JP3138163B2 - Mosfetを用いた双方向電流阻止スイッチ、及びそれを用いたスイッチ回路及び電源選択方法 - Google Patents

Mosfetを用いた双方向電流阻止スイッチ、及びそれを用いたスイッチ回路及び電源選択方法

Info

Publication number
JP3138163B2
JP3138163B2 JP06321658A JP32165894A JP3138163B2 JP 3138163 B2 JP3138163 B2 JP 3138163B2 JP 06321658 A JP06321658 A JP 06321658A JP 32165894 A JP32165894 A JP 32165894A JP 3138163 B2 JP3138163 B2 JP 3138163B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
region
mosfet
terminal
switch
potential
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP06321658A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0837302A (ja
Inventor
リチャード・ケイ・ウィリアムズ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Vishay Siliconix Inc
Original Assignee
Siliconix Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/159,900 external-priority patent/US5536977A/en
Application filed by Siliconix Inc filed Critical Siliconix Inc
Publication of JPH0837302A publication Critical patent/JPH0837302A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3138163B2 publication Critical patent/JP3138163B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/78Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/7801DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
    • H01L29/7802Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors
    • H01L29/7803Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors structurally associated with at least one other device
    • H01L29/7806Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors structurally associated with at least one other device the other device being a Schottky barrier diode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/78Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/78Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/7801DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
    • H01L29/7802Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/78Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/7833Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with lightly doped drain or source extension, e.g. LDD MOSFET's; DDD MOSFET's
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02JCIRCUIT ARRANGEMENTS OR SYSTEMS FOR SUPPLYING OR DISTRIBUTING ELECTRIC POWER; SYSTEMS FOR STORING ELECTRIC ENERGY
    • H02J1/00Circuit arrangements for dc mains or dc distribution networks
    • H02J1/10Parallel operation of dc sources
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02JCIRCUIT ARRANGEMENTS OR SYSTEMS FOR SUPPLYING OR DISTRIBUTING ELECTRIC POWER; SYSTEMS FOR STORING ELECTRIC ENERGY
    • H02J7/00Circuit arrangements for charging or depolarising batteries or for supplying loads from batteries
    • H02J7/0013Circuit arrangements for charging or depolarising batteries or for supplying loads from batteries acting upon several batteries simultaneously or sequentially
    • H02J7/0024Parallel/serial switching of connection of batteries to charge or load circuit
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02JCIRCUIT ARRANGEMENTS OR SYSTEMS FOR SUPPLYING OR DISTRIBUTING ELECTRIC POWER; SYSTEMS FOR STORING ELECTRIC ENERGY
    • H02J7/00Circuit arrangements for charging or depolarising batteries or for supplying loads from batteries
    • H02J7/0029Circuit arrangements for charging or depolarising batteries or for supplying loads from batteries with safety or protection devices or circuits
    • H02J7/0031Circuit arrangements for charging or depolarising batteries or for supplying loads from batteries with safety or protection devices or circuits using battery or load disconnect circuits
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02JCIRCUIT ARRANGEMENTS OR SYSTEMS FOR SUPPLYING OR DISTRIBUTING ELECTRIC POWER; SYSTEMS FOR STORING ELECTRIC ENERGY
    • H02J7/00Circuit arrangements for charging or depolarising batteries or for supplying loads from batteries
    • H02J7/0029Circuit arrangements for charging or depolarising batteries or for supplying loads from batteries with safety or protection devices or circuits
    • H02J7/0034Circuit arrangements for charging or depolarising batteries or for supplying loads from batteries with safety or protection devices or circuits using reverse polarity correcting or protecting circuits
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02JCIRCUIT ARRANGEMENTS OR SYSTEMS FOR SUPPLYING OR DISTRIBUTING ELECTRIC POWER; SYSTEMS FOR STORING ELECTRIC ENERGY
    • H02J9/00Circuit arrangements for emergency or stand-by power supply, e.g. for emergency lighting
    • H02J9/04Circuit arrangements for emergency or stand-by power supply, e.g. for emergency lighting in which the distribution system is disconnected from the normal source and connected to a standby source
    • H02J9/06Circuit arrangements for emergency or stand-by power supply, e.g. for emergency lighting in which the distribution system is disconnected from the normal source and connected to a standby source with automatic change-over, e.g. UPS systems
    • H02J9/061Circuit arrangements for emergency or stand-by power supply, e.g. for emergency lighting in which the distribution system is disconnected from the normal source and connected to a standby source with automatic change-over, e.g. UPS systems for DC powered loads
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/08Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage
    • H03K17/082Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage by feedback from the output to the control circuit
    • H03K17/0822Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage by feedback from the output to the control circuit in field-effect transistor switches
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/6871Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor
    • H03K17/6874Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor in a symmetrical configuration
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/693Switching arrangements with several input- or output-terminals, e.g. multiplexers, distributors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/08Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
    • H01L27/085Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
    • H01L27/088Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K2217/00Indexing scheme related to electronic switching or gating, i.e. not by contact-making or -breaking covered by H03K17/00
    • H03K2217/0018Special modifications or use of the back gate voltage of a FET

