JP2001222842A

JP2001222842A - 貼り合わせ光ディスク

Info

Publication number: JP2001222842A
Application number: JP2000027022A
Authority: JP
Inventors: Shigemaru Komatsubara; 茂丸小松原
Original assignee: Teijin Chemicals Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2000-02-04
Filing date: 2000-02-04
Publication date: 2001-08-17

Abstract

(57)【要約】【課題】記録再生可能な記録面或いは再生専用の反射
膜面を表面に有する二枚の光ディスク基板を接着剤を介
して貼り合わせられたディスクであって、エラーが少な
く信頼性の優れたディスクを提供する。【解決手段】少なくとも一方の表面に記録膜、反射膜
が載置された光ディスク基板を接着剤を介して貼り合わ
せた光ディスクにおいて、硬化した接着膜のガラス転移
温度が４５℃以上であることを特徴とする貼り合わせ光
ディスク。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】記録再生可能な記録面あるい
は再生専用の反射膜面を表面に有する二枚の光ディスク
基板を接着剤を介して貼り合わせた光ディスクに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】レーザ光の照射により情報の記録・再生
をおこなう光ディスクとしては、デジタルオーディオデ
ィスク（いわゆるコンパクトディスク）、光学式ビデオ
ディスク（いわゆるレーザディスク）、各種追記型ディ
スク、光磁気ディスク、相変化ディスク、等が実用化さ
れている。

【０００３】このうち、コンパクトディスクやレーザデ
ィスクは、再生専用（ＲｅａｄＯｎｌｙＭｅｍｏｒ
ｙ：ＲＯＭ）型の光ディスクである。これらの光ディ
スクは、透明基板上に、情報信号に対応したピットが再
生波長の１／４程度の深さを有して凹凸形状で形成さ
れ、この上にＡｌ反射層が４０ｎｍ以上の厚さで製膜さ
れている。このような光ディスクでは、ピットで生じる
光干渉による反射率変化を検出することで情報信号が再
生される。

【０００４】一方、追記型光ディスクは、ユーザによっ
て一度だけ任意情報の書き込みが行えるＲ（Ｒｅｃｏｒ
ｄａｂｌｅ）型の光ディスクであり、光磁気ディスクお
よび相変化ディスクは、繰り返し任意情報の書き込みが
行えるＲＡＭ（ＲａｎｄａｍＡｃｃｅｓｓＭｅｍｏｒ
ｙ）型の光ディスクである。

【０００５】すなわち、追記型光ディスクは、透明基板
上に、レーザ光の照射によって不可逆的に光学特性が変
化したり凹凸形状が形成される追記型の記録層が形成さ
れて構成される。この記録層としては、例えばレーザー
光の照射による加熱で分解し、その光学定数が変化する
と共に、体積変化によって基板の変形を生じさせるシア
ニン系、フタロシアニン系、アゾ系の有機色素等が用い
られる。

【０００６】光磁気ディスクは、ユーザによって情報の
書き込み・消去が繰り返し行える、書き換え可能型のデ
ィスクであり、透明基板上に、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質
合金薄膜等の磁気光学効果（例えばカー効果）を有する
垂直磁化膜が形成されて構成される。この光磁気ディス
クでは、情報信号に対応して垂直磁化膜の微小領域を上
向きあるいは下向きに磁化することで記録ピットが形成
される。そして、反射光での直線偏光の回転角θｋ（カ
ー回転角）が、この光磁気ディスクでは、情報信号に対
応して垂直磁化膜の微小領域を上向きあるいは下向きに
磁化することで記録ピットが形成される。そして、反射
光での直線偏光の回転角θｋ（カー回転角）が、垂直磁
化膜の磁化の向きによって異なることを利用して情報信
号が再生される。

【０００７】相変化ディスクは、光磁気ディスク同様に
書き換え可能型のディスクであり、例えば初期状態で結
晶状態を呈し、レーザ光が照射されることでアモルファ
ス状態に相変化する、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ相変化材料等が
用いられる。この記録層では、情報信号に対応して微小
領域を相変化させることで記録ピットが形成され、ピッ
トに相当するアモルファス部分とそれ以外の結晶領域と
の反射率変化を検出することにより情報信号が再生され
る。

