JP3128915B2

JP3128915B2 - 熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリマー組成物

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Publication number: JP3128915B2
Application number: JP03355986A
Authority: JP
Inventors: 禎二小原; 伊男夏梅
Original assignee: Zeon Corp
Current assignee: Zeon Corp
Priority date: 1991-02-04
Filing date: 1991-12-20
Publication date: 2001-01-29
Anticipated expiration: 2016-01-29
Also published as: KR100191178B1; JPH0539403A; KR920016489A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク基板などの
光学材料として有用な樹脂材料に関し、さらに詳しく
は、光ディスクの情報記録膜（以下、「記録膜」と略
記）、あるいはアクリル系紫外線硬化型塗料などの塗布
膜からなる保護膜やハードコート膜（以下、これらを
「保護膜」と略記）などとの密着性に優れた熱可塑性飽
和ノルボルネン系ポリマー組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリマー
は、光ディスク基板などの光学材料として優れた特徴を
有する公知の樹脂材料である（特開昭６０−２６０２４
号公報、特開昭６０−１６８７０８号公報、特開昭６１
−１１５９１２号公報、特開昭６１−１２０８１６号公
報、特開昭６３−２１８７２７号公報、特開昭６３−３
１７５２０号公報、特開平１−１３２６２８号公報、特
開平１−１６８７２４号公報、特開平１−１６８７２５
号公報、特開平１−１７２４２２号公報、特開平３−１
４８８２号公報、特開平３−１２２１３７号公報な
ど）。

【０００３】熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリマーで形
成された光学部品は、透明性、耐熱性、低吸湿性、低複
屈折性などに優れている。また、熱可塑性飽和ノルボル
ネン系ポリマーは、高流動性で、離型性が良好であるな
ど成形性にも優れている。しかしながら、熱可塑性飽和
ノルボルネン系ポリマーで形成された光ディスク基板に
記録膜を形成した後、保護膜を形成するために、アクリ
ル系紫外線硬化型塗料をコートした場合、熱可塑性飽和
ノルボルネン系ポリマー表面に対する保護膜（塗膜）の
密着性が必ずしも十分とはいえなかった。

【０００４】ところで、熱可塑性飽和ノルボルネン系ポ
リマーに多価アルコールの部分エステル化物を配合する
ことにより、光ディスク基板の成形性および記録膜の高
温高湿雰囲気下での密着性を改良することが提案されて
いる（特開昭６３−２７５６５４号公報）。しかし、該
公報に例示されているグリセリンまたはペンタエリスリ
トールの脂肪酸エステルは、熱可塑性飽和ノルボルネン
系ポリマーに対する相溶性が不十分でブリードし易く、
ガラス転移温度も大きく低下し、また、記録膜との密着
性改善のためには添加量を多くする必要があるなどの問
題がある。さらに、光ディスクに使用するアクリル系紫
外線硬化型保護コート膜との密着性向上については、効
果は認められなかった。

【０００５】一方、合成樹脂としてポリカーボネートを
用いて光ディスク基板やレンズを成形する場合におい
て、グリセリンのアルキルエーテルを配合することによ
り、成形時の離型性を改善することが提案されているが
（特開平１−３１５４６０号公報）、これは保護膜等と
の密着性を改善するものではない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、熱可
塑性飽和ノルボルネン系ポリマーが有する耐熱性や透明
性を損なうことなく、光ディスクの記録膜との密着性、
およびアクリル系紫外線硬化型塗料をコートした保護膜
やハードコート膜などとの密着性に優れた樹脂組成物を
提供することにある。

【０００７】本発明者らは、前記従来技術の有する問題
点を克服するために鋭意研究した結果、熱可塑性飽和ノ
ルボルネン系ポリマーに多価アルコールの部分エーテル
化物を配合することにより、成形性を損なうことなく、
従来公知のグリセリンまたはペンタエリスリトールの脂
肪酸エステルの如き多価アルコールの脂肪酸エステルを
配合した場合よりも、相溶性に優れているためブリード
が抑制され、ガラス転移温度の低下が少なく、記録膜と
の密着性も少量の添加で改善効果が大きく、しかもアク
リル系紫外線硬化型塗料を塗布してなる保護膜との密着
性も改善されることを見出し、その知見に基づいて本発
明を完成するに至った。

【０００８】

【課題を解決するための手段】かくして、本発明によれ
ば、熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリマーに３価以上の
多価アルコールの部分エーテル化物を配合してなること
を特徴とする熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリマー組成
物が提供される。

【０００９】また、本発明によれば、前記組成物を用い
た光ディスク基板、該光ディスク基板を用いた光ディス
クが提供される。以下、本発明について詳述する。

【００１０】（熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリマー）
本発明のベースポリマーは、上記公報などで公知の熱可
塑性飽和ノルボルネン系ポリマーである。熱可塑性飽和
ノルボルネン系ポリマーとしては、（ａ）ノルボルネン
系モノマーの開環重合体（共重合体を含む）の水素添加
物、および（ｂ）ノルボルネン系モノマーと、エチレン
および／またはα−オレフィンなどのオレフィン系モノ
マーとの共重合体を挙げることができ、実質的に不飽和
結合を有さないものである。

