JP3124581B2 - 石英ガラス合成用バーナ装置 - Google Patents
石英ガラス合成用バーナ装置Info
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Description
【０００１】
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は、燃焼空間のターゲット
に向けて水素ガスを放出するための水素ガスノズルと、
水素ガスノズルの内部に配置されており燃焼空間のター
ゲットに向けて酸素ガスを放出するための複数の酸素ガ
スノズルと、水素ガスノズルの内部に複数の酸素ガスノ
ズルとともに配置されており燃焼空間のターゲットに向
けて原料ガスを放出するための複数の原料ガスノズルと
を備えた石英ガラス合成用バーナ装置に関し、特に、複
数の原料ガスノズルがターゲットの径方向に関して均一
に配置されかつそれぞれ原料ガスの流量を調節可能とさ
れており、複数の酸素ガスノズルが同心円上に多重に配
置されかつ同一同心円上ごとに酸素ガスの流量を調節可
能とされてなる石英ガラス合成用バーナ装置に関するも
のである。
に向けて水素ガスを放出するための水素ガスノズルと、
水素ガスノズルの内部に配置されており燃焼空間のター
ゲットに向けて酸素ガスを放出するための複数の酸素ガ
スノズルと、水素ガスノズルの内部に複数の酸素ガスノ
ズルとともに配置されており燃焼空間のターゲットに向
けて原料ガスを放出するための複数の原料ガスノズルと
を備えた石英ガラス合成用バーナ装置に関し、特に、複
数の原料ガスノズルがターゲットの径方向に関して均一
に配置されかつそれぞれ原料ガスの流量を調節可能とさ
れており、複数の酸素ガスノズルが同心円上に多重に配
置されかつ同一同心円上ごとに酸素ガスの流量を調節可
能とされてなる石英ガラス合成用バーナ装置に関するも
のである。
【０００３】
【従来の技術】従来、この種の石英ガラス合成用バーナ
装置としては、水素ガスノズルの内部に開口された単一
の原料ガスノズルを包囲するよう、水素ガスノズルの内
部に対し複数の酸素ガスノズルを開口せしめてなるもの
が提案されていた。
装置としては、水素ガスノズルの内部に開口された単一
の原料ガスノズルを包囲するよう、水素ガスノズルの内
部に対し複数の酸素ガスノズルを開口せしめてなるもの
が提案されていた。
【０００４】
【解決すべき問題点】しかしながら、従来の石英ガラス
合成用バーナ装置では、水素ガスノズルの内部に対して
単一の原料ガスノズルを包囲するよう複数の酸素ガスノ
ズルが開口されているに過ぎなかったので、(i) 酸素ガ
スおよび水素ガスに対し原料ガス (たとえばSiCl4)が一
括して供給されてしまう欠点があり、ひいては(ii)原料
ガスが水素ガスおよび酸素ガスに対し均一に混合されな
い欠点があり、結果的に(iii)合成石英ガラス中にＯＨ
基あるいはＣｌ基が偏在してしまい光学特性を損ねてし
まう欠点があった。
合成用バーナ装置では、水素ガスノズルの内部に対して
単一の原料ガスノズルを包囲するよう複数の酸素ガスノ
ズルが開口されているに過ぎなかったので、(i) 酸素ガ
スおよび水素ガスに対し原料ガス (たとえばSiCl4)が一
括して供給されてしまう欠点があり、ひいては(ii)原料
ガスが水素ガスおよび酸素ガスに対し均一に混合されな
い欠点があり、結果的に(iii)合成石英ガラス中にＯＨ
基あるいはＣｌ基が偏在してしまい光学特性を損ねてし
まう欠点があった。
【０００５】そこで、本発明は、これらの欠点を除去す
べく、複数の原料ガスノズルがターゲットの径方向に関
して均一に配置されかつそれぞれ原料ガスの流量を調節
可能とされており、複数の酸素ガスノズルが同心円上に
多重に配置されかつ同一同心円上ごとに酸素ガスの流量
を調節可能とされてなる石英ガラス合成用バーナ装置を
提供せんとするものである。
べく、複数の原料ガスノズルがターゲットの径方向に関