【０００８】なお、このような光磁気ディスクや相変化
ディスクでは、記録層の酸化防止や多重干渉による信号
変調度の増大を目的として、記録層の両側を透明な誘電
体層で挟み込み、さらにその上にＡｌ反射層を積層した
４層構造が採られる場合が多い。なお、誘電体層として
は、窒化シリコン膜、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂混成膜等が用い
られる。

【０００９】ところで、最近、このような光ディスクを
デジタル映像記録用として用いるための検討が盛んに行
われており、そのような光ディスクとしてデジタル・バ
ーサタイル・ディスク（ＤＶＤ）が開発されるに至って
いる。このＤＶＤは、ＣＤと同じ１２０ｍｍ径としなが
ら、映画１本分に相当する映像情報を記録し、現行テレ
ビ並みの画質で再生できるようになされたものである。

【００１０】ここで、このような映像情報を光ディスク
に記録するには、例えばＣＤの６〜８倍の記録容量が必
要になる。このため、ＤＶＤでは、レーザ波長をＣＤで
の７８０ｎｍに対して６３５〜６４０ｎｍと短波長化す
るとともに対物レンズの開口数ＮＡをＣＤでの０.４５
に対して０.５２あるいは０.６に増大させることでトラ
ックピッチやピットの最短記録マーク長を縮め、記録密
度を上げるようにしている。

【００１１】但し、このうち対物レンズの開口数ＮＡの
増大は、ディスク基板の反りに対する許容量を小さくす
る。このため、ＤＶＤでは、基板の厚さをＣＤの１.２
ｍｍに対して０.６ｍｍと薄くすることにより、レーザ
光がディスク基板を透過する距離を短くし、反りに対す
る許容量を補償するようにしている（日経エレクトロニ
クス１９９５年２月２７日号Ｎｏ.６３０）。そし
て、さらに基板を薄くすることによるディスク強度の低
下を補うため、特開平６−２７４９４０号公報で記載さ
れているように、基板上に形成された記録層の上に、さ
らに基板を貼合わせる、いわゆる貼合わせ構造が採られ
ている。なお、貼合わせ光ディスクの記録層としては、
上述の単板構成で用いられるＲＯＭ型の記録層、Ｒ型の
記録層、ＲＡＭ型の記録層のいずれもが採用できる。

【００１２】さらに、貼合わせ光ディスクには、その片
側の面からのみ記録・再生を行う片面型貼合わせ光ディ
スクと、両側の面から記録・再生を行う両面型貼合わせ
光ディスクとがある。このうち片面型貼合わせ光ディス
クは、例えばポリカーボネート樹脂等の透明樹脂を原料
樹脂とするデータ基板の一面に設けたデータ記録面上に
接着層を介してダミー基板もしくはデータ基板の非記録
面が貼付けられている。データ基板およびダミー基板
は、いずれも射出成形により作成されている。一方、両
面型貼合わせ光ディスクは、記録層を設けたデータ記録
面を内側にして二枚のデータ基板を接着層を介して貼合
わされている。この二層の記録層のうち、レーザ光入射
側の記録層の光線透過率は記録再生の際にレーザ光量を
確保するため、膜厚を薄く設定して小さく設定してい
る。

【００１３】また、接着層を形成する接着剤としてはア
クリル系紫外線硬化樹脂、エポキシ系紫外線硬化樹脂、
熱可塑性樹脂等が用いられる。このうちエポキシ系紫外
線硬化樹脂と熱可塑性樹脂を用いると一般に接着層が白
濁状態になり、片面型貼り合わせ光ディスクにおいては
外観上好ましくないため、特に片面型貼り合わせ光ディ
スクにおいては接着層が透明なアクリル系紫外線硬化樹
脂が広く採用されている。また両面型貼合わせ光ディス
クにおいても、レーザ光は反射層あるいは記録層を二度
接着層を通過するために接着層が透明なアクリル系紫外
線硬化樹脂が採用されている。