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はMOSFETを用いた双
方向電流阻止スイッチに関する。特に、このようなスイ
ッチを用いた双方向電流阻止スイッチ回路に関する。
【0002】
【従来の技術】ノートブック型コンピュータ等の、バッ
テリーから電力を供給される装置を利用する場合、バッ
テリーを再充電するまで長時間利用できる装置が要求さ
れてきた。この要求によって、第1バッテリー、第2バ
ッテリー、・・・が順番に装置に接続された、カスケー
ド接続されたバッテリー回路が開発された。このような
回路には、よくAC/DCコンバータが備わっており、
近くにAC電源があるときは、バッテリーの電力を節約
することができる。外付けのバックアップ用バッテリー
のための接続部が設けられることもある。
【0003】そのような回路が図1に例示されている。
第1バッテリーB1と第2バッテリーB2が各々スイッ
チS1とS2を介して負荷Lに接続されており、この負
荷Lは、例えばノートブック型コンピュータに電力を供
給するDC/DCコンバータであってもよい。電源の接
続は、バスBを通して行われる。
【0004】バスBには、AC/DCコンバータC3が
接続されており、このAC/DCコンバータC3はスイ
ッチS3を介して電力を供給する。第1バッテリーB1
から供給される電圧はV1、第2バッテリーB2から供
給される電圧はV2、AC/DCコンバータC3から供
給される電圧はV3である。バックアップ用バッテリー
B4もまたバスBに接続されている。
【0005】この複数のバッテリーを備えた回路の動作
時は、通常、スイッチS1、S2及びS3の何れか1つ
が閉じ、その他のスイッチは開いた状態となっている。
例えば、第1のバッテリーB1から電力が供給される場
合、スイッチS1が閉じ、スイッチS2及びS3は開い
ている。
【0006】電源が投入若しくは遮断される時、スイッ
チS1、S2及びS3の両端の電圧は、その大きさと方
向の両方が変わることがある。このことが図2〜図4に
例示されている。図2に示されるように、例えば、バッ
テリーB2の出力電圧V2は、ある時刻で14Vとなる
ことがある。そのときバッテリーB2から電力が供給さ
れるているとすると、バス電位Vbusも14Vとなる。
バッテリーB1は、十分に充電されている場合、その出
力電圧V1は18Vとなる。この場合、スイッチS1の
左側の方が高電位になる。一方、バッテリーB1が放電
し、例えば、V1=6Vとなっている以外は同じ状態を
仮定すると、この場合、スイッチS1の右側が高電位に
なる。その様子が図3に示されている。第3の例が図4
に例示されており、この例ではバッテリーB1は放電
し、バッテリーB2は十分に充電されていて、バスBは
AC/DCコンバータC1によって電力を供給されてい
る。この例では、V1=6V、V2=17V、V3=12
Vとなっている。この場合、スイッチS1はその右側が
高電位となり、スイッチS2はその左側が高電位とな
る。
【0007】要するに、スイッチS1〜S3のいずれ
も、どちらの方向の電圧にも耐えられなければならな
い。確実にわかっているのは、これらのスイッチに印加
される電位は、全てグランド電位よりは高いということ
だけである。
【0008】前記回路にはまた、図5に例示されている
ような内部充電器が備え付けられていてもよい。充電器
C5は、スイッチS4を介してバッテリーB1に接続さ
れており、かつスイッチS5を介してバッテリーB2に
接続されている。充電器C5には、AC/DCコンバー
タC3の出力端から電力を供給するか、(所望に応じ
て)AC電源から直接電力を供給することもできる。図
6に例示されているように、充電器C5は、バッテリー
を迅速に充電するために、24V程度の高い電圧を出力
することができる。図6に例示された状態では、バッテ
リーB2が充電中で、バッテリーB1の出力電圧V1は
12Vである。従って、スイッチS4は、12Vの電位
差に耐えなければならない。しかしながら、繰り返し充
電可能なバッテリーは、十分に放電することで寿命が延
びることが知られているので、V1は6V以下になるこ
ともあり、この場合スイッチS4は、その左側が高電位
となり、18V以上の電圧に耐えなければならない。一
方、充電器C5は、動作していないときは短絡特性若し
くは漏れ特性を示すので、その時スイッチS4及びS5
は逆方向の電圧に耐えなければならない。従って、スイ
ッチS4及びS5は、双方向電流阻止スイッチでなけれ
ばならない。
【0009】上述された事柄は、スイッチS1〜S5が
機械的なスイッチからなる場合、問題とならない。しか
し、このようなスイッチは半導体技術、特にMOSFE
T技術を用いて製造されることが好ましい。電力用MO
SFETは通常ソース・ボディ間が短絡されて製造さ
れ、内在する(intrinsic)バイポーラトラン
ジスタ(ソース領域、ボディ領域及びドレイン領域によ
って形成されている)が常にターンオフした状態とな
ようになっている。従来技術によると、ソース・ボディ
間を良好に短絡することが、信頼性が高く、“寄生バイ
ポーラトランジスタ”の影響のない電力用MOSFET
の動作にとって基本的であると教えている。
【0010】ソース領域とボディ領域とを短絡すること
によって、MOSFETのドレイン端子とボディ端子と
の間に、MOSFETと電気的に並列なダイオードが形
成される。PチャネルMOSFETでは、ダイオードの
アノードはドレインに接続されており、NチャネルMO
SFETでは、ダイオードのカソードがドレインに接続
されている。従って、このようなMOSFETでは、ソ
ース・ボディ端子とドレイン端子との間に、“逆並列”
ダイオードが順方向バイアスされるような電圧を印加し
てはならない。図7〜図10では、各々、バーチカルN
チャネルDMOS(二重拡散MOSFET)の逆並列ダ
イオードの極性(図7)と、バーチカルPチャネルDM
OSデバイスの逆並列ダイオードの極性(図8)と、ラ
テラルNチャネルデバイスの逆並列ダイオードの極性
(図9)と、ラテラルNチャネルDMOSデバイスの逆
並列ダイオードの極性(図10)とが破線によって表さ
れている。
【0011】従って、従来のMOSFETは双方向の電
流を阻止することはできないため、スイッチS1〜S5
として用いるのには適していない。図2〜図4には、例
として、スイッチS1間及びスイッチS2間の逆並列ダ
イオードが描かれていて、そのアノード端子及びカソー
ド端子は各スイッチを流れる電流を阻止するのに必要な
向きとなっている。しかし、スイッチにかかる電圧の極
性が反転すると、逆並列ダイオードは順方向バイアスさ
れることになる。
【0012】この問題の1つの解決法は、図11〜図1
3に模式的に例示されているように、2個のMOSFE
Tを背中合わせに接続することである。図11は、共通
のソースを有する一対のNMOS素子を例示しており、
図12は共通のドレインを有する一対のNMOS素子を
例示しており、図13は共通のソースを有する一対のP
MOS素子を例示している。しかし、このような背中合
わせの配列ではスイッチのオン抵抗が2倍となってしま
い、コンピュータ若しくはその他の装置に供給される電
力を大きく減少させてしまう。
【0013】更に、回路の中で充電器を用いていると、
充電器とバッテリーとの間の接続が逆方向になることが
ある。例えば、充電器に用いられるコネクタには極性反
転可能なものがあり、更に充電器には出力電圧の向きが
反転可能なスイッチを備えているものがある。このよう
な場合、バッテリーを切り離すための双方向電流阻止可
能スイッチは正電位でなく負電位にさらされることがあ
る。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の第1
の目的は通常のMOSFETを用いたオン抵抗の小さ
い、しかしドレイン領域とボディ領域との間の逆並列ダ
イオードが動作しない双方向電流阻止スイッチを提供す
ることである。
【0015】また、本発明の第2の目的は、充電器を逆
方向に接続した状態にも耐えることができるように保護
回路を備えた双方向電流阻止スイッチを提供することで
ある。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明に従った双方向電流阻止スイッチが提供され
る。このスイッチは双方向電流阻止MOSFETを有し
ており、このMOSFETはゲートと、ソース領域と、
ボディ領域と、ドレイン領域とを備えている。これらの
領域はそれぞれ端子と接合している。このMOSFET
のソース領域とボディ領域は短絡されていない。ソース
領域と、ボディ領域と、ドレイン領域の各電位は、ソー
ス領域とボディ領域との間の接合部及びドレイン領域と
ボディ領域との間の接合部が決して順バイアスされない
ように印加される。
【0017】また、例えば充電器の逆方向の接続などに
よる負電位にも耐えられるように、双方向電流阻止スイ
ッチは保護回路を備えていることが望ましい。即ち、ソ
ース・ボディ間が短絡され、背中合わせに直列に結合さ
れた一対のMOSFETが、双方向電流阻止MOSFE
Tのソース端子とゲートとの間に接続される。(このソ
ース端子が充電器に接続される。)この直列に結合され
たMOSFETの各ゲートはグランドに接続される。ま
た、ソース・ボディ間が短絡された第3のMOSFET
が、双方向電流阻止MOSFETのボディ端子とソース
端子との間に接続され、この第3のMOSFETのゲー
トは双方向電流阻止MOSFETのドレイン端子に接続
される。(このドレイン端子がバッテリーと接続され
る。)
【0018】ソース・ボディ間が短絡されていないMO
SFETを、背中合わせに結合された一対のMOSFE
Tの代わりに用いてもよい。
【0019】
【作用】本発明による双方向電流阻止スイッチは双方向
電流阻止MOSFETを有している。このMOSFET
はゲートと、ソース領域と、ボディ領域と、ドレイン領
域とを備えている。これらの領域はそれぞれ端子と接合
している。このMOSFETのソース領域とボディ領域
は短絡されていない。ソース領域とドレイン領域の電位
はどちらもボディ領域の電位より高くも(Nチャネルデ
バイスの時)低くも(Pチャネルデバイスの時)なり得
る。ソース領域と、ボディ領域と、ドレイン領域の電位
はソース領域とボディ領域との間の接合部及びドレイン
領域とボディ領域との間の接合部が決して順バイアスさ
れないように印加される。
【0020】ある好適実施例では、デバイスは4端子の
NチャネルMOSFETであり、ボディ領域がグランド
に接続されており、ソース端子とドレイン端子の電位は
グランド電位より決して低くならない。従って、P型の
ボディ領域(Pボディ領域)とN型のソース領域若しく
はドレイン領域(N領域)との間の接合部は決して順バ
イアスされない。デバイスをオン状態若しくはオフ状態
にするゲート電位の変化速度が速く、負荷が概ね容量性
または抵抗性(ただし誘導性ではない)であると仮定す
ると、ソース領域とボディ領域とドレイン領域とで形成
される内在する寄生バイポーラトランジスタは動作状態
とならない。
【0021】更に、この双方向電流阻止スイッチのオン
抵抗はNチャネルDMOSスイッチとPチャネルDMO
Sスイッチ(しばしば“バイラテラルスイッチ”と呼ば
れる)のどちらと比べても大幅に小さい。
【0022】本発明による双方向電流阻止スイッチは、
どちらの方向にも電流を流すことができ、またソース電
位の方がドレイン電位より高くても、ドレイン電位の方
がソース電位より高くても電流を阻止することができ
る。即ち、本発明による双方向電流阻止スイッチは、ふ
たつの異なった電源から供給されるふたつの異なった電
位間にながれる電流を阻止することができる。ソース端
子とドレイン端子のどちらも、固定の、または調整され
た電位である必要はない。双方向電流阻止スイッチがオ
ン状態になると、瞬時にスイッチの両端の電位は概ね等
しくなる。(“ソース”や“ドレイン”といった呼び方
はしばしばMOSFETの端子を特定するのに用いられ
るが、どちらの端子も他方に対してより高い電位になり
得る。)
【0023】本発明の他の側面に従うと、双方向電流阻
