JPH07236229A - オフラインブートストラップ型スタートアップ回路 - Google Patents

オフラインブートストラップ型スタートアップ回路

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JPH07236229A
JPH07236229A JP6270327A JP27032794A JPH07236229A JP H07236229 A JPH07236229 A JP H07236229A JP 6270327 A JP6270327 A JP 6270327A JP 27032794 A JP27032794 A JP 27032794A JP H07236229 A JPH07236229 A JP H07236229A
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JP
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voltage
terminal
circuit
transistor
bootstrap
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JP6270327A
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English (en)
Inventor
Eric W Tisinger
エリック・ダブリュ・ティシンジャー
David M Okada
デビッド・エム・オカダ
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Motorola Solutions Inc
Original Assignee
Motorola Inc
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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is dc
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/18Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using Zener diodes
    • G05F3/185Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using Zener diodes and field-effect transistors
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is dc
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/24Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 より低い電流ドレインを有しかつ広いバイア
ス電圧範囲を提供するブートストラップ型スタートアッ
プ回路を実現する。 【構成】 集積回路(IC)に初期バイアス電圧を提供
するための高電圧装置(100)を含む新規なオフライ
ンブートストラップ型スタートアップ回路(10)が提
供される。前記高電圧装置は高いソース−グランドブレ
ークダウン電圧を有するNMOSトランジスタ(10
2)を含み、それによって前記ICに提供されるバイア
ス電圧範囲を拡張する。このバイアス電圧範囲は比較器
(303)の大きなヒステリシスをサポートしかつ安定
化されていないバイアス電圧を許容するために必要であ
る。前記ブートストラップ型スタートアップ回路は前記
バイアス電圧が所定の値を超えたとき不作動になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はスタートアップ(st
art up)回路に関し、かつより特定的には集積回
路へのバイアス電圧を初期化するために電源において使
用されるブートストラップ型スタートアップ回路に関す
る。
【0002】
【従来の技術】一般に、ブートストラップ型スタートア
ップ回路はある容量(capacitor)に対し集積
回路のための電源がその所定の値に到達する前にある初
期電圧を与える。さらに、前記ブートストラップ型スタ
ートアップ回路はいったん前記電源がその所定の値に到
達するとターンオフされる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】一般には、ブートスト
ラップ型スタートアップ回路は単一の抵抗またはパワー
アップ用トランジスタ回路を含むことができる。しかし
ながら、単一の抵抗を用いたブートストラップ型スター
トアップ回路の不都合はそれがかなりの量の電流を流す
ことであり、一方集積回路化されたパワーアップ用トラ
ンジスタのブートストラップ型スタートアップ回路はバ
イアス電圧範囲がほぼ10〜15ボルトの最大値に限定
されることである。この限定されたバイアス電圧範囲