【００１４】接着剤としてアクリル系紫外線硬化樹脂を
用いる場合の接着剤の塗布方法としてはスピンコート法
が一般的である。すなわち貼り合わせる基板の一方の内
周部に接着剤を塗布し、その後もう一方の基板を重ね合
わせ、これらを高速回転させることにより遠心力により
接着剤を外周まで塗り広げる方法である。このようにし
て接着剤を塗り広げた後に、紫外線照射装置によりアク
リル系紫外線硬化樹脂を硬化させることにより十分な接
着強度が得られ、貼り合わせが完了する。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】光ディスク基板の耐久
性を調べるために貼り合わせられた光ディスク基板の記
録膜、接着層、基板材料の長期耐久性を確認する信頼性
試験を実施する必要性がある。

【００１６】信頼性試験は貼り合わせディスク基板を８
０℃、８５％相対温度の雰囲気の恒温恒湿槽内に設置し
１０００時間経過後、ディスクを取り出し各種評価項
目、例えばＰＩエラーを電気特性評価機で、反り、面触
れを機械特性評価機で測定する。

【００１７】ところが従来のディスク基板材料を使用
し、通常の製造方法で製作した貼り合わせディスク基板
では、信頼性試験の加速テストを実施し、ディスクを恒
温恒湿槽から取り出すとディスクのＡｌ反射膜層が外見
上白化する変化が見られる。あるいは接着層の保護膜側
表面がダミー基板側から観察すると外見上白化する変化
が見られる。これら全ての現象を“梨地現象”と呼ぶこ
とにする。

【００１８】これら梨地現象を詳しく状態を調べると以
下のことが分かる。例えばＤＶＤ５方式のディスク構成
の場合を例にとって説明する。ＰＣとはポリカーボネー
トを意味する。

【００１９】（１）保護膜がある場合；ＰＣ基板（記録側）／Ａｌ反射膜／保護膜／接着剤層／
ＰＣ基板（ダミー）顕微鏡で信頼性試験後の不良現象が発現したディスク基
板を観察すると接着剤層の保護膜側臨界面が荒れている
ことが分かる。保護膜表面は変形していない。発生メカ
ニズムは以下のように推定できる。

【００２０】接着剤の硬化度が低いためガラス転移温度
が低下しており、そのガラス転移温度が信頼性試験温度
より低いため信頼性試験中軟化する。一方吸収された水
分は保護膜によりせきとめられ、接着剤表面は高含水の
ため膨潤して表面がしわ状になる。接着剤層に吸水した
水が保護膜と接着剤層の境界に浮き出たと考えられる。
試験後冷却されて基板温度が低下するとそのままのしわ
形状が固定されて梨地現象がみられる。

【００２１】（２）保護膜が無い場合；ＰＣ基板（記録側）／Ａｌ反射膜／接着剤層／ＰＣ基板
（ダミー）顕微鏡で梨地現象が発現したディスクを観察するとＡｌ
反射膜が部分的に水酸化アルミニウムに変化し、記録側
ＰＣ基板表面の記録ピットが消失していることが分か
る。Ａｌ膜の水酸化アルミニウムへの反応の程度が低い
場合は金属光沢色を保つが、反応がさらに進むとＡｌ反
射膜は透明化する。

【００２２】発生メカニズムは以下のように推定でき
る。保護膜が有る場合と同様に信頼性試験が進むと接着
剤層表面にしわが入る。信頼性試験中に接着剤層あるい
はＰＣ基板から吸水してＡｌ反射膜が酸化され水酸化ア
ルミニウムになる。Ａｌ反射膜とＰＣ表面に接着剤層表
面のしわが転写されると考えられる。

【００２３】ここでいう梨地現象はさまざまな現象を抱
合しているが、接着層表面が平坦でなく、さまざまな形
状の凹凸が発生したこと、Ａｌ反射膜の下地のＰＣ基板
や接着層が変形したこと、を意味している。

【００２４】以上全ての梨地現象の程度を包括して光沢
度で測定する。その光沢度は、下記方法にて測定され
る。

【００２５】鏡面光沢度測定方法（ＪＩＳ−Ｚ８７４１
−１９８３）における、測定方法の種類：方法５方法名：２０度鏡面光沢で測定した時の光沢度の測定値（Ｇｓ２０）によって梨
地状態の程度を表示する。ディスク基板のダミー基板側
から測定光を入射させて測定した。正常なＡｌ反射膜デ
ィスクの光沢度は８８０〜９４０であるが、梨地現象が
発生したディスクの光沢度は６００以下の値を示す。梨
地現象の程度が激しいほど光沢度が小さくなる。