止スイッチは、例えば充電器の逆方向の接続などによっ
て発生する負電位にも耐えることができる。即ち、ソー
ス・ボディ間が短絡され、背中合わせに直列に結合され
た一対のMOSFETが、双方向電流阻止MOSFET
のソース端子とゲートとの間に接続される。(このソー
ス端子が充電器に接続される。)この直列に結合された
MOSFETの各ゲートはグランドに接続される。ま
た、ソース・ボディ間が短絡された第3のMOSFET
が、双方向電流阻止MOSFETのボディ端子とソース
端子との間に接続され、この第3のMOSFETのゲー
トは双方向電流阻止MOSFETのドレイン端子に接続
される。(このドレイン端子がバッテリーと接続され
る。)
【0024】別の実施例では、ソース・ボディ間が短絡
されていないMOSFETが背中合わせに結合された一
対のMOSFETの代わりに用いられる。
【0025】
【実施例】本特許出願は特許出願第08/159,90
0号(1993年11月30日出願)の一部継続出願で
ある。本特許出願は、特許出願第08/160,560
号(1993年11月30日出願)及び特許出願第08
/160,539号(1993年11月30日出願)と
も関連しており、両特許出願は、ここで言及されたこと
によって本出願の一部とされたい。
【0026】図14は本発明に従った双方向電流阻止ス
イッチ(MOSFETスイッチ)70及び71を用いた
スイッチ回路の実施例として、複数の電源を備えた回路
を図示している。双方向電流阻止スイッチ70は出力電
圧V1のバッテリー72に接続され、双方向電流阻止ス
イッチ71は出力電圧V2のAC/DCコンバータ73
に接続されている。AC/DCコンバータ73は他のバ
ッテリーであってもよい。双方向電流阻止スイッチ70
と71は出力電圧VOUTを負荷に供給するバス74と接
続されている。図14中には2つの電源と、2つのスイ
ッチとが図示されているが、明らかなように、組み込ま
れるバッテリーその他の電源の数はいくつであってもよ
い。
【0027】双方向電流阻止スイッチ70はラテラルM
OSFETであり、その断面図が図示されている。双方
向電流阻止スイッチ70は、基板75中に、ストライプ
状またはセル状に形成されていることが好ましい。本実
施例では基板75はP型半導体である。N+領域76及
び77はP型基板75の表面に形成されており、N+領
域76と77との間にチャネル領域78がある。ゲート
79はチャネル領域78の上方に形成されており、チャ
ネル領域78とは酸化膜80によって分離されている。
端子81を介してN+領域76とバッテリー72が接続
され、端子82を介してN+領域77とバス74が接続
されている。ゲート79にはゲート電位VG1が印加され
る。明らかなように、双方向電流阻止スイッチ70は対
称性を有する素子であり、N+領域76と77は、どち
らがソース領域でどちらがドレイン領域であるとは特定
できない。どちらの領域も互いに相手に対して正にも負
にもバイアスされ得る。
【0028】P型基板75とN+領域76との間の接合
部はダイオードD1で表され、P型基板75とN+領域
77との間の接合部はダイオードD2で表される。
【0029】通常、ゲート電位VG1が低く保持されてい
るときは双方向電流阻止スイッチ70はオフ状態とな
り、高電位になると双方向電流阻止スイッチ70はオン
状態となる。P型基板75は接地されており、端子81
及び82は正電位にしかなり得ないため、双方向電流阻
止スイッチ70がオフ状態の時、常にダイオードD1、
D2は両方とも逆方向にバイアスされる。従って、双方
向電流阻止スイッチ70をオフ状態にすることによっ
て、端子81の電位が、端子82の電位より高くても低
くてもどちらでも電流を阻止できる。
【0030】N+領域76、77のどちらもP型基板7
5とは短絡されていない。ソース・ボディ間は短絡され
ていないが、ゲート79に於けるオン/オフ時間が(容
量性の)負荷の応答時間に比べて速ければ、N+領域7
6、77、及びP型基板75とで形成されるNPNバイ
ポーラトランジスタは動作状態にならない。この回路は
ソースホロワのように、即ち、概ね高電位である側に関
するドレイン共通回路として動作するため、MOSFE
Tがオン状態になると、瞬時にダイオードD2を逆方向
にバイアスするソース電位が生じ、それによって、バイ
ポーラトランジスタはオフ状態に保たれる。言い換える
と、導通開始時、MOSFETにチャネルが形成される
と、MOSFETの両側の電位は概ね等電位になる。放
電されたバッテリーや負荷によって低電位が供給され、
電源や十分に充電されたバッテリーによって高電位が供
給されるとすると、スイッチが動作状態になると、低電
位側の電位は高電位側の電位近くまで上昇する。導通開
始時に、たとえ低電位側の端子電位がグランド電位だっ
たとしても、導通が始まることによって、瞬時に低電位
側の電位はグランド電位より高くなり、接合部は逆方向
にバイアスされる。ゲートはスイッチングの遷移時間が
最短になるように高速でドライブされるのが望ましい。
どちらのN+端子(即ちソース端子またはドレイン端
子)も恒久的に接地されていないということは、本発明
の双方向電流阻止スイッチの特徴である。更にバッテリ
ーのようにエネルギーが有限で、時間と共に電圧が下が
るような電源に接続することができることも、特徴とし
て挙げられる。従って、双方向電流阻止可能スイッチ
は、“高電位側”スイッチ(即ち、回路を動作させたい
ときにはいつも存在する、固定された正電位を供給する
ラインに恒久的に接続されたスイッチ)ではない。バッ
テリーは放電するし、ACアダプタでさえ、プラグが引
き抜かれることがあり得る。同様に、双方向電流阻止可
能スイッチは“低電位側”スイッチでもなく、その両端
はどちらも恒久的に接地されてはいない。そのかわり、
双方向電流阻止可能スイッチは、導通状態の時は導通方
向が逆転可能なソースホロアとして動作する。即ち、高
電位側はドレインとして動作し、低電位側はソースとし
て動作する。
【0031】双方向電流阻止スイッチ71は双方向電流
阻止スイッチ70とほぼ同じだが、端子83と84とを
備え、ゲート電位VG2によって制御される。端子81乃
至84の電位がどのようであっても、双方向電流阻止ス
イッチ70、71にかかる電圧が内部のダイオードの降
伏電圧より低ければ、双方向電流阻止スイッチ70、7
1は、それぞれ、対応する電位VG1、VG2を低くするこ
とで、電流の流れを阻止することができる。内部ダイオ
ードの降伏電圧は通常8V乃至14Vである。従って、
双方向電流阻止スイッチ70、71を制御し、スイッチ
内の逆並列ダイオードが順方向にバイアスされる心配な
く、バッテリー72やAC/DCコンバータ73を選択
的に接続したり、あるいは切り離したりすることができ
る。本発明によるスイッチは図1と図6に示されている
S1〜S5のどのスイッチにも適用可能である。
【0032】ゲート電位VG1、VG2を双方向電流阻止ス
イッチ70、71をオン状態にするのに必要なレベルま
でドライブするための構成は、上記の特許出願第08/
160,560号に記載されている。
【0033】双方向電流阻止スイッチ70、71は断面
図では通常のラテラルNチャネルMOSFETとして表
されているが、典型的には200mΩ以下で、概ね60
mΩの低いオン抵抗を実現するため、双方向電流阻止ス
イッチ70、71はそれぞれ、幅Wの大きなゲートを備
えているということは特記すべきであろう。更に、MO
SFETの通常の運用ではソース端子とドレイン端子の
両方にふたつ以上の電源から発生した電位が加えられる
ということはない。またMOSFETが双方向動作可能
なソースホロワとして動作するということ、即ちどちら
の端子が電流を供給する高電位側端子(NMOSの場合
はドレイン端子)として働き、どちらの端子が負荷を通
して電流をグランドへ流す低電位側端子(NMOSの場
合はソース端子)として働くかということが決められず
に動作するということも通常ない。通常のソースホロワ
では、例えば、一方の端子は直接、または間接的に電源
や、バスに接続され、他方の端子は常にソースホロワの
出力となっている。言い換えると、バッテリー(または
バス)電位とドレイン電位とソース電位との間には方向
に於いて永続的な関係が存在する(即ち、前記の順に高
くなる)。この関係は、ある時間にどちらの側が高電位
になっているかわからない双方向電流阻止スイッチに対
しては価値がない。同様に、双方向電流阻止スイッチ7
0、71は論理アレイのNチャネルトランスミッション
ゲート(パストランジスタ論理と呼ばれる)とは異なっ
ている。なぜなら、そのような論理アレイにはひとつの
電源しか存在しないからである。
【0034】図15は本発明に従って電源P10とP20と
の間に接続されたスイッチS0の一般的な場合を模式的
に図示している。電源P10とP20の電圧はそれぞれV10
とV20である。スイッチS0はV10>V20の時も、V10
<V20の時も電流を阻止することができ、またP10から
P20へも、P20からP10へも電流を流すことができる。
電源P20を第2のスイッチS0’によって完全に回路か
ら切り離すこともできる。
【0035】図16は、より大きな電位差(例えば15
V、18V、及び24V)にも耐えることのできる、双
方向電流阻止スイッチ70、71のドリフト領域付加バ
ージョンの説明図である。双方向電流阻止スイッチ90
はN−ドリフト領域92と93とを備えており、それら
は酸化物領域94に加えられる電界強度を制限する役割
を果たす。N−ドリフト領域については、1993年8
月17日にウィリアムズに対して付与された米国特許第
5,237,193号に詳細に記述されており、この特
許は本明細書中に引証として加えられる。規定の動作範
囲に渡ってデバイスが電流を流すことができるように、
ゲートをグランドに対して十分に正にバイアスしなけれ
ばならないため、ゲートをチャネル領域から分離してい
る酸化物領域94はゲート電圧の最大値に確実に耐えら
れるように十分に厚くなければならない。状態によって
双方向電流阻止スイッチ90のどちらの側も“ドレイ
ン”として動作するので、ドリフト領域はチャネル領域
の両側になければならない。
【0036】図16に示されたドリフト領域を有する実
施例は、双方向電流阻止スイッチの両端に加えられた電
圧が約14Vより大きい場合にも有効である。このよう
な場合でも、ドリフト領域があることによってゲート酸
化物が強電界にさらされるのを防ぐことができる。
【0037】スイッチをオン状態にするため双方向電流
阻止スイッチ90のゲート電位は固定値とするか、ある
いはV1より少し高い電位とする。ゲート電位がグラン
ドに対して固定値の時(例えば30V)、標準的なゲー
ト酸化物の厚さ(200〜400オングストローム)で
は、スイッチがオン状態になった時ゲートと基板間の電
圧を支えられず、より厚いゲート酸化物(例えば700
オングストローム以上)を用いなければならない。もし
ゲート電位が低電位側の端子電位より10V高いだけの
電位に制限され、この端子電位と共に上昇するなら、よ
り厚い酸化物は必要ない。
【0038】図17と図18は図14に示された双方向
電流阻止スイッチ70の2つの状態を例示している。図
17で、双方向電流阻止スイッチ70のゲートは接地さ
れ、双方向電流阻止スイッチ70はオフ状態となり、そ
の結果バッテリー72とAC/DCコンバータ73は切
り離されている。このような状況は、例えば、AC/D
Cコンバータが負荷に電力を供給しているようなとき生
じる。V2がV1より高いとすると、ダイオードD2によ
って、電流が双方向電流阻止スイッチ70を流れるのが
阻止されている。
【0039】図18は、双方向電流阻止スイッチ70の
ゲートがグランドに対して少なくとも1V高くバイアス
されている状態を示している。双方向電流阻止スイッチ
70はこの時オン状態となり、その結果バッテリー72
によって静電容量Cloadと抵抗Rloadとを有する負荷9
5に電力を供給することができる。
【0040】図19〜図22は本発明に従った双方向電
流阻止スイッチの別の利点、即ちオン抵抗の大幅な改善
を図示している。図19はラテラルNチャネルMOSF
ETまたはバーチカルNチャネルMOSFETの表面領