【００１１】ノルボルネン系モノマーも上記公報や特開
平２−２２７４２４号公報、特開平２−２７６８４２号
公報などで公知のものであり、例えば、ノルボルネン、
メタノオクタヒドロナフタレン、ジメタノオクタヒドロ
ナフタレン、ジメタノドデカヒドロアントラセン、トリ
メタノドデカヒドロアントラセン、およびそれらの置換
体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロ
ペンタジエン、メタノオクタヒドロベンゾインデン、ジ
メタノオクタヒドロベンゾインデン、メタノデカヒドロ
ベンゾインデン、ジメタノデカヒドロベンゾインデン、
メタノオクタヒドロフルオレン、ジメタノオクタヒドロ
フルオレン、およびそれらの置換体；などを挙げること
ができる。上記置換体における置換基は、従来から周知
のものであれば炭化水素基および極性基のいずれでもよ
く、例えば、アルキル基、アルキリデン基、アリール
基、シアノ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル
基、ピリジル基などが例示される。ノルボルネン系モノ
マーは、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わ
せて用いることができる。

【００１２】ノルボルネン系モノマーの開環重合体の水
素添加物のガラス転移温度を１００℃以上とするために
は、上記モノマーの中でも四環体または五環体のものを
使用するか、あるいは、これらを主成分とし、二環体や
三環体のモノマーと併用することが好ましい。また、共
重合成分として、他のシクロオレフィン類、例えば、シ
クロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロ
ヘプテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロ
ペンタジエン等を、通常、３０重量％以下の範囲で用い
ることができる。

【００１３】ノルボルネン系モノマーの開環重合体は、
公知の開環重合法、例えば、四ハロゲン化チタンなどの
遷移金属化合物と有機アルミニウム化合物などの有機金
属および第三級アミンからなる触媒系を用いて、チタン
成分とモノマーとを逐次添加する方法で得ることができ
る。もちろん、他の触媒系で調製したものであっても使
用することができる。開環重合は、溶媒を用いなくても
可能であるが、通常は、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪
族炭化水素、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素等の
不活性有機溶媒中で実施される。重合温度は、−２０℃
〜１００℃、重合圧力は、０〜５０ｋｇ／ｃｍ²の範囲
からそれぞれ選択されるのが通常である。

【００１４】ノルボルネン系モノマーの開環重合体の水
素添加物は、オレフィン化合物の水素化に際して使用さ
れている周知の水素添加触媒、例えば、ウィルキンソン
錯体、酢酸コバルト／トリエチルアルミニウム、ニッケ
ルアセチルアセテート／トリイソブチルアルミニウム、
パラジウム−カーボン、ルテニウム−カーボン、ニッケ
ル−けいそう土等、を使用することにより製造される。
水素化反応は、触媒の種類により均一系または不均一系
で、通常、１〜２００気圧の水素圧下、０〜２５０℃で
行なわれる。水素添加率は、耐熱劣化性、耐光劣化性な
どの観点から、９０％以上、好ましくは９５％以上、さ
らに好ましくは９９％以上とすることが望ましい。

【００１５】ノルボルネン系モノマーとエチレンおよび
／またはα−オレフィンとの共重合体も、公知の重合方
法により共重合して得られる。

【００１６】使用されるオレフィン系モノマーとして
は、エチレンと、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテ
ン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、３−メ
チル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、４−メ
チル−１−ペンテン、ビニルシクロヘキサン、４−ビニ
ルシクロヘキセンなどのα−オレフィンを挙げることが
できる。これらのオレフィン系モノマーは、それぞれ単
独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることがで
きる。

【００１７】本発明の目的を損なわない範囲において、
共重合体の製造過程で、シクロオレフィンやジオレフィ
ンなどの他のモノマー成分を共重合させたものであって
も構わない。共重合体が飽和ポリマーである場合には、
そのまま使用できるが、不飽和結合を有する場合、水素
添加することが好ましい。

【００１８】これらの熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリ
マーの分子量は、分子量を判断する基準として、デカリ
ンまたはクロロベンゼン中、８０℃で測定した極限粘度
を用いて示すと、通常、０．３〜３．０ｄｌ／ｇの範
囲、好ましくは、０．４〜１．０ｄｌ／ｇの範囲のもの
である。

【００１９】（多価アルコールの部分エーテル化物）本
発明で使用する多価アルコールの部分エーテル化物にお
ける多価アルコールは、少なくとも３個以上の水酸基を
有するもの、好ましくは３〜８個の水酸基を有するもの
である。

【００２０】３価以上の多価アルコールの具体例として
は、例えば、グリセロール、トリメチロールプロパン、
ペンタエリスリトール、ジグリセロール、トリグリセロ
ール、ジペンタエリスリトール、１，６，７−トリヒド
ロキシ−２，２−ジ（ヒドリキシメチル）−４−オキソ
ヘプタン、ソルビトール、２−メチル−１，６，７−ト
リヒドロキシ−２−ヒドロキシメチル−４−オキソヘプ
タン、１，５，６−トリヒドロキシ−３−オキソヘキサ
ン、などを挙げることができる。