【００２６】以上の界面不良現象を解決するために鋭意
検討を行った結果、以下のような改善策を見出すに到っ
た。すなわち保護膜がある場合、保護膜が無い場合にか
かわらず、以下の手段が梨地不良現象を解消するために
は有効であることが判明した。すなわち、保護膜の有無
にかかわらず、梨地現象は接着剤の反応度、表面硬度に
関係していることが明らかになった。

【００２７】

【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも一
方の表面に記録膜、反射膜が載置された光ディスク基板
を接着剤を介して貼り合わせた光ディスクにおいて、硬
化した接着膜のガラス転移温度が４５℃以上であること
を特徴とする貼り合わせ光ディスクによって達成され
る。

【００２８】本発明の貼り合わせ光ディスクの基板を構
成する樹脂は光透過性の樹脂であればよい。通常芳香族
ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹
脂、非晶性環状ポリオレフィン樹脂等が使用されてい
る。その中でも芳香族ポリカーボネート樹脂またはポリ
メチルメタクリレート樹脂が好ましいが、芳香族ポリカ
ーボネート樹脂が最も好ましい。

【００２９】上記芳香族ポリカーボネート樹脂は、通常
熱可塑性の芳香族ポリカーボネート樹脂成形品として使
用されるものであればよく、一般に２価フェノールとカ
ーボネート前駆体とを界面重合法あるいは溶融重合法に
より反応させて製造され、いずれの方法によって得られ
たものであっても同じように使用することができる。

【００３０】この芳香族ポリカーボネート樹脂の製造に
使用される２価フェノールの代表的な例としては、ハイ
ドロキノン、レゾルシノール、４,４’−ジヒドロキシ
ジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、
ビス｛（４−ヒドロキシ−３,５−ジメチル）フェニ
ル｝メタン、１,１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
エタン、１,１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１
−フェニルエタン、２,２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）、２,２−ビ
ス｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝プロパ
ン、２,２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３,５−ジメチ
ル）フェニル｝プロパン、２,２−ビス｛（３,５−ジブ
ロモ−４−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、２,２−
ビス｛（３−イソプロピル−４−ヒドロキシ）フェニ
ル｝プロパン、２,２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３−
フェニル）フェニル｝プロパン、２,２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、２,２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−３−メチルブタン、２,２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−３,３−ジメチルブタン、２,
４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタ
ン、２,２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタ
ン、２,２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メ
チルペンタン、１,１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン、１,１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、１,１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３,３,５−トリメチ
ルシクロヘキサン、９,９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン、９,９−ビス｛（４−ヒドロキシ−
３−メチル）フェニル｝フルオレン、α,α’−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−ｏ−ジイソプロピルベン
ゼン、α,α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ
−ジイソプロピルベンゼン、α,α’−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、１,
３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５,７−ジメチ
ルアダマンタン、４,４’−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン、４,４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシ
ド、４,４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４,
４’−ジヒドロキシジフェニルケトン、４,４’−ジヒ
ドロキシジフェニルエーテルおよび４,４’−ジヒドロ
キシジフェニルエステル等が挙げられ、これらは単独ま
たは２種以上を混合して使用できる。

【００３１】なかでもビスフェノールＡ、２,２−ビス
｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝プロパ
ン、２,２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、
２,２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチル
ブタン、２,２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３,
３−ジメチルブタン、２,２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−４−メチルペンタン、１,１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−３,３,５−トリメチルシクロヘキ
サンおよびα,α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−ｍ−ジイソプロピルベンゼンからなる群より選ばれた
少くとも１種のビスフェノールより得られる単独重合体
または共重合体が好ましく、特に、ビスフェノールＡの
単独重合体および１,１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３,３,５−トリメチルシクロヘキサンとビスフェ
ノールＡ、２,２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３−メチ
ル）フェニル｝プロパンまたはα,α’−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼンとの
共重合体が好ましく使用される。