は、一次側(primary−side)制御集積回路
が10〜30ボルトの入力電圧範囲を有する場合のよう
に、より広いバイアス電圧範囲が必要な場合に問題とな
ることがある。
【0004】したがって、より低い電流ドレインを有す
るブートストラップ型スタートアップ回路および広いバ
イアス電圧範囲を提供することが必要になる。
【0005】
【課題を解決するための手段および作用】一般に、本発
明は集積回路に対しより広いバイアス電圧範囲を提供す
るためにライン電圧に結合された回路を提供する。これ
はブートストラップ(bootstrapping)と
して知られた技術を使用することにより達成される。高
電圧スタートアップ装置が制御回路に対し電源電圧を初
期化するためにバイアス電圧を提供する。しかしなが
ら、いったん集積回路の電源がその所定の値に到達する
と、前記スタートアップ装置は電力消費を最小にするた
めに切り離される。したがって、本発明は回路設計を単
純化し、制御回路の供給電圧範囲を増大し、かつ、もし
電力スイッチングトランジスタが同じパッケージ内に集
積されれば、専用の高電圧ピンの必要性を除去する新規
な高電圧スタートアップ装置を提供する。
【0006】
【実施例】本発明は図1〜図4を参照することによりさ
らに完全に説明できる。図1は高電圧装置100、クラ
ンプ回路105、および装置100をターンオフするた
めの制御トランジスタ109を含むオフラインブートス
トラップ回路10を示す詳細な電気回路図である。
【0007】好ましい実施例においては、前記高電圧装
置100はJFETトランジスタ101、NMOSトラ
ンジスタ102、およびnウェル抵抗103を含む。前
記JFETトランジスタ101はnチャネルの、デプレ
ッションモードJFETトランジスタであり、ほぼ50
ボルトのソース−バックゲートピンチオフ電圧を有して
いる。前記バックゲートはグランドに接続され、ドレイ
ンは端子111に接続され、該端子111にはライン電
圧が印加され、そしてソースはNMOSトランジスタ1
02のドレインおよびnウェル抵抗103の第1の端子
に接続されている。
【0008】装置100がオンである場合、JFETト
ランジスタ101を通る電流は前記NMOSトランジス
タ102によって制御され、かつJFETトランジスタ
101の安全動作領域を越えないように制御信号のデュ
ーティサイクルによって制限されなければならない。装
置100がオフである場合、JFETトランジスタ10
1を通る電流はnウェル抵抗103を通るバイアス電流
によって制御される。このバイアス電流は装置100に
よって消費される電力を最小にするために小さくしなけ
ればならない。
【0009】ライン電圧が前記JFETトランジスタ1
01のドレインに印加された時、前記JFETトランジ
スタの本体(body)は50ボルトの典型的なソース
−基板ピンチオフ電圧によって完全に空乏化されており
(depleted)、前記JFETトランジスタの本
体部はしばしば高電圧装置100のドリフト領域(dr
ift region)と称される。前記JFETトラ
ンジスタ101はその電流飽和領域で動作する。JFE
T101のソース電圧はほぼ50ボルトに制限されてい
るから、端子111に印加されるライン電圧の大部分は
JFETトランジスタの本体部にわたって降下し、それ
によってライン電圧からのバッファを提供する。これは
このノードに接続されるNMOSトランジスタ102お
よびnウェル抵抗103を保護する。
【0010】前記NMOSトランジスタ102は1.5
ボルトのしきい値範囲を有するnチャネルエンハンスメ
ントモードMOSトランジスタである。トランジスタ1
02のドレインはJFETトランジスタ101のソース
およびnウェル抵抗103の第1の端子に接続されてい
る。トランジスタ102のソースは端子112に接続さ
れている。トランジスタ102のゲートはnウェル抵抗
103の第2の端子、クランプ回路105、およびター
ンオフ装置109に接続されている。トランジスタ10
2のバックゲートはグランドに接続されている。
【0011】トランジスタ102のドレイン電圧はJF
ETトランジスタ101によって制限される。トランジ
スタ102のソース電圧は端子112に結合された外部
回路(図示せず)によってほぼ50ボルトに制限される
べきである。トランジスタ102のゲート電圧はクラン
プ回路105によって制限される。スタートアップの用
途はトランジスタ102を通る電流の厳格な制御を必要
としない。スタートアップ電流は一般にトランジスタ1
02のソースの電圧が0ボルトから20ボルトへと変化
した時5mAから25mAの範囲にあるべきである。こ
れは閉ループ制御なしに達成可能である。トランジスタ
102のゲート電圧はバックゲート効果による電流変動
を最小にするためにできるだけ大きくすべきである。前
記電流振幅はNMOSトランジスタ102のチャネル長
を調整することにより設定される。NMOSトランジス
タ102の装置設計については図2および図3を参照し
て後に説明する。
【0012】前記nウェル抵抗103はNMOSトラン