して均一に配置されかつそれぞれ原料ガスの流量を調節
可能とされており、複数の酸素ガスノズルが同心円上に
多重に配置されかつ同一同心円上ごとに酸素ガスの流量
を調節可能とされてなる石英ガラス合成用バーナ装置を
提供せんとするものである。
【０００６】
【０００７】
【問題点の解決手段】本発明により提供される問題点の
解決手段は、「燃焼空間のターゲットに向けて水素ガス
を放出するための水素ガスノズルと、水素ガスノズルの
内部に配置されており燃焼空間のターゲットに向けて酸
素ガスを放出するための複数の酸素ガスノズルと、水素
ガスノズルの内部に複数の酸素ガスノズルとともに配置
されており燃焼空間のターゲットに向けて原料ガスを放
出するための複数の原料ガスノズルとを備えた石英ガラ
ス合成用バーナ装置において、複数の原料ガスノズル(1
2a〜12d)がターゲットの径方向に関して均一に配置され
かつそれぞれ原料ガスの流量を調節可能とされており、
複数の酸素ガスノズル(11a〜11d)が同心円上に多重に配
置されかつ同一同心円上ごとに酸素ガスの流量を調節可
能とされてなることを特徴とする石英ガラス合成用バー
ナ装置」である。
解決手段は、「燃焼空間のターゲットに向けて水素ガス
を放出するための水素ガスノズルと、水素ガスノズルの
内部に配置されており燃焼空間のターゲットに向けて酸
素ガスを放出するための複数の酸素ガスノズルと、水素
ガスノズルの内部に複数の酸素ガスノズルとともに配置
されており燃焼空間のターゲットに向けて原料ガスを放
出するための複数の原料ガスノズルとを備えた石英ガラ
ス合成用バーナ装置において、複数の原料ガスノズル(1
2a〜12d)がターゲットの径方向に関して均一に配置され
かつそれぞれ原料ガスの流量を調節可能とされており、
複数の酸素ガスノズル(11a〜11d)が同心円上に多重に配
置されかつ同一同心円上ごとに酸素ガスの流量を調節可
能とされてなることを特徴とする石英ガラス合成用バー
ナ装置」である。
【０００８】
【作用】本発明にかかる石英ガラス合成用バーナ装置で
は、上述の［問題点の解決手段］に明示したごとく、燃
焼空間のターゲットに向けて水素ガスを放出するための
水素ガスノズルと、水素ガスノズルの内部に配置されて
おり燃焼空間のターゲットに向けて酸素ガスを放出する
ための複数の酸素ガスノズルと、水素ガスノズルの内部
に複数の酸素ガスノズルとともに配置されており燃焼空
間のターゲットに向けて原料ガスを放出するための複数
の原料ガスノズルとを備えた石英ガラス合成用バーナ装
置であって、特に、複数の原料ガスノズルがターゲット
の径方向に関して均一に配置されかつそれぞれ原料ガス
の流量を調節可能とされており、複数の酸素ガスノズル
が同心円上に多重に配置されかつ同一同心円上ごとに酸
素ガスの流量を調節可能とされているので、 (i) 水素ガスに対し原料ガスおよび酸素ガスを均一に
供給する作用をなし、併せて (ii) 原料ガスおよび酸素ガスの流量を制御可能とする
作用をなし、ひいては (iii) 合成石英ガラス中のＯＨ基およびＣｌ基の分布
を制御する作用をなし、結果的に (iv) 合成石英ガラスの光学特性を改善する作用をな
す。
は、上述の［問題点の解決手段］に明示したごとく、燃
焼空間のターゲットに向けて水素ガスを放出するための
水素ガスノズルと、水素ガスノズルの内部に配置されて
おり燃焼空間のターゲットに向けて酸素ガスを放出する
ための複数の酸素ガスノズルと、水素ガスノズルの内部
に複数の酸素ガスノズルとともに配置されており燃焼空
間のターゲットに向けて原料ガスを放出するための複数
の原料ガスノズルとを備えた石英ガラス合成用バーナ装
置であって、特に、複数の原料ガスノズルがターゲット
の径方向に関して均一に配置されかつそれぞれ原料ガス
の流量を調節可能とされており、複数の酸素ガスノズル
が同心円上に多重に配置されかつ同一同心円上ごとに酸
