JP3111609B2 - プラズマエッチング処理装置 - Google Patents
プラズマエッチング処理装置Info
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- JP3111609B2 JP3111609B2 JP04076471A JP7647192A JP3111609B2 JP 3111609 B2 JP3111609 B2 JP 3111609B2 JP 04076471 A JP04076471 A JP 04076471A JP 7647192 A JP7647192 A JP 7647192A JP 3111609 B2 JP3111609 B2 JP 3111609B2
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- photometric
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】プラズマエッチングにおけるエッ
チング終了点を検出する手段を備えたプラズマエッチン
グ処理装置において、特に繰り返しエッチングを行うこ
とが可能なプラズマエッチング処理装置に関する。
チング終了点を検出する手段を備えたプラズマエッチン
グ処理装置において、特に繰り返しエッチングを行うこ
とが可能なプラズマエッチング処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、プラズマエッチング処理装置での
処理の終点は、図５に示すように、プラズマ光の発光ス
ペクトルを真空処理室３外に取り付けられた検出器１で
測光窓２を介してモニタリングすることにより検出する
ようにしている。
処理の終点は、図５に示すように、プラズマ光の発光ス
ペクトルを真空処理室３外に取り付けられた検出器１で
測光窓２を介してモニタリングすることにより検出する
ようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、測光窓２は真
空処理室３内に露出しており、その中の雰囲気にさらさ
れているため、繰り返し処理を行うと、この測光窓２に
反応生成物が付着し、必要とする発光スペクトルの透過
率が変化することにより、正確なモニタリングを行うこ
とができないという問題があった。
空処理室３内に露出しており、その中の雰囲気にさらさ
れているため、繰り返し処理を行うと、この測光窓２に
反応生成物が付着し、必要とする発光スペクトルの透過
率が変化することにより、正確なモニタリングを行うこ
とができないという問題があった。
【０００４】この問題は、従来、上記透過率の変化をハ
ードウェアやソフトウェアで補正することによって解決
しようとしてきたが、この方法では、そのハードウェア
やソフトウェアからノイズが乗り、やはり正確なモニタ
リングが行えない。
ードウェアやソフトウェアで補正することによって解決
しようとしてきたが、この方法では、そのハードウェア
やソフトウェアからノイズが乗り、やはり正確なモニタ
リングが行えない。
【０００５】そこで、本発明は、測光窓に反応物が付着
すれば新しい測光窓と交換すれば良いので、このような
交換が容易に行えるようにしたプラズマエッチング処理
装置を提供することを課題とする。
すれば新しい測光窓と交換すれば良いので、このような
交換が容易に行えるようにしたプラズマエッチング処理
装置を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】予備の測光窓を多数備
え、これら予備の測光窓を使用ずみの測光窓と順次交換
できるようにして、処理毎等適宜の時期に測光窓を交換
するようにする。
え、これら予備の測光窓を使用ずみの測光窓と順次交換
できるようにして、処理毎等適宜の時期に測光窓を交換
するようにする。
【０００７】
【作用】このようにすると、繰り返し処理を行っても、
測光窓に反応生成物が付着したときに、この使用ずみの
測光窓を予備の新しい測光窓と交換すれば、信号の変化
が生じない。
測光窓に反応生成物が付着したときに、この使用ずみの
測光窓を予備の新しい測光窓と交換すれば、信号の変化
が生じない。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図により説明する。
【０００９】（実施例１）図１は本発明にかかる実施例
１を示す。図１にみるように、このプラズマエッチング
処理装置は、真空処理室８内が遮蔽板４によって、その
内部が二つに仕切られ、その一方側が対向する電極９、
９を有してプラズマエッチング処理を行う処理部８ａと
なり、他方側が検出器７を有して測定部８ｂとなってい
る。遮蔽板４と検出器７の間には遮蔽板４と平行を保っ
た状態で回転可能な回転板５が設けられ、この回転板５
はモータ６の働きで回転するようになっている。回転板
５は図２の右に示すように、その回転中心Ｏを中心とす
る円周上に、ガラス窓からなる予備の測光窓５ａを多数
持っている。他方、図２の左に示すように、遮蔽板４
は、その外周部に１つの貫通孔４ａを持っている。そし
て、検出器７は、この測光用の貫通孔４ａに向かい合っ
ている。回転板５の回転中心５ａは遮蔽板４の貫通孔４
ａから離れた位置にあり、回転板５の多数の予備測光窓
５ａ…は、遮蔽板４の貫通孔４ａに対応する位置にあっ
て、回転板５の回転により順次貫通孔４の位置にくる。
このようにして、検出器７と回転板５の測光窓５ａと遮
