JP3132284B2 - ウエハの製造装置 - Google Patents
ウエハの製造装置Info
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、集積回路を形成する半
導体ウエハ等の表面を研磨して洗浄するためのウエハの
製造装置に関するものである。
導体ウエハ等の表面を研磨して洗浄するためのウエハの
製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＬＳＩ等の集積回路を製造するた
めの半導体ウエハ（以下、単にウエハという。）は、デ
バイスの微細化に伴って、高精度かつ無欠陥表面となる
ように研磨することが要求されるようになってきた。こ
の研磨のメカニズムは、微粒子シリカ等によるメカニカ
ルな要素とアルカリ液によるエッチング要素とを複合し
たメカノ・ケミカル研磨法に基づいている。
めの半導体ウエハ（以下、単にウエハという。）は、デ
バイスの微細化に伴って、高精度かつ無欠陥表面となる
ように研磨することが要求されるようになってきた。こ
の研磨のメカニズムは、微粒子シリカ等によるメカニカ
ルな要素とアルカリ液によるエッチング要素とを複合し
たメカノ・ケミカル研磨法に基づいている。
【０００３】すなわち、ウエハは、研磨盤の研磨面に圧
接状態に配されて研磨面に摩擦させられるとともに、研
磨面との間に供給される微粒子シリカと水酸化カリウム
等のアルカリ液とを混合したスラリー状の研磨剤によっ
て研磨される。これにより、ウエハはその被研磨面を精
度よく仕上げられることになる。しかしながら、研磨後
のウエハには研磨剤が付着状態に残されることになるの
で、これを放置すると、ウエハ表面のエッチングが進行
することになるとともに、乾燥した研磨剤はウエハの表
面にこびり付いて除去することが困難になるという不都
合がある。
接状態に配されて研磨面に摩擦させられるとともに、研
磨面との間に供給される微粒子シリカと水酸化カリウム
等のアルカリ液とを混合したスラリー状の研磨剤によっ
て研磨される。これにより、ウエハはその被研磨面を精
度よく仕上げられることになる。しかしながら、研磨後
のウエハには研磨剤が付着状態に残されることになるの
で、これを放置すると、ウエハ表面のエッチングが進行
することになるとともに、乾燥した研磨剤はウエハの表
面にこびり付いて除去することが困難になるという不都
合がある。
【０００４】かかる不都合を回避するには、ウエハの表
面に付着している研磨剤を、乾燥する前に洗浄して除去
する必要があり、研磨後即座に両面スクラバ等の洗浄機
に投入することが、従来より行われている。この洗浄機
では、研磨されたウエハを１枚１枚流通させつつその両
面をブラシ等によって擦りながら純水を噴射して研磨剤
を洗浄・除去し、その後、乾燥するようになっている。
面に付着している研磨剤を、乾燥する前に洗浄して除去
する必要があり、研磨後即座に両面スクラバ等の洗浄機
に投入することが、従来より行われている。この洗浄機
では、研磨されたウエハを１枚１枚流通させつつその両
面をブラシ等によって擦りながら純水を噴射して研磨剤
を洗浄・除去し、その後、乾燥するようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この洗浄機
を挿通させられた後のウエハには、高い清浄度が要求さ
れるので、洗浄機は、クラス１０〜１００程度のクリー
ンルーム内に配設される。一方、ウエハを研磨する研磨
装置では、研磨面に供給した研磨剤が、ウエハと研磨面
との相対移動によって周囲に飛散させられる。そして、
飛散した研磨剤は、乾燥して室内の空気の流動により空
気中に浮遊することになるため、研磨装置の配される室
内の清浄度はクラス１０００程度となる。
を挿通させられた後のウエハには、高い清浄度が要求さ
れるので、洗浄機は、クラス１０〜１００程度のクリー
ンルーム内に配設される。一方、ウエハを研磨する研磨
装置では、研磨面に供給した研磨剤が、ウエハと研磨面
との相対移動によって周囲に飛散させられる。そして、
飛散した研磨剤は、乾燥して室内の空気の流動により空
気中に浮遊することになるため、研磨装置の配される室
内の清浄度はクラス１０００程度となる。
【０００６】したがって、研磨装置と洗浄機とは同一の
室内に配することができず、完全に隔離された別々の室
内に設置しなければならなかった。しかしながら、研磨
装置と洗浄機とは、上述したように、研磨後のウエハを
即座に洗浄する必要性から、隣接配置することが好まし
く、完全に隔離された別々の室内に設置する場合には、