素ガスの流量を調節可能とされているので、 (i) 水素ガスに対し原料ガスおよび酸素ガスを均一に
供給する作用をなし、併せて (ii) 原料ガスおよび酸素ガスの流量を制御可能とする
作用をなし、ひいては (iii) 合成石英ガラス中のＯＨ基およびＣｌ基の分布
を制御する作用をなし、結果的に (iv) 合成石英ガラスの光学特性を改善する作用をな
す。
【０００９】
【実施例】次に、本発明にかかる石英ガラス合成用バー
ナ装置について、その好ましい実施例を挙げ、添付図面
を参照しつつ、具体的に説明する。
ナ装置について、その好ましい実施例を挙げ、添付図面
を参照しつつ、具体的に説明する。
【００１０】しかしながら、以下に説明する実施例は、
本発明の理解を容易化ないし促進化するために記載され
るものであって、本発明を限定するために記載されるも
のではない。
本発明の理解を容易化ないし促進化するために記載され
るものであって、本発明を限定するために記載されるも
のではない。
【００１１】換言すれば、以下に説明される実施例にお
いて開示される各要素は、本発明の精神ならびに技術的
範囲に属する全ての設計変更ならびに均等物置換を含む
ものである。
いて開示される各要素は、本発明の精神ならびに技術的
範囲に属する全ての設計変更ならびに均等物置換を含む
ものである。
【００１２】（添付図面の説明）
【００１３】図１は、本発明にかかる石英ガラス合成用
バーナ装置の一実施例を示すためのＩ−Ｉ線にそった縦
断面図である。
バーナ装置の一実施例を示すためのＩ−Ｉ線にそった縦
断面図である。
【００１４】図２は、図１に示した実施例のII−II線に
そった横断面図である。
そった横断面図である。
【００１５】図３は、図１に示した実施例のIII −III
線にそった横断面図である。
線にそった横断面図である。
【００１６】（実施例の構成）
【００１７】まず、図１ないし図３を参照しつつ、本発
明にかかる石英ガラス合成用バーナ装置の一実施例につ
いて、その構成を詳細に説明する。
明にかかる石英ガラス合成用バーナ装置の一実施例につ
いて、その構成を詳細に説明する。
【００１８】10は、本発明にかかる石英ガラス合成用バ
ーナ装置であって、適宜の酸素ガス供給源 (図示せず)
から酸素ガス筒部材14A 〜14D の内部空間に供給された
酸素ガスを同心円上に多重に配設された複数の酸素ガス
ノズル11a 〜11d から燃焼空間に配置されたターゲット
(図示せず) に向けて放出するための酸素ガス供給管11
A 〜11D と、適宜の原料ガス供給源（図示せず）から原
料ガス筒部材15A 〜15D の内部空間に供給された原料ガ
ス（たとえばSiCl4,SiH4などの珪素化合物）を燃焼空間
に配置されたターゲットの径方向に関して均一に配置さ
れた複数の原料ガスノズル12a 〜12d からターゲットに
向けて放出するための原料ガス供給管12A 〜12D とを備
えている。酸素ガスノズル11a 〜11d から放出される酸
素ガスの流量は、同一同心円上ごとに調節可能とされて
いる。原料ガスノズル12a 〜12dから放出される原料ガ
スの流量は、それぞれ調節可能とされている。
ーナ装置であって、適宜の酸素ガス供給源 (図示せず)
から酸素ガス筒部材14A 〜14D の内部空間に供給された
酸素ガスを同心円上に多重に配設された複数の酸素ガス
ノズル11a 〜11d から燃焼空間に配置されたターゲット
(図示せず) に向けて放出するための酸素ガス供給管11
A 〜11D と、適宜の原料ガス供給源（図示せず）から原
料ガス筒部材15A 〜15D の内部空間に供給された原料ガ
ス（たとえばSiCl4,SiH4などの珪素化合物）を燃焼空間
に配置されたターゲットの径方向に関して均一に配置さ
れた複数の原料ガスノズル12a 〜12d からターゲットに
向けて放出するための原料ガス供給管12A 〜12D とを備
えている。酸素ガスノズル11a 〜11d から放出される酸