ジスタ102をターンオンするためのバイアス電圧を提
供する。前記抵抗の値およびその物理的レイアウトを最
小にするため、前記nウェル抵抗の第1の端子はNMO
Sトランジスタ102のドレインに接続され、かつ前記
nウェル抵抗の第2の端子はNMOSトランジスタ10
2のゲートに接続される。前記バイアス電流は小さく保
たれるが、それは前記高電圧装置100がターンオフさ
れた後にそれがライン電圧からJFETトランジスタ1
01を通って導かれるからである。狭いnウェル抵抗1
03は大きなデプレッション効果を有し、これはその電
気的ふるまいを理想的な抵抗よりもよりJFETに特有
のものにする。NMOSトランジスタ102のゲートが
グランドになっている場合にほぼ25μAのバイアス電
流を供給するよう設計される。前記nウェル抵抗103
はそのピンチオフ電圧が充分高くなるようにしクランプ
回路105の機能と干渉しないように設計される。
【0013】クランプ回路105はトランジスタ102
の制御電極に現われる電圧を制限し、それによって端子
111と112との間に流れる電流を制限する。クラン
プ回路105は10ボルトの典型的なブレークダウン電
圧を有するアバランシェ(avalanche)ダイオ
ード106、およびPNPトランジスタ107を含む。
前記ダイオードのカソードはNMOSトランジスタ10
2のゲートに接続されている。前記ダイオードのアノー
ドはPNPトランジスタ107のエミッタに接続されて
いる。前記PNPトランジスタのベースは前記NMOS
トランジスタ102のソースに接続され、かつ前記PN
Pトランジスタのコレクタはグランド基準に接続されて
いる。
【0014】前記クランプ電圧は典型的にはNMOSト
ランジスタ102のゲート酸化膜の長期間の劣化を防止
するために20ボルトより低くされる。クランプ回路1
05は11ボルトの順方向電圧を有する。前記10ボル
トのアバランシェダイオードはその低いリーケージのた
めに選択され、低いバイアス電流において鋭いひざ(k
nee)特性を提供する。前記オン/オフ制御機能の設
計を単純化するために、NMOSトランジスタ102の
ゲートがグランドに引かれ、さらにNMOSトランジス
タ102のソースが50ボルトを越えることができるよ
うにすることが望ましい。したがって、クランプ回路1
05はPNPトランジスタ107の高いBVEBO電圧
により50ボルトを越える逆阻止電圧(reverse
blocking voltage)を有する。
【0015】前記高電圧装置100はその制御端子をグ
ランドに引くことによりターンオフされる。このオン/
オフ機能は単一のプルダウン制御トランジスタ109を
使用して実現することができる。トランジスタ109の
ソースおよびバックゲートはグランドに接続されてい
る。トランジスタ109のドレインは高電圧装置100
の制御端子に接続されている。トランジスタ109のゲ
ートは端子113に接続されており、該端子113には
制御信号が印加される。
【0016】端子113に印加される制御信号が論理ロ
ーである場合、制御トランジスタ109はオフであり、
そして高電圧装置100はオンでありかつ端子111と
112との間に高いソース−グランドブレークダウン電
圧を提供しかつまた端子111と112との間に高い電
流を提供する。しかしながら、端子113に印加される
制御信号が論理ハイである場合、制御トランジスタ10
9は高電圧装置100の制御端子をグランドに引き、そ
れによって装置100をオフにし、それによって端子1
11と112との間に高いインピーダンスを提供する。
制御トランジスタ109のドレインのブレークダウン電
圧はクランプ回路105の機能と干渉しないように30
ボルトを越えるべきである。トランジスタ109は高電
圧DMOS型トランジスタの形式とすることができる。
【0017】要するに、本発明は高電圧装置を含むオフ
ラインスタートアップ回路を提供する。前記高電圧装置
はバイアス端子における電圧を増大するために初期電流
を提供する。しかしながら、いったん前記バイアス端子
に現われる電圧が所定のしきい値に到達すると、前記高
電圧装置は不作動(non−operative)にさ
れる。前記高電圧装置は前記バイアス端子に現われる使
用可能な電圧を拡張するために高いソース−グランドブ
レークダウン電圧を有するNMOSトランジスタを含
む。
【0018】前記高電圧装置100は各々装置の動作に
おいて異なる2つの領域を有するものとして図示するこ
とができる。これら2つの領域は複雑ではあるが統合さ
れた装置構造へと併合される。図2および図3は高電圧
装置100のこれら2つの領域を示す断面図を説明した
模式図である。図2は、トランジスタ101および10
2を通ってスライスした断面を示す。図3はJFETト
ランジスタ101およびnウェル抵抗103を通ってス
ライスした断面を示す。明瞭化のため、これらの図は一
定の縮尺で示されていない。
【0019】中央ドレインコンタクト領域(212)は
ドレイン用ボンディングパッドを含む。この閉じられた
形状はダイの面にわたって高い電圧の金属が走るのをさ