域を表す領域Aを示している。領域Aのオン抵抗はRn
で表され、通常1cm2あたり1mΩである。Pチャネル
のデバイスは、ホールの移動度が電子の移動度に比べ小
さいため、オン抵抗はRnの約2.5倍を示す。電圧が
約20Vより小さいときは、単位面積当たりのオン抵抗
は、ラテラルMOSFETとバーチカルMOSFETで
はほとんど等しい。ソース・ボディ間を短絡するための
無駄な領域を必要としないため、ラテラルMOSFET
の単位面積当たりのセル数は、バーチカルMOSFET
の約2倍あるが、ラテラルMOSFETのセルの半分は
ドレインセルであるのに対し、バーチカルDMOSで
は、ドレインは基板の底面にある。
【0041】図19〜図22の説明に戻ると、図20
は、2Aの面積を有する背中合わせに結合されたNチャ
ネルDMOSのオン抵抗を表している。デバイスは直列
に接続されるため、この場合のオン抵抗は2Rnとな
る。図21に示されるように、Pチャネルデバイスに対
しては背中合わせに結合されたMOSFETのオン抵抗
は約5Rnとなる。
【0042】図22は、本発明によるデバイスはひとつ
のMOSFETしか必要としないため、MOSFETは
直列よりもむしろ並列に結合できるということを図示し
ている。並列に接続された一対のNチャネルMOSFE
Tのオン抵抗はRn/2であり、図20に示されている
背中合わせに結合されたNチャネルMOSFETと比べ
ると1/4、図21に示されている背中合わせに結合さ
れたPチャネルMOSFETと比べると1/10となっ
ている。NチャネルMOSFETひとつの双方向電流阻
止スイッチのオン抵抗も小さいと考えられる。というの
は、低電位側の端子の電位に応じてゲートドライブが増
加し、チャネルの抵抗を一定に保つからである。
【0043】図23は、図5と図6に示されている充電
器C5が双方向電流阻止スイッチであるスイッチS4に
逆向きに接続されたときに生じる問題を図示している。
スイッチS4は、ソース・ボディ間が短絡されていない
NチャネルMOSFET Mを備えている。ダイオード
D8はMOSFET Mのボディ領域とソース領域との
間の接合部を表している。例として充電器C5の出力電
圧は約14Vとし、バッテリーB1の出力電圧は4Vと
する。この時、もし充電器C5が逆方向に接続される
と、MOSFET Mのソース端子の電位は−14Vと
なり、スイッチS4の両端にはトータルで18Vの電圧
がかかることとなる。このようになると、MOSFET
Mと内在するバイポーラトランジスタは両方ともオン
状態となり、スイッチS4は破壊される。(MOSFE
T Mに内在するバイポーラトランジスタは図27中に
トランジスタQ3として示されている。)
【0044】図24〜図28はこの問題を解決しようと
してうまくいかなかったいくつかの技術とその問題点を
示している。図24では、ショットキーダイオードSD
1がMOSFET Mのボディ端子とソース端子との間
に接続されている。抵抗RBはショットキーダイオード
SD1に流れる電流を制限する抵抗である。ショットキ
ーダイオードSD1は内在するバイポーラトランジスタ
のベース・エミッタ間電圧を効果的に0.2Vに抑え、
バイポーラトランジスタがオン状態になるのを完全に防
止する。抵抗RBはショットキーダイオードSD1に流
れる電流を制限する。しかし、ゲート・ソース間電圧が
大きくなるため(14V)、MOSFET Mは完全に
オン状態になってしまい、スイッチS4は過大な電流の
ため破壊されてしまう。図25では、ショットキーダイ
オードSD1はグランドとMOSFET Mのソース端
子との間に接続されている。この構成では、過大な電流
がショットキーダイオードSD1に流れ、ショットキー
ダイオードSD1はそれによって破壊されてしまう。抵
抗RBをショットキーダイオードSD1と直列に接続す
ると、ショットキーダイオードSD1はMOSFET
Mをオフ状態に保つという役割を果たさなくなる。図2
5で、ダイオードD9はMOSFET Mのボディ領域
とドレイン領域との接合部を表している。上記の通り、
ダイオードD8はMOSFET Mのボディ領域とソー
ス領域との接合部を表している。
【0045】図26に示されている構成で、バイポーラ
トランジスタQ1とショットキーダイオードSD2はM
OSFET Mのゲートとソース端子との間に接続され
ている。第2のバイポーラトランジスタQ2はMOSF
ET Mのボディ端子とソース端子との間に接続されて
いる。ここで、充電器C5と接続されているMOSFE
T Mの端子をソース端子と呼び、バッテリーB1に接
続されているMOSFET Mの端子をドレイン端子と
呼んでいる。トランジスタQ2のベース電位は4Vであ
るため、トランジスタQ2はオン状態になり、それによ
ってMOSFET Mのボディ・ソース間電圧は約0.
2Vである飽和電圧Vce(sat)となる。これにより、M
OSFET Mに内在するバイポーラトランジスタがオ
ン状態になることは完全に防げる。しかし、トランジス
タQ1とショットキーダイオードSD1との組み合わせ
によって、MOSFET Mのゲート・ソース間電圧V
GSは約0.5Vまで上昇し、これによってMOSFET
Mはオン状態になってしまう。従って、図26に示さ
れている構成では、充電器C5が逆方向に接続されたと
きにはスイッチS4をオフ状態に保つことはできない。
ベース・コレクタ間電圧、ベース・エミッタ間電圧が共
に順方向にバイアスされているため、トランジスタQ1
及びQ2は、飽和状態となっている。
【0046】図27と図28に示されるように、これら
の問題はスイッチS4の温度が上昇するにつれ、より顕
著になり、スイッチS4を通って大きな電流が流れると
き生じやすい。高温下では、MOSFET Mに内在す
るトランジスタの増幅率は大きくなり、MOSFET
Mの閾値電圧は低下する。更に、ソース領域とボディ領
域間の接合部(ダイオードD8)が部分的に順バイアス
されることにより閾値電圧が低下する“アンチボディ効
果”によっても、MOSFET Mはオン状態になりや
すくなる。図27と図28は、内在するバイポーラトラ
ンジスタQ3を含むものとして、スイッチS4を表して
いる。
【0047】図29はスイッチS4を流れるドレイン電
流IDとゲート・ソース間電圧及びソース・ボディ間電
圧との関係をMOSFET Mのドレイン・ソース間電
圧VDSの関数として示している。図29で、VGSはMO
SFET Mのゲート・ソース間電圧を示し、VBはM
OSFET Mのソースを基準としたボディ電位を示し
ている。図29から明らかなように、VGSが0.5Vに
等しく、VBが0.2Vに等しいときドレイン電流IDは
VDSが約18V付近で急激に増加する。言い換えると、
デバイスは大電流が流れる境界領域にあり、製造上のば
らつきや、温度のちょっとした逸脱があると、デバイス
は破壊されてしまう。理想的には、VGS=0、VB=0
の曲線の“角張った”I−V特性が望ましい。
【0048】図30は、本発明の一側面に従った、保護
回路を備えた双方向電流阻止スイッチを図示している。
スイッチS4は上記したようにソース・ボディ間が短絡
されていないMOSFET Mを有している。ダイオー
ドD8はMOSFET Mのボディ領域とソース領域の
接合部を、ダイオードD9はMOSFET Mのボディ
領域とドレイン領域の接合部を表す。MOSFET M
のドレイン電位はVX、MOSFET Mのソース電位
はVY、MOSFET Mのボディ電位はVB、MOSF
ET Mのゲート電位はVGで表される。上述した特許
出願第08/160,560号に記載されているゲート
ドライバGD1が抵抗RGを介してMOSFET Mの
ゲートをドライブするために用いられている。
【0049】MOSFET M3とM4はMOSFET
Mのゲートとソース端子との間に接続されている。M
OSFET M3とM4はソース端子を共有するよう
に、直列に接続されている。MOSFET M3とM4
のゲートは共に接地されている。ダイオードD5とD6
はそれぞれMOSFET M3とM4に内在する逆並列
ダイオードを表している。
【0050】MOSFET M2はMOSFET Mの
ボディ端子とソース端子との間に接続されている。MO
SFET M2のソース端子はMOSFET Mのボデ
ィ端子に接続され、MOSFET M2のドレイン端子
はMOSFET Mのソース端子に接続されている。ダ
イオードD7はMOSFET M2に内在する逆並列ダ
イオードを表している。MOSFET M2のゲートは
MOSFET Mのドレイン端子に接続されており、電
位VXにバイアスされている。
【0051】図30に示されているバスBは充電器、バ
ックアップ用バッテリー、車のライターのアダプタ、そ
の他の電源に接続することができる。
【0052】ここで、保護回路は図5中のスイッチS4
と共に図示されているが、明らかなように、もし充電器
C5がバスBに接続していたなら、保護回路はスイッチ
S1と共に用いることもできる。
【0053】図31〜図34は、この回路のいくつかの
異なった状況に於ける動作状態を図示している。図31
は、抵抗RGを介してMOSFET Mのゲートに接続
されたゲートドライバGD1の出力VZが、スイッチS
4をオフ状態とするべくグランド電位となっている状況
模式的に表している(図32、図33についても同
様)。図31では、充電器C5が逆方向に接続されてい
るためMOSFET Mのソース電位は−14Vとな
り、バッテリーB1によりMOSFET Mのドレイン
電位は+4Vとなっている。MOSFET M3のゲー
ト電位が、VYにバイアスされているMOSFET M
3の端子電位より14V高くなるため、MOSFET
M3はオン状態になる。その結果、MOSFET M3
とMOSFET M4の共通端子の電位がVYになり、
これはMOSFET M4のゲート電位より14V低い
ため、MOSFET M4はオン状態になる。その結
果、MOSFET Mのゲート電位はほぼ−14Vに保
持され、MOSFET Mはオフ状態となる。
【0054】MOSFET M2のゲート電位は+4V
なので、MOSFET M2はオン状態になり、効果的
にMOSFET Mのソース・ボディ間を短絡する。抵
抗RBの値がMOSFET M2のオン抵抗に比べはる
かに大きいため、VBはほとんどVYに等しくなる。この
ため、MOSFET M内のバイポーラトランジスタは
オン状態にならない。
【0055】その結果、この場合にはMOSFET M
とMOSFET Mに内在するバイポーラトランジスタ
は共にオフ状態のままとなるため、この回路を用いない
場合には18Vの電位差によってスイッチS4に流れる
大きな電流を防ぐことができる。
【0056】図32はスイッチS4が3Vのバックアッ
プ用バッテリーに接続されている正常な動作状態につい
て図示している。スイッチS4にかかっている電圧は1
Vである。この場合、MOSFET M3とM4のゲー
トは両方とも接地されているので、MOSFET M3
とM4は共にオフ状態である。従って、MOSFETM
のゲートは接地され、MOSFET Mはオフ状態であ
る。MOSFETM2はオン状態となり、MOSFET
Mのボディ領域とソース領域とを短絡するが、VX>
VYであるため、このことによって問題は発生しない。
従って、ダイオードD8が短絡される一方で、ダイオー
ドD9の逆方向バイアスは維持される。図33は、充電
器C5が正しく接続され、MOSFET Mのゲートが
ゲートドライバGD1によってオフ状態になるようにバ
イアスされている状況を図示している。MOSFET
M3とM4は共にオフ状態で、MOSFET Mのゲー
トは接地されており、MOSFET Mをオフ状態にし
ている。VY>VXであるため、MOSFET M2によ
って、ダイオードD9を順方向にバイアスしないように
VBを確立しなければならない。MOSFET M2は
オン状態になるが、MOSFET M2のソース電位は
VYと同じ14Vまでは上昇しない。替わりに、MOS
FET M2のゲート電位に追従する。実際、MOSF
ET Mのボディ電位(VB)はMOSFET M2の
ゲート電位からMOSFET M2の閾値電圧とMOS
FET M2を流れるドレイン電流に依存する電圧降下