素ガスの流量は、同一同心円上ごとに調節可能とされて
いる。原料ガスノズル12a 〜12dから放出される原料ガ
スの流量は、それぞれ調節可能とされている。
【００１９】本発明にかかる石英ガラス合成用バーナ装
置10は、更に、適宜の水素ガス供給源 (図示せず) から
水素ガス筒部材16の内部空間に供給された水素ガスを複
数の酸素ガスノズル11a 〜11d および複数の原料ガスノ
ズル12a 〜12d を包囲する水素ガスノズル13a から燃焼
空間のターゲット (図示せず) に向けて放出するための
水素ガス供給管13を備えている。
置10は、更に、適宜の水素ガス供給源 (図示せず) から
水素ガス筒部材16の内部空間に供給された水素ガスを複
数の酸素ガスノズル11a 〜11d および複数の原料ガスノ
ズル12a 〜12d を包囲する水素ガスノズル13a から燃焼
空間のターゲット (図示せず) に向けて放出するための
水素ガス供給管13を備えている。
【００２０】（実施例の作用）
【００２１】更に、図１ないし図３を参照しつつ、本発
明にかかる石英ガラス合成用バーナ装置の一実施例につ
いて、その作用を詳細に説明する。
明にかかる石英ガラス合成用バーナ装置の一実施例につ
いて、その作用を詳細に説明する。
【００２２】本発明にかかる石英ガラス合成用バーナ装
置10では、まず、酸素ガスが、酸素ガス供給源から流量
を調節されつつ酸素ガス供給管11A 〜11D を介して酸素
ガス筒部材14A 〜14D の内部空間に供給されている。酸
素ガス筒部材14A 〜14D の内部空間に供給された酸素ガ
スは、拡散されたのち、酸素ガスノズル11a 〜11d を介
し、燃焼空間のターゲットに向けて放出されている。
置10では、まず、酸素ガスが、酸素ガス供給源から流量
を調節されつつ酸素ガス供給管11A 〜11D を介して酸素
ガス筒部材14A 〜14D の内部空間に供給されている。酸
素ガス筒部材14A 〜14D の内部空間に供給された酸素ガ
スは、拡散されたのち、酸素ガスノズル11a 〜11d を介
し、燃焼空間のターゲットに向けて放出されている。
【００２３】本発明にかかる石英ガラス合成用バーナ装
置10では、また、原料ガス供給管12A 〜12D を介して原
料ガス供給源から流量を調節されつつ原料ガス筒部材15
A 〜15D の内部空間に供給されている。原料ガス筒部材
15A 〜15D の内部空間に供給された適宜の原料ガスは、
拡散されたのち、原料ガスノズル12a 〜12d を介し、燃
焼空間のターゲットに向けて放出されている。
置10では、また、原料ガス供給管12A 〜12D を介して原
料ガス供給源から流量を調節されつつ原料ガス筒部材15
A 〜15D の内部空間に供給されている。原料ガス筒部材
15A 〜15D の内部空間に供給された適宜の原料ガスは、
拡散されたのち、原料ガスノズル12a 〜12d を介し、燃
焼空間のターゲットに向けて放出されている。
【００２４】本発明にかかる石英ガラス合成用バーナ装
置10では、加えて、水素ガスが、水素ガス供給管13を介
し水素ガス供給源から水素ガス筒部材16の内部空間に供
給されている。水素ガス筒部材16の内部空間に供給され
た水素ガスは、拡散されたのち、水素ガスノズル13a を
介し、複数の酸素ガスノズル11a 〜11d ならびに複数の
原料ガスノズル12a 〜12d の周囲を燃焼空間に向けて移
動したのち、燃焼空間のターゲットに向けて放出されて
いる。これにより、水素ガスは、燃焼空間において酸素
ガスに対して均一に供給されることとなり、安定して燃
焼され、高温状態を達成できる。
置10では、加えて、水素ガスが、水素ガス供給管13を介
し水素ガス供給源から水素ガス筒部材16の内部空間に供
給されている。水素ガス筒部材16の内部空間に供給され
た水素ガスは、拡散されたのち、水素ガスノズル13a を
介し、複数の酸素ガスノズル11a 〜11d ならびに複数の
原料ガスノズル12a 〜12d の周囲を燃焼空間に向けて移