【００２１】本発明では、上記の如き多価アルコールの
アルコール性水酸基の一部をエーテル化した部分エーテ
ル化物を使用する。この部分エーテル化物は、本発明の
組成物を成形した場合のブリードの発生を抑制するた
め、通常、分子量２００〜８００、好ましくは２５０〜
６５０であり、エーテル化していないフリーのアルコー
ル性水酸基を一分子中に１個以上、好ましくは２〜１６
個、より好ましくは２〜１０個有しているものであり、
多価アルコールのアルコール性水酸基の１０〜５０％、
より好ましくは１２〜３５％がエーテル化されたもので
ある。エーテル化に用いる置換基は、必ずしも限定され
ないが、炭素数４〜１００個のもので、炭素数４〜３０
個のものが好ましく、炭素数８〜２２個のものが特に好
ましい。好ましい具体例としては、炭素数４〜３０個の
直鎖状あるいは分枝状アルキル基、アルキレン基、炭素
数６〜３０個のアリール基、アリーレン基が例示され
る。炭素数が少なすぎると、揮発しやすく、成形品にブ
リードが発生しやすくなる。炭素数が多すぎると、熱可
塑性飽和ノルボルネン系ポリマーとの相溶性に劣る。

【００２２】また、エーテル化には、フェノール類とア
ルデヒド類および／またはケトン類とを縮合させた化合
物、該縮合物の水素添加物、フェノール類とジオレフィ
ン類などの不飽和炭化水素とをフリーデル・クラフツ反
応により縮合させた化合物、該縮合物の水素添加物、こ
れらの２種以上の混合物などを用いてもよい。これらの
化合物では、通常、炭素数１３〜１００個、好ましくは
１５〜７５個、さらに好ましくは１３〜３０個のノボラ
ック型縮合残基またはそれが水素添加されたものが置換
基としてエーテル化に用いられる。これらの中でも、縮
合度が４以下のものが好ましい。縮合度が大きすぎると
相溶性が悪くなる。好ましい縮合度は、縮合物中の分子
の平均で１．５〜４．０である。この場合、エーテル化
物の分子量は、通常２８０〜２０００、好ましくは３５
０〜１５００である。フェノール類としては、フェノー
ル、ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフ
ェノール、クレゾールなどが挙げられ、アルデヒド類と
しては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピ
オンアルデヒド、ブチルアルデヒドなどが挙げられ、ケ
トン類としては、アセトン、メチル−エチル・ケトン、
メチル−イソブチル・ケトン、シクロヘキサノン、アセ
トフェノンなどが挙げられる。ジオレフィン類として
は、ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン・
ジシクロペンタジエンなどが挙げられる。

【００２３】アルキル基としては、例えば、ブチル基、
イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、２−メチル
ブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、
シクロヘキシル基、ベンジル基、オクチル基、２−エチ
ルヘキシル基、ノミル基、デシル基、セチル基、ラウリ
ル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、ア
ラキジル基、ベヘニル基、オレイル基、などが挙げられ
る。

【００２４】アルキレン基としては、例えば、ブチレン
基、オクチルエチレン基、１，４−シクロヘキシレン
基、オクタメチレン基、デカメチレン基、などが挙げら
れる。アリール基としては、例えば、フェニル基、２−
メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−オクチ
ルフェニル基、４−ノニルフェニル基、４−クミルフェ
ニル基、ナフチル基、４−フェニルフェニル基、などが
挙げられる。

【００２５】アリーレン基としては、例えば、１，４−
フェニレン基、４，４′−ビフェニレン基、１，４−フ
ェニレン−イソプロピリデン−１，４−フェニレン基、
１，４−フェニレンオキシ−１，４−フェニレン基、
１，４−（２′−ｔ−ブチル−５′−メチル）フェニレ
ン−ブチリデン−１，４−（２′−メチル−５′−ｔ−
ブチル）フェニレン基などが挙げられる。

【００２６】また、フェノール類とアルデヒド類および
／またはケトン類の縮合物として、ｐ−ノニルフェノー
ルとホルムアルデヒドの縮合体、ｐ−オクチルフェノー
ルとホルムアルデヒドの縮合体、ｐ−オクチルフェノー
ルとアセトンの縮合体など、フェノール類とジオレフィ
ン類の縮合物として、ｐ−オクチルフェノールとジシク
ロペンタジエンとの縮合体など、が挙げられる。このよ
うな縮合物によるエーテル化物は、実際に縮合して製造
するほか、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂を加
水分解しても得ることができる。

【００２７】例えば、３価以上の多価アルコールとして
グリセロールまたはポリグリセロールを用いた場合の本
発明の多価アルコールの部分エーテル化物はいろいろあ
るが、その一部は、下記の一般式で表すことができる。

【００２８】Ｒ〔（Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂）_n−ＯＨ〕_m 〔式中、Ｒは、炭素数４〜３０個の直鎖状あるいは分枝
状アルキル基、アルキレン基、アリール基、アリーレン
基、ノボラック型縮合体残基、またはノボラック型縮合
体残基が水素添加されたものを示し、ｎおよびｍは自然
数を示す。〕なお、単一成分のグリセロールまたはポリ
グリセロールの部分エーテル化物の場合は、一般式のｎ
は通常１〜４、好ましくは１〜３、ｍは通常１〜６、好
ましくは１〜４である。通常、グリセロールまたはポリ
グリセロールの部分エーテル化物は、混合物として得ら
れ、精製せずに用いるが、その場合は、用いる部分エー
テル化物全体の平均でｎは通常１．０〜４．０、好まし
くは１．０〜３．０、ｍは通常１．０〜６．０、好まし
くは１．５〜４．０である。ｎまたはｍが大きすぎると
熱可塑性ノルボルネン系ポリマーとの相溶性が低下す
る。