とを足した値を差し引いた値に等しい。
【0057】 VB=VX−(Vt(M2)+(ID(M2)/K(M2))0.5) (式1)
【0058】ここで、Vt(M2)、ID(M2)、K
(M2)は、それぞれMOSFETM2の閾値電圧、ド
レイン電流、伝達導電率因子である。
【0059】この式から、VBは常にVXより低くなるこ
とは明らかである。従って、ダイオードD9が順バイア
スされることはない。
【0060】図34は、ゲートドライバGD1が例えば
7V以上の電位を伝達し、スイッチS4をオン状態にす
るときの状況を図示している。更に図34は、スイッチ
S4がオン状態のとき、充電器C5が逆方向に接続され
るときの回路の過渡変化を表している。充電器C5の接
続はスイッチS10によって、時刻t=0に行われる。充
電器C5の接続前に、MOSFET M2はオン状態に
なっており、MOSFET M3とM4はオフ状態にな
っている。時刻t=0で、VYは4Vから−14Vに下
がる。MOSFET M2はオン状態を保持し、この電
圧をMOSFET Mのボディ領域へ伝える。MOSF
ET M3とM4はオフ状態からオン状態へ変化し、M
OSFET Mのゲート電位は+7Vから−14Vへ下
がる。
【0061】その結果、MOSFET Mのゲート電位
は−14Vで、MOSFET Mはオフ状態である。同
様に、MOSFET M2がオン状態になることによっ
て、MOSFET Mに内在されるバイポーラトランジ
スタもオフ状態に保たれる。MOSFET Mと内在す
るバイポーラトランジスタが両方ともオフ状態のため、
そうでない場合に発生するであろう、大きな電流からス
イッチS4は保護される。VBはVYのどんな変化にも追
従して変化し、MOSFET M3とM4は瞬時にオン
状態になるため、MOSFET Mを流れる電流は、充
電器を逆向きに接続したときの過渡変化に於いて、瞬時
に抑制される。
【0062】図35と図36は、回路全体がひとつの集
積回路に形成されるような別の実施例を示している。ソ
ース・ボディ間が短絡されていないMOSFET M5
が、MOSFET M3とM4の替わりに接続されてい
る。即ち、MOSFET M5はMOSFET Mと似
ている。
【0063】図36はP型基板に形成された集積回路の
断面図を示している。ゲートドライバGD1によるゲー
ト駆動電位VZが抵抗RGを通してMOSFET Mのゲ
ートとMOSFET M5のソース端子に印加されてい
る。MOSFET Mのソース電位VYはMOSFET
M5のドレイン端子にも加えられている。MOSFE
T M5は環状のデバイスで、中心のソース領域の周り
に環状のゲートと環状のドレイン領域とを備えている。
MOSFET M5のドレイン領域はMOSFET M
2のドレイン領域と接している。MOSFET M2も
同じように環状のデバイスで、中心のソース領域の周り
に環状のゲートと環状のドレイン領域とを備えている。
MOSFET M2のソース領域はP−基板に形成され
たP+領域と短絡されている。明らかなように、MOS
FET M、M2、及びM5のボディ領域は全て同じ電
位VBであるため、絶縁は必要ない。
【0064】図37と図38は、充電器の接続、切り離
しに対するMOSFET Mのゲート電位VGとボディ
電位VBの応答を図示している。図37に於いて、MO
SFET Mは、充電器が逆向きに接続される前はオフ
状態にあり、ゲート電位は0V、ボディ電位は+4Vで
ある。充電器はt=0に接続され、t=30msに切り離
される。過渡変化のスピードは速く、それに伴う振動は
ない。図38は同じ様な過渡変化を示しているが、充電
器の接続による過渡変化前にはMOSFET Mはオン
状態にある。この場合、VGとVBは共に+4Vからt=
0にて瞬時に−14Vに変化する。図37は、図31に
示されている状態に至る過渡変化を表している。図38
は、簡単のためゲート駆動電位VZを+7Vでなく+4
Vにしていること以外は、図34に記載された過渡変化
に対応している。
【0065】上記の実施例はあくまでも例示を意図して
おり、本発明を限定するものではない。当業者にとって
は明らかなように、本発明に従った変形実施例が多く考
えられる。例えば、図30と図35に図示された保護回
路は、例えば図11〜図13に図示された背中合わせに
結合されたMOSFETのような、他のタイプの双方向
電流阻止スイッチと組み合わせて用いることもできる。
このような実施例は全て本発明の請求範囲に含まれるべ
きものである。
【0066】
【発明の効果】上述したように本発明によれば、ソース
・ボディ間が短絡されていないMOSFETを双方向電
流阻止スイッチに用いることにより、オン抵抗を小さく
することができ、かつドレイン領域とボディ領域との間
の逆並列ダイオードが動作しないようにできる。
【0067】また、保護回路を有する双方向電流阻止ス
イッチにより、例えば充電器の逆方向の接続による負電
位にも耐えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】接続スイッチを含む、複数のバッテリー回路の
模式図。
【図2】図1に示されたスイッチのオン/オフによって
形成される電位差の一例を表す図。
【図3】図1に示されたスイッチのオン/オフによって
形成される電位差の一例を表す図。
【図4】図1に示されたスイッチのオン/オフによって
形成される電位差の一例を表す図。
【図5】充電器を含む複数のバッテリー回路の模式図。
【図6】図5のスイッチのオン/オフによって形成され
る電位差の一例を表す図。
【図7】ソース領域とボディ領域が短絡されたバーチカ
ルNチャネル二重拡散MOSFETの断面図。
【図8】ソース領域とボディ領域を短絡されたバーチカ
ルPチャネル二重拡散MOSFETの断面図。
【図9】ソース領域とボディ領域を短絡されたラテラル
NチャネルMOSFETの断面図。
【図10】ソース領域とボディ領域を短絡されたラテラ
ルNチャネル二重拡散MOSFETの断面図。
【図11】背中合わせに接続されたMOSFETからな
る従来の双方向電流阻止スイッチを表す図。
【図12】背中合わせに接続されたMOSFETからな
る従来の双方向電流阻止スイッチを表す図。
【図13】背中合わせに接続されたMOSFETからな
る従来の双方向電流阻止スイッチを表す図。
【図14】本発明に従った双方向電流阻止スイッチを含
む、複数の電源を備えた回路を表す図。
【図15】本発明に従った双方向電流阻止スイッチの一
般的な場合について説明している概念図。
【図16】より大きな電位差でのオン/オフ動作が可能
な、ドリフト領域を有するMOSFETを備えた双方向
電流阻止スイッチを含む、複数の電源を備えた回路を表
す図。
【図17】図14及び図15に図示された双方向電流阻
止スイッチのオフ状態を表す図。
【図18】図14及び図15に図示された双方向電流阻
止スイッチのオン状態を表す図。
【図19】本発明に従った双方向電流阻止スイッチを用
いることによるオン抵抗の減少を図示する概念図のひと
つ。
【図20】本発明に従った双方向電流阻止スイッチを用
いることによるオン抵抗の減少を図示する概念図のひと
つ。
【図21】本発明に従った双方向電流阻止スイッチを用
いることによるオン抵抗の減少を図示する概念図のひと
つ。
【図22】本発明に従った双方向電流阻止スイッチを用
いることによるオン抵抗の減少を図示する概念図のひと
つ。
【図23】充電器の逆方向の接続に対する保護回路のな
い双方向電流阻止スイッチを表す図。
【図24】充電器の逆方向の接続に対する双方向電流阻
止スイッチの保護回路の難しさを示す失敗例を表す図。
【図25】充電器の逆方向の接続に対する双方向電流阻
止スイッチの保護回路の難しさを示す失敗例を表す図。
【図26】充電器の逆方向の接続に対する双方向電流阻
止スイッチの保護回路の難しさを示す失敗例を表す図。
【図27】充電器の逆方向の接続に対する双方向電流阻
止スイッチの保護回路の難しさを示す失敗例を表す図。
【図28】充電器の逆方向の接続に対する双方向電流阻
止スイッチの保護回路の難しさを示す失敗例を表す図。
【図29】充電器の逆方向の接続に対する双方向電流阻
止スイッチの保護回路の難しさを示す失敗例を表す図。
【図30】充電器の逆方向の接続に対する保護回路を備
えた双方向電流阻止スイッチが置かれる状況の一例を表
す図。
【図31】充電器の逆方向の接続に対する保護回路を備
えた双方向電流阻止スイッチが置かれる状況の一例を表
す図。
【図32】充電器の逆方向の接続に対する保護回路を備
えた双方向電流阻止スイッチが置かれる状況の一例を表
す図。
【図33】充電器の逆方向の接続に対する保護回路を備
えた双方向電流阻止スイッチが置かれる状況の一例を表
す図。
【図34】充電器の逆方向の接続に対する保護回路を備
えた双方向電流阻止スイッチが置かれる状況の一例を表
す図。
【図35】保護回路を備えた双方向電流阻止スイッチの
一実施例として、集積回路として形成された状態を表す
図。
【図36】保護回路を備えた双方向電流阻止スイッチの
一実施例として、集積回路として形成された状態を表す
図。
【図37】充電器の逆方向の接続に対する保護回路の試
験結果を表す図。
【図38】充電器の逆方向の接続に対する保護回路の試
験結果を表す図。
【符号の説明】
70 双方向電流阻止スイッチ 71 双方向電流阻止スイッチ 72 バッテリー 73 AC/DCコンバータ 74 バス 75 P型基板 76 N+領域 77 N+領域 78 チャネル領域 79 ゲート 80 酸化膜 81 端子 82 端子 83 端子 84 端子 90 双方向電流阻止スイッチ 91 双方向電流阻止スイッチ 92 N−ドリフト領域 93 N−ドリフト領域 94 酸化物領域 95 負荷 A 領域 B バス B1 第1バッテリー B2 第2バッテリー B4 バックアップ用バッテリー Cload 静電容量 C1 AC/DCコンバータ C3 AC/DCコンバータ C5 充電器 D ドレイン D1 逆並列ダイオード D2 逆並列ダイオード D3 逆並列ダイオード D4 逆並列ダイオード D5 逆並列ダイオード D6 逆並列ダイオード D7 逆並列ダイオード D8 逆並列ダイオード D9 逆並列ダイオード G ゲート GD1 ゲートドライバ Icharge 充電電流 ID ドレイン電流 Iload 負荷電流 L 負荷 M MOSFET M2 MOSFET M3 MOSFET M4 MOSFET M5 MOSFET P10 電源 P20 電源 Q1 バイポーラトランジスタ Q2 バイポーラトランジスタ Q3 バイポーラトランジスタ RB 抵抗 RG 抵抗 Rload 抵抗 Rn オン抵抗 S ソース S/B ソース/ボディ SD1 ショットキーダイオード SD2 ショットキーダイオード S0 スイッチ S0’ スイッチ S1 スイッチ S2 スイッチ S3 スイッチ S4 スイッチ S5 スイッチ S10 スイッチ T 温度 V1 電圧 V2 電圧 V3 電圧 V10 電圧 V20 電圧 VB ボディ電位 Vbatt バッテリーの出力電圧 Vbus バス電位 Vce(sat) 飽和電圧 Vcharger 充電器の出力電圧 VD ドレイン電位 VDS ドレイン・ソース間電圧 VG ゲート電位 VG1 ゲート電位 VG2 ゲート電位 VGS ゲート・ソース間電圧 VOUT 出力電圧 VS ソース電位 VSB ソース・ボディ間電圧 Vshottky ショットキーダイオードの両端の電圧 VX ドレイン電位 VY ソース電位 VZ ゲート駆動電位 W ゲートの幅 X 端子 Y 端子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−170322(JP,A) 特開 昭61−176211(JP,A) 特開 平4−106796(JP,A) 特開 平4−75431(JP,A) 特開 平4−142039(JP,A) 特開 平5−83109(JP,A) 特開 平6−12876(JP,A) 特開 平6−120789(JP,A) 特開 昭57−122574(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 29/78 H03K 17/06 H03K 17/16 H03K 17/687