蔽板４の貫通孔４ａの光軸は一致している。回転板５と
遮蔽板４の間隔は十分狭くとってあるので、処理中に反
応生成物が検出器７の光軸上にない予備の測光窓５ａに
付着することはない。処理毎にモータ６により回転板５
を回転させて検出器７の光軸上の使用ずみの測光窓５ａ
を順次交換していくので、常に処理室８内の状態を正確
にモニタリングでき、安定して終点検出ができる。
１を示す。図１にみるように、このプラズマエッチング
処理装置は、真空処理室８内が遮蔽板４によって、その
内部が二つに仕切られ、その一方側が対向する電極９、
９を有してプラズマエッチング処理を行う処理部８ａと
なり、他方側が検出器７を有して測定部８ｂとなってい
る。遮蔽板４と検出器７の間には遮蔽板４と平行を保っ
た状態で回転可能な回転板５が設けられ、この回転板５
はモータ６の働きで回転するようになっている。回転板
５は図２の右に示すように、その回転中心Ｏを中心とす
る円周上に、ガラス窓からなる予備の測光窓５ａを多数
持っている。他方、図２の左に示すように、遮蔽板４
は、その外周部に１つの貫通孔４ａを持っている。そし
て、検出器７は、この測光用の貫通孔４ａに向かい合っ
ている。回転板５の回転中心５ａは遮蔽板４の貫通孔４
ａから離れた位置にあり、回転板５の多数の予備測光窓
５ａ…は、遮蔽板４の貫通孔４ａに対応する位置にあっ
て、回転板５の回転により順次貫通孔４の位置にくる。
このようにして、検出器７と回転板５の測光窓５ａと遮
蔽板４の貫通孔４ａの光軸は一致している。回転板５と
遮蔽板４の間隔は十分狭くとってあるので、処理中に反
応生成物が検出器７の光軸上にない予備の測光窓５ａに
付着することはない。処理毎にモータ６により回転板５
を回転させて検出器７の光軸上の使用ずみの測光窓５ａ
を順次交換していくので、常に処理室８内の状態を正確
にモニタリングでき、安定して終点検出ができる。
【００１０】（実施例２）図３は本発明の実施例２を示
す。
す。
【００１１】図にみるように、この実施例では、真空処
理室１２は平面楕円形となっており、その内部は環状の
遮蔽板１０で仕切られて内周側が処理部１２ａ、外周側
が測定部１２ｂとなっている。測定部１２ｂに設けられ
た検出器１３は遮蔽板１０に形成された測光用の貫通孔
１０ａに向かい合っている。遮蔽板１０と検出器１３の
間には、環状の遮蔽板１０の中心を回転中心として回転
可能な環状体１１が設けられており、この環状体１１は
モータ１４で回転されるようになっている。環状体１１
の貫通孔１０ａに対応する位置には、その周方向にガラ
ス窓からなる予備の測光窓１１ａが多数設けられてお
り、これら予備の測光窓１１ａ…は環状体１１の回転に
より順次貫通孔１０ａに臨むようになっている。この実
施例でも、測光窓１１ａと遮蔽板１０の間隔は十分狭く
とってあるので、処理中に反応生成物が検出器１３の光
軸上にない予備の測光窓１１ａ……に付着することはな
い。処理毎にモーター１４により環状体１１を回転させ
て検出器１３の光軸上の測光窓１１ａを交換していくの
で、常に処理室１２内の状態を正確にモニタリングでき
安定した終点検出ができる。
理室１２は平面楕円形となっており、その内部は環状の
遮蔽板１０で仕切られて内周側が処理部１２ａ、外周側
が測定部１２ｂとなっている。測定部１２ｂに設けられ
た検出器１３は遮蔽板１０に形成された測光用の貫通孔
１０ａに向かい合っている。遮蔽板１０と検出器１３の
間には、環状の遮蔽板１０の中心を回転中心として回転
可能な環状体１１が設けられており、この環状体１１は
モータ１４で回転されるようになっている。環状体１１
の貫通孔１０ａに対応する位置には、その周方向にガラ
ス窓からなる予備の測光窓１１ａが多数設けられてお
り、これら予備の測光窓１１ａ…は環状体１１の回転に
より順次貫通孔１０ａに臨むようになっている。この実
施例でも、測光窓１１ａと遮蔽板１０の間隔は十分狭く
とってあるので、処理中に反応生成物が検出器１３の光
軸上にない予備の測光窓１１ａ……に付着することはな
い。処理毎にモーター１４により環状体１１を回転させ
て検出器１３の光軸上の測光窓１１ａを交換していくの
で、常に処理室１２内の状態を正確にモニタリングでき
安定した終点検出ができる。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、使用ず
みの測光窓を予備の測光窓と交換することにより、繰り
返し処理を行っても測光窓に反応生成物が付着すること
による信号の変化がなく、処理毎に正確なモニタリング
が可能で安定した終点検出を実現できる。
みの測光窓を予備の測光窓と交換することにより、繰り
返し処理を行っても測光窓に反応生成物が付着すること
による信号の変化がなく、処理毎に正確なモニタリング
が可能で安定した終点検出を実現できる。
【図１】本発明の実施例１を示す縦断面図
【図２】実施例１における遮蔽板と回転板の正面図
【図３】本発明の実施例２を上からみた横断面図
【図４】実施例２における環状体と遮蔽板の斜視図
【図５】従来の終点検出方法を示す縦断面図
５ 回転板 ６ モータ ７ 検出器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23F 4/00 H01L 21/3065
Claims (3)
- 【請求項１】 プラズマエッチング処理を行う処理部を
有する真空処理室と、前記処理部での発光スペクトルを
測光窓を通して光学的にモニタリングする検出器とを備