【００２９】このようなグリセロールまたはポリグリセ
ロールの部分エーテル化物は、例えば、１〜４価のアル
コール類あるいは１〜４価のフェノール類とグリシドー
ルとを反応させる方法、エポキシ化合物とグリセロール
あるいはポリグリセロールを反応させる方法などにより
合成することができ、具体例として、３−（オクチルオ
キシ）−１，２−プロパンジオール、３−（デシルオキ
シ）−１，２−プロパンジオール、３−（ラウリルオキ
シ）−１，２−プロパンジオール、３−（ミリスチルオ
キシ）−１，２−プロパンジオール、３−（パルミチル
オキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（ステアリ
ルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（アラキ
ジルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（ベヘ
ニルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（オレ
イルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（２−
エチルヘキシルオキシ）−１，２−プロパンジオール、
３−（２−ヘキシルデシルオキシ）−１，２−プロパン
ジオール、３−フェノキシ−１，２−プロパンジオー
ル、３−（４−メチルフェニルオキシ）−１，２−プロ
パンジオール、３−（４−ｉ−プロピルフェニルオキ
シ）−１，２−プロパンジオール、３−（４−オクチル
フェニルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−
（４−ノニルフェニルオキシ）−１，２−プロパンジオ
ール、３−〔４−〔１−メチル−１−（４−ヒドロキシ
フェニル）エチル〕フェニルオキシ〕−１，２−プロパ
ンジオール、１，６−ジ（２，３−ジヒドリキシプロピ
ルオキシ）ヘキサン、１，４−ジ（２，３−ジヒドロキ
シプロピルオキシ）シクロヘキサン、１，４−ジ（２，
３−ジヒドロキシプロピルオキシ）ベンゼン、２，２−
ビス〔４−（２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ）フ
ェニル〕プロパン、１−（４−ノニルフェニル）−２，
６，７−トリヒドロキシ−４−オキソヘプタン、ポリ
（オキシ−２−ヒドロキシトリメチレン）フェニルエー
テル、ポリ（オキシ−２−ヒドロキシトリメチレン）オ
クチルフェニルエーテル、ポリ（オキシ−２−ヒドロキ
シトリメチレン）ノニルフェニルエーテル、ポリ（オキ
シ−２−ヒドロキシトリメチレン）ラウリルエーテル、
ポリ（オキシ−２−ヒドロキシトリメチレン）セチルエ
ーテル、ポリ（オキシ−２−ヒドロキシトリメチレン）
ステアリルエーテル、ｐ−ノニルフェノールとホルムア
ルデヒドの縮合体とグリシドールの反応により得られる
エーテル化合物、ｐ−オクチルフェノールとホルムアル
デヒドの縮合体とグリシドールの反応により得られるエ
ーテル化合物、ｐ−オクチルフェノールとジシクロペン
タジエンの縮合体とグリシドールの反応により得られる
エーテル化合物、などが挙げられる。

【００３０】その他の３価以上の多価アルコールの部分
エーテル化物としては、例えば、１，６−ジヒドロキシ
−２，２−ジ（ヒドロキシメチル）−７−（４−ノニル
フェニルオキシ）−４−オキソヘプタン、１，６−ジヒ
ドロキシ−２−メチル−２−ヒドロキシメチル−７−
（４−ノニルフェニルオキシ）−４−オキソヘプタン、
２−ヒドロキシメチル−２−（４−ノニルフェニルオキ
シ）メチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−
２−（４−ノニルフェニルオキシ）メチル−１，３−プ
ロパンジオール、２，２，６−トリ（ヒドロキシメチ
ル）−６−（４−ノニルフェニルオキシ）メチル−１，
７−ジヒドロキシ−４−オキシヘプタン、などを挙げる
ことができる。

【００３１】これらの部分エーテル化物は、それぞれ単
独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用するが、そ
の配合割合は、熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリマー１
００重量部に対して、通常、０．０１〜１０重量部、好
ましくは０．１〜５重量部である。この配合量が少ない
と、アクリル系紫外線硬化型塗料を塗布した塗膜（保護
膜）などとの密着性改善効果が小さく、過度に多くなる
と、熱変形温度が著しく低下したり、機械的強度が低下
したりするため、好ましくない。

【００３２】これらの部分エーテル化物は、一般的に、
熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリマーに混合した後、二
軸押出機などにより溶融混練するか、熱可塑性飽和ノル
ボルネン系ポリマーの溶液に添加して溶解させた後、溶
媒を留去するなどの方法で配合することができる。

【００３３】本発明の樹脂組成物には、目的とするアク
リル系紫外線硬化型塗料などからなる保護膜との密着性
の改善効果を妨げない範囲で、酸化防止剤、耐光安定
剤、紫外線吸収剤、染料、難燃剤、水添石油樹脂、帯電
防止剤、耐熱安定剤、などを配合することができる。

【００３４】（光ディスク）本発明の組成物は、通常の
成形法により各種の成形物に成形できるが、特に射出成
形により光ディスク基板などの透明基板を作成するのに
適している。ディスク基板の成形法は、特に限定され
ず、通常のプラスチック成形法、例えば、射出成形、押
出成形、圧縮成形等の成形法が適用できる。かくして作
成した基板上に、情報記録膜および／または光反射膜と
保護膜などを積層することにより、光ディスクを製造す
ることができる。