Claims (47)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 グランド電位より高いか若しくはそれ
    と等しい第1電位V1を供給する第1電源と、 グランド電位より高いか若しくはそれと等しい第2電位
    V2を供給する第2電源と、 MOSFETであって、 半導体基板と、 前記半導体基板に形成され、第1端子に接続された第1
    N領域と、 前記半導体基板に形成され、第2端子に接続された第2
    N領域と、 前記第1N領域と前記第2N領域の間に位置するチャネ
    ル領域を含み、かつグランドに接続されたPボディ領域
    と、 ゲートとを有し、 前記第1N領域と前記第2N領域がどちらも前記Pボデ
    ィ領域に短絡されていない双方向電流阻止MOSFET
    とを有し、 前記第1電源は前記第1端子に接続され、前記第2電源
    は前記第2端子に接続されている ことを特徴とする双方
    向電流阻止スイッチ回路。
  2. 【請求項2】 グランド電位より高いか若しくはそれ
    と等しい第1電位V1を供給する第1電源と、 グランド電位より高いか若しくはそれと等しい第2電位
    V2を供給する第2電源と、 MOSFETであって、 半導体基板と、 前記半導体基板に形成され、第1端子に接続された第1
    N領域と、 前記半導体基板に形成され、第2端子に接続された第2
    N領域と、 前記第1N領域と前記第2N領域の間に位置するチャネ
    ル領域を含み、かつグランドに接続されたPボディ領域
    と、 ゲートと、 更に、前記第1N領域と前記チャネル領域との間に形成
    された第1ドリフト領域と、 前記第2N領域と前記チャネル領域との間に形成された
    第2ドリフト領域とを有し、 この第1ドリフト領域と第2ドリフト領域がN型材料で
    形成され、前記第1ドリフト領域が前記第1N領域より
    も低濃度にドーピングされ、前記第2ドリフト領域が前
    記第2N領域よりも低濃度にドーピングされ、 前記第1N領域と前記第2N領域がどちらも前記Pボデ
    ィ領域に短絡されていない双方向電流阻止MOSFET
    とを有し、 前記第1電源は前記第1端子に接続され、前記第2電源
    は前記第2端子に接続されている ことを特徴とする双方
    向電流阻止スイッチ回路。
  3. 【請求項3】 前記第1電位V1が前記第2電位V2よ
    り高いときも、前記第2電位V2が前記第1電位V1より
    高いときも、前記MOSFETが前記第1端子と前記第
    2端子との間の電流を阻止する能力を有することを特徴
    とする請求項1若しくは請求項2に記載のスイッチ回
    路。
  4. 【請求項4】 前記第1N領域と前記Pボディ領域と
    の間の接合部が第1ダイオードを形成し、前記第2N領
    域と前記Pボディ領域との間の接合部が第2ダイオード
    を形成し、前記第1電位V1と前記第2電位V2がグラン
    ド電位より高いときは常に、前記第1ダイオードと前記
    第2ダイオードが両方とも逆方向にバイアスされること
    を特徴とする請求項1若しくは請求項2に記載のスイッ
    チ回路。
  5. 【請求項5】 前記第1電位V1が前記第2電位V2よ
    り高く、前記ゲートの電位が前記第2電位V2よりも十
    分に高くバイアスされている時、前記第1端子から前記
    第2端子に向かって電流が流れることを特徴とする請求
    項1若しくは請求項2に記載のスイッチ回路。
  6. 【請求項6】 前記第1電位V1が前記第2電位V2よ
    り高く、前記ゲートの電位が前記第2電位V2よりも十
    分に高くバイアスされている時、前記第1端子から前記
    第2端子に向かって電流が流れ、前記第2電位V2が前
    記第1電位V1より高く、前記ゲートの電位が前記第1
    電位V1よりも十分に高くバイアスされている時、前記
    第2端子から前記第1端子に向かって電流が流れること
    を特徴とする請求項1若しくは請求項2に記載のスイッ
    チ回路。
  7. 【請求項7】 複数の電源を備えたスイッチ回路であ
    って、 負荷に接続されているバスに第1MOSFETスイッチ
    を介して接続される、電位V1を供給する第1電源と、 前記バスに第2MOSFETスイッチを介して接続され
    る、電位V2を供給する第2電源とを備え、 前記第1MOSFETスイッチと前記第2MOSFET
    スイッチがそれぞれ、 半導体基板と、 前記半導体基板に形成され、第1端子に接続された第1
    N領域と、 前記半導体基板に形成され、第2端子に接続された第2
    N領域と、 前記第1N領域と前記第2N領域の間に位置するチャネ
    ル領域を含み、かつグランドに接続されたPボディ領域
    と、 ゲートとを有し、 前記第1N領域と前記第2N領域がどちらも前記Pボデ
    ィ領域に短絡されていないMOSFETスイッチからな
    ることを特徴とするスイッチ回路。
  8. 【請求項8】 複数の電源を備えたスイッチ回路であ
    って、 負荷に接続されているバスに第1MOSFETスイッチ
    を介して接続される、電位V1を供給する第1電源と、 前記バスに第2MOSFETスイッチを介して接続され
    る、電位V2を供給する第2電源とを備え、 前記第1MOSFETスイッチと前記第2MOSFET
    スイッチがそれぞれ、 半導体基板と、 前記半導体基板に形成され、第1端子に接続された第1
    N領域と、 前記半導体基板に形成され、第2端子に接続された第2
    N領域と、 前記第1N領域と前記第2N領域の間に位置するチャネ
    ル領域を含み、かつグランドに接続されたPボディ領域
    と、 ゲートと、 更に、前記第1N領域と前記チャネル領域との間に形成
    された第1ドリフト領域と、 前記第2N領域と前記チャネル領域との間に形成された
    第2ドリフト領域とを有し、 この第1ドリフト領域と第2ドリフト領域がN型材料で
    形成され、前記第1ドリフト領域が前記第1N領域より
    も低濃度にドーピングされ、前記第2ドリフト領域が前
    記第2N領域よりも低濃度にドーピングされ、 前記第1N領域と前記第2N領域がどちらも前記Pボデ
    ィ領域に短絡されていないMOSFETスイッチからな
    ることを特徴とするスイッチ回路。
  9. 【請求項9】 前記電位V1が前記バスの電位より高
    いときも低いときも、前記第1MOSFETスイッチが
    電流の流れを阻止する能力を持ち、前記電位V2が前記
    バスの電位より高いときも低いときも、前記第2MOS
    FETスイッチが電流の流れを阻止する能力を持つこと
    を特徴とする請求項7若しくは請求項8に記載のスイッ
    チ回路。
  10. 【請求項10】 前記第1MOSFETスイッチと、
    前記第2MOSFETスイッチのそれぞれに於いて、前
    記第1N領域と前記Pボディ領域との間の接合部が第1
    ダイオードを形成し、前記第2N領域と前記Pボディ領
    域との間の接合部が第2ダイオードを形成し、 前記電位V1と前記バスの電位がグランド電位より高い
    ときは常に、前記第1MOSFETスイッチの前記第1
    ダイオードと前記第2ダイオードが両方とも逆方向にバ
    イアスされ、 前記電位V2と前記バスの電位がグランド電位より高い
    ときは常に、前記第2MOSFETスイッチの前記第1
    ダイオードと前記第2ダイオードが両方とも逆方向にバ
    イアスされることを特徴とする請求項7若しくは請求項
    8に記載のスイッチ回路。
  11. 【請求項11】 前記第1MOSFETスイッチと前
    記第2MOSFETスイッチのそれぞれが、前記ゲート
    の電位が前記第1端子の電位と前記第2端子の電位の低
    い方の電位より十分に高い電位にバイアスされている
    時、一方向にのみ電流を流すことを特徴とする請求項7
    若しくは請求項8に記載のスイッチ回路。
  12. 【請求項12】 前記第1MOSFETスイッチと前
    記第2MOSFETスイッチのそれぞれが、前記ゲート
    の電位が前記第1端子の電位と前記第2端子の電位の低
    い方の電位より十分に高い電位にバイアスされている
    時、双方向に電流を流すことが可能であることを特徴と
    する請求項7若しくは請求項8に記載のスイッチ回路。
  13. 【請求項13】 スイッチ回路であって、 第1バッテリーと、 第2バッテリーと、 負荷に接続されたバスと、 充電器回路とを有し、 更に、 前記第1バッテリーと前記バスとの間に接続された第1
    MOSFETスイッチと、 前記第2バッテリーと前記バスとの間に接続された第2
    MOSFETスイッチと、 前記充電器回路と前記バスとの間に接続された第3MO
    SFETスイッチと、 前記充電器回路と前記第1バッテリーの間に接続された
    第4MOSFETスイッチと、 前記充電器回路と前記第2バッテリーの間に接続された
    第5MOSFETスイッチとを有し、 前記第1、第2、第3、第4、第5の各MOSFETス
    イッチがそれぞれ、 半導体基板と、 前記半導体基板に形成され、第1端子に接続された第1
    N領域と、 前記半導体基板に形成され、第2端子に接続された第2
    N領域と、 前記第1N領域と前記第2N領域の間に位置するチャネ
    ル領域を含み、かつグランドに接続されたPボディ領域
    と、 ゲートとを有し、 前記第1N領域と前記第2N領域がどちらも前記Pボデ
    ィ領域に短絡されていないMOSFETスイッチからな
    ることを特徴とするスイッチ回路。
  14. 【請求項14】 前記第4MOSFETスイッチを閉
    じることによって、前記充電器回路により前記第1バッ
    テリーを充電することができ、それと同時に、前記第2
    MOSFETスイッチを閉じることによって前記第2バ
    ッテリーにより負荷に電力を供給することができること
    を特徴とする請求項13に記載のスイッチ回路。
  15. 【請求項15】 前記第1MOSFETスイッチと前
    記第2MOSFETスイッチが開いた状態で、前記第3
    MOSFETスイッチを閉じることによって、前記充電
    器回路により前記負荷に電力を供給することができるこ
    とを特徴とする請求項13に記載のスイッチ回路。
  16. 【請求項16】 複数の電源から電源を選択する電源
    選択方法であって、 4つの端子を持ち、ソース領域とボディ領域が短絡され
    おらず且つ前記ボディ領域がグランドに接続された
    数のMOSFETを、それぞれ前記各電源と共通バスと
    の間に接続する過程と、 前記複数のMOSFETの内、ただひとつのMOSFE
    Tのゲートの電位を上昇し、このMOSFETのみをオ
    ン状態にし、他のMOSFETはオフ状態のままにして
    おく過程とを有する電源選択方法。
  17. 【請求項17】 半導体基板と、 前記半導体基板に形成され、第1端子に接続された第1
    N領域と、 前記半導体基板に形成され、第2端子に接続された第2
    N領域と、 前記第1N領域と前記第2N領域の間に位置するチャネ
    ル領域を含み、かつグランドに接続されたPボディ領域
    と、 ゲートとを有し、前記第1N領域と前記第2N領域がど
    ちらも前記Pボディ領域に短絡されていない第1MOS