けるためにボンディングワイヤを使用する一般的な方法
である。図2は、前記JFETトランジスタ(101)
が前記NMOSトランジスタ(102)に結合されてい
る領域における高電圧装置100の断面である。Nウェ
ル領域201はJFETトランジスタ101の本体であ
る。装置100のドレイン領域はその本体の左端上にあ
り、かつ装置100のソース領域は右端上にある。基板
200はバックゲート接合としてはたらく。JFETト
ランジスタ101のソースおよびNMOSトランジスタ
102のドレインは併合され、それによってなんらのコ
ンタクト領域も必要とされず、かつ2つのトランジスタ
の間に明白な境界は存在しない。NMOSトランジスタ
102はコンタクト204および金属電極211を備え
たソース領域203、バックゲートpウェル拡散20
2、および導通の間にチャネル210を形成するために
使用されるシリコンゲート電極207を有する。
【0020】トランジスタ101のドレインにおけるブ
レークダウン電圧は世界中のライン電圧の用途に対して
は400ボルトを越えなければならない。ドレイン金属
フィールドプレート212、ゲート金属フィールドプレ
ート209、およびJFETトランジスタの本体を形成
するnウェル領域201の長さはこの特定のブレークダ
ウン電圧に対して最適化される。トランジスタ102の
ソースにおけるブレークダウン電圧は広いバイアス供給
電圧範囲をサポートするために50ボルトを越えなけれ
ばならない。これは基板に対して高いブレークダウン電
圧を提供するためにソース拡散としてnウェルを使用す
ることにより、かつゲート酸化膜における電圧降下を低
減するためにソースコンタクト領域204をチャネルか
ら間隔をあけて配置することにより達成される。薄いゲ
ート酸化膜にかかる最大持続電圧(sustained
voltage)は長期間の信頼性を考慮して20ボ
ルトより低く保たれなければならない。
【0021】装置100の双方の電流伝達端子(トラン
ジスタ101のドレインおよびトランジスタ102のソ
ース)が最大電圧になっており、かつ装置100の制御
端子が接地されている場合にワーストケースの逆バイア
スが生じる。前記Nウェル領域201のJFETドレイ
ンエッジおよび前記pウェルバックゲート領域202は
間隔をあけてあり、それによって逆バイアス条件の下で
の空乏層の広がりがゲート酸化膜にかかる電圧を大幅に
低減する。pウェル領域202は前記しきい値電圧をセ
ットしかつまたドレインおよびソース領域201および
203の間のパンチスルーを防止する。前記バックゲー
トは基板を通して本来的にグランドに接続されており、
これによって寄生ドレイン−ソース間ダイオードを除去
しかつ装置100のドレイン電圧がグランドまでスイン
グできるようにする。前記nウェル抵抗(103)はピ
ンチオフを生じることなくゲート電極207を30ボル
トまでバイアスできなければならない。これは前記空乏
層の効果を最小にするためにpウェル拡散をnウェル抵
抗の本体から離すことによって達成される。
【0022】図3は、JFETトランジスタ(101)
のソース端がnウェル抵抗(103)の「ハイ」エンド
側に結合された領域における装置(100)の断面であ
る。Nウェル領域401はJFETトランジスタ101
の本体(body)でありかつ図2の領域201に対応
する。ドレインコンタクトは前記本体の左端上に位置し
かつソース端はゲート電極(406/207)の左端に
隣接するNウェル領域である。図2のp基板200に対
応するp基板400はJFETトランジスタのバックゲ
ートとして機能する。前記JFETトランジスタのソー
スおよび前記nウェル抵抗の「ハイ」側は併合されてお
りかつこれら2つの装置の間の明白な境界はない。nウ
ェル抵抗の抵抗値は領域402とnウェル抵抗のコンタ
クトのエンハンスメント拡散(403)との間の距離を
調整することにより制御される。前記nウェル抵抗40
3の「ロー」端への電気的コンタクトは前記nウェル抵
抗コンタクト(405)によって提供される。領域40
4は領域401および406を電気的に分離する絶縁誘
電体膜からなる。
【0023】領域401におけるnウェルの電位はほぼ
50ボルトの最大値までバイアスすることができ、一方
電極406はグランドであり、領域404は厚いフィー
ルド酸化膜である。したがって、結果的にこの酸化膜に
印加される電界は非常に小さく、装置の長期間の信頼性
に対し無視し得るほどの影響しか与えない。
【0024】前記シリコンゲート電極(207/40
6)はNMOSトランジスタの導通チャネル210を形
成するために使用されるが、装置100の抵抗103の
この領域において大きな影響を持たない。ゲート金属フ
ィールドプレート407の長さは前に述べたようにプレ
ート209と同様にすることができる。
【0025】従来技術のスタートアップ装置はUVLO
比較器のしきい値において大きなヒステリシスを許容せ
ず、スタートアップシーケンスをより困難にしている。
パワー・インテグレイションズ・インコーポレイテッド
(Power Integrations,Inc.)