【００３５】情報記録膜を形成する記録材料としては、
例えば、Ｔｂ−Ｆｅ系合金、Ｄｙ−Ｆｅ系合金、Ｃｄ−
Ｔｂ−Ｆｅ系合金、Ｃｄ−Ｔｂ−Ｄｙ−Ｆｅ系合金、Ｃ
ｄ−Ｃｏ系合金、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ系合金等の希土類−
遷移金属アモルファス合金；例えば、Ｇｅ−Ｔｅ系合
金、Ｓｂ−Ｔｅ系合金、Ｉｎ−Ｓｂ系合金、Ｇｅ−Ｓｂ
−Ｔｅ系合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金等の相変化型記
録材料；例えば、メチン・ポリメチン系、キノン系、フ
タロシアニン系、ジチオール系等の有機色素系記録材
料；例えば、Ｔｅ−ＣＳ₂、Ｐｂ−Ｔｅ−Ｓｅ、Ｔｅ−
Ｃ、ＴｅＯ₂、Ｓｂ−Ｓｅ、Ｂｉ−Ｔｅ等の追記型記録
材料；などを挙げることができる。これらの記録材料
は、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、そ
の他の膜形成方法により基板上に製膜されるが、膜厚
は、通常、５００〜５０００オングストローム程度であ
る。

【００３６】また、金、白金、アルミニウム等を光反射
膜として、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、レーザーディスク等に
用いることができる。また、光反射膜としてニッケル等
の金属を真空蒸着した膜を用いることができる。

【００３７】光ディスクは、表面保護層や記録層との間
に、保護層、反射層、誘電層などを設けてもよい。これ
らの保護層等の層形成材料としては、例えば、ＣｄＳ、
ＺｎＳｅ、ＳｉＯ₂、Ｓｉ、Ｓｉ₃Ｎ、Ｓｉ₃Ｎ₄、Ａｌ
Ｎ、ＴｉＯ₂、ＴａＯ₂、ＭｇＦ₂等の無機物、あるいは
紫外線硬化型塗料などの樹脂を挙げることができる。本
発明の組成物を用いて形成した基板は、従来品と比較し
て、特に、紫外線硬化型塗料などの樹脂保護膜との密着
性に優れている。光ディスクには、単板のものと、２枚
の基板を貼り合わせたものとがある。

【００３８】（用途）本発明の組成物は、通常の成形
法により各種の成形物に成形できるが、特に射出成形に
より光ディスクを始めとする、光学レンズ、光学ミラ
ー、光カード基板、透明カバー、窓材、液晶表示用基
板、透明シート、透明フィルムなどの光学部品を成形す
るのに適しており、アクリル系紫外線硬化型塗料（保護
コート剤）、ハードコート剤などの被膜との密着性の良
い成形品が得られる。これらの用途の中でも、特に、光
ディスク用途では、情報記録膜の保護コート膜としてア
クリル系紫外線硬化型塗料などにより被覆が不可欠であ
るため、特に有用である。

【００３９】

【実施例】以下、本発明について、実施例、参考例およ
び比較例を挙げて具体的に説明するが、本発明は、これ
らの実施例のみに限定されるものではない。また、以下
の実施例、参考例および比較例において、特に断りのな
い限り、部および％は重量基準である。

【００４０】〔参考例１〕ノニルフェノール１ｍｏｌに
対して、グリシドール２ｍｏｌ、トリエチルアミン１０
^-2ｍｏｌ加え、８０℃で１時間反応させた。反応混液１
００部に対してトルエン５０部を加えてポアサイズ０．
５μｍのフィルターで減圧濾過し、その１リットルを１
０ｔｏｒｒ、１５０℃の条件下で２時間スターラーで撹
拌してトルエンとトリエチルアミンを除去し、反応物を
得た。

【００４１】ガスクロマトグラフィーで分析した結果、
ノニルフェノール、グリシドールは検出限界以下であ
り、反応物は全体としてノニルフェノール１分子にグリ
シドール２分子の割合で反応しているポリ（オキシ−２
−ヒドロキシトリメチレン）ノニルフェニルエーテルＨ
Ｏ［ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂Ｏ］_nＣ₆Ｈ₄Ｃ₉Ｈ₁₉（ｎは
自然数であり、全分子の平均ｎは２）であることが確認
された。

【００４２】〔実施例１〕６−エチル−１，４：５，８
−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オ
クタヒドロナフタレンの開環重合体の水素添加物〔デカ
リン中、８０℃で測定した極限粘度が０．５ｄｌ／ｇ、
水添率９９．５％以上〕１００部に対して、部分エーテ
ル化物とし参考例１で得たポリ（オキシ−２−ヒドロキ
シトリメチレン）ノニルフェニルエーテル０．５部、熱
安定剤としてテトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕メタン０．０３部を添加し、二軸押出機（東
芝機械社製、ＴＥＭ−３５）を用いて２３０℃で混練
し、ペレットを作成した。このペレットについて、示差
走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて分析を行ない、組成物の
ガラス転移温度（Ｔｇ）を測定したところ１３７℃であ
った。

【００４３】このペレットを、射出成形機（住友重機械
工業社製、ＤＩＳＣ−５−ＭＩＩＩ）により、樹脂温度
３５０℃、金型温度１１０℃の条件で射出成形を行な
い、直径１３０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの光ディスク基板
を成形した。成形した光ディスク基板の外観を目視検査
および顕微鏡検査を行ったが、ブリードなどの異常は認
められなかった。