    FETと、 前記第1MOSFETの、前記ゲートと前記第2端子と
    の間に直列に接続された第2MOSFETと第3MOS
    FETと、 前記第1MOSFETの、前記Pボディ領域と前記第2
    端子との間に接続された第4MOSFETとを有し、 前記第4MOSFETのゲートが、前記第1MOSFE
    Tの前記第1端子に接続されていることを特徴とする双
    方向電流阻止スイッチ。
  18. 【請求項18】 前記第2MOSFETのゲートと前
    記第3MOSFETのゲートがグランドに接続されてい
    ることを特徴とする請求項17に記載の双方向電流阻止
    スイッチ。
  19. 【請求項19】 前記第2MOSFETのソース端子
    と、前記第3MOSFETのソース端子とが短絡されて
    いることを特徴とする請求項17に記載の双方向電流阻
    止スイッチ。
  20. 【請求項20】 前記第2MOSFETと前記第3の
    MOSFETがどちらもソース領域とボディ領域を短絡
    されていることを特徴とする請求項17に記載の双方向
    電流阻止スイッチ。
  21. 【請求項21】 半導体基板と、 前記半導体基板に形成され、第1端子に接続された第1
    N領域と、 前記半導体基板に形成され、第2端子に接続された第2
    N領域と、 前記第1N領域と前記第2N領域の間に位置するチャネ
    ル領域を含み、かつグランドに接続されたPボディ領域
    と、 ゲートとを有し、前記第1N領域と前記第2N領域がど
    ちらも前記Pボディ領域に短絡されていない第1MOS
    FETと、 前記第1MOSFETの、前記ゲートと前記第2端子と
    の間に接続された第2MOSFETと、 前記第1MOSFETの、前記Pボディ領域と前記第2
    端子との間に接続された第3MOSFETとを有し、 前記第2MOSFETのソース領域とボディ領域が短絡
    されておらず、前記第2MOSFETの前記ボディ領域
    がグランドに接続され、 前記第3MOSFETのゲートが、前記第1MOSFE
    Tの前記第1端子に接続されていることを特徴とする双
    方向電流阻止スイッチ。
  22. 【請求項22】 前記第2MOSFETのゲートがグ
    ランドに接続されていることを特徴とする請求項21に
    記載の双方向電流阻止スイッチ。
  23. 【請求項23】 集積回路化されたスイッチ回路であ
    って、 P型基板と、 前記P型基板の第1領域によって分離された第1N領域
    と第2N領域と、 前記P型基板の前記第1領域の上方に配置された第1ゲ
    ートと、 前記P型基板の第2領域によって前記第2N領域から分
    離された第3N領域と、 前記P型基板の前記第2領域の上方に配置され、前記P
    型基板に接続された第2ゲートと、 前記第1N領域に接続された第1端子と、 前記第2N領域に接続された第2端子と、 前記第1ゲートと前記第3N領域とに接続された第3端
    子とを有し、 どの前記N領域も前記P型基板に短絡されていないこと
    を特徴とする集積回路化されたスイッチ回路。
  24. 【請求項24】 前記P型基板の第3領域によって前
    記第2N領域から分離された第4N領域と、 前記P型基板の前記第3領域の上方に配置され、前記第
    1端子に接続された第3ゲートとを有することを特徴と
    する請求項23に記載のスイッチ回路。
  25. 【請求項25】 前記第4N領域が前記P型基板に接
    続されていることを特徴とする請求項24に記載のスイ
    ッチ回路。
  26. 【請求項26】 ソース・ボディ間が短絡されていな
    い第1MOSFETと、前記第1MOSFETのゲート
    と第1端子との間に直列に接続された一対のMOSFE
    Tとを有する双方向電流阻止スイッチ。
  27. 【請求項27】 前記第1MOSFETの前記第1端
    子とボディ領域との間に接続された第4MOSFETを
    有し、この第4MOSFETのゲートが前記第1MOS
    FETの第2端子に接続されていることを特徴とする請
    求項26に記載の双方向電流阻止スイッチ。
  28. 【請求項28】 前記一対のMOSFETの各ゲート
    がグランドに接続されていることを特徴とする請求項2
    7に記載の双方向電流阻止スイッチ。
  29. 【請求項29】 ソース・ボディ間が短絡されていな
    い第1MOSFETと、ソース・ボディ間が短絡されて
    いない第2MOSFETとを有し、前記第2MOSFE
    Tが前記第1MOSFETのゲートと第1端子との間に
    接続され、前記第1MOSFETのボディ領域と、前記
    第2MOSFETのボディ領域と、前記第2MOSFE
    Tのゲートとが互いに接続されていることを特徴とする
    双方向電流阻止スイッチ。
  30. 【請求項30】 前記第1MOSFETの前記第1端
    子と前記ボディ領域との間に接続された第3MOSFE
    Tを有し、この第3MOSFETのゲートが前記第1M
    OSFETの第2端子に接続されていることを特徴とす
    る請求項29に記載の双方向電流阻止スイッチ。
  31. 【請求項31】 前記第1MOSFETの前記ボディ
    領域と、前記第2MOSFETの前記ボディ領域と、前
    記第2MOSFETの前記ゲートが接地されていること
    を特徴とする請求項30に記載の双方向電流阻止スイッ
    チ。
  32. 【請求項32】 前記第3のMOSFETのボディ領
    域とソース領域が短絡されていることを特徴とする請求
    項30に記載の双方向電流阻止スイッチ。
  33. 【請求項33】 第1の端子と第2の端子との間の電
    流の流れを阻止する方法であって、前記第1端子におけ
    る電圧と第2端子における電圧は、第1の期間において
    は前記第1端子における第1の電圧が前記第2端子にお
    ける第1の電圧より高く、第2の期間においては前記第
    2端子の第2の電圧が前記第1端子における第2の電圧
    より高くなるように変化し、当該方法は、 第1導電型の第1領域及び第2領域を有し、前記第1領
    域は第2導電型のボディ領域によって前記第2領域から
    分離されており、さらに前記ボディ領域のチャネル領域
    から誘電体によって分離されたゲートを有し、前記第1
    領域と前記第2領域のいずれも前記ボディ領域に短絡さ
    れていないMOSFETを準備する過程と、 前記第1端子を前記第1領域に接続する過程と、 前記第2端子を前記第2領域に接続する過程と、 前記第1端子の電圧及び前記第2端子の電圧が変化する
    とき前記第1領域と前記ボディ領域との間に形成される
    PN接合または前記第2領域と前記ボディ領域との間に
    形成されるPN接合が順バイアスされて電流を導通させ
    ることがないように前記ボディ領域をある電位に維持す
    る過程と、 前記第1の期間において前記第1領域と前記第2領域と
    の間の電流を第1の方向に阻止するべく前記ゲートをバ
    イアスする過程と、 前記第2の期間において前記第1領域と前記第2領域と
    の間の電流を第2の方向に阻止するべく前記ゲートをバ
    イアスする過程とを有することを特徴とする双方向電流
    阻止方法。
  34. 【請求項34】 前記第1領域と前記第2領域との間
    に電流が前記第1方向に流れることを許容するように前
    記ゲートをバイアスする更なる過程を含むことを特徴と
    する請求項33に記載の方法。
  35. 【請求項35】 前記第1領域と前記第2領域との間
    に電流が前記第2方向に流れることを許容するように前
    記ゲートをバイアスする更なる過程を含むことを特徴と
    する請求項34に記載の方法。
  36. 【請求項36】 前記ボディ領域をある電位に維持す
    る過程が、前記ボディ領域を一定の電位に維持する過程
    を含んでいることを特徴とする請求項33に記載の方
    法。
  37. 【請求項37】 前記第1端子における前記第1の電
    圧及び第2の電圧の各々、及び前記第2端子における前
    記第1の電圧及び第2の電圧の各々が、前記一定の電位
    に等しいかまたはそれより高いことを特徴とする請求項
    36に記載の方法。
  38. 【請求項38】 前記一定の電位がグランド電位であ
    ることを特徴とする請求項36に記載の方法。
  39. 【請求項39】 前記第1方向に電流が流れるのを阻
    止する過程と、前記第2方向に電流が流れるのを阻止す
    る過程が、それぞれ、前記ゲートをグランドに接続する
    過程を含んでいることを特徴とする請求項38に記載の
    方法。
  40. 【請求項40】更に、前記第1端子を第1電源に接続す
    る過程を含むことを特徴とする請求項35に記載の方
    法。
  41. 【請求項41】更に、前記第2端子を第2電源に接続す
    る過程を含むことを特徴とする請求項40に記載の方
    法。
  42. 【請求項42】前記第1電源がバッテリを含んでいるこ
    とを特徴とする請求項41に記載の方法。
  43. 【請求項43】前記第2電源がAC/DCコンバータを
    含んでいることを特徴とする請求項42に記載の方法。
  44. 【請求項44】前記第1電源が第1のバッテリを含んで
    おり、前記第2電源が第2のバッテリを含んでいること
    を特徴とする請求項41に記載の方法。
  45. 【請求項45】前記第2端子を負荷に接続する更なる過
    程を含むことを特徴とする請求項41に記載の方法。
  46. 【請求項46】前記第1の方向に電流が流れるのを阻止
    するべく前記ゲートをバイアスする過程の直ぐ後に前記
    第1の方向に電流を流すことを許容するべく前記ゲート
    をバイアスする過程が続き、前記第1の方向に電流を阻
    止するべく前記ゲートをバイアスする過程と前記第1の
    方向に電流を流すことを許容するべく前記ゲートをバイ
    アスする過程との間の遷移時間が、前記負荷の容量性の
    応答時間に比べて速いことを特徴とする請求項45に記
    載の方法。
  47. 【請求項47】前記第1端子をバッテリ充電器に接続す
    る更なる過程を有することを特徴とする請求項41に記
    載の方法。
JP06321658A 1993-11-30 1994-11-30 Mosfetを用いた双方向電流阻止スイッチ、及びそれを用いたスイッチ回路及び電源選択方法 Expired - Lifetime JP3138163B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/159,900 US5536977A (en) 1993-11-30 1993-11-30 Bidirectional current blocking MOSFET for battery disconnect switching
US21958694A 1994-03-29 1994-03-29
US08/159,900 1994-03-29
US08/219,586 1994-03-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0837302A JPH0837302A (ja) 1996-02-06
JP3138163B2 true JP3138163B2 (ja) 2001-02-26