【００３２】また、カーボネート前駆体としては、カル
ボニルハライド、カーボネートエステルまたはハロホル
メート等が挙げられ、具体的にはホスゲン、ジフェニル
カーボネート、２価フェノールのジハロホルメートおよ
びそれらの混合物等である。ポリカーボネート樹脂を製
造するにあたり、適当な分子量調節剤、分岐剤、反応を
促進するための触媒等も通常の方法に従って使用でき
る。かくして得られた芳香族ポリカーボネート樹脂の２
種以上を混合しても差し支えない。

【００３３】ポリカーボネート樹脂の分子量は、粘度平
均分子量（Ｍ）で１０,０００〜２２,０００が好まし
く、１２,０００〜２０,０００がより好ましく、１３,
０００〜１８,０００が特に好ましい。かかる粘度平均
分子量を有するポリカーボネート樹脂は、光学用材料と
して十分な強度が得られ、また、成形時の溶融流動性も
良好であり成形歪みが発生せず好ましい。本発明でいう
粘度平均分子量は塩化メチレン１００ｍＬにポリカーボ
ネート樹脂０.７ｇを２０℃で溶解した溶液から求めた
比粘度（η_sp）を次式に挿入して求めたものである。

【００３４】η_sp／ｃ＝［η］＋０.４５×［η］²ｃ
（但し［η］は極限粘度）［η］＝１.２３×１０^-4Ｍ^0.83 ｃ＝０.７また、上記ポリメチルメタクリレート樹脂は、メタクリ
ル酸メチルモノマーを主原料として、これを重合して得
られる樹脂である。光学用途としては、通常単独重合体
が用いられるが、他の共重合可能なモノマー、具体的に
はアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プ
ロピル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステルやメ
タクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル
酸ブチル等のメタクリル酸エステルを１０モル％以下共
重合させたものも使用することができる。これらの重合
方法は、特に制限されず、塊状重合、懸濁重合、溶液重
合または乳化重合等の製造方法が用いられる。

【００３５】また、上記非晶性環状ポリオレフィン樹脂
としては、例えばノルボルネン系モノマーの開環重合体
の水素添加物が挙げられる。かかるノルボルネン系モノ
マーとしては、例えばノルボルネン、ジメタノオクタヒ
ドロナフタレン、トリメタノドデカヒドロアントラセン
およびそれらのアルキル置換体やアルキリデン置換体、
ジシクロペンタジエン、２,３−ジヒドロジシクロペン
タジエン、ジメタノオクタヒドロベンゾインデン、ジメ
タノデカヒドロベンゾインデン、ジメタノデカヒドロフ
ルオレンおよびそれらのアルキル置換体等を挙げること
ができる。また、ハロゲン原子、エステル型残基、エー
テル型残基、シアノ基等の極性の置換基を有するもので
あってもよい。これらの中でも、２官能以上のものは射
出成形が困難となり、１官能のものが好ましく使用され
る。

【００３６】これらのノルボルネン系モノマーは、それ
ぞれ単独で使用してもよいが、２種以上組合せて使用す
ることもできる。

【００３７】また、共重合成分として、他のシクロオレ
フィン類、例えばシクロプロペン、シクロブテン、シク
ロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、５,６
−ジヒドロジシクロペンタジエン等を通常３０重量％以
下の範囲で用いることができる。

【００３８】また、分子量調節剤として、非環式オレフ
ィンを用いてもよく、その中でも、特に１−ブテン、１
−ペンテン、１−ヘキセン等のα−オレフィンが好まし
い。

【００３９】ノルボルネン系モノマーの開環重合体は、
通常のノルボルネン類の重合法により製造されるが、重
合触媒としては、周知のメタセシス触媒を使用すること
が好ましい。メタセシス触媒としては、四ハロゲン化チ
タン等の遷移金属化合物と有機アルミニウム化合物等の
有機金属を含む触媒系あるいはこれに脂肪族または芳香
族第三級アミン等の第三成分を組合せた触媒系が好まし
い。

【００４０】開環重合は、溶媒を用いなくても可能であ
るが、通常はベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、シ
クロヘキサン等の脂環族炭化水素、ジクロルエタン等の
ハロゲン化炭化水素等の不活性有機溶媒中で実施され
る。また、通常重合温度は、−２０℃〜１００℃、重合
圧力は０〜５×１０⁵Ｐａの範囲から選択される。