研磨工程と洗浄工程とを連続させることができないとい
う不都合があった。しかも、清浄度の異なる部屋間にお
いてウエハを受け渡しするために、エアシャワーによっ
て衣服等に付着した塵埃を除去する洗浄室等の付帯設備
を設ける必要があり、設備面積が増大するという問題が
あった。
室内に配することができず、完全に隔離された別々の室
内に設置しなければならなかった。しかしながら、研磨
装置と洗浄機とは、上述したように、研磨後のウエハを
即座に洗浄する必要性から、隣接配置することが好まし
く、完全に隔離された別々の室内に設置する場合には、
研磨工程と洗浄工程とを連続させることができないとい
う不都合があった。しかも、清浄度の異なる部屋間にお
いてウエハを受け渡しするために、エアシャワーによっ
て衣服等に付着した塵埃を除去する洗浄室等の付帯設備
を設ける必要があり、設備面積が増大するという問題が
あった。
【０００７】本発明は、上述した事情に鑑みてなされた
ものであって、ウエハに付着している研磨剤が室内に浮
遊することを防止して、研磨工程と洗浄工程とを連続さ
せることができるウエハの製造装置を提供することを目
的としている。
ものであって、ウエハに付着している研磨剤が室内に浮
遊することを防止して、研磨工程と洗浄工程とを連続さ
せることができるウエハの製造装置を提供することを目
的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ウエハを研磨する研磨装置と、研磨され
たウエハを洗浄する洗浄装置とを隣接配置するととも
に、これら研磨装置と洗浄装置との間に、各装置を含む
空間を隔離状態に区画する区画壁を設けてなり、この区
画壁に、研磨装置側と洗浄装置側とを連通するように形
成され研磨装置から洗浄装置にウエハを受け渡すための
連通部を設けるとともに、この連通部に、通過させられ
るウエハを湿らせる加湿手段と、ウエハを研磨装置から
洗浄装置に移動させる移動手段とを設け、区画壁の研磨
装置側に、研磨後のウエハを貯蓄しておくカセットと、
カセットを浸水状態に収納する水槽とを設けたウエハの
製造装置を提案している。
に、本発明は、ウエハを研磨する研磨装置と、研磨され
たウエハを洗浄する洗浄装置とを隣接配置するととも
に、これら研磨装置と洗浄装置との間に、各装置を含む
空間を隔離状態に区画する区画壁を設けてなり、この区
画壁に、研磨装置側と洗浄装置側とを連通するように形
成され研磨装置から洗浄装置にウエハを受け渡すための
連通部を設けるとともに、この連通部に、通過させられ
るウエハを湿らせる加湿手段と、ウエハを研磨装置から
洗浄装置に移動させる移動手段とを設け、区画壁の研磨
装置側に、研磨後のウエハを貯蓄しておくカセットと、
カセットを浸水状態に収納する水槽とを設けたウエハの
製造装置を提案している。
【０００９】上記製造装置においては、加湿手段が、粉
霧状の純水を散布することにより連通部を遮断するよう
にウォータカーテンを形成する散水手段よりなる構成と
すれば効果的である。また、加湿手段が、純水を貯留す
る水槽よりなり、連通部がこの水槽の水中に形成されて
いる構成としてもよい。
霧状の純水を散布することにより連通部を遮断するよう
にウォータカーテンを形成する散水手段よりなる構成と
すれば効果的である。また、加湿手段が、純水を貯留す
る水槽よりなり、連通部がこの水槽の水中に形成されて
いる構成としてもよい。
【００１０】
【作用】本発明に係るウエハの研磨装置によれば、研磨
装置において研磨されたウエハが移動手段の作動によ
り、研磨装置に隣接配置されている洗浄装置に連通部を
通して移動させられる。区画壁は、研磨装置と洗浄装置
とを連通部を除いて隔離状態に区画するので、研磨装置
で発生した塵埃は、洗浄装置側に漏洩しないように保持
される。また、区画壁の研磨装置側に、研磨後のウエハ
を貯蓄しておくカセットと、カセットを浸水状態に収納
する水槽とが設けられており、連通部には加湿手段が設
けられていて、区画壁を通過するウエハは、この加湿手
段によって湿らされることになるので、ウエハに付着し
ている研磨剤が空気中に浮遊しないように保持されつつ
洗浄装置に投入され、該洗浄装置において研磨剤を洗い
落とされることになる。
装置において研磨されたウエハが移動手段の作動によ
り、研磨装置に隣接配置されている洗浄装置に連通部を
通して移動させられる。区画壁は、研磨装置と洗浄装置
とを連通部を除いて隔離状態に区画するので、研磨装置
で発生した塵埃は、洗浄装置側に漏洩しないように保持
される。また、区画壁の研磨装置側に、研磨後のウエハ