【００４４】この光ディスク基板に、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート７５部、ヘキサメチレングリコ
ールジアクリレート２０部、６官能ウレタンアクリレー
ト（新中村化学社製、Ｕ−６ＨＡ）５部、ベンジルジメ
チルケタール５部からなる紫外線硬化型保護コート剤を
スピンコート法により塗布し、８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀
灯で１０ｃｍの距離から５秒間紫外線を照射して硬化さ
せた。硬化した保護膜の表面にセロハン粘着テープ（ニ
チバン株式会社製、商品名セロテープ、ＣＴ１５Ｍ）
を貼り、引き剥したが、保護膜は剥離せず、良好な接着
性を示した。

【００４５】また、成形した光ディスク基板に光反射膜
としてニッケルを真空蒸着した後、ニッケル蒸着面側
に、ニッケル蒸着膜部および非蒸着部を被覆するよう
に、前述と同様にしてアクリル系樹脂保護膜を形成し、
温度７０℃、湿度９０％ＲＨの環境下で２０００間保持
した。その後、光ディスクの外観を検査したが、保護膜
面およびニッケル蒸着面ともに異常は認められず、光反
射膜、およびディスク基板相互の密着性に問題はなかっ
た。また、光ディスクを温度９０℃のオーブン中で１０
０時間保持した後、光ディスク表面を外観検査および触
指検査したが、異常は認められず、ブリードなどは認め
られなかった。

【００４６】〔比較例１〕ポリ（オキシ−２−ヒドロキ
シトリメチレン）ノニルフェニルエーテルを使用しない
こと以外は実施例１と同様にして、６−エチル−１，
４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，
８，８ａ−オクタヒドロナフタレンの開環重合体の水素
添加物１００部に対して、熱安定剤としてテトラキス
〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート〕メタン０．０
３部を添加し、ペレットを作成した。実施例１と同様に
して測定したガラス転移温度は１３８℃であった。

【００４７】このペレットを、実施例１と同様にして射
出成形した光ディスク基板を成形した。成形した光ディ
スク基板の外観を目視検査および顕微鏡検査を行なった
が、ブリードなどの異常は認められなかった。光ディス
ク基板に、実施例１と同様にして保護コート膜を形成
し、実施例１と同様にして接着状況を調べたところ、粘
着テープに接した面の内、面積比で約９０％が剥離し
た。

【００４８】また、この光ディスク基板を用いて、実施
例１と同様に、保護膜を有する光ディスクを作製し耐湿
試験、耐熱試験を行った。光ディスクの外観を検査した
ところ、ブリードは認められなかったが、耐湿試験で光
反射膜面に微細なフクレが発生していた。

【００４９】〔参考例２〕ノニルフェノール１ｍｏｌに
対するグリシドールの量を１ｍｏｌにするほかは参考例
１と同様にして、反応物を得、ガスクロマトグラフィー
で分析した結果、ノニルフェノール、グリシドールは検
出限界以下であり、反応物は３−（４−ノニルフェニル
オキシ）−１，２−プロパンジオールであることが確認
された。

【００５０】〔実施例２〕部分エーテル化物として参考
例２で得た３−（４−ノニルフェニルオキシ）−１，２
−プロパンジオール１部を使用する以外は実施例１と同
様にしてペレットを作成した。実施例１と同様にして測
定したガラス転移温度は１３５℃であった。

【００５１】ついで、実施例１と同様にして光ディスク
基板を成形、保護コート膜を形成した。実施例１と同様
に光ディスク基板の外観検査を行なったが、ブリードな
どの異常は認められなかった。また、実施例１と同様に
保護膜の接着状況を調べたところ、保護膜は剥離せず、
良好な接着性を示した。

【００５２】〔参考例３〕ベヘニルアルコール１ｍｏｌ
に対してグリシドール１ｍｏｌ、トリエチルアミン１０
^-2ｍｏｌ加えた液を反応させる以外は参考例１と同様に
して、反応物を得、ガスクロマトグラフィーで分析した
結果、ベヘニルアルコール、グリシドールは検出限界以
下であり、反応物は全体としてベヘニルアルコール１分
子にグリシドール１分子の割合で反応している３−（ベ
ヘニルオキシ）−１，２−プロパンジオールであること
が確認された。

【００５３】〔実施例３〕部分エーテル化物として参考
例３で得た３−（ベヘニルオキシ）−１，２−プロパン
ジオール１部を使用する以外は実施例１と同様にしてペ
レットを作成した。実施例１と同様にして測定したガラ
ス転移温度は１３４℃であった。

【００５４】ついで、実施例１と同様にして光ディスク
基板を成形、保護コート膜を形成した。実施例１と同様
に光ディスク基板の外観検査を行なったが、ブリードな
どの異常は認められなかった。また、実施例１と同様に
保護膜の接着状況を調べたところ、保護膜は剥離せず、
良好な接着性を示した。

【００５５】〔参考例４〕ビスフェノールＡ１ｍｏｌに
対してグリシドール２ｍｏｌ、トリエチルアミン１０^-2
ｍｏｌ加えた液を反応させる以外は参考例１と同様にし
て、反応物を得、ガスクロマトグラフィーで分析した結
果、ビスフェノールＡ、グリシドールは検出限界以下で
あり、反応物は全体としてビスフェノールＡ１分子にグ
リシドール２分子の割合で反応している２，２−ビス
〔４−（２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ）フェニ
ル〕プロパンであることが確認された。

【００５６】〔実施例４〕部分エーテル化物として参考
例４で得た２，２−ビス〔４−（２，３−ジヒドロキシ
プロピルオキシ）フェニル〕プロパン０．５部を使用す
る以外は実施例１と同様にしてペレットを作成した。実
施例１と同様にして測定したガラス転移温度は１３８℃
であった。