【００４１】ノルボルネン系モノマーの開環重合体は、
その水素添加物を光学用透明基板の材料とするために
は、Ｔｇが１２０〜２００℃であることが望ましい。

【００４２】ノルボルネン系モノマーの開環重合体の水
素添加物は、周知の水素添加触媒を使用することにより
製造される。

【００４３】水添触媒としては、オレフィン化合物の水
素化に際して一般に使用されているものであれば使用可
能であり、例えばウィルキンソン錯体、酢酸コバルト／
トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナー
ト／トリイソブチルアルミニウム、パラジウム−カーボ
ン、ルチニウム−カーボン、ニッケル−けいそう土等を
挙げることができる。

【００４４】水素化反応は、触媒の種類により均一系ま
たは不均一系で、１〜２００気圧の水素圧下、０〜２５
０℃で行われる。その際水素添加率は、耐熱劣化性、耐
光劣化性等の観点から、９５％以上が好ましく、９９％
以上とすることが特に好ましい。

【００４５】また、ノルボルネン系モノマーの付加重合
体も非晶性環状ポリオレフィン樹脂の例として挙げら
れ、ノルボルネン系モノマーの単独重合体も使用される
が、エチレンを共重合させた共重合体が好ましく使用さ
れる。かかるノルボルネン系モノマーとしては、前述の
ものと同様のものが用いられる。

【００４６】前記した透明樹脂、殊にポリカーボネート
樹脂を使用してデータ基板あるいはダミー基板を得るに
当っては、射出成形、射出圧縮成形等の通常の条件や手
段が採用できる。

【００４７】データ基板の記録層において、その記録層
は再生専用（ＲＯＭ）型の記録層であってもユーザによ
って任意情報が書き込める追記（Ｒ）型または書き換え
（ＲＡＭ）型の記録層であってもよい。例えば再生専用
型の記録層であれば、スタンパーにより形成された記録
すべきデータを凹凸で表すピットの上に、スパッタリン
グ等の気相めっき法により反射膜としてＡｌ、Ａｌ合
金、Ａｕ等の金属膜反射膜を形成することで構成され
る。追記型の記録層であれば、シアニン系や、フタロシ
アニン系、アゾ系の有機色素材料をスピンコート法等に
より塗布され、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ等の金属膜ある
いはこれらの合金膜がスパッタリング等により光干渉層
として形成されることにより構成される。書き換え型の
記録層であれば、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系やＡｇ−Ｉｎ−Ｓ
ｂ−Ｔｅ系等の相変化材料やＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ系等の光
磁気材料がスパッタリング等により形成され、Ｓｉ
Ｏ_X、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、Ｉｎ
₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＺｒＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅等の金属酸化物；Ｓ
ｉ₃Ｎ₄、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＢＮ、ＺｒＮ等の窒化物；Ｚ
ｎＳ、ＴａＳ₄等の硫化物；ＳｉＣ、ＴａＣ、ＷＣ、Ｔ
ｉＣ、ＺｒＣ等の炭化物の単体あるいは混合物がスパッ
タリング等により誘電体層（保護層）として形成され、
さらにＡｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉ
ｎ、Ｐｄ、Ｚｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓ
ｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｔｉ、Ｐｂ等の金属を中心とした材料の
単体あるいは混合物がスパッタリング等により反射放熱
層として形成されされることにより構成される。

【００４８】データー基板の記録層が紫外線硬化樹脂等
で保護されていても良い。該紫外線硬化樹脂の材料とし
ては、ラジカル重合可能な液状のモノマーやオリゴマ
ー、アクリル酸エステル、光重合開始剤からなり、必要
であれば、増感剤、熱重合禁止剤、酸化防止剤等を配合
することも出来る。該紫外線硬化樹脂はスピンコート法
等で塗布した後、一般には波長が３００ｎｍ〜４５０ｎ
ｍの紫外線によって硬化させて保護膜とする。

【００４９】片面型貼合わせ光ディスクの場合、このよ
うにして作成されたデータ基板とダミー基板、または、
データ基板の記録層とデーター基板の非記録面は、紫外
線硬化樹脂の接着層を介して互いに貼り合わされる。両
面型貼合わせ光ディスクの場合は二面のデータ基板の記
録層を内側にして紫外線硬化樹脂の接着層を介して互い
に貼り合わされる。