動したのち、燃焼空間のターゲットに向けて放出されて
いる。これにより、水素ガスは、燃焼空間において酸素
ガスに対して均一に供給されることとなり、安定して燃
焼され、高温状態を達成できる。
【００２５】このため、本発明にかかる石英ガラス合成
用バーナ装置10によれば、原料ガスが十分に加熱され、
合成石英ガラス中のＯＨ基およびＣＩ基の分布を制御で
き、その光学特性を改善できる。
用バーナ装置10によれば、原料ガスが十分に加熱され、
合成石英ガラス中のＯＨ基およびＣＩ基の分布を制御で
き、その光学特性を改善できる。
【００２６】(具体例)
【００２７】加えて、本発明にかかる石英ガラス合成用
バーナ装置の一実施例について、その理解を深めるため
に、具体的な数値などを挙げて説明する。ここでは、本
発明にかかる石英ガラス合成用バーナ装置が、その中心
を燃焼空間のターゲットの回転中心に一致せしめられて
いるものとして説明する。
バーナ装置の一実施例について、その理解を深めるため
に、具体的な数値などを挙げて説明する。ここでは、本
発明にかかる石英ガラス合成用バーナ装置が、その中心
を燃焼空間のターゲットの回転中心に一致せしめられて
いるものとして説明する。
【００２８】実施例１
【００２９】原料ガス (ここではSiCl4)は、複数の原料
ガスノズルからそれぞれ同量ずつ搬送ガスとともにター
ゲットに向けて放出された。このときの原料ガスの総放
出量は、20ｇ／分であった。酸素ガスは、複数の酸素ガ
スノズルからそれぞれ同量ずつターゲットに向けて放出
された。このときの酸素ガスの総放出量は、６m3／時で
あった。水素ガスは、水素ガスノズルから12m3／時の割
合でターゲットに向けて放出された。
ガスノズルからそれぞれ同量ずつ搬送ガスとともにター
ゲットに向けて放出された。このときの原料ガスの総放
出量は、20ｇ／分であった。酸素ガスは、複数の酸素ガ
スノズルからそれぞれ同量ずつターゲットに向けて放出
された。このときの酸素ガスの総放出量は、６m3／時で
あった。水素ガスは、水素ガスノズルから12m3／時の割
合でターゲットに向けて放出された。
【００３０】燃焼空間のターゲット近傍におけるＯＨ基
およびＣｌ基の濃度分布は、ターゲットの中心部で周辺
部よりも小さかった。これに応じ、合成石英ガラスの屈
折率は、インゴットの中心部で周辺部よりも小さかっ
た。
およびＣｌ基の濃度分布は、ターゲットの中心部で周辺
部よりも小さかった。これに応じ、合成石英ガラスの屈
折率は、インゴットの中心部で周辺部よりも小さかっ
た。
【００３１】実施例２
【００３２】原料ガス (ここではSiCl4)は、複数の原料
ガスノズルからそれぞれ同量ずつ搬送ガスとともにター
ゲットに向けて放出された。このときの原料ガスの総放
出量は、20ｇ／分であった。酸素ガスは、中心から外側
に向けて同心円上に配置された酸素ガスノズルからそれ
ぞれ４：３：２：１の割合でターゲットに向けて放出さ
れた。このときの酸素ガスの総放出量は、６m3／時であ
った。水素ガスは、水素ガスノズルから12m3／時の割合
でターゲットに向けて放出された。
ガスノズルからそれぞれ同量ずつ搬送ガスとともにター
ゲットに向けて放出された。このときの原料ガスの総放
出量は、20ｇ／分であった。酸素ガスは、中心から外側
に向けて同心円上に配置された酸素ガスノズルからそれ
ぞれ４：３：２：１の割合でターゲットに向けて放出さ
れた。このときの酸素ガスの総放出量は、６m3／時であ
った。水素ガスは、水素ガスノズルから12m3／時の割合
でターゲットに向けて放出された。
【００３３】燃焼空間のターゲット近傍におけるＯＨ基
およびＣｌ基の濃度分布は、ターゲットの中心部で周辺
部よりも大きかった。これに応じ、合成石英ガラスの屈
折率は、インゴットの中心部で周辺部よりも大きかっ
た。
およびＣｌ基の濃度分布は、ターゲットの中心部で周辺
部よりも大きかった。これに応じ、合成石英ガラスの屈