え、前記モニタリングの結果に基づきプラズマエッチン
グ処理の終点を検出する装置において、予備の測光窓を
多数備え、これら予備の測光窓が使用ずみの測光窓と順
次交換できるようになっていることを特徴とするプラズ
マエッチング処理装置。 - 【請求項２】 真空処理室内には、その内部を、一方側
が処理部となり他方側が測定部となるよう仕切る遮蔽板
が設けられていて、この遮蔽板には測光用の貫通孔が形
成されており、前記測光部には、前記貫通孔と向かい合
うようにして検出器が設けられているとともに、前記遮
蔽板と検出器の間に、前記貫通孔から離れた位置に回転
中心を有して前記遮蔽板とは平行を保った状態で回転可
能となっている回転板が設けられており、この回転板に
は、その回転中心を中心とする円周上の前記貫通孔に対
応する位置に予備の測光窓が多数設けられていて、この
回転板の回転により、これら予備の測光窓が使用ずみの
測光窓と順次交換できるようになっている請求項１記載
のプラズマエッチング処理装置。 - 【請求項３】 真空処理室内には、その内部を、内周側
が処理部となり外周側が測定部となるよう仕切る環状の
遮蔽板が設けられていて、この遮蔽板には測光用の貫通
孔が形成されており、前記測光部には、前記貫通孔と向
かい合うようにして検出器が設けられているとともに、
前記遮蔽板と検出器の間に、前記遮蔽板の中心を回転中
心として回転可能となっている環状体が設けられてお
り、この環状体には、その周方向の前記貫通孔に対応す
る位置に予備の測光窓が多数設けられていて、この環状
体の回転により、これら予備の測光窓が使用ずみの測光
窓と順次交換できるようになっている請求項１記載のプ
ラズマエッチング処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04076471A JP3111609B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | プラズマエッチング処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04076471A JP3111609B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | プラズマエッチング処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05279878A JPH05279878A (ja) | 1993-10-26 |
| JP3111609B2 true JP3111609B2 (ja) | 2000-11-27 |
Family
ID=13606093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04076471A Expired - Fee Related JP3111609B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | プラズマエッチング処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3111609B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07102526A (ja) * | 1993-10-08 | 1995-04-18 | Kaimon:Kk | 交換容易なゴム支承体を有する上部構造物支承装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100292053B1 (ko) * | 1998-03-30 | 2001-11-30 | 김영환 | 반도체제조용식각장치의엔드포인트윈도우 |
| DE19929615C1 (de) | 1999-06-28 | 2001-04-19 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung und Verwendung der Vorrichtung zur Überwachung von absichtlichen oder unvermeidbaren Schichtabscheidungen |
| US20180166301A1 (en) * | 2016-12-13 | 2018-06-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor manufacturing system |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP04076471A patent/JP3111609B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07102526A (ja) * | 1993-10-08 | 1995-04-18 | Kaimon:Kk | 交換容易なゴム支承体を有する上部構造物支承装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05279878A (ja) | 1993-10-26 |
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Legal Events
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