【００５０】ディスクを貼り合せる時に使用する紫外線
硬化性樹脂は、ラジカル重合可能な液状のモノマーやオ
リゴマー、光重合開始剤からなり、必要であれば、増感
剤、熱重合禁止剤、酸化防止剤等を配合することも出来
る。該紫外線硬化性樹脂は波長が３００ｎｍ〜４５０ｎ
ｍの紫外線の照射によって硬化する。

【００５１】ディスクを貼り合せる時に使用する紫外線
硬化樹脂（接着剤）は、ラジカル重合可能な液状の単官
能の（メタ）アクリル酸（エステル）モノマー、多官能
の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、オリゴマー、
光重合性プレポリマー、光重合開始剤からなり、必要で
あれば、増感剤、熱重合禁止剤、酸化防止剤等を配合す
ることも出来る。該紫外線硬化樹脂は一般には波長が３
００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外線の照射によって硬化す
る。その際硬化は、接着硬化膜のガラス転移温度が４５
℃以上となるように、膜組成および紫外線の照射量を調
整する。

【００５２】単官能の（メタ）アクリル酸（エステル）
モノマーとして、アクリル酸、メタアクリル酸、２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アク
リレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブメチル（メ
タ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド等が利用で
きる。

【００５３】多官能の（メタ）アクリル酸エステルモノ
マーは、二官能または三官能以上の（メタ）アクリル酸
エステルモノマーであり、二官能の（メタ）アクリル酸
エステルモノマーとして、１,３−ブタンジオールジ
（メタ）アクリレート、１,４−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等が利用
できる。

【００５４】三官能以上の（メタ）アクリル酸エステル
としては、トリメチルプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスルトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスルトールモノヒドロキシペンタア（メタ）
クリレート等が利用できる。

【００５５】前記光重合性プレポリマーはポリエステル
アクリレート、シリコンアクリレート、メラミンアクリ
レート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート
等を利用することができる。

【００５６】光重合開始剤として、アセトフェノン、ト
リクロロアセトフェノン、４−ジアルキルアミノアセト
フェノン、ｐ,ｐ’−ジメチルアミノアセトフェノン、
ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン等のアセトフェノ
ン系；ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、
ｐ,ｐ’−ジクロロベンゾフェノン、４,４−ビスジメチ
ルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）等のベンゾ
フェノン系；ベンジル、ベンジルジメチルケタール、フ
ェニルメトキシケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン等のケトン系；ベンゾイン、ベンゾイル
パーオキサイド、ベンゾインイソブチルエーテル、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロ
ピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル等のベ
ンゾイン系、およびチオキサンソン、アゾビスイソブチ
ロニトリル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、
２,２−ジメトキシ−１,２−ジフェニルエタン−１−オ
ンなどを単独または複数組み合わせて使用するのがよ
い。

【００５７】これら、モノマーの使用量としては、通
常、組成物中に好ましくは５〜９０重量％程度である。
尚、これらのモノマーは１種、２種以上でも任意の割合
で混合使用してもよいが、粘度の関係から、単官能（メ
タ）アクリル系モノマーもしくは２官能（メタ）アクリ
ル系モノマーの使用が好ましく、３官能以上の（メタ）
アクリル系モノマーは必要に応じて使用される。

【００５８】上記組成物の硬化物は紫外線、可視光レー
ザー等の光線を照射することにより得ることができる。
本発明の接着剤組成物の紫外線等の光線照射による硬化
は、硬化膜のガラス転移温度が４５℃以上となるよう
に、具体的には低圧または高圧水銀灯、メタルハライド
ランプ、キセノン灯、無電極ランプ等を用いて紫外線を
照射して行う。特に、光源としては３６０ｎｍ〜４５０
ｎｍにエネルギー強度が強いランプが好ましい。

