断面
図である。
【図４】スプレー式吸収塔のガス出口ダクトまわりの他
の例を示す部分概略図である。
の例を示す部分概略図である。
【図５】従来のスプレー式吸収塔の一例を示す概略構成
図である。
図である。
【図６】従来のスプレー式吸収塔の他の例を示す概略構
成図である。
成図である。
１０、３０、５８ ガス入口ダクト １２、３６、６４ ガス出口ダクト １４、３８、６６ 吸収液タンク １６、４０、４６、６８ 循環ポンプ １８、４２、４８ スプレーヘッダー ２０、４４、５０ ノズル ２２ 内蔵ミストエリミネータ ２４、５２、８４ 出口ミストエリミネータ ２６、５４、８０ 吸収剤供給ライン ２８、５６ 仕切板 ３２、６０ ガスアップフロー部 ３４、６２ ガスダウンフロー部 ７０ 吸収液循環配管 ７２、７４、８６ 循環スプレーヘッダー ７３、７５ 分岐スプレー管 ７６、７８ スプレーノズル ８２ ミスト分離板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｄ 53/77 Ｂ０１Ｄ 53/34 １２５Ｅ (56)参考文献 特開 平９−313880（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−182147（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−117543（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−334524（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 53/50 B01D 53/77
Claims (1)
- 【請求項１】 吸収塔下部の吸収液タンクから循環ポン
プにより循環供給される吸収液スラリーが、吸収塔内上
部に設けられた少なくとも１段のスプレーヘッダーのノ
ズルから噴霧されて、ガス入口ダクトから吸収塔内に流
入した排ガス中の硫黄酸化物及びばいじんが除去される
とともに、吸収塔内に内蔵されたガス出口ダクトから排
出される排ガス中の吸収剤のミストが出口ミストエリミ
ネータで除去されるようにしたスプレー式吸収塔であっ
て、 吸収塔内のガス流れ方向が塔頂部近傍で反転してガスア
ップフロー部とガスダウンフロー部が形成されるような
仕切部材が、吸収液と排ガスとの接触を活発にし、か
つ、排ガス中のばいじんと吸収液との相対速度を速くす
るために、ガスアップフロー部の断面積とガスダウンフ
ロー部の断面積との比が４：１〜２：１の範囲となるよ
うな位置に設けられ、スプレーヘッダーのノズルから噴
霧される吸収液スラリーの噴霧方向が、ガスアップフロ
ー部では略下向きであり、ガスダウンフロー部では略上
向き又は略下向きであり、吸収塔のガス出口形状が、排
ガスがガスダウンフロー部下流から反転してガス出口ダ
クトに流れるような形状であり、ガス出口ダクト近傍
に、吸収塔出口部で反転したミストを含む排ガスからミ
ストを除去するためのミスト分離板が設けられ、ガス出
口ダクトがガスダウンフロー部下流で反転した排ガスの
流れ方向に沿うようにやや上向きに設けられ、ガスアッ
プフロー部及びガスダウンフロー部におけるそれぞれの
スプレーヘッダーのノズルから噴霧される吸収液スラリ
ーの循環が、吸収液タンクに接続された同一の循環ポン
プで行われるようにしたことを特徴とするスプレー式吸
収塔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09098013A JP3140392B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | スプレー式吸収塔 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09098013A JP3140392B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | スプレー式吸収塔 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10272335A JPH10272335A (ja) | 1998-10-13 |
| JP3140392B2 true JP3140392B2 (ja) | 2001-03-05 |
Family
ID=14207937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09098013A Expired - Lifetime JP3140392B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | スプレー式吸収塔 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3140392B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109550376A (zh) * | 2017-09-26 | 2019-04-02 | 萍乡市普天高科实业有限公司 | 一种用于烟气脱硫脱硝的设备及其工艺 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1707877A1 (de) * | 2005-03-18 | 2006-10-04 | Lurgi Lentjes AG | Rauchgasreinigungsvorrichtung mit geteiltem Waschflüssigkeitssumpf |
| US8292992B2 (en) * | 2008-01-29 | 2012-10-23 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Flue gas desulfurization apparatus |
| JP5437151B2 (ja) * | 2010-04-27 | 2014-03-12 | バブコック日立株式会社 | 排煙脱硫装置及びこれを備えた酸素燃焼装置と方法 |
| CN103321885A (zh) * | 2013-06-21 | 2013-09-25 | 上海宝钢节能技术有限公司 | 一种湿法脱硫工艺中浆液循环泵的节能控制系统和方法 |
| JP6212401B2 (ja) | 2014-01-31 | 2017-10-11 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 排ガス処理装置 |
| WO2018179052A1 (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-04 | 株式会社加来野製作所 | 脱煙脱臭装置 |
| PL72438Y1 (pl) * | 2018-02-12 | 2022-03-07 | Przed Handlowo Uslugowe Eko Win Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia | Urządzenie do odpylania na mokro |
| JP2022037258A (ja) * | 2018-12-28 | 2022-03-09 | Ａｃａ株式会社 | 排ガスの有害物質除去装置 |
-
1997
- 1997-03-31 JP JP09098013A patent/JP3140392B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109550376A (zh) * | 2017-09-26 | 2019-04-02 | 萍乡市普天高科实业有限公司 | 一种用于烟气脱硫脱硝的设备及其工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10272335A (ja) | 1998-10-13 |
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