折率は、インゴットの中心部で周辺部よりも大きかっ
た。
【００３４】実施例３
【００３５】原料ガス (ここではSiCl4)は、複数の原料
ガスノズルからそれぞれ同量ずつ搬送ガスとともにター
ゲットに向けて放出された。このときの原料ガスの総放
出量は、20ｇ／分であった。酸素ガスは、中心から外側
に向けて同心円上に配置された酸素ガスノズルからそれ
ぞれ30：27：24：19の割合でターゲットに向けて放出さ
れた。このときの酸素ガスの総放出量は、６m3／時であ
った。水素ガスは、水素ガスノズルから12m3／時の割合
でターゲットに向けて放出された。
ガスノズルからそれぞれ同量ずつ搬送ガスとともにター
ゲットに向けて放出された。このときの原料ガスの総放
出量は、20ｇ／分であった。酸素ガスは、中心から外側
に向けて同心円上に配置された酸素ガスノズルからそれ
ぞれ30：27：24：19の割合でターゲットに向けて放出さ
れた。このときの酸素ガスの総放出量は、６m3／時であ
った。水素ガスは、水素ガスノズルから12m3／時の割合
でターゲットに向けて放出された。
【００３６】燃焼空間のターゲット近傍におけるＯＨ基
およびＣｌ基の濃度分布は、ターゲットの中心部および
周辺部で等しかった。これに応じ、合成石英ガラスの屈
折率は、インゴットの中心部および周辺部でほぼ等しか
った。
およびＣｌ基の濃度分布は、ターゲットの中心部および
周辺部で等しかった。これに応じ、合成石英ガラスの屈
折率は、インゴットの中心部および周辺部でほぼ等しか
った。
【００３７】実施例１〜３の要約
【００３８】実施例１〜３から明らかなごとく、本発明
によれば、複数の原料ガスノズルからターゲットに向け
て放出される原料ガスの流量がそれぞれ調節可能とさ
れ、かつ複数の酸素ガスノズルからターゲットに向けて
放出される酸素ガスの流量がそれぞれ調節可能とされて
いるので、合成石英ガラスの光学特性を改善できる。
によれば、複数の原料ガスノズルからターゲットに向け
て放出される原料ガスの流量がそれぞれ調節可能とさ
れ、かつ複数の酸素ガスノズルからターゲットに向けて
放出される酸素ガスの流量がそれぞれ調節可能とされて
いるので、合成石英ガラスの光学特性を改善できる。
【００３９】ちなみに、実施例１〜３では、複数の原料
ガスノズルからターゲットに向けて放出される原料ガス
の流量を一定に維持しつつ、同心円上に配置された複数
の酸素ガスノズルからターゲットに向けて放出される酸
素ガスの流量のみを制御したが、同心円上に配置された
複数の酸素ガスノズルからターゲットに向けて放出され
る酸素ガスの流量のみを制御しつつ、複数の原料ガスノ
ズルからターゲットに向けて放出される原料ガスの流量
を制御すれば、合成石英ガラス中のＯＨ基およびＣｌ基
の分布を制御できるので、合成石英ガラスの光学特性を
一層改善できる。
ガスノズルからターゲットに向けて放出される原料ガス
の流量を一定に維持しつつ、同心円上に配置された複数
の酸素ガスノズルからターゲットに向けて放出される酸
素ガスの流量のみを制御したが、同心円上に配置された
複数の酸素ガスノズルからターゲットに向けて放出され
る酸素ガスの流量のみを制御しつつ、複数の原料ガスノ
ズルからターゲットに向けて放出される原料ガスの流量
を制御すれば、合成石英ガラス中のＯＨ基およびＣｌ基
の分布を制御できるので、合成石英ガラスの光学特性を
一層改善できる。
【００４０】
【発明の効果】上述より明らかなように、本発明にかか
る石英ガラス合成用バーナ装置では、［問題点の解決手
段］に明示したごとく、燃焼空間のターゲットに向けて
水素ガスを放出するための水素ガスノズルと、水素ガス
ノズルの内部に配置されており燃焼空間のターゲットに
向けて酸素ガスを放出するための複数の酸素ガスノズル
と、水素ガスノズルの内部に複数の酸素ガスノズルとと
もに配置されており燃焼空間のターゲットに向けて原料
ガスを放出するための複数の原料ガスノズルとを備えた