【００５９】以下に保護膜なしの場合で解決策の具体例
を述べる。

【００６０】

【実施例】以下、実施例を掲げて本発明を詳述する。

【００６１】実施例１〜４および比較例１〜２（１）貼り合せディスクの調製名機製作所製成形機（Ｍ−３５Ｂ−Ｄ−ＤＭの型）にシ
ステム社製ＤＶＤ−ＲＯＭ用金型およびＤＶＤ−ＶＩＤ
ＥＯスタンパーを装着し、帝人化成製ポリカーボネート
樹脂ＡＤ−５５０３で射出成形した。その時成形条件は
樹脂温度３８０℃、金型温度１１０℃、冷却時間３.７
秒、スプルー温度７０℃であった。これをセ−ラー製搬
送装置で搬送し、スパッター装置（Ｂａｌｚｅｒｓ製Ｃ
ｕｂｅＬｉｔｅ）で投入パワー５ｋｗ、Ａｒ流量５.５
ｃｃ、成膜時間２秒の条件でＡｌ膜を４０ｎｍ成膜し
た。このＡｌ膜付き信号入り基板とＡｌなしの基板とを
松下電器産業社製ＤＶＤ貼り合わせ装置（ＦＡ−ＹＧ２
３）により照射条件以外は標準条件で貼り合わせた。接
着剤材料は日本化薬製ＫＡＹＡＲＡＤＤＶＤ−００３
および５２３の２種である。

【００６２】照射量を変化させてＤＶＤ−ＲＯＭサンプ
ルをつくり信頼性試験（８０℃、８５％湿度、１０００
時間保持）を実施しその時の梨地現象発生の様子を調べ
た結果を表１に示す。なお、紫外線の照射量はアイ紫外
線積算強度計ＵＶＰＦ−３６（アイグラフィック（株）
製）で測定した。同時にガラス転移温度（Ｔｇ）、表面
硬度（三角圧子）も示す。サンプル３、サンプル６の接
着剤硬化物のＴｇが４５℃未満の場合に梨地現象がみら
れた。

【００６３】その接着剤層のガラス転移温度（Ｔｇ）と
表面硬度の測定方法について述べる。

【００６４】（１）測定用サンプルの準備前記貼り合わせＤＶＤ−ＲＯＭディスクを貼り合わせ面
で剥離し、さらに接着層を剥離して、Ｔｇ測定用のサン
プルとしてはそれらを所定の大きさに切だし重ね合わせ
て所定の厚みにした。

【００６５】表面硬度測定用としてはポリカーボネート
基板の上に接着層が付着した状態で測定した。

【００６６】（２）ガラス転移温度の測定粘弾性測定装置ＤｙｎａｍｉｃＡｎａｌｙｚｅｒＲ
ＤＡII（Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）の測定治具にサ
ンプルをはさんで回転軸振動数１０ＨｚでのＧ’、Ｇ”
温度変化を測定しｔａｎδの変極点からガラス転移温度
Ｔｇを測定した。

【００６７】（３）表面硬度の測定ダイナミック超微小硬度計（ＤＵＨ−Ｗ２０１、島津製
作所製）でディスク基板上に接着層が載った状態で接着
剤表面の三角すい圧子硬度を測定した。

【００６８】

【表１】

【００６９】表１から明らかなように、紫外線照射量が
少ないと反応度が低くなり、硬化物の表面硬度が小さ
く、Ｔｇも低くなり梨地現象が発現する（サンプル３お
よび６）。

【００７０】これに対して照射量が多いと、硬化物の表
面硬度が高くなり、Ｔｇも上昇する。そのような場合梨
地現象は認められない（サンプル１、２、４および５）

【００７１】

【発明の効果】少なくとも一方の表面に記録膜材料、反
射膜材料が載置された光ディスク基板を接着剤を介して
貼り合わせられた光ディスク基板において、硬化物のガ
ラス転移温度が４５℃以上なる接着剤を使用することに
より、信頼性試験後に、ＰＣ基板表面、Ａｌ反射膜、接
着剤層に梨地現象の発生を防止することができた。従っ
て、信頼性試験後のＡｌ反射膜、記録膜にダメージを与
えることがなく、信頼性試験後のエラー値が安定、向上
し、ディスクの信頼性が向上する。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方の表面に記録膜、反射膜
が載置された光ディスク基板を接着剤を介して貼り合わ
せた光ディスクにおいて、硬化した接着膜のガラス転移
温度が４５℃以上である貼り合わせ光ディスク。