Family

ID=26856433

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP06321658A Expired - Lifetime JP3138163B2 (ja) 1993-11-30 1994-11-30 Mosfetを用いた双方向電流阻止スイッチ、及びそれを用いたスイッチ回路及び電源選択方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5682050A (ja)
EP (1) EP0660520B1 (ja)
JP (1) JP3138163B2 (ja)
DE (2) DE69433808T2 (ja)

Families Citing this family (67)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5536977A (en) * 1993-11-30 1996-07-16 Siliconix Incorporated Bidirectional current blocking MOSFET for battery disconnect switching
US5764032A (en) * 1997-03-06 1998-06-09 Maxim Integrated Products, Inc. Multiple battery switchover circuits
US6593799B2 (en) * 1997-06-20 2003-07-15 Intel Corporation Circuit including forward body bias from supply voltage and ground nodes
DE19757362A1 (de) 1997-12-22 1999-06-24 Nokia Mobile Phones Ltd Spannungsversorgungsvorrichtung, insbesondere für ein Funktelefon in einem Kraftfahrzeug
US6448841B1 (en) * 1998-05-01 2002-09-10 Texas Instruments Incorporated Efficiency charge pump circuit
GB9820904D0 (en) * 1998-09-26 1998-11-18 Koninkl Philips Electronics Nv Bi-directional semiconductor switch and switch circuit for battery-powered equipment
US6172479B1 (en) * 1999-03-04 2001-01-09 Baxter International Inc. Battery control circuit
GB9907021D0 (en) * 1999-03-27 1999-05-19 Koninkl Philips Electronics Nv Switch circuit and semiconductor switch for battery-powered equipment
ATE408272T1 (de) 1999-08-20 2008-09-15 Em Microelectronic Marin Sa System zur steuerung eines zweirichtungs- schalters mit zwei transistoren
US6404269B1 (en) * 1999-09-17 2002-06-11 International Business Machines Corporation Low power SOI ESD buffer driver networks having dynamic threshold MOSFETS
US6628159B2 (en) 1999-09-17 2003-09-30 International Business Machines Corporation SOI voltage-tolerant body-coupled pass transistor
US7564220B2 (en) 2000-09-21 2009-07-21 O2Micro International Ltd. Method and electronic circuit for efficient battery wake up charging
US7348760B2 (en) 2000-09-21 2008-03-25 O2Micro International Limited Power management topologies
US20040145348A1 (en) * 2000-09-21 2004-07-29 Constantin Bucur Power management topologies
TW563282B (en) * 2002-03-22 2003-11-21 Tai-Her Yang Automatic surveillant revolving storage battery auxiliary charge system
US6957048B2 (en) 2002-04-16 2005-10-18 Texas Instruments Incorporated Switching circuit for charge and discharge of multiple battery systems
US6894461B1 (en) 2002-10-11 2005-05-17 Linear Technology Corp. Bidirectional power conversion with multiple control loops
KR20050061574A (ko) * 2002-10-29 2005-06-22 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. 반도체 스위치 및 이를 포함하는 시스템
US8253394B2 (en) * 2004-02-17 2012-08-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Snubber circuit
US20050162139A1 (en) * 2004-01-23 2005-07-28 Mark Hirst Alternating current switching circuit
US20050162140A1 (en) * 2004-01-23 2005-07-28 Mark Hirst Apparatus including switching circuit
US7119999B2 (en) * 2004-03-20 2006-10-10 Texas Instruments Incorporated Pre-regulator with reverse current blocking
JP2006108567A (ja) * 2004-10-08 2006-04-20 Sanyo Electric Co Ltd スイッチング素子およびそれを用いた保護回路
US20060082351A1 (en) * 2004-10-15 2006-04-20 Martins Marcus M Low power operation of back-up power supply
US7568538B2 (en) * 2005-02-02 2009-08-04 Mattel, Inc. Children's ride-on vehicle charging assemblies with back feed protection
JP4938307B2 (ja) * 2005-12-28 2012-05-23 パナソニック株式会社 スイッチ回路、ダイオード
JP4761454B2 (ja) * 2006-02-23 2011-08-31 セイコーインスツル株式会社 充放電保護回路および電源装置
ITMI20060758A1 (it) * 2006-04-14 2007-10-15 Atmel Corp Metodo e circuito per l'alimentazione di tensione per circuiteria di orologio a tempo reale basata su una pompa di carica a tensione regolata
US20080062088A1 (en) * 2006-09-13 2008-03-13 Tpo Displays Corp. Pixel driving circuit and OLED display apparatus and electrionic device using the same
US7760007B2 (en) * 2008-12-11 2010-07-20 Nuvoton Technology Corporation Low voltage analog CMOS switch
US8502594B2 (en) * 2008-12-31 2013-08-06 Linear Technology Corporation Bootstrap transistor circuit
US8063516B2 (en) * 2009-01-15 2011-11-22 Microsemi Corporation Four quadrant MOSFET based switch
FR2948828B1 (fr) * 2009-07-28 2011-09-30 St Microelectronics Rousset Dispositif electronique de protection contre une inversion de polarite d'une tension d'alimentation continue, et application au domaine de l'automobile
US9142951B2 (en) 2009-07-28 2015-09-22 Stmicroelectronics (Rousset) Sas Electronic device for protecting against a polarity reversal of a DC power supply voltage, and its application to motor vehicles
CN101997526B (zh) * 2010-09-21 2012-08-22 上海山景集成电路技术有限公司 能防止电流倒灌的功率管电路
US8528569B1 (en) 2011-06-28 2013-09-10 Kyle D. Newton Electronic cigarette with liquid reservoir
TWM433025U (en) * 2012-03-19 2012-07-01 Richtek Technology Corp Switching voltage regulator with multiple power source input terminals and related power converter
JP6213006B2 (ja) * 2013-07-19 2017-10-18 富士通セミコンダクター株式会社 半導体装置
US9559198B2 (en) 2013-08-27 2017-01-31 Nxp Usa, Inc. Semiconductor device and method of manufacture therefor
US10980273B2 (en) 2013-11-12 2021-04-20 VMR Products, LLC Vaporizer, charger and methods of use
US10076139B2 (en) 2013-12-23 2018-09-18 Juul Labs, Inc. Vaporizer apparatus
PL3498115T3 (pl) 2013-12-23 2021-12-20 Juul Labs International Inc. Systemy urządzeń do odparowywania
US10058129B2 (en) 2013-12-23 2018-08-28 Juul Labs, Inc. Vaporization device systems and methods
TWI751467B (zh) 2014-02-06 2022-01-01 美商尤爾實驗室有限公司 產生可吸入氣膠之裝置及用於該裝置之可分離匣
US10709173B2 (en) 2014-02-06 2020-07-14 Juul Labs, Inc. Vaporizer apparatus
JP6295887B2 (ja) * 2014-08-22 2018-03-20 ミツミ電機株式会社 プラグ付きケーブル及び制御回路及び基板
US9837526B2 (en) 2014-12-08 2017-12-05 Nxp Usa, Inc. Semiconductor device wtih an interconnecting semiconductor electrode between first and second semiconductor electrodes and method of manufacture therefor
US9472662B2 (en) 2015-02-23 2016-10-18 Freescale Semiconductor, Inc. Bidirectional power transistor with shallow body trench
US9443845B1 (en) 2015-02-23 2016-09-13 Freescale Semiconductor, Inc. Transistor body control circuit and an integrated circuit
US10097084B2 (en) * 2015-03-24 2018-10-09 Fairchild Semiconductor Corporation Low voltage switch control
US9245577B1 (en) 2015-03-26 2016-01-26 Western Digital Technologies, Inc. Data storage device comprising spindle motor current sensing with supply voltage noise attenuation
WO2016208685A1 (ja) * 2015-06-26 2016-12-29 オリンパス株式会社 内視鏡電源供給システム
US9716408B2 (en) 2015-07-24 2017-07-25 Google Inc. Redundant residential power sources
US10348295B2 (en) * 2015-11-19 2019-07-09 Nxp Usa, Inc. Packaged unidirectional power transistor and control circuit therefore
CN108028234B (zh) * 2015-12-04 2021-12-31 瑞萨电子株式会社 半导体芯片、半导体器件以及电子器件
MX2018009703A (es) 2016-02-11 2019-07-08 Juul Labs Inc Cartuchos de fijacion segura para dispositivos vaporizadores.
DE202017007467U1 (de) 2016-02-11 2021-12-08 Juul Labs, Inc. Befüllbare Verdampferkartusche
BR112018067606A2 (pt) 2016-02-25 2019-01-08 Juul Labs Inc métodos e sistemas de controle de dispositivo de vaporização
JP6577916B2 (ja) * 2016-07-11 2019-09-18 ミツミ電機株式会社 保護ic
US10855271B2 (en) * 2016-12-15 2020-12-01 Sanyo Electric Co., Ltd. Control device for semiconductor switch, and electrical power system
JP7002423B2 (ja) 2018-08-24 2022-01-20 株式会社東芝 スイッチ回路
CN109245287A (zh) * 2018-10-29 2019-01-18 宁波耀泰电器有限公司 一种双电源供电自动切换电路
WO2020222261A1 (en) 2019-05-02 2020-11-05 Flash Electronics (India) Private Limited A system and a method for protecting a regulator rectifier device and a respective protection device
US10917086B2 (en) 2019-05-13 2021-02-09 Stmicroelectronics (Shenzhen) R&D Co. Ltd. Back-to-back power switch controller
US11345253B2 (en) * 2019-09-19 2022-05-31 Nio Usa, Inc. Vehicle power devices, systems, and methods for fail operational electronic control unit power management
KR102606591B1 (ko) * 2021-03-29 2023-11-29 누보톤 테크놀로지 재팬 가부시키가이샤 반도체 장치, 전지 보호 회로, 및, 파워 매니지먼트 회로
CN114825598B (zh) * 2022-06-29 2022-10-14 卧安科技(深圳)有限公司 低功耗智能锁和智能设备的防反热备电路、防反接方法

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3508084A (en) * 1967-10-06 1970-04-21 Texas Instruments Inc Enhancement-mode mos circuitry
US4303958A (en) * 1979-06-18 1981-12-01 Motorola Inc. Reverse battery protection
US4315781A (en) * 1980-04-23 1982-02-16 Hughes Aircraft Company Method of controlling MOSFET threshold voltage with self-aligned channel stop
JPS5780828A (en) * 1980-11-07 1982-05-20 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit device
JPS595659A (ja) * 1982-07-02 1984-01-12 Fujitsu Ltd 相補型mis集積回路
US4491750A (en) * 1982-09-28 1985-01-01 Eaton Corporation Bidirectionally source stacked FETs with drain-referenced common gating
US4595847A (en) * 1983-10-20 1986-06-17 Telmos, Inc. Bi-directional high voltage analog switch having source to source connected field effect transistors
US4639761A (en) * 1983-12-16 1987-01-27 North American Philips Corporation Combined bipolar-field effect transistor resurf devices
US4721986A (en) * 1984-02-21 1988-01-26 International Rectifier Corporation Bidirectional output semiconductor field effect transistor and method for its maufacture
JPS6114760A (ja) * 1984-06-29 1986-01-22 Nec Corp 高耐圧半導体スイツチ
JPS6187374A (ja) * 1984-10-05 1986-05-02 Nec Corp 高電圧集積回路
US4857984A (en) * 1984-12-26 1989-08-15 Hughes Aircraft Company Three-terminal MOS integrated circuit switch
US4659942A (en) * 1985-06-03 1987-04-21 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Fault-tolerant power distribution system
US4847522A (en) * 1988-06-08 1989-07-11 Maxim Integrated Products CMOS amplifier/driver stage with output disable feature
US4961100A (en) * 1988-06-20 1990-10-02 General Electric Company Bidirectional field effect semiconductor device and circuit
FR2636778B1 (fr) * 1988-08-31 1990-12-14 Sgs Thomson Microelectronics Transistor mos composite et application a une diode roue libre
US5306961A (en) * 1989-05-15 1994-04-26 Dallas Semiconductor Corporation Low-power integrated circuit with selectable battery modes
US5148043A (en) * 1989-07-25 1992-09-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Uninterruptible power supply diagnosing remaining battery capacity during normal external power source operation
JP3031969B2 (ja) * 1990-07-18 2000-04-10 旭化成工業株式会社 充電式電源装置
JPH04106796A (ja) * 1990-08-27 1992-04-08 Fujitsu Ltd 電圧切換回路および半導体記憶装置
JPH04142039A (ja) * 1990-10-02 1992-05-15 Sony Corp 半導体装置の製造方法
JPH04170815A (ja) * 1990-11-05 1992-06-18 Nissan Motor Co Ltd ハイサイド・スイッチ回路及び半導体装置
JPH0595273A (ja) * 1990-11-21 1993-04-16 Nippon Steel Corp 半導体装置及びこれを用いた集積回路
US5157280A (en) * 1991-02-13 1992-10-20 Texas Instruments Incorporated Switch for selectively coupling a power supply to a power bus
JPH05183159A (ja) * 1992-01-07 1993-07-23 Fujitsu Ltd 半導体装置及びその製造方法
US5420451A (en) * 1993-11-30 1995-05-30 Siliconix Incorporated Bidirectional blocking lateral MOSFET with improved on-resistance

Also Published As

Publication number Publication date
EP0660520A3 (en) 1996-11-27
US5682050A (en) 1997-10-28
EP0660520A2 (en) 1995-06-28
DE660520T1 (de) 1996-03-14
DE69433808T2 (de) 2005-06-09
JPH0837302A (ja) 1996-02-06
DE69433808D1 (de) 2004-07-01
EP0660520B1 (en) 2004-05-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3138163B2 (ja) Mosfetを用いた双方向電流阻止スイッチ、及びそれを用いたスイッチ回路及び電源選択方法
JP3193579B2 (ja) ゲート駆動回路及びゲート駆動電圧を発生する方法
US5747891A (en) Method of blocking bidirectional flow of current
US9245888B2 (en) Reverse polarity protection for n-substrate high-side switches
JP2905227B2 (ja) 電源バッテリの極性の反転に対して自己保護されている集積回路
US6404261B1 (en) Switch circuit and semiconductor switch, for battery-powered equipment
JP3816935B2 (ja) バッテリ切離しスイッチ及びバッテリ切離しスイッチシステム
JP2934390B2 (ja) 双方向電流阻止mosfet及び双方向電流阻止mosfetのオン抵抗を低減する方法
JPH07236229A (ja) オフラインブートストラップ型スタートアップ回路
JPH07184318A (ja) 逆接続されたバッテリーに対する保護回路
US11522453B2 (en) Dead-time conduction loss reduction for buck power converters
EP0722629A4 (en) FIELD EFFECT TRANSISTOR WITH INTERRUPTABLE SUBSTRATE SOURCE CONNECTION
US5754074A (en) Protected switch
US6778366B2 (en) Current limiting protection circuit
JP3537061B2 (ja) 半導体装置
WO2000019540A1 (en) Bi-directional semiconductor switch, and switch circuit for battery-powered equipment
US9344078B1 (en) Inverse current protection circuit sensed with vertical source follower
US20020075617A1 (en) Overvoltage protection circuit for bidirectional transmission gate
EP1713127A2 (en) Device for improving negative potential immunity of an integrated circuit
JP2004173292A (ja) 半導体装置
US20070096776A1 (en) Technique for improving negative potential immunity of an integrated circuit
CN117713773A (zh) 半导体装置、电子设备以及车辆

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081208

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121208

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131208

Year of fee payment: 13

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term