に譲渡され1991年5月7日の発行日を有する米国特
許第5,014,178号に記載されたスタートアップ
技術はスタートアップ装置およびスイッチング装置のス
イッチングをインタリーブする方法を教示しており、そ
れによって前記スタートアップ装置が前記スイッチング
装置のオフ時間の間に制御回路に対しバイアス電流を供
給する。しかしながら、この方法はスタートアップ装置
が高い周波数で、典型的には50キロヘルツを超える周
波数で、スイッチングされることを必要とする。これは
一般的にはスタートアップ装置をバイアスすることに関
連する小さな電流によって得られるものではない。
【0026】しかしながら、誘導性負荷305をスイッ
チングするための図1に示されるブートストラップ回路
を含む回路300を示す図4を参照すると、回路300
はブートストラップ回路302の高い周波数でのスイッ
チングを必要としない。通常の動作の間は、ブートスト
ラップ回路302は1度だけかつ整流されたライン電圧
が印加された後にのみターンオンされる。UVLO比較
器の低速の、制御された性質は共通の高電圧のピンを共
有する2つの高電圧装置の間の干渉がないことを保証す
る。ブートストラップ回路がターンオフされている時と
前記スイッチング装置がターンオンされている時との間
に一般にデッドタイムが存在する。このデッドタイムは
前記制御回路のアナログ部分がスリープ(sleep)
モードからアウェイク(awake)モードへとスイッ
チする時間を提供する。
【0027】回路300はオフラインブートストラップ
回路302、スイッチング回路307および308、そ
してアンダーボルテージロックアウト(UVLO)回路
303を含む。図1のブートストラップ回路10に対応
する、前記オフラインブートストラップ回路302は誘
導性負荷305を介して整流されたライン電圧に結合さ
れている。ブートストラップ回路302は小さな連続的
な電流のみを導くから、誘導性負荷305にかかる電圧
降下は実質的にゼロに等しくなるべきである。ブートス
トラップ回路302の高電圧端子111はスイッチング
トランジスタ308の高電圧ドレイン電極に結合されて
そこに共通接続部分を形成している。この共通接続部分
はブートストラップ回路302およびスイッチング装置
308の高電圧ノードを結合し、それによって両方の高
電圧装置が同じパッケージ内に存在する場合に1つのI
Cピンを可能にしている。さらに、それは物理的に小さ
いブートストラップ回路装置のESDに対する頑丈さ
(ruggedness)を改善する。
【0028】ブートストラップ回路302およびスイッ
チング装置308の高電圧端子は同じノードに結合され
ているから、それらは同時に制御できるようにすること
はできず、さもなければバイアス端子112が放電する
ことになる。したがって、パスゲート309がブートス
トラップ回路302がオンとなっている間に、スイッチ
ング装置308がオフになることを保証する。
【0029】前記UVLO比較器303は端子112に
結合された第1の入力、およびしきい値電圧Vを受け
るよう接続された第2の入力を有する。比較器303の
出力は端子113に結合されかつパスゲート309の第
1の入力に結合されている。比較器303は大きなしき
い値のヒステリシスを有し、上部しきい値(upper
threshold)は典型的には15ボルトであ
り、かつ下部しきい値(lower threshol
d)は典型的には10ボルトである。大きなヒステリシ
スはブートストラップのスタートアップ機能を実施する
のを容易にする。
【0030】前記UVLO比較器303はブートストラ
ップのスタートアップ期間の間の事象のシーケンスを制
御する。整流されたライン電圧が最初に誘導性負荷30
5を介して端子111に印加された時、端子112はグ
ランドにあり、UVLO比較器303の上部しきい値よ
り低く、その出力をローにする。該出力はローの信号が
ブートストラップ回路302をターンオンするよう結合
されており、かつパスゲート309をディスエーブル
し、スイッチング装置308をオフに保持する。ブート
ストラップ回路302によって供給されるスタートアッ
プ電流は次に端子112の電圧をUVLO比較器303
の上部しきい値へと上昇させ、その出力をハイに移行さ
せる。前記出力はハイの信号がブートストラップ回路3
02をターンオフするように結合され、かつパスゲート