を貯蓄しておくカセットと、カセットを浸水状態に収納
する水槽とが設けられており、連通部には加湿手段が設
けられていて、区画壁を通過するウエハは、この加湿手
段によって湿らされることになるので、ウエハに付着し
ている研磨剤が空気中に浮遊しないように保持されつつ
洗浄装置に投入され、該洗浄装置において研磨剤を洗い
落とされることになる。
【００１１】加湿手段を散水手段よりなる構成とすれ
ば、形成されるウォータカーテンによって連通部が遮蔽
状態とされ、この連通部を通過させられるウエハは、必
ずウォータカーテンを横切らなければならず、確実に湿
らされることになる。また、加湿手段を水槽とし、連通
部をこの水槽の水中に形成することとすれば、ウエハ
は、水槽に貯留された水中に一旦浸漬状態とされなけれ
ば、洗浄装置側に移動することができないので、より確
実に湿らされることになる。
ば、形成されるウォータカーテンによって連通部が遮蔽
状態とされ、この連通部を通過させられるウエハは、必
ずウォータカーテンを横切らなければならず、確実に湿
らされることになる。また、加湿手段を水槽とし、連通
部をこの水槽の水中に形成することとすれば、ウエハ
は、水槽に貯留された水中に一旦浸漬状態とされなけれ
ば、洗浄装置側に移動することができないので、より確
実に湿らされることになる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明に係るウエハの製造装置の一実
施例について、図１を参照して説明する。本実施例のウ
エハの製造装置１は、研磨剤を供給しながらウエハ２の
研磨を行う研磨装置３と、これに隣接配置される洗浄装
置４とを具備し、該洗浄装置４および研磨装置３の間に
これらの装置が配される空間を区画する区画壁５を設け
て構成されている。
施例について、図１を参照して説明する。本実施例のウ
エハの製造装置１は、研磨剤を供給しながらウエハ２の
研磨を行う研磨装置３と、これに隣接配置される洗浄装
置４とを具備し、該洗浄装置４および研磨装置３の間に
これらの装置が配される空間を区画する区画壁５を設け
て構成されている。
【００１３】前記研磨装置３および洗浄装置４は、従来
のものと同様のものを使用している。前記区画壁５は、
研磨装置３および洗浄装置４が配されている空間６・７
（以下、単に、研磨室、洗浄室という。）を区画して、
研磨室６をクラス１０００程度、洗浄室７をクラス１０
〜１００程度の清浄度にそれぞれ保持することができる
ようになっている。また、洗浄室７は研磨室３よりも高
い圧力状態、例えば、洗浄室は２０ｍｍＡｑ、研磨室は
１０ｍｍＡｑ程度となるように調整されている。なお、
この圧力値は、これに限定されず、状況に応じて任意の
圧力値を設定することとしてよい。
のものと同様のものを使用している。前記区画壁５は、
研磨装置３および洗浄装置４が配されている空間６・７
（以下、単に、研磨室、洗浄室という。）を区画して、
研磨室６をクラス１０００程度、洗浄室７をクラス１０
〜１００程度の清浄度にそれぞれ保持することができる
ようになっている。また、洗浄室７は研磨室３よりも高
い圧力状態、例えば、洗浄室は２０ｍｍＡｑ、研磨室は
１０ｍｍＡｑ程度となるように調整されている。なお、
この圧力値は、これに限定されず、状況に応じて任意の
圧力値を設定することとしてよい。
【００１４】また、この区画壁５には、研磨室６と洗浄
室７とを連通する連通部８が設けられている。この連通
部８は、図１に示すように、区画壁５の一部に形成さ
れ、研磨室６および洗浄室７にそれぞれ開口する開口部
８ａ・８ｂを有する小空間である。この連通部８の開口
部８ａ・８ｂには、それぞれ独立に駆動される遮蔽扉９
・１０が設けられている。この遮蔽扉９・１０は、例え
ば、エアシリンダ１１・１２等のアクチュエータによっ
て、必要に応じて開閉されるようになっている。
室７とを連通する連通部８が設けられている。この連通
部８は、図１に示すように、区画壁５の一部に形成さ
れ、研磨室６および洗浄室７にそれぞれ開口する開口部
８ａ・８ｂを有する小空間である。この連通部８の開口
部８ａ・８ｂには、それぞれ独立に駆動される遮蔽扉９
・１０が設けられている。この遮蔽扉９・１０は、例え
ば、エアシリンダ１１・１２等のアクチュエータによっ
て、必要に応じて開閉されるようになっている。
【００１５】この連通部８内には、先端に把持ハンド１
３を有する旋回アームのような移動手段１４が設けられ
ている。この移動手段１４は、図１に示すように、水平
状態に配されるアーム１５を水平旋回させることによっ
て、その先端に設けられている把持ハンド１３を連通部