石英ガラス合成用バーナ装置であって、特に、複数の原
料ガスノズルがターゲットの径方向に関して均一に配置
されかつそれぞれ原料ガスの流量を調節可能とされてお
り、複数の酸素ガスノズルが同心円上に多重に配置され
かつ同一同心円上ごとに酸素ガスの流量を調節可能とさ
れているので、 (i) 水素ガスに対し原料ガスおよび酸素ガスを均一に
供給できる効果を有し、併せて (ii) 原料ガスおよび酸素ガスの流量を制御可能とでき
る効果を有し、ひいては (iii) 合成石英ガラス中のＯＨ基およびＣｌ基の分布
を制御できる効果を有し、結果的に (iv) 合成石英ガラスの光学特性を改善できる効果を有
する。
る石英ガラス合成用バーナ装置では、［問題点の解決手
段］に明示したごとく、燃焼空間のターゲットに向けて
水素ガスを放出するための水素ガスノズルと、水素ガス
ノズルの内部に配置されており燃焼空間のターゲットに
向けて酸素ガスを放出するための複数の酸素ガスノズル
と、水素ガスノズルの内部に複数の酸素ガスノズルとと
もに配置されており燃焼空間のターゲットに向けて原料
ガスを放出するための複数の原料ガスノズルとを備えた
石英ガラス合成用バーナ装置であって、特に、複数の原
料ガスノズルがターゲットの径方向に関して均一に配置
されかつそれぞれ原料ガスの流量を調節可能とされてお
り、複数の酸素ガスノズルが同心円上に多重に配置され
かつ同一同心円上ごとに酸素ガスの流量を調節可能とさ
れているので、 (i) 水素ガスに対し原料ガスおよび酸素ガスを均一に
供給できる効果を有し、併せて (ii) 原料ガスおよび酸素ガスの流量を制御可能とでき
る効果を有し、ひいては (iii) 合成石英ガラス中のＯＨ基およびＣｌ基の分布
を制御できる効果を有し、結果的に (iv) 合成石英ガラスの光学特性を改善できる効果を有
する。
【図１】本発明にかかる石英ガラス合成用バーナ装置の
一実施例を示すためのＩ−Ｉ線にそった縦断面図であ
る。
一実施例を示すためのＩ−Ｉ線にそった縦断面図であ
る。
【図２】図１に示した実施例のII−II線にそった横断面
図である。
図である。
【図３】図１に示した実施例のIII −III 線にそった横
断面図である。
断面図である。
【符号の説明】10・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 石英ガラス合成用バーナ装置 11A 〜11D ・・・・・・・・・・酸素ガス供給管 11a 〜11d ・・・・・・・・・・酸素ガスノズル 12A 〜12D ・・・・・・・・・・原料ガス供給管 12a 〜12d ・・・・・・・・・・原料ガスノズル 13・・・・・・・・・・・・・・・・・・水素ガス供給管 13a ・・・・・・・・・・・・・・・・水素ガスノズル 14A 〜14D ・・・・・・・・・・酸素ガス筒部材 15A 〜15D ・・・・・・・・・・原料ガス筒部材 16・・・・・・・・・・・・・・・・・・水素ガス筒部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−123941（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−215516（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−160027（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−30229（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−160131（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03B 37/018 C03B 8/04 F23D 14/58
Claims (1)
- 【請求項１】燃焼空間のターゲットに向けて水素ガスを