【００５７】ついで、実施例１と同様にして光ディスク
基板を成形、保護コート膜を形成した。実施例１と同様
に光ディスク基板の外観検査を行なったが、ブリードな
どの異常は認められなかった。また、実施例１と同様に
保護膜の接着状況を調べたところ、保護膜は剥離せず、
良好な接着性を示した。

【００５８】〔参考例５〕ステアリルアルコール１ｍｏ
ｌに対してグリシドール２ｍｏｌ、トリエチルアミン１
０^-2ｍｏｌ加えた液を反応させる以外は参考例１と同様
にして、反応物を得、ガスクロマトグラフィーで分析し
た結果、ステアリルアルコール、グリシドールは検出限
界以下であり、反応物は全体としてステアリルアルコー
ル１分子にグリシドール２分子の割合で反応しているポ
リ（オキシ−２−ヒドロキシトリメチレン）ステアリル
エーテルＨＯ［ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂Ｏ］_nＯＣ₁₉Ｈ
₂₇（ｎは自然数であり、全分子の平均ｎは２）であるこ
とが確認された。

【００５９】〔実施例５〕部分エーテル化物として参考
例５で得たポリ（オキシ−２−ヒドロキシトリメチレ
ン）ステアリルエーテル０．５部を使用する以外は実施
例１と同様にしてペレットを作成した。実施例１と同様
にして測定したガラス転移温度は１３７℃であった。

【００６０】ついで、実施例１と同様にして光ディスク
基板を成形、保護コート膜を形成した。実施例１と同様
に光ディスク基板の外観検査を行なったが、ブリードな
どの異常は認められなかった。また、実施例１と同様に
保護膜の接着状況を調べたところ、保護膜は剥離せず、
良好な接着性を示した。

【００６１】〔比較例２〕ポリ（オキシ−２−ヒドロキ
シトリメチレン）ノニルフェニルエーテルの代わりに
２，３−ジヒドロキシプロピルステアレート１部を使用
する以外は実施例１と同様にしてペレットを作成した。
実施例１と同様にして測定したガラス転移温度は１２７
℃と著しく低下した。実施例１と同様にして光ディスク
基板を成形し、光ディスク基板の外観検査を行なった
が、ブリードが認められた。また、実施例１と同様に保
護コート膜を形成し、保護膜の接着状況を調べたとこ
ろ、粘着テープに接した面の内、面積比で約５０％が剥
離した。

【００６２】さらに、この光ディスク基板を用いて、実
施例１と同様に、保護コート膜を有する光ディスクを作
製し耐湿試験を行なった。光ディスクの外観を検査した
ところ、光反射膜面に微細なフクレが発生していた。

【００６３】〔参考例６〕ノニルフェノール１５４０
部、パラホルムアルデヒド１０５部をトルエン１６００
部中でｐ−トルエンスルホン酸１０部の存在下、１００
℃で２時間、縮合反応させた。反応後、反応混合液に水
２００部を加え、十分撹拌し、その後静置して２相に分
離した水を除去した。この洗浄操作を分離した水が中性
になるまで４回繰り返した。得られたノニルフェノール
とホルムアルデヒドの縮合体トルエン溶液を液体クロマ
トグラフィーで分析したところ、ノニルフェノール成分
の平均縮合数は２．０であった。

【００６４】ノニルフェノールとホルムアルデヒドの縮
合体トルエン溶液３１００部に硫酸カルシウム５０部を
加えて脱水し、濾過して硫酸カルシウムを除去した後、
グリシドール６１０部とトリエチルアミン１２部を加え
て、９０℃で２時間、エーテル化反応をおこなった。反
応液をポアサイズ０．５μｍのフィルターで減圧濾過し
た後、窒素を吹き込みながら、徐々に１９０℃まで昇温
し、トルエン、トリエチルアミン、未反応グリシドール
を除去し、反応物１５１０部を得た。反応物の¹Ｈ−Ｎ
ＭＲスペクトルによる分析でグリシドールの一部がポリ
グリシドールとなり、ノニルフェノール由来の繰り返し
単位１単位当りグリシドールが平均１．２分子の割合で
反応している化合物であることが確認された。

【００６５】〔実施例６〕部分エーテル化物として参考
例６で得た、ｐ−ノニルフェノールとホルムアルデヒド
の縮合物とグリシドールの反応物０．５部を使用する以
外は実施例１と同様にしてペレットを作成した。実施例
１と同様にして測定したガラス転移温度は１３８℃であ
った。

【００６６】ついで、実施例１と同様にして光ディスク
基板を成形、保護コート膜を形成した。実施例１と同様
に光ディスク基板の外観検査を行ったが、ブリードなど
の異常は認められなかった。また、実施例１と同様に保
護膜の接着状況を調べたところ、保護膜は剥離せず、良
好な接着性を示した。

【００６７】〔参考例７〕パラホルムアルデヒドを１４
０部とする以外は、参考例６と同様にしてノニルフェノ
ールとホルムアルデヒドの縮合体トルエン溶液を得た。
得られたノニルフェノールとホルムアルデヒドの縮合体
を液体クロマトグラフィーで分析したところ、ノニルフ
ェノール成分の平均縮合数は２．９であった。

【００６８】ノニルフェノールとホルムアルデヒドの縮
合体トルエン溶液３１００部とグリシドール６１０部を
参考例６と同様にして反応させ、反応物１４９０部を得
た。反応物の¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルによる分析でグリ
シドールの一部がポリグリシドールとなり、ノニルフェ
ノール由来の繰り返し単位１単位当りグリシドールが平
均１．２分子の割合で反応している化合物であることが
確認された。