８の各開口部８ａ・８ｂから連通部８の外部に突出させ
ることができるようになっている。そして、研磨装置３
によって研磨された後のウエハ２を、把持ハンド１３に
よって一枚ずつ把持するとともに、アーム１５を水平旋
回させてウエハ２を搬送し、開口部８ｂの外方に配され
ている洗浄装置４に移載することができるようになって
いる。
３を有する旋回アームのような移動手段１４が設けられ
ている。この移動手段１４は、図１に示すように、水平
状態に配されるアーム１５を水平旋回させることによっ
て、その先端に設けられている把持ハンド１３を連通部
８の各開口部８ａ・８ｂから連通部８の外部に突出させ
ることができるようになっている。そして、研磨装置３
によって研磨された後のウエハ２を、把持ハンド１３に
よって一枚ずつ把持するとともに、アーム１５を水平旋
回させてウエハ２を搬送し、開口部８ｂの外方に配され
ている洗浄装置４に移載することができるようになって
いる。
【００１６】また、連通部８には、図１に示すように、
該連通部８内にミスト状の純水を噴出するノズルのよう
な散水手段１６よりなる加湿手段１７が設けられてい
る。この加湿手段１７は、図示しない純水供給源から供
給される純水を常時噴出していて、連通部８を遮蔽する
ウォータカーテンＷ1を形成するようになっている。ま
た、連通部８の下部には、図示しない排出口が設けられ
ており、落下した純水を回収して外部に排出するように
なっている。なお、図において、符号１８は研磨前のウ
エハ２を貯蓄しておくカセット、１９は研磨後のウエハ
２を貯蓄しておくカセット、２０はカセット１９を浸水
状態に収納する水槽、２１は研磨装置３から研磨された
ウエハ２をカセット１９に移し替える移載ロボットであ
る。
該連通部８内にミスト状の純水を噴出するノズルのよう
な散水手段１６よりなる加湿手段１７が設けられてい
る。この加湿手段１７は、図示しない純水供給源から供
給される純水を常時噴出していて、連通部８を遮蔽する
ウォータカーテンＷ1を形成するようになっている。ま
た、連通部８の下部には、図示しない排出口が設けられ
ており、落下した純水を回収して外部に排出するように
なっている。なお、図において、符号１８は研磨前のウ
エハ２を貯蓄しておくカセット、１９は研磨後のウエハ
２を貯蓄しておくカセット、２０はカセット１９を浸水
状態に収納する水槽、２１は研磨装置３から研磨された
ウエハ２をカセット１９に移し替える移載ロボットであ
る。
【００１７】次に、このように構成されたウエハ２の製
造装置１の作用について、以下に説明する。まず、研磨
装置１の作動によって、研磨剤を供給されながら研磨さ
れたウエハ２は、移載ロボット２１の作動によってカセ
ット１９に移載され、該カセット１９内に一旦貯留状態
に保持される。
造装置１の作用について、以下に説明する。まず、研磨
装置１の作動によって、研磨剤を供給されながら研磨さ
れたウエハ２は、移載ロボット２１の作動によってカセ
ット１９に移載され、該カセット１９内に一旦貯留状態
に保持される。
【００１８】一方、連通部８においては、加湿手段１７
が作動され、連通部８内にウォータカーテンＷ1が形成
されている。この状態で、研磨室６側のエアシリンダ１
１が作動され、遮蔽扉９が開かれると同時に、移動手段
１４が作動させられて、アーム１５が研磨室６側の開口
部８ａから突出させられる。そして、アーム１５先端の
把持ハンド１３がカセット１９の中からウエハ２を把持
して取り出し、アーム１５を再度旋回させてウエハ２を
連通部８内に配するとともに、前記エアシリンダ１１を
作動させて遮蔽扉９により開口部８ａを閉鎖する。
が作動され、連通部８内にウォータカーテンＷ1が形成
されている。この状態で、研磨室６側のエアシリンダ１
１が作動され、遮蔽扉９が開かれると同時に、移動手段
１４が作動させられて、アーム１５が研磨室６側の開口
部８ａから突出させられる。そして、アーム１５先端の
把持ハンド１３がカセット１９の中からウエハ２を把持
して取り出し、アーム１５を再度旋回させてウエハ２を
連通部８内に配するとともに、前記エアシリンダ１１を
作動させて遮蔽扉９により開口部８ａを閉鎖する。
【００１９】これにより、ウエハ２は、ウォータカーテ
ンＷ1内に配され、十分に湿らされることになる。そし
て、洗浄室７側のエアシリンダ１２を作動させて遮蔽扉
１０を上昇させ開口部８ｂを開いた後に、アーム１５を
旋回させて開口部８ｂからアーム１５先端を洗浄室７内
に突出させ、把持ハンド１３に把持されたウエハ２を洗
浄装置４に移し替えることにより、洗浄装置４による洗
浄が実施される。