309をイネーブルしてPWM回路307がスイッチン
グ装置308の導通を制御するようにする。電源306
がバイアス電流を前記PWM制御回路307に伝達でき
るまでには通常数個のスイッチングサイクルを必要とす
る。PWM回路内のソフトスタート機能による付加的な
遅延が生じ得る。この導通デッドバンド(conduc
tion deadband)の間は、PWM回路30
7へのバイアス電流はバイパス容量310によって供給
される。容量310は充分大きくされ、端子112の電
圧が前記UVLO比較器303の下部しきい値より低く
低下しないようにしなければならない。もしこれが生じ
ると、すなわち端子112の電圧がUVLO比較器30
3の下部しきい値より低く低下すると、前記スタートア
ップシーケンスが再び開始される。
【0031】
【発明の効果】本発明は集積回路に対しより広いバイア
ス電圧範囲を提供するためのオフラインスタートアップ
回路を提供する。説明されたスタートアップ回路はロー
側のスイッチの用途に対して最適化される高電圧集積回
路(HVIC)技術によって実施される。
【0032】従来のスタートアップ回路は典型的にはロ
ー側の電力スイッチング装置と同じトランジスタ設計を
使用する高電圧装置を含んでいた。これは通常デプレッ
ションモードのラテラルJFETトランジスタと直列に
接続されたエンハンスメントモードのラテラルDMOS
トランジスタとして実施され、前記JFETトランジス
タは高電圧装置のドリフト領域として作用する。しかし
ながら、接地ソース(grounded sourc
e)スイッチングの用途のための技術が設計されたた
め、フローティングの高電圧スタートアップトランジス
タが実現するのが困難になっている。
【0033】DMOS型トランジスタにおいては、ソー
ス−基板ブレークダウン電圧は10ボルト〜15ボルト
に制限されている。最大のブレークダウン電圧に対し、
DMOSトランジスタのバックゲートはそのソースに接
続されかつp型本体領域の下のドレインのn型ウェル領
域を延長することによって基板から分離されている。前
記N型ウェルはほぼ5μmの接合深さを有し、一方前記
p型本体はほぼ2μmの接合深さを有する。しかしなが
ら、前記n型アイソレーション層は非常に薄くかつ軽く
ドーピングされているから、p型本体と基板との間の典
型的なブレークダウン電圧は15ボルトに過ぎない。さ
らに、前記分離されたDMOSトランジスタは実質的に
接地ソーストランジスタと異なっており、ドリフト長お
よびフィールドプレートに対し異なる設計を必要とす
る。
【0034】別の技術では寄生ドレイン−本体ダイオー
ドを順方向バイアスすることなしにドレインがソースよ
り低くスイングできるようにする標準のスイッチングト
ランジスタの接地バックゲート設計を使用する。これは
さらにソース−基板ブレークダウン電圧を典型的には1
0ボルトに低下させる。
【0035】しかしながら、本発明のスタートアップ回
路の目標はそれが接続する集積回路の電源電圧範囲を制
限しないように高いソース電圧を提供することであり、
小さな電源電圧範囲は厳格なレギュレーションを必要と
する結果となる。図2および図3に示されたNMOSト
ランジスタはDMOS型トランジスタによって達成でき
るものよりはるかに高いブレークダウン電圧を提供す
る。該NMOSトランジスタは図1に示された単純な回
路によって制御できる。
【0036】本発明がその特定の実施例に関して説明さ
れたが、当業者には数多くの置換え、修正および変形が
可能なことは明らかである。さらに、添付の請求の範囲
によって全てのそのような置換え、修正および変形をカ
バーするものと考える。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わるオフラインブートストラップ型
スタートアップ回路を示す詳細な電気回路図である。
【図2】図1に示された高電圧装置の一部の断面を示す
詳細な模式図である。
【図3】図1に示された高電圧装置の一部の断面を示す
詳細な模式図である。
【図4】誘導性負荷をスイッチングするために図1のオ
フラインブートストラップ型スタートアップ回路を含む
回路を示すブロック回路図である。
【符号の説明】