【００６９】〔実施例７〕部分エーテル化物として参考
例７で得た、ｐ−ノニルフェノールとホルムアルデヒド
の縮合物とグリシドールの反応物０．４部を使用する以
外は実施例１と同様にしてペレットを作成した。実施例
１と同様にして測定したガラス転移温度は１３８℃であ
った。

【００７０】ついで、実施例１と同様にして光ディスク
基板を成形、保護コート膜を形成した。実施例１と同様
に光ディスク基板の外観検査を行ったが、ブリードなど
の異常は認められなかった。また、実施例１と同様に保
護膜の接着状況を調べたところ、保護膜は剥離せず、良
好な接着性を示した。

【００７１】〔参考例８〕オクチルフェノール１４４０
部、パラホルムアルデヒド１０５部をトルエン１６００
部中でｐ−トルエンスルホン酸１０部の存在下、１００
℃で２時間、縮合反応させた。反応後、反応液に水２０
０部を加え、十分に撹拌し、その後静置して二層に分離
した水層を除去した。この洗浄操作を分離した水層が中
性になるまで、４回繰り返した。得られたオクチルフェ
ノールとホルムアルデヒドの縮合体トルエン溶液を液体
クロマトグラフィで分析したところ、オクチルフェノー
ル成分の平均縮合数は２．０であった。

【００７２】オクチルフェノールとホルムアルデヒドの
縮合体トルエン溶液３１００部に硫酸カルシウム５０部
を加えて脱水し、濾過して硫酸カルシウムを除去した
後、グリシドール６１０部とトリエチルアミン１２部を
加えて、９０℃で２時間、エーテル化反応を行った。反
応液をポアサイズ０．５μｍのフィルターで減圧濾過し
た後、窒素を吹き込みながら、徐々に１９０℃まで昇温
し、トルエン、トリエチルアミン、未反応グリシドール
を除去し、反応物１４８０部を得た。反応物の¹Ｈ−Ｎ
ＭＲスペクトルによる分析で、グリシドールの一部がポ
リグリシドールとなり、オクチルフェノール由来の繰り
返し単位１単位当りグリシドールが平均１．２分子の割
合で反応している化合物であることが確認された。

【００７３】〔実施例８〕部分エーテル化物として参考
例８で得たオクチルフェノールとホルムアルデヒドの縮
合物とグリシドールの反応物０．５部を使用する以外は
実施例１と同様にしてペレットを作成した。実施例１と
同様にして測定したガラス転移温度は１３７℃であっ
た。

【００７４】次いで、実施例１と同様にして光ディスク
基板を成形、保護膜を形成した。実施例１と同様に光デ
ィスク基板の外観検査を行ったが、ブリードなどの異常
は認められなかった。また、実施例１と同様に保護膜の
接着状況を調べたところ、保護膜は剥離せず、良好な接
着性を示した。

【００７５】

【発明の効果】本発明によれば、熱可塑性飽和ノルボル
ネン系ポリマーが有する耐熱性や透明性を損なうことな
く、光ディスクの記録膜との密着性、およびアクリル系
紫外線硬化型塗料をコートした保護膜やハードコート膜
などとの密着性に優れた樹脂組成物が提供される。ま
た、本発明によれば、この組成物を用いた光ディスク基
板および該基板を用いた光ディスクが提供される。

フロントページの続き (56)参考文献特開平１−315459（ＪＰ，Ａ) 特開昭51−123257（ＪＰ，Ａ) 特開昭48−42041（ＪＰ，Ａ) 特開昭51−77632（ＪＰ，Ａ) 特開昭52−78257（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−98752（ＪＰ，Ａ) 特開昭56−20056（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08L 65/00

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリマーに
３価以上の多価アルコールの部分エーテル化物を配合し
てなることを特徴とする熱可塑性飽和ノルボルネン系ポ
リマー組成物。
【請求項２】３価以上の多価アルコールが３〜８個の
水酸基を有するものである請求項１記載の組成物。
【請求項３】３価以上の多価アルコールの部分エーテ
ル化物が、エーテル化に用いられる置換基の炭素数が４
〜１００個である請求項１または２記載の組成物。
【請求項４】３価以上の多価アルコールの部分エーテ
ル化物が、エーテル化に用いられる置換基の炭素数が４
〜３０個である請求項１ないし３のいずれか１項記載の
組成物。
【請求項５】３価以上の多価アルコールの部分エーテ
ル化物が、フリーのアルコール性水酸基を一分子中に２
〜１６個有しているものである請求項１ないし４のいず
れか１項記載の組成物。
【請求項６】３価以上の多価アルコールの部分エーテ
ル化物が、３価以上の多価アルコールを（ａ）フェノー
ル類とアルデヒド類および／またはケトン類との縮合
物、（ｂ）フェノール類とジオレフィン類との縮合物、
および（ｃ）これらの縮合物の水素添加物からなる群よ
り選ばれる少なくとも１種の化合物で部分エーテル化し
たものである請求項１ないし５のいずれか１項記載の組
成物。
【請求項７】請求項１ないし６のいずれか１項記載の
組成物で形成させた光ディスク基板。
【請求項８】請求項７記載の光ディスク基板に、情報
記録膜および／または光反射膜と保護膜が積層されてな
る光ディスク。