ンＷ1内に配され、十分に湿らされることになる。そし
て、洗浄室７側のエアシリンダ１２を作動させて遮蔽扉
１０を上昇させ開口部８ｂを開いた後に、アーム１５を
旋回させて開口部８ｂからアーム１５先端を洗浄室７内
に突出させ、把持ハンド１３に把持されたウエハ２を洗
浄装置４に移し替えることにより、洗浄装置４による洗
浄が実施される。
【００２０】このように、本実施例に係るウエハ２の製
造装置１によれば、研磨室６と洗浄室７とが区画壁５に
よって区画されかつこれら研磨室６と洗浄室７とを連通
する連通部８が加湿手段１７によって形成されたウォー
タカーテンＷ1によって遮蔽されており、区画壁５の研
磨装置３側には、研磨後のウエハ２を貯蓄しておくカセ
ット１９と、カセット１９を浸水状態に収納する水槽２
０とが設けられているので、研磨室６の空気中に浮遊し
ている研磨剤の微粉等を洗浄室６に進入しないように保
持することができる。また、研磨装置３によって研磨さ
れたウエハ２は、ウォータカーテンＷ1が形成されてい
る連通部８を通過させられることによって、付着してい
る研磨剤等の塵埃をウォータカーテンＷ1によって洗い
流され、洗浄室７には湿った状態で供給される。これに
より、供給されたウエハ２から研磨剤の塵埃等が洗浄室
７内に放出されないように保持することができる。
造装置１によれば、研磨室６と洗浄室７とが区画壁５に
よって区画されかつこれら研磨室６と洗浄室７とを連通
する連通部８が加湿手段１７によって形成されたウォー
タカーテンＷ1によって遮蔽されており、区画壁５の研
磨装置３側には、研磨後のウエハ２を貯蓄しておくカセ
ット１９と、カセット１９を浸水状態に収納する水槽２
０とが設けられているので、研磨室６の空気中に浮遊し
ている研磨剤の微粉等を洗浄室６に進入しないように保
持することができる。また、研磨装置３によって研磨さ
れたウエハ２は、ウォータカーテンＷ1が形成されてい
る連通部８を通過させられることによって、付着してい
る研磨剤等の塵埃をウォータカーテンＷ1によって洗い
流され、洗浄室７には湿った状態で供給される。これに
より、供給されたウエハ２から研磨剤の塵埃等が洗浄室
７内に放出されないように保持することができる。
【００２１】さらに、研磨室６と洗浄室７との間には圧
力差が発生させられているので、研磨室６から洗浄室７
への塵埃の漏洩防止効果を向上することができる。そし
て、連通部８は、遮蔽扉９・１０によって閉塞されるの
で、ウォータカーテンＷ1の純水が研磨室６あるいは洗
浄室７に飛散しないように保持することができる。
力差が発生させられているので、研磨室６から洗浄室７
への塵埃の漏洩防止効果を向上することができる。そし
て、連通部８は、遮蔽扉９・１０によって閉塞されるの
で、ウォータカーテンＷ1の純水が研磨室６あるいは洗
浄室７に飛散しないように保持することができる。
【００２２】なお、本実施例においては、連通部８内に
移動手段１４を設けることとしたが、これに代えて、図
２に示すように、洗浄室７に設置してもよく、また、研
磨室６に設置することとしてもよい。この場合、アーム
１５は、伸縮式あるいは水平関節式等、その長さ寸法を
任意に変化させることができるものを採用すればよい。
また、このような移動手段１４によるウエハ２の移載作
業は、図２に示すように、連通部８の２箇所の開口部８
ａ・８ｂを同時に開口させた状態で行われるが、研磨室
６と洗浄室７との間に圧力差が発生させられているの
で、連通部８内のミスト状の純水は、研磨室６側に引き
込まれ、洗浄室７の清浄度が低下しないように維持する
ことができる。
移動手段１４を設けることとしたが、これに代えて、図
２に示すように、洗浄室７に設置してもよく、また、研
磨室６に設置することとしてもよい。この場合、アーム
１５は、伸縮式あるいは水平関節式等、その長さ寸法を
任意に変化させることができるものを採用すればよい。
また、このような移動手段１４によるウエハ２の移載作
業は、図２に示すように、連通部８の２箇所の開口部８
ａ・８ｂを同時に開口させた状態で行われるが、研磨室
６と洗浄室７との間に圧力差が発生させられているの
で、連通部８内のミスト状の純水は、研磨室６側に引き
込まれ、洗浄室７の清浄度が低下しないように維持する
ことができる。
【００２３】次に、本発明に係るウエハの製造装置の他
の実施例について、図３を参照して説明する。本実施例
の製造装置３０は、上記実施例と連通部３１の構造にお
いて相違している。この製造装置３０における連通部３
１は、区画壁５の最下部に配される水槽３２よりなる加
湿手段と、水槽３２内に配されるコンベヤ３３とこれに