10 オフラインブートストラップ回路 100 高電圧装置 101 JFETトランジスタ 102 NMOSトランジスタ 103 nウェル抵抗 105 クランプ回路 106 アバランシェダイオード 107 PNPトランジスタ 109 ターンオフ装置 111,112,113 端子 200 基板 201 Nウェル領域 202 バックゲートpウェル拡散 203 ソース領域 204 コンタクト 207 シリコンゲート電極 209 ゲート金属フィールドプレート 210 チャネル 211 金属電極 212 ドレイン金属フィールドプレート 400 p基板 401,402 領域 403 nウェル抵抗 405 nウェル抵抗コンタクト 406 シリコンゲート電極 407 ゲート金属フィールドプレート 302 オフラインブートストラップ回路 303 アンダーボルテージロックアウト(UVLO)
回路 305 誘導性負荷 306 電源 307 PWM制御回路 308 スイッチング装置 309 パスゲート 310 容量
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/822 H03K 17/06 C 9184−5J 17/695 9473−5J H03K 17/687 B

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 集積回路にバイアス電圧を提供するため
    にライン電圧に応答するオフラインブートストラップ回
    路であって、 第1および第2の電流伝達端子および制御端子を有する
    高電圧装置(100)であって、前記高電圧装置の前記
    第1の電流伝達端子は前記ライン電圧を受けるよう接続
    され、前記高電圧装置の前記第2の電流伝達端子は前記
    バイアス電圧を提供するよう接続され、前記高電圧装置
    は前記バイアス電圧の範囲を拡張するための第1のトラ
    ンジスタ(101)を含むもの、 前記高電圧装置の前記制御端子に結合され前記制御端子
    に現われる電圧を制限するためのクランプ手段(10
    5)、そして前記高電圧装置の前記制御端子に結合され
    かつ制御信号に応答して前記バイアス電圧が所定のしき
    い値を超えた場合に前記高電圧装置を不作動にする制御
    手段(109)、 を具備することを特徴とするオフラインブートストラッ
    プ回路。
  2. 【請求項2】 誘導性負荷をスイッチングするための集
    積回路であって、前記誘導性負荷は前記集積回路のライ
    ン電圧と第1のピンとの間に結合され、前記集積回路
    は、 前記集積回路の前記第1のピンに結合され第1の端子に
    初期電圧を提供するためのブートストラップ手段、 前記集積回路の前記第1のピンに結合され前記誘導性負
    荷をオンおよびオフに交互にスイッチングするためのス
    イッチング手段、そして前記第1の端子に結合され前記
    ブートストラップ手段をターンオフしかつ前記第1の端
    子に現われる前記初期電圧が所定の値を超えたとき前記
    スイッチング手段をイネーブルするための第1の回路手
    段であって、前記ブートストラップ手段がターンオフさ
    れたとき前記第1の端子に現われる電圧が前記誘導性負
    荷を介して提供されるもの、 を具備することを特徴とする誘導性負荷をスイッチング
    するための集積回路。
  3. 【請求項3】 第2の端子により広いバイアス電圧範囲
    を提供するために第1の端子に印加されたライン電圧を
    使用する方法であって、 前記ライン電圧をバッファリングする段階、 前記第2の端子に現われる電圧が所定のしきい値より低
    い場合に前記第2の端子と第1の電源電圧端子との間に
    高いブレークダウン電圧を提供し、それによって前記第
    2の端子における電圧範囲を拡張する段階、 前記第1および第2の端子の間に流れる電流をクランプ
    する段階、そして前記第2の端子に現われる前記電圧が
    前記所定のしきい値を超えたとき前記第1および第2の
    端子の間に高いインピーダンスを提供する段階、 を具備することを特徴とする第2の端子により広いバイ
    アス電圧範囲を提供するために第1の端子に印加された
    ライン電圧を使用する方法。
JP6270327A 1993-10-25 1994-10-07 オフラインブートストラップ型スタートアップ回路 Pending JPH07236229A (ja)

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