放出するための水素ガスノズルと、水素ガスノズルの内
部に配置されており燃焼空間のターゲットに向けて酸素
ガスを放出するための複数の酸素ガスノズルと、水素ガ
スノズルの内部に複数の酸素ガスノズルとともに配置さ
れており燃焼空間のターゲットに向けて原料ガスを放出
するための複数の原料ガスノズルとを備えた石英ガラス
合成用バーナ装置において、複数の原料ガスノズル(12a
〜12d)がターゲットの径方向に関して均一に配置されか
つそれぞれ原料ガスの流量を調節可能とされており、複
数の酸素ガスノズル(11a〜11d)が同心円上に多重に配置
されかつ同一同心円上ごとに酸素ガスの流量を調節可能
とされてなることを特徴とする石英ガラス合成用バーナ
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03222119A JP3124581B2 (ja) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | 石英ガラス合成用バーナ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03222119A JP3124581B2 (ja) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | 石英ガラス合成用バーナ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06211533A JPH06211533A (ja) | 1994-08-02 |
| JP3124581B2 true JP3124581B2 (ja) | 2001-01-15 |
Family
ID=16777459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03222119A Expired - Fee Related JP3124581B2 (ja) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | 石英ガラス合成用バーナ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3124581B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102134480B1 (ko) * | 2018-10-12 | 2020-07-16 | 정대욱 | 악세서리 부자재용 평면형 체인 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106765106A (zh) * | 2017-01-14 | 2017-05-31 | 河北宏龙环保科技有限公司 | 一种低氮氧化物燃烧器 |
| CN109912192B (zh) * | 2017-02-24 | 2021-08-06 | 天津富通集团有限公司 | 用于光纤预制棒的喷灯 |
| CN106989389A (zh) * | 2017-05-24 | 2017-07-28 | 久智光电子材料科技有限公司 | 一种子母燃烧器 |
-
1991
- 1991-08-07 JP JP03222119A patent/JP3124581B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102134480B1 (ko) * | 2018-10-12 | 2020-07-16 | 정대욱 | 악세서리 부자재용 평면형 체인 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06211533A (ja) | 1994-08-02 |
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