ウエハ２を受け渡す移載ロボット３４・３５とからなる
移動手段３６とを具備している。
の実施例について、図３を参照して説明する。本実施例
の製造装置３０は、上記実施例と連通部３１の構造にお
いて相違している。この製造装置３０における連通部３
１は、区画壁５の最下部に配される水槽３２よりなる加
湿手段と、水槽３２内に配されるコンベヤ３３とこれに
ウエハ２を受け渡す移載ロボット３４・３５とからなる
移動手段３６とを具備している。
【００２４】前記水槽３２には、純水が貯留され、ある
いは、適宜、循環・瀘過させられている。この純水の水
面Ｗ2は、前記区画壁５によって区画されており、研磨
室６と洗浄室７とが、この水槽３２の水中において連通
されるようになっている。前記コンベヤ３３は、研磨室
６と洗浄室７とに跨がるように水槽３２内に設置されて
おり、研磨室６から洗浄室７にウエハ２を搬送するよう
になっている。
いは、適宜、循環・瀘過させられている。この純水の水
面Ｗ2は、前記区画壁５によって区画されており、研磨
室６と洗浄室７とが、この水槽３２の水中において連通
されるようになっている。前記コンベヤ３３は、研磨室
６と洗浄室７とに跨がるように水槽３２内に設置されて
おり、研磨室６から洗浄室７にウエハ２を搬送するよう
になっている。
【００２５】前記移載ロボット３４・３５は、研磨室６
と洗浄室７とにそれぞれ設置された、例えば、円筒座標
径のロボットであって、それぞれのアームの先端に把持
ハンド１３を有している。そして、研磨室６に配されて
いる移載ロボット３４は、把持ハンド１３によって、研
磨されたウエハ２を収納しているカセット１９を、カセ
ット１９ごと把持して搬送し、水槽３２内のコンベア３
３に移載することができるようになっている。また、洗
浄室７に配されている移載ロボット３４は、コンベア３
３によって搬送されてきたカセット１９を把持して洗浄
装置４に投入することができるようになっている。
と洗浄室７とにそれぞれ設置された、例えば、円筒座標
径のロボットであって、それぞれのアームの先端に把持
ハンド１３を有している。そして、研磨室６に配されて
いる移載ロボット３４は、把持ハンド１３によって、研
磨されたウエハ２を収納しているカセット１９を、カセ
ット１９ごと把持して搬送し、水槽３２内のコンベア３
３に移載することができるようになっている。また、洗
浄室７に配されている移載ロボット３４は、コンベア３
３によって搬送されてきたカセット１９を把持して洗浄
装置４に投入することができるようになっている。
【００２６】このように構成されたウエハ２の製造装置
３０によれば、研磨装置３によって研磨されたウエハ２
はカセット１９に収納された状態で、水槽３２に貯留さ
れている純水内に完全に浸漬されるので、その表面に付
着している研磨剤その他の塵埃を洗い落とされるととも
に、ウエハ２自体も確実に濡れた状態とされる。したが
って、清浄度の比較的低い研磨室６と清浄度の高い洗浄
室７とが、連通部３１においても水槽３２に貯留された
純水によって隔離状態に区画され、搬送されたウエハ２
からも塵埃が放出されることがないので、洗浄室７内の
清浄度を維持することができる。
３０によれば、研磨装置３によって研磨されたウエハ２
はカセット１９に収納された状態で、水槽３２に貯留さ
れている純水内に完全に浸漬されるので、その表面に付
着している研磨剤その他の塵埃を洗い落とされるととも
に、ウエハ２自体も確実に濡れた状態とされる。したが
って、清浄度の比較的低い研磨室６と清浄度の高い洗浄
室７とが、連通部３１においても水槽３２に貯留された
純水によって隔離状態に区画され、搬送されたウエハ２
からも塵埃が放出されることがないので、洗浄室７内の
清浄度を維持することができる。
【００２７】その結果、研磨室６と洗浄室７とを確実に
隔離しつつ、研磨されたウエハ２を研磨室６から洗浄室
７に搬送することができるので、研磨装置３と洗浄装置
７とを隣接配置して両工程を連続させることができる。
これにより、ウエハ２の製造効率を向上することができ
るとともに、設備面積の縮小、付帯設備の排除を実施し
得て、設備コストの大幅な低減を図ることができる。
隔離しつつ、研磨されたウエハ２を研磨室６から洗浄室
７に搬送することができるので、研磨装置３と洗浄装置
７とを隣接配置して両工程を連続させることができる。
これにより、ウエハ２の製造効率を向上することができ
るとともに、設備面積の縮小、付帯設備の排除を実施し
得て、設備コストの大幅な低減を図ることができる。
【００２８】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明に係るウエ
ハの製造装置によれば、研磨装置と洗浄装置とを隣接配
置し、これらの間に、両装置を隔離状態に区画する区画
壁を設けてなり、この区画壁に、研磨装置から洗浄装置
にウエハを受け渡すための連通部を設け、連通部を通過
させられるウエハを湿らせる加湿手段と、ウエハを研磨
装置から洗浄装置に移動させる移動手段とを設け、区画
壁の研磨装置側に、研磨後のウエハを貯蓄しておくカセ
ットと、カセットを浸水状態に収納する水槽とを設けた
ので、区画壁によって研磨装置側の塵埃が洗浄装置側に
漏洩しないように保持することができるとともに、連通
部を通過させられるウエハが湿らされ、付着している塵
埃が洗浄装置側に放出されないように保持することがで
きるという効果を奏する。これによって、洗浄装置が設
置されている空間の清浄度の低下が防止されるので、研
磨工程と洗浄工程とを連続させることが可能となり、ウ
エハの製造効率を向上させることができる。しかも、研
磨装置と洗浄装置とを隣接配置し得て、設置面積を最小
限に抑制し、エアーシャワー室等の付帯設備を排除し
て、設備コストの大幅な低減を図ることができる。
ハの製造装置によれば、研磨装置と洗浄装置とを隣接配
置し、これらの間に、両装置を隔離状態に区画する区画
壁を設けてなり、この区画壁に、研磨装置から洗浄装置
にウエハを受け渡すための連通部を設け、連通部を通過
させられるウエハを湿らせる加湿手段と、ウエハを研磨
装置から洗浄装置に移動させる移動手段とを設け、区画
壁の研磨装置側に、研磨後のウエハを貯蓄しておくカセ
ットと、カセットを浸水状態に収納する水槽とを設けた
ので、区画壁によって研磨装置側の塵埃が洗浄装置側に
漏洩しないように保持することができるとともに、連通
部を通過させられるウエハが湿らされ、付着している塵
埃が洗浄装置側に放出されないように保持することがで
きるという効果を奏する。これによって、洗浄装置が設
置されている空間の清浄度の低下が防止されるので、研
磨工程と洗浄工程とを連続させることが可能となり、ウ
エハの製造効率を向上させることができる。しかも、研
磨装置と洗浄装置とを隣接配置し得て、設置面積を最小
限に抑制し、エアーシャワー室等の付帯設備を排除し
て、設備コストの大幅な低減を図ることができる。
【００２９】また、上記ウエハの製造装置において加湿
手段を散水手段とすれば、粉霧状の純水によるウォータ
カーテンによって連通部が遮断され、該連通部を通過さ
せられるウエハを確実に湿らせて、洗浄装置の配されて
いる空間への塵埃の放出を防止することができるという
効果を奏する。
手段を散水手段とすれば、粉霧状の純水によるウォータ
カーテンによって連通部が遮断され、該連通部を通過さ
せられるウエハを確実に湿らせて、洗浄装置の配されて
いる空間への塵埃の放出を防止することができるという
効果を奏する。
【００３０】さらに、加湿手段を純水を貯留する水槽に
より構成し、連通部を水中に形成することとすれば、連
通部を水槽の純水によって確実に閉塞し、しかも、この
連通部を通過させられるウエハを完全に水中に浸漬させ
ることができるので、洗浄装置の配されている空間の清
浄度をより確実に維持することができるという効果を奏
する。
より構成し、連通部を水中に形成することとすれば、連
通部を水槽の純水によって確実に閉塞し、しかも、この
連通部を通過させられるウエハを完全に水中に浸漬させ
ることができるので、洗浄装置の配されている空間の清
浄度をより確実に維持することができるという効果を奏
する。
【図１】本発明に係るウエハの製造装置の一実施例を示
す正面図である。
す正面図である。
【図２】図１のウエハの製造装置の変形例を示す正面図
である。
である。
【図３】本発明に係るウエハの製造装置の他の実施例を
示す正面図である。
示す正面図である。
１・３０ 製造装置 ２ ウエハ ３ 研磨装置 ４ 洗浄装置 ５ 区画壁 ８・３１ 連通部 １４・３６ 移動手段 １６ 散水手段 １７ 加湿手段 ３２ 水槽 Ｗ1 ウォータカーテン Ｗ2 水面
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−135192（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−254583（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−230974（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−223142（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−5524（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−253031（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−127126（ＪＰ，Ｕ) 実開 平２−8031（ＪＰ，Ｕ) 実開 平２−108334（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 622 H01L 21/304 648 H01L 21/304 621 H01L 21/304 643
Claims (3)
- 【請求項１】 ウエハを研磨する研磨装置と、研磨され
たウエハを洗浄する洗浄装置とを隣接配置するととも
に、 これら研磨装置と洗浄装置との間に、各装置を含む空間
を隔離状態に区画する区画壁を設けてなり、 該区画壁に、研磨装置側と洗浄装置側とを連通するよう
に形成され研磨装置から洗浄装置にウエハを受け渡すた
めの連通部を設け、 該連通部に、この連通部を通過させられるウエハを湿ら
せる加湿手段と、ウエハを研磨装置から洗浄装置に移動
させる移動手段とを設け、 前記区画壁の研磨装置側に、研磨後のウエハを貯蓄して
おくカセットと、該カセットを浸水状態に収納する水槽
とを設けた ことを特徴とするウエハの製造装置。 - 【請求項２】 加湿手段が、粉霧状の純水を散布するこ
とにより連通部を遮断するようにウォータカーテンを形
成する散水手段よりなることを特徴とする請求項１記載
のウエハの製造装置。 - 【請求項３】 加湿手段が、純水を貯留する水槽よりな
り、連通部がこの水槽の水中に形成されていることを特
徴とする請求項１記載のウエハの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5089394A JP3132284B2 (ja) | 1994-03-22 | 1994-03-22 | ウエハの製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5089394A JP3132284B2 (ja) | 1994-03-22 | 1994-03-22 | ウエハの製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07263387A JPH07263387A (ja) | 1995-10-13 |
| JP3132284B2 true JP3132284B2 (ja) | 2001-02-05 |
Family
ID=12871420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5089394A Expired - Fee Related JP3132284B2 (ja) | 1994-03-22 | 1994-03-22 | ウエハの製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3132284B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000040679A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-08 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP4467241B2 (ja) * | 2003-01-28 | 2010-05-26 | 信越半導体株式会社 | 半導体ウエーハの製造方法 |
| CN110729219B (zh) * | 2019-10-25 | 2021-12-07 | 江苏佳晟精密设备科技有限公司 | 一种半导体研磨机组件 |
-
1994
- 1994-03-22 JP JP5089394A patent/JP3132284B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07263387A (ja) | 1995-10-13 |
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|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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